JPS63273063A - 電解質自動分析装置 - Google Patents
電解質自動分析装置Info
- Publication number
- JPS63273063A JPS63273063A JP10848387A JP10848387A JPS63273063A JP S63273063 A JPS63273063 A JP S63273063A JP 10848387 A JP10848387 A JP 10848387A JP 10848387 A JP10848387 A JP 10848387A JP S63273063 A JPS63273063 A JP S63273063A
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- Japan
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- measurement
- container
- cleaning
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- Pending
Links
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Landscapes
- Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的コ
（産業上の利用分野）
本発明は、人体の血清などの電解質溶液の濃度を測定す
る電解質自動分析装置に関する。
る電解質自動分析装置に関する。
（従来の技術）
人体の血清、血しよう、尿などの電解質溶液の濃度を測
定する装置として電解質自動分析装置が知られている。
定する装置として電解質自動分析装置が知られている。
第２図はこの装置の主要部を示すもので、電解質溶液を
供給する流通路１２を設けた絶縁基体１１の周囲部に、
各々イオン感応層１４Ａ、１５Ａ、１６Ａを介した複数
のイオン選択性電極１４，１５．１６及びイオン感応層
２０と内部溶液（電解質溶液）１８．導電体１９を介し
た比較電極１３が配置されている。この構成で例えばサ
ンプル溶液として予め容器１に満たされた血清を希釈液
によって１０倍に希釈したものをポンプ２によって前記
流通路１２に供給すると、イオン感応層１４Ａ、１５Ａ
、１６Ａのいずれかがサンプル溶液内の特定のイオンに
感応するので、イオン選択性電極１７と比較電極１３と
の間にそのイオンに応じた独自の起電力が生じ、所望の
イオン濃度を測定することができる。
供給する流通路１２を設けた絶縁基体１１の周囲部に、
各々イオン感応層１４Ａ、１５Ａ、１６Ａを介した複数
のイオン選択性電極１４，１５．１６及びイオン感応層
２０と内部溶液（電解質溶液）１８．導電体１９を介し
た比較電極１３が配置されている。この構成で例えばサ
ンプル溶液として予め容器１に満たされた血清を希釈液
によって１０倍に希釈したものをポンプ２によって前記
流通路１２に供給すると、イオン感応層１４Ａ、１５Ａ
、１６Ａのいずれかがサンプル溶液内の特定のイオンに
感応するので、イオン選択性電極１７と比較電極１３と
の間にそのイオンに応じた独自の起電力が生じ、所望の
イオン濃度を測定することができる。
１つのサンプル溶液の測定が終了すると流通路１２に対
し、サンプル溶液と同じく１０倍に希釈された測定イオ
ンに対して既知濃度の校正液が供給され、イオン感応層
１４Ａ、１５Ａ、１６Ａの電位の校正が行われる。以後
このような繰り返しが各サンプル溶液に対して行われ、
複数サイクルから成る一連の測定が行われる。
し、サンプル溶液と同じく１０倍に希釈された測定イオ
ンに対して既知濃度の校正液が供給され、イオン感応層
１４Ａ、１５Ａ、１６Ａの電位の校正が行われる。以後
このような繰り返しが各サンプル溶液に対して行われ、
複数サイクルから成る一連の測定が行われる。
このような分析装置においてサンプル溶液又は校正液な
どの電解質溶液は容器１に満たされた状態で、所定の吸
引位置に配置される。この場合用いる容器１は不特定多
数の溶液を対象として繰り返し用いられるので、相互汚
染の弊害を避けるため各サイクル測定終了後と一連の測
定終了後には洗浄処理が施される。従来においては両洗
浄処理において共通の洗浄液が用いられ、例えば純水又
は校正液などが用いられている。
どの電解質溶液は容器１に満たされた状態で、所定の吸
引位置に配置される。この場合用いる容器１は不特定多
数の溶液を対象として繰り返し用いられるので、相互汚
染の弊害を避けるため各サイクル測定終了後と一連の測
定終了後には洗浄処理が施される。従来においては両洗
浄処理において共通の洗浄液が用いられ、例えば純水又
は校正液などが用いられている。
（発明が解決しようとする問題点）
ところで従来の分析装置では、各サイクル測定終了後の
洗浄処理と一連の測定終了後の洗浄処理とで共通の洗浄
液が用いられているので、完全な洗浄が行われないとい
う問題がある。
洗浄処理と一連の測定終了後の洗浄処理とで共通の洗浄
液が用いられているので、完全な洗浄が行われないとい
う問題がある。
例えば共通の洗浄液として純水を用いた場合は、純水は
洗浄後に短時間では乾燥しないので特に各サイクル測定
終了後の洗浄処理において、残っている水分と次のサイ
クル測定の電解質溶液との濃度差が大きくなるため、測
定誤差を生じさせるような影響を与える。一方、校正液
を用いた場合は、校正液には比較的多量の塩分が溶けて
いるので特に一連の測定終了後の洗浄処理において、次
の測定を行う迄に放置されている間に塩分が結晶化し易
くなるため、同様に測定誤差を生じさせるようになる。
洗浄後に短時間では乾燥しないので特に各サイクル測定
終了後の洗浄処理において、残っている水分と次のサイ
クル測定の電解質溶液との濃度差が大きくなるため、測
定誤差を生じさせるような影響を与える。一方、校正液
を用いた場合は、校正液には比較的多量の塩分が溶けて
いるので特に一連の測定終了後の洗浄処理において、次
の測定を行う迄に放置されている間に塩分が結晶化し易
くなるため、同様に測定誤差を生じさせるようになる。
本発明はこのような問題に対処してなされたもので、完
全な洗浄が行える電解質自動分析装置を提供することを
目的とするものである。
全な洗浄が行える電解質自動分析装置を提供することを
目的とするものである。
［発明の構成］
（問題点を解決するための手段）
上記目的を達成するために本発明は、各サイクル測定終
了後に行う洗浄処理と一連の測定終了後に行う洗浄処理
とで異なる洗浄液を用いることを特徴とするものである
。
了後に行う洗浄処理と一連の測定終了後に行う洗浄処理
とで異なる洗浄液を用いることを特徴とするものである
。
（作 用）
各サイクル測定修了後には例えば校正液を用い、一連の
測定終了後には例えば純水を用いるように異なる洗浄液
によって各洗浄処理を行うので、各洗浄液の優れた点を
生かした洗浄処理を行うことができる。よって完全な洗
浄が行えるので、測定誤差を生じさせることがなくなる
。
測定終了後には例えば純水を用いるように異なる洗浄液
によって各洗浄処理を行うので、各洗浄液の優れた点を
生かした洗浄処理を行うことができる。よって完全な洗
浄が行えるので、測定誤差を生じさせることがなくなる
。
（実施例）
第１図は本発明実施例の電解質自動分析装置を示す構成
図で、純水源５が流路８ａを介してまた校正液源６が流
路８ｂを介して三方切換弁４に接続される。洗浄ポンプ
３によって開閉状態が切換えられる弁７が流路８Ｃを介
して三方切換弁４に接続されると共に、流路８ｄを介し
てノズル３に接続されている。
図で、純水源５が流路８ａを介してまた校正液源６が流
路８ｂを介して三方切換弁４に接続される。洗浄ポンプ
３によって開閉状態が切換えられる弁７が流路８Ｃを介
して三方切換弁４に接続されると共に、流路８ｄを介し
てノズル３に接続されている。
ノズル３は容器１に対して純水又は校正液が供給可能に
配置されている。容器１には測定中サンプル溶液又は校
正液などの電解質溶液１０が満たされている。
配置されている。容器１には測定中サンプル溶液又は校
正液などの電解質溶液１０が満たされている。
前記三方切換弁４は図示しないコントローラによってそ
の切換動作が制御され、測定中すなわち各サイクル測定
が行われている期間は流路８ｂを介して校正液源６側に
切換えられており、一連の測定終了後には流路８ａを介
して純水源５側に切換えられるように制御される。
の切換動作が制御され、測定中すなわち各サイクル測定
が行われている期間は流路８ｂを介して校正液源６側に
切換えられており、一連の測定終了後には流路８ａを介
して純水源５側に切換えられるように制御される。
次に本実施例の作用を説明する。成るサンプル溶液又は
校正液が満たされた状態で第２図のような吸引位置に容
器１が配置される。ポンプ２によってサンプル溶液が流
通路１２に供給されることにより測定が行われ、続いて
校正液によって電位の校正が行われて１サイクルの測定
が終了する。
校正液が満たされた状態で第２図のような吸引位置に容
器１が配置される。ポンプ２によってサンプル溶液が流
通路１２に供給されることにより測定が行われ、続いて
校正液によって電位の校正が行われて１サイクルの測定
が終了する。
次に容器１は第１図のように洗浄位置に移動され、校正
液源６から校正液が流路８ｂ→三方切換弁４→流路８Ｃ
→弁７→流路８ｄ→ノズル９の経路を介して供給される
ことにより洗浄処理が行われる。
液源６から校正液が流路８ｂ→三方切換弁４→流路８Ｃ
→弁７→流路８ｄ→ノズル９の経路を介して供給される
ことにより洗浄処理が行われる。
次にこの容器１に対しては次のサンプル溶液が注入され
、吸引位置において前記同様な測定が行われて２サイク
ル目の測定が終了する。次に容器１は１サイクル時と同
様な過程によって校正液による洗浄処理が施される。以
下３サイクル目以降についても同様であり、各サイクル
測定終了後に校正液による洗浄処理が行われる。このよ
うにして全サイクルの測定が終了すると一連の測定が終
了したことになる。この時点で容器１に対し洗浄位置に
おいて、純水源５から純水を流路８ａ→三方切換弁４→
流路８Ｃ→弁７→流路８ｄ→ノズル９の経路を介して供
給することにより洗浄処理を施すようにする。
、吸引位置において前記同様な測定が行われて２サイク
ル目の測定が終了する。次に容器１は１サイクル時と同
様な過程によって校正液による洗浄処理が施される。以
下３サイクル目以降についても同様であり、各サイクル
測定終了後に校正液による洗浄処理が行われる。このよ
うにして全サイクルの測定が終了すると一連の測定が終
了したことになる。この時点で容器１に対し洗浄位置に
おいて、純水源５から純水を流路８ａ→三方切換弁４→
流路８Ｃ→弁７→流路８ｄ→ノズル９の経路を介して供
給することにより洗浄処理を施すようにする。
このような実施例によれば各サイクル測定終了後には校
正液による洗浄が行われ、容器１内に供給された校正液
は結晶化される間もなく次のサンプル溶液が注入されて
測定が行われるので、校正液の欠点は生じない。一方、
一連の測定終了後には純水による洗浄が行われ、容器１
内に供給された純水は多少残存していたとしても次の一
連の測定を行う迄には間があるので、この間に乾燥して
しまうことになりこの欠点は生じない。よって校正液と
純水との優れた点を生かすことができるので完全な洗浄
処理を行うことができる。
正液による洗浄が行われ、容器１内に供給された校正液
は結晶化される間もなく次のサンプル溶液が注入されて
測定が行われるので、校正液の欠点は生じない。一方、
一連の測定終了後には純水による洗浄が行われ、容器１
内に供給された純水は多少残存していたとしても次の一
連の測定を行う迄には間があるので、この間に乾燥して
しまうことになりこの欠点は生じない。よって校正液と
純水との優れた点を生かすことができるので完全な洗浄
処理を行うことができる。
本発明の他の実施例として、ｎ回の洗浄処理を行う場合
に最初のｍ回［０５ｍ＜ｎｌを純水を用いて行い、残り
の１回（ｍ＋、ｆｆ ＝ ｎ ）を校正液を用いて行う
ようにすることもできる。本実施例によれば前記実施例
と同様な効果が得られる他に、いわゆる共洗いを行うよ
うにしたので容器に対してより化学的安定状態を維持さ
せることができる。
に最初のｍ回［０５ｍ＜ｎｌを純水を用いて行い、残り
の１回（ｍ＋、ｆｆ ＝ ｎ ）を校正液を用いて行う
ようにすることもできる。本実施例によれば前記実施例
と同様な効果が得られる他に、いわゆる共洗いを行うよ
うにしたので容器に対してより化学的安定状態を維持さ
せることができる。
本実施例では洗浄液として校正液及び純水を用いた例で
示したが、何らこれらに限ることはなく同等の他の液を
用いることができる。
示したが、何らこれらに限ることはなく同等の他の液を
用いることができる。
以上述べたように本発明によれば、測定終了後に用いる
洗浄液として箕なるものを選ぶようにしたので、完全な
洗浄処理を行うことができる。
洗浄液として箕なるものを選ぶようにしたので、完全な
洗浄処理を行うことができる。
第１図は本発明実施例の電解質自動分析装置を示す構成
図、第２図は電解質自動分析装置の主要部を示す断面図
である。
図、第２図は電解質自動分析装置の主要部を示す断面図
である。
Claims (2)
- （１）容器に満たした電解質溶液を測定部に供給するこ
とにより複数サイクルから成る一連の測定を行い、測定
終了後前記容器を洗浄処理する電解質自動分析装置にお
いて、各サイクル測定終了後に行う洗浄処理と一連の測
定終了後に行う洗浄処理とで異なる洗浄液を用いること
を特徴とする電解質自動分析装置。 - （２）各サイクル測定終了後に校正液を用いて洗浄処理
を行い、一連の測定終了後に純水を用いて洗浄処理を行
う特許請求の範囲第１項記載の電解質自動分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10848387A JPS63273063A (ja) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | 電解質自動分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10848387A JPS63273063A (ja) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | 電解質自動分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63273063A true JPS63273063A (ja) | 1988-11-10 |
Family
ID=14485902
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10848387A Pending JPS63273063A (ja) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | 電解質自動分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63273063A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008107201A (ja) * | 2006-10-25 | 2008-05-08 | A & T Corp | 電解質分析方法および電解質分析装置 |
| JP2021015020A (ja) * | 2019-07-11 | 2021-02-12 | 日本電子株式会社 | 自動分析装置および自動分析装置の制御方法 |
-
1987
- 1987-04-30 JP JP10848387A patent/JPS63273063A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008107201A (ja) * | 2006-10-25 | 2008-05-08 | A & T Corp | 電解質分析方法および電解質分析装置 |
| JP2021015020A (ja) * | 2019-07-11 | 2021-02-12 | 日本電子株式会社 | 自動分析装置および自動分析装置の制御方法 |
| US11885825B2 (en) | 2019-07-11 | 2024-01-30 | Jeol Ltd. | Automated analyzer and method of controlling the automated analyzer |
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