JPS63270649A - 5−置換アミノ−4−ヒドロキシペンテン酸誘導体及びその用途 - Google Patents
5−置換アミノ−4−ヒドロキシペンテン酸誘導体及びその用途Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07K—PEPTIDES
- C07K5/00—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof
- C07K5/02—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof containing at least one abnormal peptide link
- C07K5/0207—Peptides containing up to four amino acids in a fully defined sequence; Derivatives thereof containing at least one abnormal peptide link containing the structure -NH-(X)4-C(=0), e.g. 'isosters', replacing two amino acids
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P43/00—Drugs for specific purposes, not provided for in groups A61P1/00-A61P41/00
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P9/00—Drugs for disorders of the cardiovascular system
- A61P9/12—Antihypertensives
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K38/00—Medicinal preparations containing peptides
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は医薬の分野で有用な化合物に関するものである
。さらに詳細には、本発明に係わる化合物は、レニン阻
害作用を有することから、血圧降下剤としての用途が期
待されるものである。
。さらに詳細には、本発明に係わる化合物は、レニン阻
害作用を有することから、血圧降下剤としての用途が期
待されるものである。
従来の遺権
レニンーアンギオテンシン系は生体内における血圧上昇
系の1つで、血圧一体液電解質の重要な調節系である。
系の1つで、血圧一体液電解質の重要な調節系である。
レニンは腎の傍系球体細胞から分泌され、腎静脈を経て
全身循環に入る。血中には肝で生合成された糖タンパク
賀のアンギオテンシノーゲンがあり、これにレニンが作
用してアンギオテンシンIを産生ずる。アンギオテンシ
ン■は1回の肺循環中に膨面管内皮細胞に存在するアン
ギオテンシン変換酵素により大部分アンギオテンシンH
に変換される。このようにして生じたアンギオテンシン
■は末梢血管の平滑筋を直接収縮させ、強い昇圧活性を
i現する。
全身循環に入る。血中には肝で生合成された糖タンパク
賀のアンギオテンシノーゲンがあり、これにレニンが作
用してアンギオテンシンIを産生ずる。アンギオテンシ
ン■は1回の肺循環中に膨面管内皮細胞に存在するアン
ギオテンシン変換酵素により大部分アンギオテンシンH
に変換される。このようにして生じたアンギオテンシン
■は末梢血管の平滑筋を直接収縮させ、強い昇圧活性を
i現する。
このレニンーアンギオテンシン系が異1:ケに光進する
と、高血圧症をひき起こすことが知られ、その主なもの
としては、腎血管性高血圧症、悪性高血圧症、また、ま
れにではあるがレニン産生腫瘍による高血圧症が知られ
ている。
と、高血圧症をひき起こすことが知られ、その主なもの
としては、腎血管性高血圧症、悪性高血圧症、また、ま
れにではあるがレニン産生腫瘍による高血圧症が知られ
ている。
このレニンーアンギオテンシン系の先進による高血圧症
を治療するために、アンギオテンシン変換酵素及びレニ
ンの阻害剤の研究開発が盛んに行われている。レニンの
阻害剤に関しては、微生物により産生されるペプスタチ
ンが知られている。
を治療するために、アンギオテンシン変換酵素及びレニ
ンの阻害剤の研究開発が盛んに行われている。レニンの
阻害剤に関しては、微生物により産生されるペプスタチ
ンが知られている。
〔サイエンス(Science) 、第175巻、第6
56頁、(1971年)参照〕、ペプスタチンは下記の
構造式で示されるスタチン〔(3S、4S)−4−アミ
ノ−3−ヒドロキシ−6−メチルへブタン酸〕と呼称さ
れるアミノ酸を含むN−アシルペンタペプチドである。
56頁、(1971年)参照〕、ペプスタチンは下記の
構造式で示されるスタチン〔(3S、4S)−4−アミ
ノ−3−ヒドロキシ−6−メチルへブタン酸〕と呼称さ
れるアミノ酸を含むN−アシルペンタペプチドである。
tlllN n
このスタチン部分が、ペプスタチンのレニン阻害作用の
発現に関して重要な役割を果していると考えられ、その
化学的修飾により、レニン阻害作用の優れたものを創り
出そうとする研究が行われている〔ジャーナル・オブ・
バイオロジカル・ケミストリイー(Journal o
f R4oIogical Chemistry)第2
51巻、第7088頁〜第7094頁(1976年)、
ネイチャー (Nature)第28巻、第263頁〜
第273頁(1985年)、特開昭59−130257
号公報、特表昭60−500415号公報及び特開昭6
1−122296号公報参照〕。
発現に関して重要な役割を果していると考えられ、その
化学的修飾により、レニン阻害作用の優れたものを創り
出そうとする研究が行われている〔ジャーナル・オブ・
バイオロジカル・ケミストリイー(Journal o
f R4oIogical Chemistry)第2
51巻、第7088頁〜第7094頁(1976年)、
ネイチャー (Nature)第28巻、第263頁〜
第273頁(1985年)、特開昭59−130257
号公報、特表昭60−500415号公報及び特開昭6
1−122296号公報参照〕。
且里1邂退しようとする1叫延立
レニン阻害活性の優れた化合物、ひいては血圧降下剤と
しての用途が期待される化合物をW 倶することである
。
しての用途が期待される化合物をW 倶することである
。
■、を解九工擾Jフ慕υL役
本発明者らは、ペプスタチンのレニン阻害活性の発現に
重要な役割を果しているスタチン部分に注目して、各種
スタチンの誘導体を合成し、該化合物のレニン阻害活性
について検討したところ、後記一般式[I]で表わされ
る一群の化合物が優れたレニン阻害作用を示すことを見
い出して本発明を完成した。
重要な役割を果しているスタチン部分に注目して、各種
スタチンの誘導体を合成し、該化合物のレニン阻害活性
について検討したところ、後記一般式[I]で表わされ
る一群の化合物が優れたレニン阻害作用を示すことを見
い出して本発明を完成した。
旦
すなわち、本発明は、一般式
[式中、R1及びR1は同−又は異なっていてもよく、
水素原子、低級アルキル基、アラルキル基、低級アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラ
ルキルオキシカルボニル基、又は、アミノ基、水酸基、
カルボキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシカ
ルボニルアミノ基、低キル基、アリール基又はアラルキ
ル基を示すか、又はxl及びx8が互いに結合して隣接
する窒素原子と共に、さらに窒素原子、酸素原子及びイ
オウ原子からなる群から選ばれる他のへテロ原子を含ん
でいてもよい、5ないし6員の複素環基を形成してもよ
い)からなる群から選ばれる1ないし3個の置換基で置
換されていてもよく、さらに炭素鎖中に二重結合を含ん
でいてもよい低級アルカフィル基を、R”、 R’及び
R1は同−又は異なっていてもよく、水素原子、低級ア
ルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル
基、アリール基、アラルキル基、又は、酸性、中性若し
くは塩基性アミノ酸の残基を、Roは水素原子又は低級
アルキル基を、Roは水素原子、1ないし2個の水酸基
で置換された、低級アルキル基、シクロアルキル基若し
くはアラルキル基、又は、酸性、中性、若しくは塩J1
(性アミノ酸残基を、Roは水酸基、式ニーOYで表わ
される基(式中、Yは低級アルキル基、アリール基、ア
ラルキル基、低級アルコキシアルキル基、低級アルカノ
イルオキシアルキル基、低級アルコキシカルる基(弐+
t’、 Y’及びYlは同−又は異なっていてもよく、
水素原子、低級アルキル基、アリール基、アラルキル基
又はシクロアルキル基を示すか、又はY’及びY“が互
いに結合して隣接する窒素原子と共に、さらに窒素原子
、酸素原子及びイオウ原子からなる群から選ばれる他の
へテロ原子を含んでいてもよい、5ないし6員の複素環
基に形成してもよい)を、n及び慣は同−又は異なって
いてもよく、0又は1をそれぞれ示すコで表わされる5
−置換アミノ−4−ヒドロキシペンテン酸又はその川及
び該化合物を有効成分とする血圧降下剤に関するもので
ある。
水素原子、低級アルキル基、アラルキル基、低級アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラ
ルキルオキシカルボニル基、又は、アミノ基、水酸基、
カルボキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシカ
ルボニルアミノ基、低キル基、アリール基又はアラルキ
ル基を示すか、又はxl及びx8が互いに結合して隣接
する窒素原子と共に、さらに窒素原子、酸素原子及びイ
オウ原子からなる群から選ばれる他のへテロ原子を含ん
でいてもよい、5ないし6員の複素環基を形成してもよ
い)からなる群から選ばれる1ないし3個の置換基で置
換されていてもよく、さらに炭素鎖中に二重結合を含ん
でいてもよい低級アルカフィル基を、R”、 R’及び
R1は同−又は異なっていてもよく、水素原子、低級ア
ルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル
基、アリール基、アラルキル基、又は、酸性、中性若し
くは塩基性アミノ酸の残基を、Roは水素原子又は低級
アルキル基を、Roは水素原子、1ないし2個の水酸基
で置換された、低級アルキル基、シクロアルキル基若し
くはアラルキル基、又は、酸性、中性、若しくは塩J1
(性アミノ酸残基を、Roは水酸基、式ニーOYで表わ
される基(式中、Yは低級アルキル基、アリール基、ア
ラルキル基、低級アルコキシアルキル基、低級アルカノ
イルオキシアルキル基、低級アルコキシカルる基(弐+
t’、 Y’及びYlは同−又は異なっていてもよく、
水素原子、低級アルキル基、アリール基、アラルキル基
又はシクロアルキル基を示すか、又はY’及びY“が互
いに結合して隣接する窒素原子と共に、さらに窒素原子
、酸素原子及びイオウ原子からなる群から選ばれる他の
へテロ原子を含んでいてもよい、5ないし6員の複素環
基に形成してもよい)を、n及び慣は同−又は異なって
いてもよく、0又は1をそれぞれ示すコで表わされる5
−置換アミノ−4−ヒドロキシペンテン酸又はその川及
び該化合物を有効成分とする血圧降下剤に関するもので
ある。
次に、この明細書の記載において、言及される本発明の
範囲内に包含される各種用語の定義及びその適当な例に
ついて以下に説明する。
範囲内に包含される各種用語の定義及びその適当な例に
ついて以下に説明する。
低級アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル見、ブチル基、イソブチル基
、5ee−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基
又はヘキシル基等の炭素数1ないし6個の直鎖状又は分
岐状の低級アルキル基が拳げられる。
プロピル基、イソプロピル見、ブチル基、イソブチル基
、5ee−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基
又はヘキシル基等の炭素数1ないし6個の直鎖状又は分
岐状の低級アルキル基が拳げられる。
アリール基としては、例えばフェニル基、3−メチルフ
ェニル基、4−メチルフェニル基、4−エチルフェニル
基、4−プロピルフェニル基、■−ナフチル基及び2−
ナフチル基等の炭素数6ないし10個のアリール基が)
トげられる。
ェニル基、4−メチルフェニル基、4−エチルフェニル
基、4−プロピルフェニル基、■−ナフチル基及び2−
ナフチル基等の炭素数6ないし10個のアリール基が)
トげられる。
アラルキル基としては、例えばベンジル基、(l−ナフ
チル)メチル基、(2−ナフチル)メチル基、フェネチ
ル基、3−フェニルプロピル基及び4−フェニルブチル
基等の炭素数7ないし10個のアラルキル基が挙げられ
る。
チル)メチル基、(2−ナフチル)メチル基、フェネチ
ル基、3−フェニルプロピル基及び4−フェニルブチル
基等の炭素数7ないし10個のアラルキル基が挙げられ
る。
シクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、
シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル
基等の炭素数3ないし6個のシクロアルキル基が拳げら
れる。
シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル
基等の炭素数3ないし6個のシクロアルキル基が拳げら
れる。
シクロアルキルアルキル基としては、例えば、シクロプ
ロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチ
ルメチル基、シクロヘキシルメチル基、1−シクロプロ
ピルエチル基、2−シクロプロピルエチル基、l−シク
ロブチルエチル基、2−シクロブチルエチル基、l−シ
クロペンチルエチル基、2−シクロペンチルエチル基、
1−シクロヘキシルエチル基又は2−シクロヘキシルエ
チル基等の炭素数4ないし8個のシクロアルキルアルキ
ル基が挙げられる。
ロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチ
ルメチル基、シクロヘキシルメチル基、1−シクロプロ
ピルエチル基、2−シクロプロピルエチル基、l−シク
ロブチルエチル基、2−シクロブチルエチル基、l−シ
クロペンチルエチル基、2−シクロペンチルエチル基、
1−シクロヘキシルエチル基又は2−シクロヘキシルエ
チル基等の炭素数4ないし8個のシクロアルキルアルキ
ル基が挙げられる。
低級アルコキシカルボニルアミノ基としては、例えばメ
トキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ
基、プロポキシカルボニルアミノ基、イソプロポキシカ
ルボニルアミノ基、ブトキシカルボニルアミノ基、イソ
ブトキシカルボニルアミノ基、tart−ブトキシカル
ボニルアミノ基、ペンチルオキシカルボニルアミノ基又
はヘキシルオキシカルボニルアミノ基等の炭素数2ない
し7個の低級アルコキシカルボニルアミノ基が挙げられ
る。
トキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ
基、プロポキシカルボニルアミノ基、イソプロポキシカ
ルボニルアミノ基、ブトキシカルボニルアミノ基、イソ
ブトキシカルボニルアミノ基、tart−ブトキシカル
ボニルアミノ基、ペンチルオキシカルボニルアミノ基又
はヘキシルオキシカルボニルアミノ基等の炭素数2ない
し7個の低級アルコキシカルボニルアミノ基が挙げられ
る。
アリールオキシカルボニル基としては、例えばフェノキ
シカルボニル基、4−メチルフェニルオキシカルボニル
基、4−エチルフェニルオキシカルボニル基、4−イソ
プロピルフェニル基、4−tert−ブチルフェニルオ
キシカルボニル基、(l−ナフチル)オキシカルボニル
基又は(2−ナフチル)オキシカルボニル基等の炭素数
7ないし11個のアリールオキシカルボニル基が麺げら
れる。
シカルボニル基、4−メチルフェニルオキシカルボニル
基、4−エチルフェニルオキシカルボニル基、4−イソ
プロピルフェニル基、4−tert−ブチルフェニルオ
キシカルボニル基、(l−ナフチル)オキシカルボニル
基又は(2−ナフチル)オキシカルボニル基等の炭素数
7ないし11個のアリールオキシカルボニル基が麺げら
れる。
アリールオキシ基としては、例えばフェノキシ基、4−
メチルフェニルオキシ基、4−エチルフェニルオキシ基
、4−イソプロピルフェニルオキシ基、(1−ナフチル
)オキシ基又は(2−ナフチル)オキシ基等の炭素数6
ないし10個のアリールオキシ基が挙げられる。
メチルフェニルオキシ基、4−エチルフェニルオキシ基
、4−イソプロピルフェニルオキシ基、(1−ナフチル
)オキシ基又は(2−ナフチル)オキシ基等の炭素数6
ないし10個のアリールオキシ基が挙げられる。
アラルキルオキシカルボニル基としては1例えばベンジ
ルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基
、3−フェニルプロピルオキシカルボニル基、4−フェ
ニルブチルオキシカルボニル基、(1−ナフチル)メチ
ルオキシカルボニル基又は(2−ナフチル)メチルオキ
シカルボニル基等の炭素数8個ないし12個のアラルキ
ルオキシカルボニル基が拳げられる。
ルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカルボニル基
、3−フェニルプロピルオキシカルボニル基、4−フェ
ニルブチルオキシカルボニル基、(1−ナフチル)メチ
ルオキシカルボニル基又は(2−ナフチル)メチルオキ
シカルボニル基等の炭素数8個ないし12個のアラルキ
ルオキシカルボニル基が拳げられる。
アラルキルオキシカルボニルアミノ基としては、例えば
ベンジルオキシカルボニルアミノ基、フェネチルオキシ
カルボニルアミノ基、3−フェニルプロピルオキシカル
ボニルアミノ基、4−フェニルブチルオキシカルボニル
アミノコ、!、、(l−ナフチル)メチルオキシカルボ
ニルアミノ、I;t;又は(2−ナフチル)メチルオキ
シカルボニルアミノ基等の炭素数7個ないし12個の7
ラルキルオキシカルボニルアミノ基が挙げられる。
ベンジルオキシカルボニルアミノ基、フェネチルオキシ
カルボニルアミノ基、3−フェニルプロピルオキシカル
ボニルアミノ基、4−フェニルブチルオキシカルボニル
アミノコ、!、、(l−ナフチル)メチルオキシカルボ
ニルアミノ、I;t;又は(2−ナフチル)メチルオキ
シカルボニルアミノ基等の炭素数7個ないし12個の7
ラルキルオキシカルボニルアミノ基が挙げられる。
低級アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカル
ボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカル
ボニル基、5ec−ブトキシカルボニル基、 tert
−ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基
又はヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数2ないし7
個の低級アルコキシカルボニル基が拳げられる。
カルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカル
ボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカル
ボニル基、5ec−ブトキシカルボニル基、 tert
−ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基
又はヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数2ないし7
個の低級アルコキシカルボニル基が拳げられる。
低級アルコキシアルキル基としては、例えばメトキシメ
チル基、エトキシメチル基、l−メトキシエチル基、2
−メトキシエチルJ、(,1−エトキシエチル基、2−
エトキシエチル基、プロポキシメチル基、インプロポキ
シメチル基、ブトキシメチルコ1ζ、イソブトキシメチ
ル基又はヘキシルオキシメチル基等の炭素数2ないし7
個の低級アルコキシアルキル基が拳げられる。
チル基、エトキシメチル基、l−メトキシエチル基、2
−メトキシエチルJ、(,1−エトキシエチル基、2−
エトキシエチル基、プロポキシメチル基、インプロポキ
シメチル基、ブトキシメチルコ1ζ、イソブトキシメチ
ル基又はヘキシルオキシメチル基等の炭素数2ないし7
個の低級アルコキシアルキル基が拳げられる。
低級アルカノイルオキシアルキル基としては、例えばア
セトキシメチル基、プロピオニルオキシメチル基、ブチ
リルオキシメチル基、イソブチリルオキシメチル基、バ
レリルオキシメチル基、ピバロイルオキシメチル基、1
−アセトキシエチル基、2−アセトキシエチル基、1−
ブチリルオキシエチル基、2−ブチリルオキシエチル基
、l−ピバロイルオキシエチル基又は2−ピバロイルオ
キシエチル基等の炭素数3ないし7個の低級アルカノイ
ルオキシアルキルコ1(が挙げられる。
セトキシメチル基、プロピオニルオキシメチル基、ブチ
リルオキシメチル基、イソブチリルオキシメチル基、バ
レリルオキシメチル基、ピバロイルオキシメチル基、1
−アセトキシエチル基、2−アセトキシエチル基、1−
ブチリルオキシエチル基、2−ブチリルオキシエチル基
、l−ピバロイルオキシエチル基又は2−ピバロイルオ
キシエチル基等の炭素数3ないし7個の低級アルカノイ
ルオキシアルキルコ1(が挙げられる。
低級アルコキシカルボニルオキシアルキル基としては、
例えばメトキシカルボニルオキシメチル基、エトキシカ
ルボニルオキシメチル基、プロポキシカルボニルオキシ
メチル基、イソプロポキシカルボニルオキシメチル基、
ブトキシカルボニルオキシメチル!1;%cert−ブ
トキシカルボニルオキシメチル基、l−メトキシカルボ
ニルオキシエチル基、2−メトキシカルボニルオキシエ
チル基、1−エトキシカルボニルオキシエチル基、2−
エトキシカルボニルオキシエチル基、1−tert〜ブ
トキシカルボニルオキシエチル基、2−tert−ブト
キシカルボニルオキシエチル基、1−ブトキシカルボニ
ルオキシエチル基、1−ペンチルカルボニルオキシエチ
ル基又は1−ヘキシルカルボニルオキシエチル基等の炭
素数3ないし9個の低級アルキルオキシカルボニルアル
キル基が拳げられる。
例えばメトキシカルボニルオキシメチル基、エトキシカ
ルボニルオキシメチル基、プロポキシカルボニルオキシ
メチル基、イソプロポキシカルボニルオキシメチル基、
ブトキシカルボニルオキシメチル!1;%cert−ブ
トキシカルボニルオキシメチル基、l−メトキシカルボ
ニルオキシエチル基、2−メトキシカルボニルオキシエ
チル基、1−エトキシカルボニルオキシエチル基、2−
エトキシカルボニルオキシエチル基、1−tert〜ブ
トキシカルボニルオキシエチル基、2−tert−ブト
キシカルボニルオキシエチル基、1−ブトキシカルボニ
ルオキシエチル基、1−ペンチルカルボニルオキシエチ
ル基又は1−ヘキシルカルボニルオキシエチル基等の炭
素数3ないし9個の低級アルキルオキシカルボニルアル
キル基が拳げられる。
で表わされるjl((式中、Yo及びYoは前記の意味
を有する)で表わされる基において、X゛及びX3、又
は、Yo及びYoが互いに結合して各隣接する窒素原子
と共に形成される、さらに窒素原子、酸素原子及びイオ
ウ原子からなる群から選ばれる他のへテロ原子を含んで
もよい、5ないし6員複素環基としては、例えばモルホ
リノ基、チオモルホリノ基、ピペリジノ基、ピロリジニ
ル基又はピペラジニル基等の複素環基が挙げられる。
を有する)で表わされる基において、X゛及びX3、又
は、Yo及びYoが互いに結合して各隣接する窒素原子
と共に形成される、さらに窒素原子、酸素原子及びイオ
ウ原子からなる群から選ばれる他のへテロ原子を含んで
もよい、5ないし6員複素環基としては、例えばモルホ
リノ基、チオモルホリノ基、ピペリジノ基、ピロリジニ
ル基又はピペラジニル基等の複素環基が挙げられる。
酸性、中性又は塩基性アミノ酸の残1.ことしては、例
えばアラニン、アルギニン、ヒスチジン、ホモセリン、
ロイシン、ナフチルアラニン、ノルロイシン、リジン、
ノルバリン、オルニチン、セリン、スレオニン、チロシ
ン、バリン、アスパラギン酸、グルタミン酸、トリプト
ファン、インロイシン、フェニルアラニン又はシスティ
ン等のアミノ酸の残基が挙げられる。
えばアラニン、アルギニン、ヒスチジン、ホモセリン、
ロイシン、ナフチルアラニン、ノルロイシン、リジン、
ノルバリン、オルニチン、セリン、スレオニン、チロシ
ン、バリン、アスパラギン酸、グルタミン酸、トリプト
ファン、インロイシン、フェニルアラニン又はシスティ
ン等のアミノ酸の残基が挙げられる。
アミノ基、水酸基、カルボキシ基、アリールオキシ基、
アラルキルオキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシ
カルボニルアミノ基若しくは式:%式%) X。
アラルキルオキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシ
カルボニルアミノ基若しくは式:%式%) X。
意味を有する)からなる群から選ばれるlないし3個の
置換基で置換されていてもよく、さらに炭素鎖中に二重
結合を含んでいてもよい低級アルカノイル基としては、
例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソ
ブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ヘキサノイ
ル基、フェノキシアセチル基、(l−ナフチル)オキシ
アセチル基、シンナモイル基、(2−ナフチル)オキシ
アセチル基、3−フェニルプロパノイル基、3−フェニ
ル−2−ヒドロキシプロパノイル基、3−フェニル−2
−フェニルプロパノイル基、3−フェニル−2−ベンジ
ルプロパノイル基、4−フェニル−2−ベンジルブチリ
ル基、5−フェニル−2−ベンジルペンタノイル基、2
−ベンジル−4−フェニル−3−ブテノイル基、4−ベ
ンジルオキシカルボニルアミノブチリル基、3−メトキ
シカルボニル−2,3−ジヒドロキシプロピオニル基、
3−モルホリノカルボニル−2−[(1−ナフチル)メ
チルツープロパノイル基、3−モルホリノカルボニル−
2−[(2−ナフチル)メチルコープロバノイル基又は
4−アミノブチリル基等の置換されていてもよい低級ア
ルカノイル基が挙げられる。
置換基で置換されていてもよく、さらに炭素鎖中に二重
結合を含んでいてもよい低級アルカノイル基としては、
例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソ
ブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ヘキサノイ
ル基、フェノキシアセチル基、(l−ナフチル)オキシ
アセチル基、シンナモイル基、(2−ナフチル)オキシ
アセチル基、3−フェニルプロパノイル基、3−フェニ
ル−2−ヒドロキシプロパノイル基、3−フェニル−2
−フェニルプロパノイル基、3−フェニル−2−ベンジ
ルプロパノイル基、4−フェニル−2−ベンジルブチリ
ル基、5−フェニル−2−ベンジルペンタノイル基、2
−ベンジル−4−フェニル−3−ブテノイル基、4−ベ
ンジルオキシカルボニルアミノブチリル基、3−メトキ
シカルボニル−2,3−ジヒドロキシプロピオニル基、
3−モルホリノカルボニル−2−[(1−ナフチル)メ
チルツープロパノイル基、3−モルホリノカルボニル−
2−[(2−ナフチル)メチルコープロバノイル基又は
4−アミノブチリル基等の置換されていてもよい低級ア
ルカノイル基が挙げられる。
工ないし2個の水酸基で置換されていてもよい、低級ア
ルキル基、シクロアルキルアルキル基又はアラルキル基
としては1例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、5eQ−ブチ
ル基、tert−ブチル基、ペンチル基、インペンチル
基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシルメチ
ル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基
、シクロプロピルメチル基、ベンジル基、フェネチル基
、3−フェニルプロピル基、1−フェニルエチル基、3
−シクロへキシルプロピル基、2−シクロヘキシルエチ
ル基、2−シクロペンチルエチル基、ヒドロキシメチル
基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル
基、4−ヒドロキシブチル基、5−ヒドロキシペンチル
基、2.3−ジヒドロキシプロピル基、3.4−ジヒド
ロキシブチル基、4,5−ジヒドロキシペンチル基、l
−ヒドロキシエチル基、l−ヒドロキシプロピル基、1
−ヒドロキシブチル基、1−ヒドロキシペンチル基、2
−ヒドロキシ−1−ヒドロキシメチルエチル基、3−ヒ
ドロキシ−2−ヒドロキシメチルプロピル基、4−ヒド
ロキシ−3−ヒドロキシメチルブチル基、3−ヒドロキ
シ−2,2−ジヒドロキシメチルプロピル基、4−ヒド
ロキシ−2,3−ジヒドロキシメチルブチル基、2−ヒ
ドロキシメチル−2,3−ジヒドロキシプロピル基、2
−ヒドロキシメチルブチル基、4−ヒドロキシメチルブ
チル基、3−ヒドロキシ−3−シクロへキシルプロピル
基、4−ヒドロキシ−4−シクロへキシルブチル基、3
−ヒドロキシ−3−シクロペンチルプロピル基、4−ヒ
ドロキシ−4−シクロペンチルブチル基、4−ヒドロキ
シベンジル基、3−ヒドロキシベンジル基、2−ヒドロ
キシベンジル基、4−ヒドロキシフェネチル基、3−ヒ
ドロキシフェネチル基、2−ヒドロキシフェネチル基、
α−ヒドロキシベンジル基、2−フェニル−2−ヒドロ
キシエチル基、2−フェニル−1−ヒドロキシエチル基
又は3−フェニル−3−ヒドロキシプロピル基等の1な
いし2個の水酸基で置換されていてもよい、アルキル基
、シクロアルキルアルキル基又はアラルキル基が挙げら
れる。
ルキル基、シクロアルキルアルキル基又はアラルキル基
としては1例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、5eQ−ブチ
ル基、tert−ブチル基、ペンチル基、インペンチル
基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシルメチ
ル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基
、シクロプロピルメチル基、ベンジル基、フェネチル基
、3−フェニルプロピル基、1−フェニルエチル基、3
−シクロへキシルプロピル基、2−シクロヘキシルエチ
ル基、2−シクロペンチルエチル基、ヒドロキシメチル
基、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル
基、4−ヒドロキシブチル基、5−ヒドロキシペンチル
基、2.3−ジヒドロキシプロピル基、3.4−ジヒド
ロキシブチル基、4,5−ジヒドロキシペンチル基、l
−ヒドロキシエチル基、l−ヒドロキシプロピル基、1
−ヒドロキシブチル基、1−ヒドロキシペンチル基、2
−ヒドロキシ−1−ヒドロキシメチルエチル基、3−ヒ
ドロキシ−2−ヒドロキシメチルプロピル基、4−ヒド
ロキシ−3−ヒドロキシメチルブチル基、3−ヒドロキ
シ−2,2−ジヒドロキシメチルプロピル基、4−ヒド
ロキシ−2,3−ジヒドロキシメチルブチル基、2−ヒ
ドロキシメチル−2,3−ジヒドロキシプロピル基、2
−ヒドロキシメチルブチル基、4−ヒドロキシメチルブ
チル基、3−ヒドロキシ−3−シクロへキシルプロピル
基、4−ヒドロキシ−4−シクロへキシルブチル基、3
−ヒドロキシ−3−シクロペンチルプロピル基、4−ヒ
ドロキシ−4−シクロペンチルブチル基、4−ヒドロキ
シベンジル基、3−ヒドロキシベンジル基、2−ヒドロ
キシベンジル基、4−ヒドロキシフェネチル基、3−ヒ
ドロキシフェネチル基、2−ヒドロキシフェネチル基、
α−ヒドロキシベンジル基、2−フェニル−2−ヒドロ
キシエチル基、2−フェニル−1−ヒドロキシエチル基
又は3−フェニル−3−ヒドロキシプロピル基等の1な
いし2個の水酸基で置換されていてもよい、アルキル基
、シクロアルキルアルキル基又はアラルキル基が挙げら
れる。
なお、一般式[1]で表わされる本5と明化合物におい
て、不斉炭素原子はR−1S−又はR,S−配置を有し
ていてよい。
て、不斉炭素原子はR−1S−又はR,S−配置を有し
ていてよい。
本発明化合物の塩は、医薬として使用できる無毒性塩な
らばいずれでもよいが1例えば塩酸、硫酸、臭化水素酸
若しくはリン酸等の無機酸との塩又は、例えばシュウ酸
、マレイン酸、酢酸、ギ酸若しくは酒石酸等の有機酸と
の塩が挙げられる。
らばいずれでもよいが1例えば塩酸、硫酸、臭化水素酸
若しくはリン酸等の無機酸との塩又は、例えばシュウ酸
、マレイン酸、酢酸、ギ酸若しくは酒石酸等の有機酸と
の塩が挙げられる。
前記一般式[I〕を有する本発明化合物は、以下に示す
方法に従って製造することができる0通常、出発原料と
しては該当するL−アミノ酸を用いることができる。ア
ミノ酸のアミノ基を、通常使用されているアミノ保1基
1例えばベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベ
ンジルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシカ
ルボニル基などのアルキルオキシカルボニル基、あるい
はアラルキルオキシカルボニル基、例えばフタロイル基
等のジアシル基、トリフルオロアセチル基、ジクロ口ア
セチル基等のアシル基、ベンジル基、トリチル基等のア
ラルキル基などで保護し、ついでカルボン酸を好ましく
はアミド、エステル、酸ハライド、酸無水物等に変換し
たのちバーチ(Birch)還元、接触還元又は金属水
素錯化合物による還元などの公知の方法により一般式 c式中、Roはアミノ保護基を示し、R1及びR“は前
記の意味を有する]で表わされるアルデヒド体とするこ
とができるが、アミノ基あるいはアミノ酸側鎖の保護基
の種類により適宜、好ましい方法を用いる0例えばし−
ベンジルオキシカルボニルロイシンの場合は、ピラゾー
ルとジシクロヘキシルカルボジイミドなどの縮合剤を用
いてビラシライドとしたのち、リチウムアルミニウムハ
イドライド等の金属水素化合物で還元することによりL
−ベンジルオキシカルボニルロイシナールを得ることが
できる。
方法に従って製造することができる0通常、出発原料と
しては該当するL−アミノ酸を用いることができる。ア
ミノ酸のアミノ基を、通常使用されているアミノ保1基
1例えばベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベ
ンジルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシカ
ルボニル基などのアルキルオキシカルボニル基、あるい
はアラルキルオキシカルボニル基、例えばフタロイル基
等のジアシル基、トリフルオロアセチル基、ジクロ口ア
セチル基等のアシル基、ベンジル基、トリチル基等のア
ラルキル基などで保護し、ついでカルボン酸を好ましく
はアミド、エステル、酸ハライド、酸無水物等に変換し
たのちバーチ(Birch)還元、接触還元又は金属水
素錯化合物による還元などの公知の方法により一般式 c式中、Roはアミノ保護基を示し、R1及びR“は前
記の意味を有する]で表わされるアルデヒド体とするこ
とができるが、アミノ基あるいはアミノ酸側鎖の保護基
の種類により適宜、好ましい方法を用いる0例えばし−
ベンジルオキシカルボニルロイシンの場合は、ピラゾー
ルとジシクロヘキシルカルボジイミドなどの縮合剤を用
いてビラシライドとしたのち、リチウムアルミニウムハ
イドライド等の金属水素化合物で還元することによりL
−ベンジルオキシカルボニルロイシナールを得ることが
できる。
アルデヒド体[1]は、場合によっては酸性亜硫酸ソー
ダの付加物としたのち、シアン化すl・リウム又はシア
ン化カリウム等のシアン化物と処理してシアンヒドリン
とし、ついでニトリル基を、酸あるいはアルカリで加水
分解して一般式[式中、Ro、R“及びR”は前記の意
味を有する]で表わされる化合物を得ることができる。
ダの付加物としたのち、シアン化すl・リウム又はシア
ン化カリウム等のシアン化物と処理してシアンヒドリン
とし、ついでニトリル基を、酸あるいはアルカリで加水
分解して一般式[式中、Ro、R“及びR”は前記の意
味を有する]で表わされる化合物を得ることができる。
化合物[In ]はジアステレオアイソマーの混合物と
して得られるが、カラムクロマトグラフィー又はil”
:i通液体クロマトグラフィー等の通常用いられる分離
手段で分離することができる。これらの具体的な合成方
法の1例は、アグリカルチュラル・バイオロジカル・ケ
ミストリー(^gricultural旧o1ogLc
al Cheml−stry)第46巻、第1865頁
〜第1872頁(1982年)に詳述されている。
して得られるが、カラムクロマトグラフィー又はil”
:i通液体クロマトグラフィー等の通常用いられる分離
手段で分離することができる。これらの具体的な合成方
法の1例は、アグリカルチュラル・バイオロジカル・ケ
ミストリー(^gricultural旧o1ogLc
al Cheml−stry)第46巻、第1865頁
〜第1872頁(1982年)に詳述されている。
化合物[mlの水酸基は、必要であれば通常使用される
水酸基保護基、例えば2−メトキシエトキシメチル基、
2−メトキシエチル基、メトキシメチル基、テトラヒド
ロピラニル基、2−メトキシテトラヒドロフラニル基、
2−メトキシテトラヒドロピラニル基、トリメチルシリ
ル基、tert−ブチルジメチルシリル基、アセチル基
、クロロアセチル基、ベンゾイル基、ベンジル基又はパ
ラメトキシベンジル基等で保護したのち、化合物[+1
1]のカルボン酸をさらに前記の方法、すなわちカルボ
ン酸を公知の方法でカルボン酸アミド、カルボン酸エス
テル、酸ハライド又はWI無水物等に変換したのち、バ
ーチ(Birch)還元、接触還元又は金属水素錯化合
物等による還元などの公知の方法により化合物[mlの
α位が8体の化合物を用いた場合には一般式 c式中、R1は水酸基の保護基を、 R”、 R”及び
R9は前記の意味を有する]で表わされる化合物を’J
EJ’lliすることができる。
水酸基保護基、例えば2−メトキシエトキシメチル基、
2−メトキシエチル基、メトキシメチル基、テトラヒド
ロピラニル基、2−メトキシテトラヒドロフラニル基、
2−メトキシテトラヒドロピラニル基、トリメチルシリ
ル基、tert−ブチルジメチルシリル基、アセチル基
、クロロアセチル基、ベンゾイル基、ベンジル基又はパ
ラメトキシベンジル基等で保護したのち、化合物[+1
1]のカルボン酸をさらに前記の方法、すなわちカルボ
ン酸を公知の方法でカルボン酸アミド、カルボン酸エス
テル、酸ハライド又はWI無水物等に変換したのち、バ
ーチ(Birch)還元、接触還元又は金属水素錯化合
物等による還元などの公知の方法により化合物[mlの
α位が8体の化合物を用いた場合には一般式 c式中、R1は水酸基の保護基を、 R”、 R”及び
R9は前記の意味を有する]で表わされる化合物を’J
EJ’lliすることができる。
また Bmがイソブチル基である化合物[rV]は。
特願昭61−173,5611号明細書に示されるよう
に、アスパルチルプロテアーゼの阻害剤として知られて
いるペプスタチンを加水分解して得られるスタチン[V
]を原料として立体特異的に製造することができる。
に、アスパルチルプロテアーゼの阻害剤として知られて
いるペプスタチンを加水分解して得られるスタチン[V
]を原料として立体特異的に製造することができる。
[式中、1−11uはイソブチル基を意味する]で表わ
されるスタチン[V]のアミノ基、水酸基に必要に応じ
てその官能基に適当な保S!!+を導入し、カルボン酸
をアルコールに還元するが%場合によっては低級アルキ
ルエステル化しておくことが好ましく。
されるスタチン[V]のアミノ基、水酸基に必要に応じ
てその官能基に適当な保S!!+を導入し、カルボン酸
をアルコールに還元するが%場合によっては低級アルキ
ルエステル化しておくことが好ましく。
その方法は、例えばメタノール又はエタノール等の低級
アルカノールと塩酸、臭化水素酸又はp−トルエンスル
ホン酸等の酸触媒の存在下で反応させるか、またはメチ
ルエステルの場合にはジアゾメタンと反応させるかなど
他の置換基に対して悪影響を及ぼさない公知のエステル
化法により一般式 [式中、R6、R”、 R’″及び1−Buは前記の意
味を有し、R1は低級アルキル基を示す]で表わされる
化合物を得ることができる。なおこの工程における官能
基への置換基の導入の順序は、場合により変更しても良
い。
アルカノールと塩酸、臭化水素酸又はp−トルエンスル
ホン酸等の酸触媒の存在下で反応させるか、またはメチ
ルエステルの場合にはジアゾメタンと反応させるかなど
他の置換基に対して悪影響を及ぼさない公知のエステル
化法により一般式 [式中、R6、R”、 R’″及び1−Buは前記の意
味を有し、R1は低級アルキル基を示す]で表わされる
化合物を得ることができる。なおこの工程における官能
基への置換基の導入の順序は、場合により変更しても良
い。
化合物[VI]を、カルボン酸エステル基をアルコール
に還元し得る公知の方法1例えばメタノール、エタノー
ル又はテトラヒドロフラン等の溶媒中で水素化ホウ素ナ
トリウム又は水素化ホウ素リチウム等の全屈水素gt化
合物を用いて還元することにより一般式 [式中、R″、R1、Rlo及びi −11uは前記の
意味を有する]で表わされる化合物を得ることができる
。
に還元し得る公知の方法1例えばメタノール、エタノー
ル又はテトラヒドロフラン等の溶媒中で水素化ホウ素ナ
トリウム又は水素化ホウ素リチウム等の全屈水素gt化
合物を用いて還元することにより一般式 [式中、R″、R1、Rlo及びi −11uは前記の
意味を有する]で表わされる化合物を得ることができる
。
化合物[■]の新たに生じた水酸基にピリジン、トリエ
チルアミン等の塩基の存在下、p−トルエンスルホニル
クロライド、メタンスルホニルクロライド又はアセチル
クロライド等を作用させ、ρ−トルエンスルホニル基、
メタンスルホニル基又はアセチル基等の脱離性基を導入
したのちリチウムクロライド又はリチウムブロマイド等
のハロゲン供与剤を反応させることにより一般式 [式中、R1、R1、R1及びi−8口は前記の意味を
有し、Xはハロゲン原子を示す]で表わされる化合物な
得ることができる 化合物[■]をトリエチルアミン又は1.8−ジアザビ
シクロ[5,4,0]−7−ウンデセン等の有機アミン
。
チルアミン等の塩基の存在下、p−トルエンスルホニル
クロライド、メタンスルホニルクロライド又はアセチル
クロライド等を作用させ、ρ−トルエンスルホニル基、
メタンスルホニル基又はアセチル基等の脱離性基を導入
したのちリチウムクロライド又はリチウムブロマイド等
のハロゲン供与剤を反応させることにより一般式 [式中、R1、R1、R1及びi−8口は前記の意味を
有し、Xはハロゲン原子を示す]で表わされる化合物な
得ることができる 化合物[■]をトリエチルアミン又は1.8−ジアザビ
シクロ[5,4,0]−7−ウンデセン等の有機アミン
。
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又は水酸化バリウム
等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物、ナ
トリウムメトキサイド、カリウムメトキサイド又はカリ
ウム tert−ブトキサイド等のアルカリ金属アルコ
ラードで処理して一般式[式中、Ro、Ro、R1及び
1−Buは前記の意味を有する]で表わされる化合物を
得ることができる。
等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水酸化物、ナ
トリウムメトキサイド、カリウムメトキサイド又はカリ
ウム tert−ブトキサイド等のアルカリ金属アルコ
ラードで処理して一般式[式中、Ro、Ro、R1及び
1−Buは前記の意味を有する]で表わされる化合物を
得ることができる。
化合物[rX]をクロム酸、過ヨウ素酸塩、四酸化オス
ミウム、オゾン又はこれらの試薬の組み合わせ等の酸化
剤を用いる公知の方法で処理することによりR4がイソ
ブチル基である一般式[rV]で表わされる化合物を立
体特異的に製造することができる。
ミウム、オゾン又はこれらの試薬の組み合わせ等の酸化
剤を用いる公知の方法で処理することによりR4がイソ
ブチル基である一般式[rV]で表わされる化合物を立
体特異的に製造することができる。
化合物[■コは一般式
[式中、Yは酸素又はイオウ原子を、Zは存在しないか
、酸素又は窒素原子を、R″は低級アルキル基又はアリ
ール基をそれぞれ示し、R7及びR1は前記の意味を有
するコ又は Ro [式中、Xはハロゲン原子を、R”はアリールLξをそ
れぞれ示し、R7及びRoは前記の意味を有するコで表
わされる化合物と、のぞましくはアルゴン、窒素等の不
活性ガス気流下1及応に態形なYを与えない溶媒、例え
ばテトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等の溶媒
中に、場合によってはアルカリ金属又はアルカリ土類金
属のハロゲン化合物、例えばリチウムクロライド、リチ
ウムブロマイド又はマグネシウムブロマイド等を添加し
、更に塩基、例えばジアザビシクロウンデセン、トリエ
チルアミン又はジイソプロピルエチルアミン等の三級ア
ミン、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウ
ムエトキサイド又はブチルリチウム等のアルカリ金属の
水素化物、水酸化物、アルコラード又はアルキル化物等
を加えて反応することにより一般式 [式中、R1、Ro、R7、R’、 R”及びR1°ハ
前記の意味を有する]で表わされる化谷物を得ることが
できる。Roが低級アルキル基である化合物を製造する
場合、そのアルキル化の方法により、どの工程で導入す
るのが好ましいか異なり、例えば出発原料としてエチル
キルアミノ酸を用いて本製造法に従って製造することも
可能であるが、Roが水素原子である化合物[■]に、
例えばトリエチルアミン等の塩J、%存在下にヨウ化メ
チル又はヨウ化エチルなどのハロゲン化アルキルを反応
させて低級アルキル基を導入する方法も好ましい例とし
て拳げろことができる。
、酸素又は窒素原子を、R″は低級アルキル基又はアリ
ール基をそれぞれ示し、R7及びR1は前記の意味を有
するコ又は Ro [式中、Xはハロゲン原子を、R”はアリールLξをそ
れぞれ示し、R7及びRoは前記の意味を有するコで表
わされる化合物と、のぞましくはアルゴン、窒素等の不
活性ガス気流下1及応に態形なYを与えない溶媒、例え
ばテトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド等の溶媒
中に、場合によってはアルカリ金属又はアルカリ土類金
属のハロゲン化合物、例えばリチウムクロライド、リチ
ウムブロマイド又はマグネシウムブロマイド等を添加し
、更に塩基、例えばジアザビシクロウンデセン、トリエ
チルアミン又はジイソプロピルエチルアミン等の三級ア
ミン、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、ナトリウ
ムエトキサイド又はブチルリチウム等のアルカリ金属の
水素化物、水酸化物、アルコラード又はアルキル化物等
を加えて反応することにより一般式 [式中、R1、Ro、R7、R’、 R”及びR1°ハ
前記の意味を有する]で表わされる化谷物を得ることが
できる。Roが低級アルキル基である化合物を製造する
場合、そのアルキル化の方法により、どの工程で導入す
るのが好ましいか異なり、例えば出発原料としてエチル
キルアミノ酸を用いて本製造法に従って製造することも
可能であるが、Roが水素原子である化合物[■]に、
例えばトリエチルアミン等の塩J、%存在下にヨウ化メ
チル又はヨウ化エチルなどのハロゲン化アルキルを反応
させて低級アルキル基を導入する方法も好ましい例とし
て拳げろことができる。
この時保護″!t、r+’及びRISをその保護基の除
去に適した公知の方法で除去することにより一般式[式
中、Ro、R“、R7及びRoは前記の意味をイアする
]で表わされる化合物を製造することができる。
去に適した公知の方法で除去することにより一般式[式
中、Ro、R“、R7及びRoは前記の意味をイアする
]で表わされる化合物を製造することができる。
化合物[X1]を一般式
[式中、R’、R”、R”、 R’、n及びlは前記の
意味を示す]で表わされる化合物と、ペプチド合成法に
おける常法、例えばアシド法、活性エステル法、混合酸
無水物法、カルボジイミド法、イミダゾール法、ジフェ
ニルホスホリルアジド法、ウッドワード法又は酸化還元
系による縮合法等により反応させると、一般式[11で
表わされる本発明化合物を製造することができる。これ
らの+V成酸成分結合の順序については、上記方法によ
らなくても良く、製造する化合物により、有利な方法を
適宜選択することができる。
意味を示す]で表わされる化合物と、ペプチド合成法に
おける常法、例えばアシド法、活性エステル法、混合酸
無水物法、カルボジイミド法、イミダゾール法、ジフェ
ニルホスホリルアジド法、ウッドワード法又は酸化還元
系による縮合法等により反応させると、一般式[11で
表わされる本発明化合物を製造することができる。これ
らの+V成酸成分結合の順序については、上記方法によ
らなくても良く、製造する化合物により、有利な方法を
適宜選択することができる。
本発明の化合物を医薬として使用する場合、本発明の化
合物は単独で投与することができるが。
合物は単独で投与することができるが。
投与経路及び標Nll的な製剤法に関連して選ばれる製
剤用担体との混合物として投与される0例えば。
剤用担体との混合物として投与される0例えば。
経口で投与する場合には、本発明の活性成分の粉末にデ
ンプン、乳糖、白糖、ブドウ糖、結晶セルロース、炭酸
カルシウム若しくはカオリン等の賦形剤、デンプン糊液
、ゼラチン溶液、ハイドロオキシプロピルセルロース、
ブドウ糖液、白糖溶液、水若しくはエタノール等の結合
剤、デンプン、寒天、ゼラチン末、 CMC−Ca、
CMC−Na、結晶セルロース、炭酸カルシウム若しく
は炭酸水素ナトリウム等の崩壊剤又はステアリン酸マグ
ネシウム、ステアリン酸カルシウム、タルク、マクロゴ
ール4000、マクロゴール6000若しくはステアリ
ン酸等の滑沢剤を適宜加えて公知の打錠法により圧縮成
形し、ついで必要に応じて、例えばアラビアゴム、タル
ク、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール及
び/又は酸化チタン等を含む濃厚糖溶液により糖衣を施
すか1例えばポリビニルアセタールジエチルアミノアセ
テート、セルロースアセテート、N、N−ジブチルアミ
ノヒドロキシプロピルエーテル、ヒドロキシプロピルメ
チルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、エチ
ルセルロース若しくはポリビニルピロリドン等からなる
皮膜剤でフィルムコーティングを施すか又は1例えばエ
チルセルロースフタレートセラック、酢酸フタル酸セル
ロース若しくはヒドロキシプロピルメチルセルロースフ
タレート等からなる皮膜剤により腸溶性皮膜を施すこと
によりI&lJ造された錠剤、本発明の活性成分に1例
えばデンプン、ゼラチン、アラビアゴム、メチルセルロ
ース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、重質無
水ケイ酸若しくは軽質無水ケイ酸等の結合剤を加えて、
常法により練合、造粒して得られる綱粒剤若しくは顆粒
剤、又は、本発明の活性成分の粉末lit独又は2例え
ば乳糖、デンプン若しくは結晶セルロース等の賦形剤及
びl又はステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カル
シウム若しくはタルク等の滑沢剤を加えて、カプセルに
充填して得られたカプセル剤等の剤形が用いられる。非
経口投与の場合には1例えばプロピレングリコール、ポ
リエチレングリコール若しくはオリーブ油のような植物
油等の乳化剤、又は、安息香酸ナトリウム、サリチル酸
ナトリウム、K−ヒドロキシエチルラクタマイド、α−
糖酸カルシウム、マンニット、ニコチン酸アミド若しく
はシクロデキストリン等の可溶化剤を適宜使用した注射
剤が用いられる。
ンプン、乳糖、白糖、ブドウ糖、結晶セルロース、炭酸
カルシウム若しくはカオリン等の賦形剤、デンプン糊液
、ゼラチン溶液、ハイドロオキシプロピルセルロース、
ブドウ糖液、白糖溶液、水若しくはエタノール等の結合
剤、デンプン、寒天、ゼラチン末、 CMC−Ca、
CMC−Na、結晶セルロース、炭酸カルシウム若しく
は炭酸水素ナトリウム等の崩壊剤又はステアリン酸マグ
ネシウム、ステアリン酸カルシウム、タルク、マクロゴ
ール4000、マクロゴール6000若しくはステアリ
ン酸等の滑沢剤を適宜加えて公知の打錠法により圧縮成
形し、ついで必要に応じて、例えばアラビアゴム、タル
ク、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール及
び/又は酸化チタン等を含む濃厚糖溶液により糖衣を施
すか1例えばポリビニルアセタールジエチルアミノアセ
テート、セルロースアセテート、N、N−ジブチルアミ
ノヒドロキシプロピルエーテル、ヒドロキシプロピルメ
チルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、エチ
ルセルロース若しくはポリビニルピロリドン等からなる
皮膜剤でフィルムコーティングを施すか又は1例えばエ
チルセルロースフタレートセラック、酢酸フタル酸セル
ロース若しくはヒドロキシプロピルメチルセルロースフ
タレート等からなる皮膜剤により腸溶性皮膜を施すこと
によりI&lJ造された錠剤、本発明の活性成分に1例
えばデンプン、ゼラチン、アラビアゴム、メチルセルロ
ース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、重質無
水ケイ酸若しくは軽質無水ケイ酸等の結合剤を加えて、
常法により練合、造粒して得られる綱粒剤若しくは顆粒
剤、又は、本発明の活性成分の粉末lit独又は2例え
ば乳糖、デンプン若しくは結晶セルロース等の賦形剤及
びl又はステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カル
シウム若しくはタルク等の滑沢剤を加えて、カプセルに
充填して得られたカプセル剤等の剤形が用いられる。非
経口投与の場合には1例えばプロピレングリコール、ポ
リエチレングリコール若しくはオリーブ油のような植物
油等の乳化剤、又は、安息香酸ナトリウム、サリチル酸
ナトリウム、K−ヒドロキシエチルラクタマイド、α−
糖酸カルシウム、マンニット、ニコチン酸アミド若しく
はシクロデキストリン等の可溶化剤を適宜使用した注射
剤が用いられる。
また二の調剤には他の治療上価値ある物質、例えばアセ
タゾラミド、アミロリド、クロロチアジド、フロセミド
、チモロール、プロプラノロール、セタモロール、クロ
ニジン、メチルドーパ、ミノキシジル、ヒドララジン、
カプトプリル、ビバロブリル、エナラプリル、リジノブ
リル、ベラパミル、ニフェジピン、ニカルジピン、フエ
ロジビン、ニモジピン又はジルチアゼム等を含ませるこ
とができる。
タゾラミド、アミロリド、クロロチアジド、フロセミド
、チモロール、プロプラノロール、セタモロール、クロ
ニジン、メチルドーパ、ミノキシジル、ヒドララジン、
カプトプリル、ビバロブリル、エナラプリル、リジノブ
リル、ベラパミル、ニフェジピン、ニカルジピン、フエ
ロジビン、ニモジピン又はジルチアゼム等を含ませるこ
とができる。
有利な薬剤単位投与形態について本発明の化合物的0.
1mgないし500mgを含有する。好ましい経口投与
量の範囲は約0.1mg/kgないし500Bを1日あ
たり、lないし3回で投与する。また好ましい非経口投
与の場合には1日あたり、約0.1a+g/kgないし
10mg/kgを1回投与する。この投与量は、患者の
性別、症状等の必要に基づき、医師の処方により投与j
tを増加又は減少させうろことは明らかである。
1mgないし500mgを含有する。好ましい経口投与
量の範囲は約0.1mg/kgないし500Bを1日あ
たり、lないし3回で投与する。また好ましい非経口投
与の場合には1日あたり、約0.1a+g/kgないし
10mg/kgを1回投与する。この投与量は、患者の
性別、症状等の必要に基づき、医師の処方により投与j
tを増加又は減少させうろことは明らかである。
次に本発明の目的化合物のレニン阻害作用試験及び実施
例を挙げ5本発明をさらに具体的に説明する。
例を挙げ5本発明をさらに具体的に説明する。
レニン阻害活性)隨
0.2Mリン酸ナトリウム緩衝液(p117.4)15
6μ2に34mW 8−ヒドロキシキノリンと100m
Mエチレンジアミン四酢酸二ナトリウムの混液40μe
、ジメチルスルフォキサイド又は試験薬のジメチルスル
フォキサイド溶液4μe及びヒトプラズマ200μCを
加えて37℃1時間反応した後、ペプスタチンを添加し
て反応を止め、生じたアンジオテンシンIのMをラジオ
イムノアッセイ法で測定する方法により阻害活性を測定
した0本51!明化合物の50%阻害濃度(IC,、値
)を表1に示す。
6μ2に34mW 8−ヒドロキシキノリンと100m
Mエチレンジアミン四酢酸二ナトリウムの混液40μe
、ジメチルスルフォキサイド又は試験薬のジメチルスル
フォキサイド溶液4μe及びヒトプラズマ200μCを
加えて37℃1時間反応した後、ペプスタチンを添加し
て反応を止め、生じたアンジオテンシンIのMをラジオ
イムノアッセイ法で測定する方法により阻害活性を測定
した0本51!明化合物の50%阻害濃度(IC,、値
)を表1に示す。
表1 ヒト・プラズマ・レニン阻害作用試験薬
50%阻害濃度(モル)A 1.4X
IO−@ [31,9XIO−@ C6,’yxto−” D 1.2X10− ’E3.lX10
− ’ 17 1.5X10−7 G 2.6X10− ’+1
1.6XIO−’ 爽施1一 実施例1 (4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボ
ニルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ−4
−ヒドロキシ−7−メチル−2(E)−オクテン酸イソ
ブチルアミド 1) 3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキシカ
ルボニル−2゜2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾ
リジン−5−イルコ−2(E)−プロペン酸エチルエス
テルリチウムクロリド247mgを無水テトラヒドロフ
ラン25me中にアルゴン気流下懸濁させ、攪拌しなが
らエチル−α−ジエチルフォスフォノアセテートの1.
Omgを滴下する。5分間室温で攪拌した後トリエチル
アミン0.75mf!を加え、10分間室温で攪拌する
0次いで、(/Is、5R)−3−ベンジルオキシカル
ボニル−2,2−ジメチル−5−ホルミル−4−イソブ
チルオキサゾリジン1.43gの無水テトラヒドロフラ
ン2.Omgに溶解した溶液を加え、室温で終夜攪拌す
る。
50%阻害濃度(モル)A 1.4X
IO−@ [31,9XIO−@ C6,’yxto−” D 1.2X10− ’E3.lX10
− ’ 17 1.5X10−7 G 2.6X10− ’+1
1.6XIO−’ 爽施1一 実施例1 (4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボ
ニルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ−4
−ヒドロキシ−7−メチル−2(E)−オクテン酸イソ
ブチルアミド 1) 3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキシカ
ルボニル−2゜2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾ
リジン−5−イルコ−2(E)−プロペン酸エチルエス
テルリチウムクロリド247mgを無水テトラヒドロフ
ラン25me中にアルゴン気流下懸濁させ、攪拌しなが
らエチル−α−ジエチルフォスフォノアセテートの1.
Omgを滴下する。5分間室温で攪拌した後トリエチル
アミン0.75mf!を加え、10分間室温で攪拌する
0次いで、(/Is、5R)−3−ベンジルオキシカル
ボニル−2,2−ジメチル−5−ホルミル−4−イソブ
チルオキサゾリジン1.43gの無水テトラヒドロフラ
ン2.Omgに溶解した溶液を加え、室温で終夜攪拌す
る。
反応終了後、析出した無機塩を(2)ムした後、水冷下
l規定塩酸で反応液を中和する。減圧下で反応液をff
1fsし、得られるシロップをベンゼン150m+4に
溶解させ、水100m1!で洗浄する0分離水層をさら
にベンゼン75dで抽出し、合わせた有機層を無水硫酸
マグネシウム上で乾燥する。減圧下に?r411後得ら
れるシロップをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
キーゼルゲール60,27g)により、ベンゼン/酢酸
エチル(30:1’)で精製し、3−[(4S、5S)
−3−ベンジルオキシカルボニル−2,2−ジメチル−
4−インブチルオキサゾリジン−5−イル″]−2(E
)−プロペン酸エチルエステルを無色透明シロップ1.
10gとして得る。
l規定塩酸で反応液を中和する。減圧下で反応液をff
1fsし、得られるシロップをベンゼン150m+4に
溶解させ、水100m1!で洗浄する0分離水層をさら
にベンゼン75dで抽出し、合わせた有機層を無水硫酸
マグネシウム上で乾燥する。減圧下に?r411後得ら
れるシロップをシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
キーゼルゲール60,27g)により、ベンゼン/酢酸
エチル(30:1’)で精製し、3−[(4S、5S)
−3−ベンジルオキシカルボニル−2,2−ジメチル−
4−インブチルオキサゾリジン−5−イル″]−2(E
)−プロペン酸エチルエステルを無色透明シロップ1.
10gとして得る。
Rf値 0.51(シリカゲルプレート、展開剤二〇
−ヘキサンー酢酸エチル(3:1))質量スペクトル(
FAB−MS) m/z 390(M”+1)374(
M”−・CI+、) 346(M”−・Cl1−C11,) C11゜ 核磁気共鳴スペクトル(60旧(Z 、CDC1,)δ
ppm : 0.7〜1.1(6H,m)、1.1−1
.9[+211.1.3pp+e(311,t、J=6
.511z)、1.5and1.6ppm(311X
2 、s X 2)] 、3.9(III、m)、4
、2(211+Q +J=7Hz)、4.5(111,
ddd、Ja=1.511z、Jb=311z。
−ヘキサンー酢酸エチル(3:1))質量スペクトル(
FAB−MS) m/z 390(M”+1)374(
M”−・CI+、) 346(M”−・Cl1−C11,) C11゜ 核磁気共鳴スペクトル(60旧(Z 、CDC1,)δ
ppm : 0.7〜1.1(6H,m)、1.1−1
.9[+211.1.3pp+e(311,t、J=6
.511z)、1.5and1.6ppm(311X
2 、s X 2)] 、3.9(III、m)、4
、2(211+Q +J=7Hz)、4.5(111,
ddd、Ja=1.511z、Jb=311z。
Jc:611z)、5.1(211,s)、6.05(
III、dd 。
III、dd 。
Jd=1511z、Ja=1.511z)、7.0(I
II、dd、Jc=611z。
II、dd、Jc=611z。
Jd=15111)、7.35(511,5)E(t]
”ニー34.1°(C=1.14.クロロホルム)2)
3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキシカルボ
ニル−2゜2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリジ
ン−5−イル]−2(E)−プロペン酸エチルエステル
930mgをエタノール1meに溶解し、これに水酸化
カリウム790mgを含むエタノール10dを0℃で加
える。
”ニー34.1°(C=1.14.クロロホルム)2)
3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキシカルボ
ニル−2゜2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリジ
ン−5−イル]−2(E)−プロペン酸エチルエステル
930mgをエタノール1meに溶解し、これに水酸化
カリウム790mgを含むエタノール10dを0℃で加
える。
室温1時間攪拌後、l規定塩酸でp1!2とし、酢酸エ
チルで抽出する。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無
水硫酸マグネシウム上で<tt7.燥し、減圧上溶媒を
留去する。 3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキ
シカルボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキ
サゾリジン−5−イル]−2(E)−プロペン酸が無色
油状物として得られる。
チルで抽出する。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無
水硫酸マグネシウム上で<tt7.燥し、減圧上溶媒を
留去する。 3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキ
シカルボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキ
サゾリジン−5−イル]−2(E)−プロペン酸が無色
油状物として得られる。
これを精製せずに、無水ジメチルホルムアミド5n+2
中に溶解させ一20℃で攪拌しながら、トリエチルアミ
ン290■、ジフェニルホスホリルアジド790mgを
含む無水ジメチルホルムアミド3mg、及びイソブチル
アミン228qを含む無水ジメチルホルムアミド3II
leを順次滴下する。−1H℃で1時間、次いで室温で
一夜攪拌後、溶媒を減圧上留去する。残渣を酢酸エチル
50w+9に溶解し、4iffl曹水、水及び飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥する。溶媒
を減圧上留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(キーゼルゲール60 、80g)により、n−
ヘキサン/酢酸エチル(5:1)の混合物を用いて精製
後1分取薄層カラムクロマトグラフィー(キーゼルゲー
ル60)にエリn−ヘキサン/酢酸エチル(2:3)に
より精製し、3−[(/Is、5S)−3−ベンジルオ
キシカルボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオ
キサゾリジン−5−イル]−2(E)−プロペン酸イソ
ブチルアミドを無色不定形結晶として570mg得る。
中に溶解させ一20℃で攪拌しながら、トリエチルアミ
ン290■、ジフェニルホスホリルアジド790mgを
含む無水ジメチルホルムアミド3mg、及びイソブチル
アミン228qを含む無水ジメチルホルムアミド3II
leを順次滴下する。−1H℃で1時間、次いで室温で
一夜攪拌後、溶媒を減圧上留去する。残渣を酢酸エチル
50w+9に溶解し、4iffl曹水、水及び飽和食塩
水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥する。溶媒
を減圧上留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(キーゼルゲール60 、80g)により、n−
ヘキサン/酢酸エチル(5:1)の混合物を用いて精製
後1分取薄層カラムクロマトグラフィー(キーゼルゲー
ル60)にエリn−ヘキサン/酢酸エチル(2:3)に
より精製し、3−[(/Is、5S)−3−ベンジルオ
キシカルボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオ
キサゾリジン−5−イル]−2(E)−プロペン酸イソ
ブチルアミドを無色不定形結晶として570mg得る。
Rf’ 4.1 0.61(シリカゲルプレート、展開
剤:n−ヘキサン−酢酸エチル(1:1))核磁気共鳴
スペクトル(60旧1z、CDCl、)δppm+ :
0.7〜1.2(1211,01)、1.2〜2.2
[1011,1,52(311,s)、1.61(31
1,s)1,3.12(21!、dd。
剤:n−ヘキサン−酢酸エチル(1:1))核磁気共鳴
スペクトル(60旧1z、CDCl、)δppm+ :
0.7〜1.2(1211,01)、1.2〜2.2
[1011,1,52(311,s)、1.61(31
1,s)1,3.12(21!、dd。
Ja*611z、Jbg611z)、3.7−4.1(
Ill、m)、4.3−4.6(111,s)、5.t
o(2+1.s)、5.95(III、d。
Ill、m)、4.3−4.6(111,s)、5.t
o(2+1.s)、5.95(III、d。
Jc=1511z)、6.80(IH,dd、Jc1!
1511z、JdlI611z)7.28(511,5
) 3) 3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキシカ
ルボニル−2゜2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾ
リジン−5−イル]−2(E)−プロペン酸イソブチル
アミド555+sgをアセトニトリル10dに溶解し、
ヨウ化ナトリウム1.8g及びトリメチルシリルクロリ
ド1.16gを加え、窒素雰囲気下、45℃で1.5時
間加熱攪拌する1反応液にlO%塩化水素−メタノール
溶液を加え、室温で15分間攪拌後、溶媒を減圧上留去
する。残渣を水20+al!に溶解し、ジエチルエーテ
ルにより抽出する。エーテル層を0.5規定塩酸で抽出
し、抽出層を炭酸ナトリウムで約pHIOとした後、塩
化ナトリウムを飽和するまで加え、酢酸エチルで抽出す
る。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、
溶媒を減圧上留去する。(4S、55)−5−アミノ−
4−ヒドロキシ−7−メチル−2(E〕−オクテン酸イ
ソブチルアミドを無色粉末として200mg得る。
1511z、JdlI611z)7.28(511,5
) 3) 3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキシカ
ルボニル−2゜2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾ
リジン−5−イル]−2(E)−プロペン酸イソブチル
アミド555+sgをアセトニトリル10dに溶解し、
ヨウ化ナトリウム1.8g及びトリメチルシリルクロリ
ド1.16gを加え、窒素雰囲気下、45℃で1.5時
間加熱攪拌する1反応液にlO%塩化水素−メタノール
溶液を加え、室温で15分間攪拌後、溶媒を減圧上留去
する。残渣を水20+al!に溶解し、ジエチルエーテ
ルにより抽出する。エーテル層を0.5規定塩酸で抽出
し、抽出層を炭酸ナトリウムで約pHIOとした後、塩
化ナトリウムを飽和するまで加え、酢酸エチルで抽出す
る。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、
溶媒を減圧上留去する。(4S、55)−5−アミノ−
4−ヒドロキシ−7−メチル−2(E〕−オクテン酸イ
ソブチルアミドを無色粉末として200mg得る。
Rf’4ff 0.35(シリカゲルプレート、展
開剤:クロロホルム−メタノール−33%酢酸(6:2
:0.5)) 核磁気共鳴スペクトル(60M Ih 、 CD、 O
D )δppm : 6.08(Ill、d、Ja=1
611z)、6.65(III、dd。
開剤:クロロホルム−メタノール−33%酢酸(6:2
:0.5)) 核磁気共鳴スペクトル(60M Ih 、 CD、 O
D )δppm : 6.08(Ill、d、Ja=1
611z)、6.65(III、dd。
Ja=1611z、Jb=811z)
4) L−N−ベンジルオキシカルボニルナフチルア
ラニル−L−ノルロイシンヒドラジド217 rngを
ジメチルホルムアミド1IIleに溶解し、4N塩化水
素−ジオキサン0.34m2を加え、−60℃に冷却す
る。これにイソアミルナイトライド0.99n+!を加
えた後、混合物の温度を一20℃に上げる。ヒドラジド
が消失したことを確認した後、混合物の温度を一60℃
に下げ、N−メチルモルホリン0.15dを加えて中和
し、 (4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−
7−メチル−2(E)−オクテン酸イソブチルアミドl
oomgのジメチルホルムアミド溶液1.5mgを加え
る。混合物を8℃で一夜攪拌後、析出物を濾去し、溶媒
を減圧上留去する。
ラニル−L−ノルロイシンヒドラジド217 rngを
ジメチルホルムアミド1IIleに溶解し、4N塩化水
素−ジオキサン0.34m2を加え、−60℃に冷却す
る。これにイソアミルナイトライド0.99n+!を加
えた後、混合物の温度を一20℃に上げる。ヒドラジド
が消失したことを確認した後、混合物の温度を一60℃
に下げ、N−メチルモルホリン0.15dを加えて中和
し、 (4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−
7−メチル−2(E)−オクテン酸イソブチルアミドl
oomgのジメチルホルムアミド溶液1.5mgを加え
る。混合物を8℃で一夜攪拌後、析出物を濾去し、溶媒
を減圧上留去する。
残渣に酢酸エチルを加え、析出する結品を濾取する。
(4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボ
ニルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ−4
−ヒドロキシ−7−メチル−2(E)−オクテン酸イソ
ブチルアミド[化合物A]43mgが無色粉末として得
られる。
(4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボ
ニルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ−4
−ヒドロキシ−7−メチル−2(E)−オクテン酸イソ
ブチルアミド[化合物A]43mgが無色粉末として得
られる。
R1’値 0.33(シリカゲルプレート、展開剤:
クロロホルム−メタノール(+5:1))融点 25
0.5〜252℃ 質量スペクトル an/z ” 687(M”+1
)核磁気共鳴スペクトル(60M +(Z 、 DII
SO−d、 )δppm : 4.88(211,s)
、6.05(III、d、Ja=1511z)6.62
(111,dd、Ja=1511z、Jb:411z)
7.0−8.5(1211,m) 実施例2 (4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボ
ニルナフチルアラニル−L−ノルロイシル)アミノ−2
−エチル−4−ヒドロキシ−7−メチル−2−オクテン
酸イソブチルアミド 1)2−ジエチルフォスフォノブタン酸エチルエステル 水素化ナトリウム分散液(油中60%)856mgを窒
素下にn−ヘキサンで3回洗浄し、油を分離する。乾燥
役得られる粉末を無水ジメチルホルムアミド7.2mG
!巾に窒素上懸濁させ、O’C1fi拌下、ジエチルフ
ォスフォノ酢酸エチルエステル4.2tfeを1時間に
わたって滴下する。室温で約1時間攪拌後、0℃に冷却
し、攪拌下ブロモエタン1.92aF!を加え、55℃
で一晩攪拌する。
クロロホルム−メタノール(+5:1))融点 25
0.5〜252℃ 質量スペクトル an/z ” 687(M”+1
)核磁気共鳴スペクトル(60M +(Z 、 DII
SO−d、 )δppm : 4.88(211,s)
、6.05(III、d、Ja=1511z)6.62
(111,dd、Ja=1511z、Jb:411z)
7.0−8.5(1211,m) 実施例2 (4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボ
ニルナフチルアラニル−L−ノルロイシル)アミノ−2
−エチル−4−ヒドロキシ−7−メチル−2−オクテン
酸イソブチルアミド 1)2−ジエチルフォスフォノブタン酸エチルエステル 水素化ナトリウム分散液(油中60%)856mgを窒
素下にn−ヘキサンで3回洗浄し、油を分離する。乾燥
役得られる粉末を無水ジメチルホルムアミド7.2mG
!巾に窒素上懸濁させ、O’C1fi拌下、ジエチルフ
ォスフォノ酢酸エチルエステル4.2tfeを1時間に
わたって滴下する。室温で約1時間攪拌後、0℃に冷却
し、攪拌下ブロモエタン1.92aF!を加え、55℃
で一晩攪拌する。
反応液を水40meに注ぎ、酢酸エチル20dで3回抽
出する。有機層を水、次いで飽和食塩水で洗浄、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥後、減圧上溶媒を留去する。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(キーゼルゲー
ルso、tzog)によ1月1−ヘキサンlアセトン(
4:1)の混合物をmいて精製する。2−ジエチルフォ
スフォノブタン酸エチルエステルが油状物として2.7
6g得られる。
出する。有機層を水、次いで飽和食塩水で洗浄、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥後、減圧上溶媒を留去する。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(キーゼルゲー
ルso、tzog)によ1月1−ヘキサンlアセトン(
4:1)の混合物をmいて精製する。2−ジエチルフォ
スフォノブタン酸エチルエステルが油状物として2.7
6g得られる。
Rr値 0.63(シリカゲルプレート、展開剤:n
−ヘキサン−酢酸エチル(1:5))!1tffiスペ
クトルm/z 253(M”+1)核磁気共鳴スペクト
ル(60旧[Z 、CI)CI、)δppm : 0.
95(311,t、J=81rz)、1.25(311
,5J=8Hz)。
−ヘキサン−酢酸エチル(1:5))!1tffiスペ
クトルm/z 253(M”+1)核磁気共鳴スペクト
ル(60旧[Z 、CI)CI、)δppm : 0.
95(311,t、J=81rz)、1.25(311
,5J=8Hz)。
1.29(611,t、Jニア11z)、1.6−2.
1(211,m)。
1(211,m)。
2J(111,ddd、J=22.7,711z)、4
.05(211゜Q、J=8111)、4.15(21
1,Q、J=7112)2) 3−[(4S、5S)
−3−ベンジルオキシカルボニル−2゜2−ジメチル−
4−イソブチルオキサゾリジン−5−イルゴー2−エチ
ル−2−プロペン酸イソブチルアミド(a)リチウムク
ロライド71.6mgを無水テトラヒドロフラン5mθ
にアルゴン下懸濁させ、攪拌しなから2−ジエチルフォ
スフォノブタン酸エチルエステル426mgを無水テト
ラヒドロフラン0.6−に溶解させて加える。室温で5
分攪拌後、ジアザビシクロウンデセン323I1gを5
0%無水テトラヒドロフラン溶液として加え、室温で1
0分間攪拌する6次いで(4S、5R)−3−ベンジル
オキシカルボニル−2,2−ジメチル−5−ホルミル−
4−イソブチルオキサゾリン450mgを無水テトラヒ
ドロフラン1.0mgに溶解させて加え、室温で一晩攪
拌する。
.05(211゜Q、J=8111)、4.15(21
1,Q、J=7112)2) 3−[(4S、5S)
−3−ベンジルオキシカルボニル−2゜2−ジメチル−
4−イソブチルオキサゾリジン−5−イルゴー2−エチ
ル−2−プロペン酸イソブチルアミド(a)リチウムク
ロライド71.6mgを無水テトラヒドロフラン5mθ
にアルゴン下懸濁させ、攪拌しなから2−ジエチルフォ
スフォノブタン酸エチルエステル426mgを無水テト
ラヒドロフラン0.6−に溶解させて加える。室温で5
分攪拌後、ジアザビシクロウンデセン323I1gを5
0%無水テトラヒドロフラン溶液として加え、室温で1
0分間攪拌する6次いで(4S、5R)−3−ベンジル
オキシカルボニル−2,2−ジメチル−5−ホルミル−
4−イソブチルオキサゾリン450mgを無水テトラヒ
ドロフラン1.0mgに溶解させて加え、室温で一晩攪
拌する。
反応液を0℃に冷却しながら、l規定塩酸で中和する0
次いで酢酸エチルで3回抽出し、有機層を水、飽和食塩
水で洗浄、無水硫酸ナトリウム上で乾燥する。減圧上溶
媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(キーセルゲール60,15g)によりn−ヘキサンl
酢酸エチル(10:I)の混合物を用いて’Jf、1製
する。 3−[:(4S、5S)−3−/< ンシルオ
キシカルボニルー2.2−ジメチル−4−イソブチルオ
キサゾリン−5−イル]−2−エチルー2−プロペン酸
エチルエステルが無色油状物として518B得られる。
次いで酢酸エチルで3回抽出し、有機層を水、飽和食塩
水で洗浄、無水硫酸ナトリウム上で乾燥する。減圧上溶
媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(キーセルゲール60,15g)によりn−ヘキサンl
酢酸エチル(10:I)の混合物を用いて’Jf、1製
する。 3−[:(4S、5S)−3−/< ンシルオ
キシカルボニルー2.2−ジメチル−4−イソブチルオ
キサゾリン−5−イル]−2−エチルー2−プロペン酸
エチルエステルが無色油状物として518B得られる。
Rf(fi 0.53(シリカゲルプレート、展+
1J剤二〇−ヘキサンー酢酸エチル(5:1))核Fa
気共鳴スヘ’) トル(60MIIz 、CDCl、
)δppffl : 0.7−1.8(2111,m
)、2.32(211,i)、3.80(山m)、4.
20(211,q、J=711z)+4.58(0,5
11,dd。
1J剤二〇−ヘキサンー酢酸エチル(5:1))核Fa
気共鳴スヘ’) トル(60MIIz 、CDCl、
)δppffl : 0.7−1.8(2111,m
)、2.32(211,i)、3.80(山m)、4.
20(211,q、J=711z)+4.58(0,5
11,dd。
J=2,911z)、5.10(0,511,m)、5
.11(211,s)。
.11(211,s)。
5.85(0,5+1.brd、J=911z)、6.
66(0,511,d。
66(0,511,d。
J=911z)、7.30(511,5)(b)3−[
(4S、5S)−3−ベンジルオキシカルボニル−2,
2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリジン−5−イ
ル]−2−エチ°ルー2−プロペン酸エチルエステル5
17mgを2規定水酸化カリウムのエタノール/水(9
:1)溶液3、l0m2に溶解し、室温で3時間攪拌す
る。
(4S、5S)−3−ベンジルオキシカルボニル−2,
2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリジン−5−イ
ル]−2−エチ°ルー2−プロペン酸エチルエステル5
17mgを2規定水酸化カリウムのエタノール/水(9
:1)溶液3、l0m2に溶解し、室温で3時間攪拌す
る。
次に水冷下l規定塩酸により反応液のpl+を2に調整
し、水24mQを加えて、酢酸エチル20mQで3回抽
出する。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥し、溶媒を減圧留去する。 3−
[(4S、5S)−3−ベンジルオキシカルボニル−2
,2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリジン−5−
イル]−2−エチルー2−プロペン酸が無色油状物とし
て得られる。
し、水24mQを加えて、酢酸エチル20mQで3回抽
出する。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥し、溶媒を減圧留去する。 3−
[(4S、5S)−3−ベンジルオキシカルボニル−2
,2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリジン−5−
イル]−2−エチルー2−プロペン酸が無色油状物とし
て得られる。
これを精製せずに無水ジメチルホルムアミド1.0−に
溶解し、−10℃で攪拌しながら、イソブチルアミン1
45μC、ジフェニルホスホリルアジド320μe及び
トリエチルアミン207μeを加える。 −10℃で1
時間、さらに室温で一晩攪拌した後1反応溶液に酢酸エ
チル60mgを加える。41機層を10%クエン酸水溶
液、水、4%炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩
水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウム上で乾燥する
。減圧上溶媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(キーゼルゲール60,65g)により、n
−ヘキサンl酢酸エチル(5:1)の混合物を用いて精
製する。 3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキシ
カルボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサ
ゾリジン−5−イルコー2−エチル−2(Z)−プロペ
ン酸イソブチルアミド204mg及び3−[(/15.
55)−3−ベンジルオキシカルボニル−2,2−ジメ
チル−4−インブチルオキサゾリジン−5−イルゴー2
−エチル−2(E)−プロペン酸イソブチルアミド15
1mg、両者の混合物55mgが無色油状物として得ら
れる。
溶解し、−10℃で攪拌しながら、イソブチルアミン1
45μC、ジフェニルホスホリルアジド320μe及び
トリエチルアミン207μeを加える。 −10℃で1
時間、さらに室温で一晩攪拌した後1反応溶液に酢酸エ
チル60mgを加える。41機層を10%クエン酸水溶
液、水、4%炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩
水で順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウム上で乾燥する
。減圧上溶媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(キーゼルゲール60,65g)により、n
−ヘキサンl酢酸エチル(5:1)の混合物を用いて精
製する。 3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキシ
カルボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサ
ゾリジン−5−イルコー2−エチル−2(Z)−プロペ
ン酸イソブチルアミド204mg及び3−[(/15.
55)−3−ベンジルオキシカルボニル−2,2−ジメ
チル−4−インブチルオキサゾリジン−5−イルゴー2
−エチル−2(E)−プロペン酸イソブチルアミド15
1mg、両者の混合物55mgが無色油状物として得ら
れる。
1?!’値 2(Z)異性体
0.37(シリカゲルプレート、展fJJJ剤二〇−ヘ
キサンー酢酸エチル(5:2))2(E)異性体 0.28(シリカゲルプレート、IHt III剤二〇
−ヘキサン−a酸エチル(5:2))核磁気具鳴スペク
トAt(60M11z 、CDCl、 )2(Z)、5
’4性体 8 ppm : 0.7−1.3(i511.I)、1
.4−2.1(IOII、m)。
キサンー酢酸エチル(5:2))2(E)異性体 0.28(シリカゲルプレート、IHt III剤二〇
−ヘキサン−a酸エチル(5:2))核磁気具鳴スペク
トAt(60M11z 、CDCl、 )2(Z)、5
’4性体 8 ppm : 0.7−1.3(i511.I)、1
.4−2.1(IOII、m)。
2.30(211,a+)、3.20(2+1.dd、
J=6.611z)、3.8(IIt、m)、4.52
(211,dd、’J=2.91+z)、5.12(2
1!、s)。
J=6.611z)、3.8(IIt、m)、4.52
(211,dd、’J=2.91+z)、5.12(2
1!、s)。
5.60(111,brd、J=911z)、6.50
(111,m)、7.30(5If 、 s ) 2(E)異性体 δppts : 0.7−1.3(1511,m)、
1.3−2.0(1011,n)。
(111,m)、7.30(5If 、 s ) 2(E)異性体 δppts : 0.7−1.3(1511,m)、
1.3−2.0(1011,n)。
2.30(211,m)、3.10(211,dd、J
=6,611z)、3.75(III、m) 、4.5
2(III、dd、J=2,911z) 、5.04(
211,s)5.75(111,s)、6.00(LH
,d、J=911z)、7.25(511,5) 3) (4S、5S)−5−(L−N−ベンジ′ルオ
キシヵルボニルナフチルアラニル−L−ノルロイシル)
アミノ−4−ヒドロキシ−2−エチル−7−メチル−2
(E)−オクテン酸インブチルアミド (a)3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキシカル
ボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリ
ジン−5−イルゴー2−エチル−2(E)−プロペン酸
イソブチルアミド85.3mgをエタノール0.5mg
に溶解させ、 10%パラジウム炭素を用いて、常圧上
水素添加する6反応混合物を濾過し、浦波の溶媒番減圧
留去する。 (4S。
=6,611z)、3.75(III、m) 、4.5
2(III、dd、J=2,911z) 、5.04(
211,s)5.75(111,s)、6.00(LH
,d、J=911z)、7.25(511,5) 3) (4S、5S)−5−(L−N−ベンジ′ルオ
キシヵルボニルナフチルアラニル−L−ノルロイシル)
アミノ−4−ヒドロキシ−2−エチル−7−メチル−2
(E)−オクテン酸インブチルアミド (a)3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキシカル
ボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリ
ジン−5−イルゴー2−エチル−2(E)−プロペン酸
イソブチルアミド85.3mgをエタノール0.5mg
に溶解させ、 10%パラジウム炭素を用いて、常圧上
水素添加する6反応混合物を濾過し、浦波の溶媒番減圧
留去する。 (4S。
5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−2−エチル−7
−メチル−2(E)−オクテン酸イソブチルアミド47
Bが無色油状物として得られる。
−メチル−2(E)−オクテン酸イソブチルアミド47
Bが無色油状物として得られる。
Rr4n O,27(シリカゲルプレート、展開剤
:クロロホルム−メタノール−アンモ ニア水(10:0.5:0.2)) (b)(4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−
2−エチル−7−メチル−2(E)−オクテン酸イソブ
チルアミド47mgを無水ジメチルホルムアミド0.5
mgに溶解させ、−10℃で攪拌しながら、L−N−ベ
ンジルオキシカルボニルナフチルアラニル−r4−ノル
ロイシンROrag、ジフェニルホスホリルアジド45
μe、トリエチルアミン29通を加え、−10℃で1時
間、次いで室温で一晩攪拌する1反応液に酢酸エチル4
0+dを加え有機層を10%クエン酸水溶液、水、4%
炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥する。溶媒を減圧留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(キー
セルゲール60,7.5g)によりクロロホルムlメタ
ノール(40:1)の混合物を用いて精製する。 (4
S、5S)−5−(+、−N−ベンジルオキシカルボニ
ルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ−4−
ヒドロキシ−2−エチル−7−メチル−2(E)−オク
テン酸イソブチルアミド[化合物11]59mgが無色
粉末として得られる。
:クロロホルム−メタノール−アンモ ニア水(10:0.5:0.2)) (b)(4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−
2−エチル−7−メチル−2(E)−オクテン酸イソブ
チルアミド47mgを無水ジメチルホルムアミド0.5
mgに溶解させ、−10℃で攪拌しながら、L−N−ベ
ンジルオキシカルボニルナフチルアラニル−r4−ノル
ロイシンROrag、ジフェニルホスホリルアジド45
μe、トリエチルアミン29通を加え、−10℃で1時
間、次いで室温で一晩攪拌する1反応液に酢酸エチル4
0+dを加え有機層を10%クエン酸水溶液、水、4%
炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄
し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥する。溶媒を減圧留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(キー
セルゲール60,7.5g)によりクロロホルムlメタ
ノール(40:1)の混合物を用いて精製する。 (4
S、5S)−5−(+、−N−ベンジルオキシカルボニ
ルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ−4−
ヒドロキシ−2−エチル−7−メチル−2(E)−オク
テン酸イソブチルアミド[化合物11]59mgが無色
粉末として得られる。
Rf値 0.30(シリカゲルプレート、展開剤:ク
ロロホルム−メタノール(20:1))Tt量スペクト
ル 715(M”+1)核磁気バ鳴スペクトル(30
0MIIz、CD、0D)2(E)異性体 δppm + 0.85〜t、os(tsn)、t、o
s(3n、 t、、+=7.5Irz)、1.30−1
.75(811)、1.84(211,m)、2.42
(2i1゜m)、3.04(211,m)’、3.75
(III、dd、J=7.+511z)4.05(11
1,m)、4.28(111,dd、J=4.811z
)、4.44(111,dd、J’3.811z)、4
.62(1!I、l11)、5.04(211,s)5
.96(111,s)、7.20=7.48(7+1)
、7.48〜7.63(211、m)、7.82(11
1,m)、’7.93(III、d、J”811z)。
ロロホルム−メタノール(20:1))Tt量スペクト
ル 715(M”+1)核磁気バ鳴スペクトル(30
0MIIz、CD、0D)2(E)異性体 δppm + 0.85〜t、os(tsn)、t、o
s(3n、 t、、+=7.5Irz)、1.30−1
.75(811)、1.84(211,m)、2.42
(2i1゜m)、3.04(211,m)’、3.75
(III、dd、J=7.+511z)4.05(11
1,m)、4.28(111,dd、J=4.811z
)、4.44(111,dd、J’3.811z)、4
.62(1!I、l11)、5.04(211,s)5
.96(111,s)、7.20=7.48(7+1)
、7.48〜7.63(211、m)、7.82(11
1,m)、’7.93(III、d、J”811z)。
8.25(III、a)
4) (4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキ
シカルボニルナフチルアラニル−1、−ノルロイシル)
アミノ−4−ヒドロキシ−2−エチル−7−メチル−2
(z)−オクテン酸インブチルアミド (a)3−[(4S−,5S)−3−ベンジルオキシカ
ルボニル−2,2−ジメチル−4−イランチルオキサゾ
リジン−5−イル]−2−エチル−2(Z)−プロペン
酸イソブチルアミド64■をメタノール1.5mに溶解
し、10%パラジウム炭素を用いて常圧上水素添加する
1反応混合物を濾過し、篩液の溶媒を減圧上留去する。
シカルボニルナフチルアラニル−1、−ノルロイシル)
アミノ−4−ヒドロキシ−2−エチル−7−メチル−2
(z)−オクテン酸インブチルアミド (a)3−[(4S−,5S)−3−ベンジルオキシカ
ルボニル−2,2−ジメチル−4−イランチルオキサゾ
リジン−5−イル]−2−エチル−2(Z)−プロペン
酸イソブチルアミド64■をメタノール1.5mに溶解
し、10%パラジウム炭素を用いて常圧上水素添加する
1反応混合物を濾過し、篩液の溶媒を減圧上留去する。
(4S、5S)−Fl−アミノ−4−ヒドロキシ−2−
エチル−7〜メチル−2(Z’)−オクテン酸イソブチ
ルアミド38mgfJ(無色油状物として得られる。
エチル−7〜メチル−2(Z’)−オクテン酸イソブチ
ルアミド38mgfJ(無色油状物として得られる。
Rf値 0.33(シリカゲルプレート、展開剤:ク
ロロホルム−メタノール−アンモ ニア水(10:0.5:0.2)) (b)(4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−
2−エチル−7−メチル−2(Z)−オクテン酸イソブ
チルアミド38mgを無水ジメチルホルムアミド0.5
mθに溶解させ、−10℃で攪拌しながら、L−N−ベ
ンジルオキシカルボニルナフチルアラニル−し−ノルロ
イシン66mg、ジフェニルホスホリルアジド37με
及びトリエチルアミン24μεを加え、−10℃で1時
間1次いで室温で一晩攪拌する0反応液に酢酸エチル2
00m2を加え、有機層を10%クエン酸水溶液、水、
4%炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、無水
硫酸ナトリウム上で乾燥する。溶媒を減圧濃縮し、析出
する結晶を濾取すると(4S、55)−5−(L−N−
ベンジルオキシカルボニルナフチルアラニル−14−ノ
ルロイシル)アミノ−4−ヒドロキシ−2−エチル−7
−メチル−2(Z’)−オクテン酸イソブチルアミド[
化合物に]22II1gが無色粉末として得られる。
ロロホルム−メタノール−アンモ ニア水(10:0.5:0.2)) (b)(4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−
2−エチル−7−メチル−2(Z)−オクテン酸イソブ
チルアミド38mgを無水ジメチルホルムアミド0.5
mθに溶解させ、−10℃で攪拌しながら、L−N−ベ
ンジルオキシカルボニルナフチルアラニル−し−ノルロ
イシン66mg、ジフェニルホスホリルアジド37με
及びトリエチルアミン24μεを加え、−10℃で1時
間1次いで室温で一晩攪拌する0反応液に酢酸エチル2
00m2を加え、有機層を10%クエン酸水溶液、水、
4%炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄し、無水
硫酸ナトリウム上で乾燥する。溶媒を減圧濃縮し、析出
する結晶を濾取すると(4S、55)−5−(L−N−
ベンジルオキシカルボニルナフチルアラニル−14−ノ
ルロイシル)アミノ−4−ヒドロキシ−2−エチル−7
−メチル−2(Z’)−オクテン酸イソブチルアミド[
化合物に]22II1gが無色粉末として得られる。
Rf値 0.23(シリカゲルプレート、展開剤:ク
ロロホルム−メタノール(20:l))’Rfftスペ
クトル m/z 715(M”+1)核磁気共鳴スペク
トル(300MIIZ、CD、OD>2(Z)i性体 δppa+ : 0.84−1.00(1511>、1
.03(311,1,、に811z)。
ロロホルム−メタノール(20:l))’Rfftスペ
クトル m/z 715(M”+1)核磁気共鳴スペク
トル(300MIIZ、CD、OD>2(Z)i性体 δppa+ : 0.84−1.00(1511>、1
.03(311,1,、に811z)。
1.24〜1.40(411)、1.49〜1.70(
411)、1.80(211゜m)、2.25(211
,q、J=811z)、3.05(211,d、J=7
11z)。
411)、1.80(211゜m)、2.25(211
,q、J=811z)、3.05(211,d、J=7
11z)。
3.68(111,l11)、3.96(Ill、m)
、4.19(III、dd、に3゜81夏z)、4.2
9(111,dd、J=4,811z)、4.55(I
II、m)。
、4.19(III、dd、に3゜81夏z)、4.2
9(111,dd、J=4,811z)、4.55(I
II、m)。
4.98(211,s)、5.40(Ill、d、J=
811z)、7.15−7.40(711)、7.50
(211、m)、7.76(III 、n)、7.87
(111,d、J=811z)、8.18(II(、d
、に8Hz)実施例3 (/Is、5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカル
ボニルナフチルアラニル−L−ノルロイシル)アミノ−
4−ヒドロキシ−7−メチル−2−プロピル−2−オク
テンNイソブチルアミド 1) 2−ジエチルフォスフォノペンタン酸エチルエ
ステル 水素化ナトリウム分散液(油中60%)856mgを窒
素下にn−ヘキサンで3回洗浄し、油を分離する。vt
。
811z)、7.15−7.40(711)、7.50
(211、m)、7.76(III 、n)、7.87
(111,d、J=811z)、8.18(II(、d
、に8Hz)実施例3 (/Is、5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカル
ボニルナフチルアラニル−L−ノルロイシル)アミノ−
4−ヒドロキシ−7−メチル−2−プロピル−2−オク
テンNイソブチルアミド 1) 2−ジエチルフォスフォノペンタン酸エチルエ
ステル 水素化ナトリウム分散液(油中60%)856mgを窒
素下にn−ヘキサンで3回洗浄し、油を分離する。vt
。
燥後得られる粉末を無水ジメチルホルムアミド7 、2
mQ巾に窒素下懸濁させ、0℃攪拌下、ジエチルフォ
スフォノ酢酸エチルエステル4.26m1!を1時間に
渡って滴下する。室温で1時間攪拌後、0℃に冷却し攪
拌下、l−ブロモプロパン2.34mP、を加え、55
℃で−@攪拌する。
mQ巾に窒素下懸濁させ、0℃攪拌下、ジエチルフォ
スフォノ酢酸エチルエステル4.26m1!を1時間に
渡って滴下する。室温で1時間攪拌後、0℃に冷却し攪
拌下、l−ブロモプロパン2.34mP、を加え、55
℃で−@攪拌する。
反応液を水40mQ、に注ぎ、酢酸エチル20m2で3
回抽出する。有機層を水、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸
ナトリウム」二で乾燥後、溶媒を減圧留去する。
回抽出する。有機層を水、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸
ナトリウム」二で乾燥後、溶媒を減圧留去する。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(キーゼル
ゲール6o、+20g)によりn−ヘキサンlアセトン
(4:l)の混合物を用いて精製する。2−ジエチルフ
ォスフォノペンタン酸エチルエステルが油状物として3
.47g得られる。
ゲール6o、+20g)によりn−ヘキサンlアセトン
(4:l)の混合物を用いて精製する。2−ジエチルフ
ォスフォノペンタン酸エチルエステルが油状物として3
.47g得られる。
Rf値 0.38(シリカゲルプレート、展開剤:n
−ヘキサン−酢酸エチル(1:1))核磁気共鳴スペク
トル(60MIIz 、CDCl、 )δppm :
0.7−f、1(311,m)、1.25(311,t
、J=711z)。
−ヘキサン−酢酸エチル(1:1))核磁気共鳴スペク
トル(60MIIz 、CDCl、 )δppm :
0.7−f、1(311,m)、1.25(311,t
、J=711z)。
1.30(6B、t、J=711z)、1.4−2.2
(411,m)。
(411,m)。
2.6−3.2(III2m)+4.05(211,Q
、711z)、4.15(411,q、J=711z) 質量スペクトル −/7. 267(M”+1)2)
3−[(/Is、F+5)−3−ベンジルオキシカル
ボニル−2゜2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリ
ジン−5−イル〕−2−プロピルー2−プロペン酸イソ
ブチルアミド(a)リチウムクロライド716Bを無水
テトラヒドロフラン5m+!にアルゴン下懸濁させ、攪
拌しなから2−ジエチルフォスフォノペンタン酸エチル
エステル455mgを無水テトラヒドロフラン0 、6
wlftに溶解させて加える。室温で5分攪拌後、ジ
アザビシクロウンデセン323mgを50%無水テトラ
ヒドロフラン溶液として加え、室温で10分間攪拌する
0次いで(4S、5R)−3−ベンジルオキシカルボニ
ル−2,2−ジメチル−5−ホルミル−4−イソブチル
オキサゾリン450■を無水テトラヒドロフラン1.0
mi!に溶解させて加え、室温で一晩攪拌する。
、711z)、4.15(411,q、J=711z) 質量スペクトル −/7. 267(M”+1)2)
3−[(/Is、F+5)−3−ベンジルオキシカル
ボニル−2゜2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリ
ジン−5−イル〕−2−プロピルー2−プロペン酸イソ
ブチルアミド(a)リチウムクロライド716Bを無水
テトラヒドロフラン5m+!にアルゴン下懸濁させ、攪
拌しなから2−ジエチルフォスフォノペンタン酸エチル
エステル455mgを無水テトラヒドロフラン0 、6
wlftに溶解させて加える。室温で5分攪拌後、ジ
アザビシクロウンデセン323mgを50%無水テトラ
ヒドロフラン溶液として加え、室温で10分間攪拌する
0次いで(4S、5R)−3−ベンジルオキシカルボニ
ル−2,2−ジメチル−5−ホルミル−4−イソブチル
オキサゾリン450■を無水テトラヒドロフラン1.0
mi!に溶解させて加え、室温で一晩攪拌する。
反応液を0℃に冷却しながら、l規定塩酸で中和する。
次に酢酸エチルで3回抽出し、(7機層を水、飽和食塩
水で洗浄、無水硫酸ナトリウl−上で乾燥する。減圧上
溶媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(キーセルゲール60,15g)によりn−ヘキサン
l酢酸エチル(10:I)の混合物を用いて精製する。
水で洗浄、無水硫酸ナトリウl−上で乾燥する。減圧上
溶媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(キーセルゲール60,15g)によりn−ヘキサン
l酢酸エチル(10:I)の混合物を用いて精製する。
3−[(4S、5S)’3−ベンジルオキシカルボニ
ルー2.2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリジン
−5−イルコーク−プロピル−2−プロペン酸エチルエ
ステル560Bが無色油状物として得られる。
ルー2.2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリジン
−5−イルコーク−プロピル−2−プロペン酸エチルエ
ステル560Bが無色油状物として得られる。
Rf 41N 0 、50 (シリカゲルプレート
、展開剤:n−ヘキサン−酢酸エチル(5:l))質量
スペクトル m/z 432(H”+1)核磁気共鳴
スペクトル(60旧+7.、CDCl、)δppm :
0.7−1.8(2311)、2.25(211,m
)、3.80(III。
、展開剤:n−ヘキサン−酢酸エチル(5:l))質量
スペクトル m/z 432(H”+1)核磁気共鳴
スペクトル(60旧+7.、CDCl、)δppm :
0.7−1.8(2311)、2.25(211,m
)、3.80(III。
+w)、4.20(211,q+J=711z)、4.
60(0,511,dd。
60(0,511,dd。
J=2.911z)、5.05(0,511,m)、5
.12(211,s)。
.12(211,s)。
5.85(0,51+、d、J=911z)、6.72
(0,51f、d。
(0,51f、d。
J=911z)、7.31(511,5)(b)3−[
(4S、5S)−3−ベンジルオキシカルボニル−2,
2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリジン−5−イ
ル]−2−プロピルー2−プロペン酸エチルエステル4
59Bを2規定水酸化カリウムのエタノールl水(9:
1)溶液2.66mgに溶解し、室温で4時間攪拌する
。
(4S、5S)−3−ベンジルオキシカルボニル−2,
2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリジン−5−イ
ル]−2−プロピルー2−プロペン酸エチルエステル4
59Bを2規定水酸化カリウムのエタノールl水(9:
1)溶液2.66mgに溶解し、室温で4時間攪拌する
。
次に水冷下l規定塩酸により反応液のpl+を2に調整
し、水24−を加えて酢酸エチル20mQで3回抽出す
る。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナ
トリウム上で乾燥し、溶媒を減圧留去する。3−[:(
/Is、5S)−3−ベンジルオキシカルボニル−2,
2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリジン−5−イ
ルツー2−プロピル−2−プロペン酸が無色油状物とし
て得られる。
し、水24−を加えて酢酸エチル20mQで3回抽出す
る。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナ
トリウム上で乾燥し、溶媒を減圧留去する。3−[:(
/Is、5S)−3−ベンジルオキシカルボニル−2,
2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリジン−5−イ
ルツー2−プロピル−2−プロペン酸が無色油状物とし
て得られる。
これを精製せずに無水ジメチルホルムアミド1.0mi
!に溶解し、−10℃で攪拌しながらイソブチルアミン
124成、ジフェニルホスホリルアジド275με、ト
リエチルアミン178μeを加える。−10℃で1時間
、さらに室温で一晩攪拌後、反応液に西1酸エチル60
−を加える。有機層を10%クエン酸水溶液、水、4%
炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で順次洗
浄後、無水硫酸ナトリウム上で乾燥する。
!に溶解し、−10℃で攪拌しながらイソブチルアミン
124成、ジフェニルホスホリルアジド275με、ト
リエチルアミン178μeを加える。−10℃で1時間
、さらに室温で一晩攪拌後、反応液に西1酸エチル60
−を加える。有機層を10%クエン酸水溶液、水、4%
炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で順次洗
浄後、無水硫酸ナトリウム上で乾燥する。
減圧上溶媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(キーゼルゲール60 、6og )により、
n−ヘキサン/酢酸エチル(5:1)の混合溶媒を用い
て精製すると3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキ
シカルボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキ
サゾリジン−5−イル]−2−プロピル−2(Z)−プ
ロペン酸イソブチルアミド181mg、3−[:(/I
s、5S)−3−ベンジルオキシカルボニル−2,2−
ジメチル−4〜インブチルオキサゾリジン−5−イル]
−2−プロピル−2(E)−プロペン酸イソブチルアミ
ド186tgを無色油状物として得る。
ラフィー(キーゼルゲール60 、6og )により、
n−ヘキサン/酢酸エチル(5:1)の混合溶媒を用い
て精製すると3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキ
シカルボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキ
サゾリジン−5−イル]−2−プロピル−2(Z)−プ
ロペン酸イソブチルアミド181mg、3−[:(/I
s、5S)−3−ベンジルオキシカルボニル−2,2−
ジメチル−4〜インブチルオキサゾリジン−5−イル]
−2−プロピル−2(E)−プロペン酸イソブチルアミ
ド186tgを無色油状物として得る。
Rf値 2(z)異性体: 0.44.2(E)異性
体: 0.31(シリカゲルプレート、展開剤:n− ヘキサン−酢酸エチル(5:2)) 核磁気共鳴スペクトル(60MIIz 、CDC1,)
2(z)異性体 δppm : 0.7−1.1(1511)、1.2−
2.0(1211)。
体: 0.31(シリカゲルプレート、展開剤:n− ヘキサン−酢酸エチル(5:2)) 核磁気共鳴スペクトル(60MIIz 、CDC1,)
2(z)異性体 δppm : 0.7−1.1(1511)、1.2−
2.0(1211)。
2.2(211、m)、3.15(211,dd 、に
6.611z)。
6.611z)。
3.75(111,m)、4.45(lIl、dd、J
=2.911z)。
=2.911z)。
5.10(211,s)、5.60(111,d、J=
911z)、6.50(Ill、m)、7.30(51
1,5)2(E)異性体 δppl : 0.7−1.2(15+1)、1.2−
2.0(1211)。
911z)、6.50(Ill、m)、7.30(51
1,5)2(E)異性体 δppl : 0.7−1.2(15+1)、1.2−
2.0(1211)。
2.3(211,+a)、3.10(21+、dd、J
=6.6Hz)。
=6.6Hz)。
3.85(111,m)、4.55(III、dd、、
I’2,911z)。
I’2,911z)。
5.10(211,s)、 5.75(III、m)、
6.08(IH,d。
6.08(IH,d。
J ;9 II z ) 、7−30 (5+1 T
s )3)(4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオ
キシカルボニルナフチルアラニル−L−ノルロイシル)
アミノ−4−ヒドロキシ−2−プロピル−7−メチル−
2(E)−オクテン酸インブチルアミド (a)3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキシカル
ボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリ
ジン−5−イルツー2−プロピル−2(E)−プロペン
酸イソブチルアミド85Bをエタノール1mgに溶解し
、 10%パラジウム炭素を用いて常圧下水素添加する
0反応混合物を濾1通し、濾液の溶媒を減圧留去する。
s )3)(4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオ
キシカルボニルナフチルアラニル−L−ノルロイシル)
アミノ−4−ヒドロキシ−2−プロピル−7−メチル−
2(E)−オクテン酸インブチルアミド (a)3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキシカル
ボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリ
ジン−5−イルツー2−プロピル−2(E)−プロペン
酸イソブチルアミド85Bをエタノール1mgに溶解し
、 10%パラジウム炭素を用いて常圧下水素添加する
0反応混合物を濾1通し、濾液の溶媒を減圧留去する。
(4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−2−
プロピル−7−メチル−2(E)−オクテン酸イソブチ
ルアミド53Bが無色油状物として得られる。
プロピル−7−メチル−2(E)−オクテン酸イソブチ
ルアミド53Bが無色油状物として得られる。
Rf値 0.18(シリカゲルプレート、展開剤:ク
ロロホルム−メタノール−アンモ ニア水(10:0.5:0.2)) (b)(4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−
2−プロピル−7−メチル−2(E)−オクテン酸イソ
ブチルアミド53Bを無水ジメチルホルムアミ)So、
5m9に溶解させ、−10℃で攪拌しなからL−N−ベ
ンジルオキシカルボニルナフチルアラニル−し−ノルロ
イシン85mg、ジフェニルホスホリルアジド48μe
及びトリエチルアミン31μeを加え、−1O℃で1時
間、さらに室温で一晩攪拌する0反応液に酢酸エチル4
0raQを加え、有機層を10%クエン酸水溶液、水、
4%炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥する。溶媒を減圧留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(キ
ーゼルゲール60.10g)により、クロロホルムlメ
タノノール(40:l)の混合物を用いて精製する。
(4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボ
ニルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ−4
−ヒドロキシ−2−プロピル−7−メチル−2(E)−
オクテン酸インブチルアミド[化合物D]46a+gが
無色粉末として得られる。
ロロホルム−メタノール−アンモ ニア水(10:0.5:0.2)) (b)(4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−
2−プロピル−7−メチル−2(E)−オクテン酸イソ
ブチルアミド53Bを無水ジメチルホルムアミ)So、
5m9に溶解させ、−10℃で攪拌しなからL−N−ベ
ンジルオキシカルボニルナフチルアラニル−し−ノルロ
イシン85mg、ジフェニルホスホリルアジド48μe
及びトリエチルアミン31μeを加え、−1O℃で1時
間、さらに室温で一晩攪拌する0反応液に酢酸エチル4
0raQを加え、有機層を10%クエン酸水溶液、水、
4%炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で洗
浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥する。溶媒を減圧留
去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(キ
ーゼルゲール60.10g)により、クロロホルムlメ
タノノール(40:l)の混合物を用いて精製する。
(4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボ
ニルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ−4
−ヒドロキシ−2−プロピル−7−メチル−2(E)−
オクテン酸インブチルアミド[化合物D]46a+gが
無色粉末として得られる。
Rf値 0.37(シリカゲルプレート、展開剤:ク
ロロホルム−メタノール(20:1))質量スペクトル
峠z 728(N”) 核磁気共鳴スペクトル(300MIlz、CD、0D)
2(E)異性体 δppm : 0.83〜1.02(18+1)、 1
.34〜1.50(6+1)1.50〜1.73(41
1)、1.73〜1.88(211)。
ロロホルム−メタノール(20:1))質量スペクトル
峠z 728(N”) 核磁気共鳴スペクトル(300MIlz、CD、0D)
2(E)異性体 δppm : 0.83〜1.02(18+1)、 1
.34〜1.50(6+1)1.50〜1.73(41
1)、1.73〜1.88(211)。
2.35(211,m)、3.00(211,m)、3
.70(III、dd。
.70(III、dd。
J=6.8,1511z)、4.00(111,ll)
、4.24(III、n)4.40(111,dd、に
4,8Jlz)、5.00(2+1.s)。
、4.24(III、n)4.40(111,dd、に
4,8Jlz)、5.00(2+1.s)。
5.95(111,d、J=811z)、7.19〜7
.45(711)。
.45(711)。
7.45〜7.60(211)、7.78(111,1
)、7.90(III。
)、7.90(III。
d、J=811z)、8.20(ill、d、に81(
z)4)(4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキ
シカルボニルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)ア
ミノ−4−ヒドワキシー2−プロピルーフ−メチル−2
(Z)−オクテン酸インブチルアミド (a)3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキシカル
ボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリ
ジン−5−イルコー2−プロピル−2(z)−プロペン
酸イソブチルアミド71mgをエタノール1m2に溶解
し、10%パラジウム炭素を用いて常圧上水素添加する
0反応混合物を濾過し、濾液の溶媒を減圧留去する。(
4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−2−プロ
ピル−7−メチル−2(Z)−オクテン酸イソブチルア
ミド31mgが無色油状物として得られる。
z)4)(4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキ
シカルボニルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)ア
ミノ−4−ヒドワキシー2−プロピルーフ−メチル−2
(Z)−オクテン酸インブチルアミド (a)3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキシカル
ボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリ
ジン−5−イルコー2−プロピル−2(z)−プロペン
酸イソブチルアミド71mgをエタノール1m2に溶解
し、10%パラジウム炭素を用いて常圧上水素添加する
0反応混合物を濾過し、濾液の溶媒を減圧留去する。(
4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−2−プロ
ピル−7−メチル−2(Z)−オクテン酸イソブチルア
ミド31mgが無色油状物として得られる。
Rf値 0.25(シリカゲルプレート、展開剤:ク
ロロホルム−メタノール−アンモ ニア水(10:0.5:0.2)) (b)(4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−
2−プロピル−7−メチル−2(z)−オクテン酸イソ
ブチルアミド31n+gを無水ジメチルホルムアミド0
.3dに溶解し、 −10℃で攪拌しながら、 L−N
−ベンジルオキシカルボニルナフチルアラニル− ェニルホスホリルアジド28μe及びトリエチルアミン
18成を加え、−10℃でI 11’7間、さらに室温
で一晩攪11′する.析1[ける沈殿を濾取し、メタノ
ールで洗浄すると(4S,5S)−5−(L−N−ベン
ジルオキシカルボニルナフチルアラニル−し−ノルロイ
シル)アミノ−4−ヒドロキシ−2−プロピル−7−メ
チル−2(Z)−オクテン酸インブチルアミド[化合物
E]19mgが無色粉末として得られる。
ロロホルム−メタノール−アンモ ニア水(10:0.5:0.2)) (b)(4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−
2−プロピル−7−メチル−2(z)−オクテン酸イソ
ブチルアミド31n+gを無水ジメチルホルムアミド0
.3dに溶解し、 −10℃で攪拌しながら、 L−N
−ベンジルオキシカルボニルナフチルアラニル− ェニルホスホリルアジド28μe及びトリエチルアミン
18成を加え、−10℃でI 11’7間、さらに室温
で一晩攪11′する.析1[ける沈殿を濾取し、メタノ
ールで洗浄すると(4S,5S)−5−(L−N−ベン
ジルオキシカルボニルナフチルアラニル−し−ノルロイ
シル)アミノ−4−ヒドロキシ−2−プロピル−7−メ
チル−2(Z)−オクテン酸インブチルアミド[化合物
E]19mgが無色粉末として得られる。
Rf値 0.36(シリカゲルプレート、展開剤;ク
ロロホルム−メタノール(20:l))ffffiスペ
クトルm/z 729(M”+1)核磁気共鳴スヘクト
/lz(300MIlz,CD,OD)2(z)異性体 δppm : 0.85−1.00( 1811)、
1 、23〜1 、72( 10I+) 、 1.13
0(211.1)、2.20(2+1,ffi)、3.
05(211。
ロロホルム−メタノール(20:l))ffffiスペ
クトルm/z 729(M”+1)核磁気共鳴スヘクト
/lz(300MIlz,CD,OD)2(z)異性体 δppm : 0.85−1.00( 1811)、
1 、23〜1 、72( 10I+) 、 1.13
0(211.1)、2.20(2+1,ffi)、3.
05(211。
d,Jχ711z)、3.68(111,+a)、3.
96(III,m)。
96(III,m)。
4、18(111,dd,J=4,811z)、4.3
0(III,n)。
0(III,n)。
4、55(Ill,m)、4.95(211.s)、5
.40(ill,d。
.40(ill,d。
J=811z)、7. 16−7 、43(711)、
7 、43−7 、60(2II)、7.76(Ill
,m)、7.87(III,d 、J=811z)。
7 、43−7 、60(2II)、7.76(Ill
,m)、7.87(III,d 、J=811z)。
8、20(IH,d,J=8Hz)
実施例4
(4S,5S)−5−(1、−N−ベンジルオキシカル
ボニルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ−
4−ヒドロキシ−2−イソプロピル−7−メチル−2−
オクテン酸イソブチルアミド 1)2−ジエチルフォスフォノ−3−メチルブタン酸エ
チルエステル 水素化ナトリウム分散液(油中60%)428mgを窒
素下にn−ヘキサンで3回洗浄し,油を分離する.乾燥
後書られる粉末を無水ジメチルホルムアミドame中に
窒素上懸濁させ,0℃攪拌下、ジエチルフォスフォノ酢
酸エチルエステル1.77dを15分間に渡って滴下す
る.室温で30分間攪拌後、0℃に冷却し、攪拌下2−
ブロモプロパン2.52+ni4を加え、室温で30分
、さらに65℃で5時間、室温で一晩攪拌する,反応液
を2規定塩酸に注ぎ、クロロホルム\10dで3回抽出
、クロロホルム層を合し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
する.溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(キーゼルゲール60 、 20g
)によりn−ヘキサンl酢酸エチル(2:1)の混合物
を用いて精製すると2−ジエチルフォスフォノ−3−メ
チルブタン酸エチルエステルが無色油状物として1.3
3g得られる。
ボニルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ−
4−ヒドロキシ−2−イソプロピル−7−メチル−2−
オクテン酸イソブチルアミド 1)2−ジエチルフォスフォノ−3−メチルブタン酸エ
チルエステル 水素化ナトリウム分散液(油中60%)428mgを窒
素下にn−ヘキサンで3回洗浄し,油を分離する.乾燥
後書られる粉末を無水ジメチルホルムアミドame中に
窒素上懸濁させ,0℃攪拌下、ジエチルフォスフォノ酢
酸エチルエステル1.77dを15分間に渡って滴下す
る.室温で30分間攪拌後、0℃に冷却し、攪拌下2−
ブロモプロパン2.52+ni4を加え、室温で30分
、さらに65℃で5時間、室温で一晩攪拌する,反応液
を2規定塩酸に注ぎ、クロロホルム\10dで3回抽出
、クロロホルム層を合し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
する.溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(キーゼルゲール60 、 20g
)によりn−ヘキサンl酢酸エチル(2:1)の混合物
を用いて精製すると2−ジエチルフォスフォノ−3−メ
チルブタン酸エチルエステルが無色油状物として1.3
3g得られる。
Rf値 0.50(シリカゲルプレート、展開剤二〇
ーヘキサンー酢酸エチル(1:3))質量スペクトル
267 (M”+ 1 )核磁気共鳴スペクトル(60
MIIz 、CDCI, )δpI)!II : 0.
91−1.2(611,m)、1.28(311,t,
J=7.2Hz)。
ーヘキサンー酢酸エチル(1:3))質量スペクトル
267 (M”+ 1 )核磁気共鳴スペクトル(60
MIIz 、CDCI, )δpI)!II : 0.
91−1.2(611,m)、1.28(311,t,
J=7.2Hz)。
1、30(611.t,J=7.211z)、2.08
〜2.97(211。
〜2.97(211。
m)、4.11(dq,J=7.211z)、4.18
(q,J=7.211z) 2) 3−[:(4S,5S)−3−ベンジルオキシ
カルボニル−2。
(q,J=7.211z) 2) 3−[:(4S,5S)−3−ベンジルオキシ
カルボニル−2。
2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリジン−5−イ
ル]ー2ーイソプロピルー2ープロペン酸イソブチルア
ミド(a)リチウムクロライド123111gを無水テ
トラヒドロフラン10m9にアルゴン下懸濁させ、攪拌
下2−ジエチルフォスフォノ−3−メチルブタン酸エチ
ルエステル0.69meを加え攪拌する.次に20%ジ
アザビシクロウンデセンの無水テトラヒドロフラン溶液
2 、 7 mQを加え,10分室温で攪拌する.次い
で(4S,5R)−3−ベンジルオキシカルボニル−2
,2−ジメチル−5−ホルミル−4−イソブチルオキサ
ゾリジン773mgを無水テトラヒドロフラン溶液とし
て除々に滴下する。室温で一晩攪拌後、析出する無機塩
をS去し。
ル]ー2ーイソプロピルー2ープロペン酸イソブチルア
ミド(a)リチウムクロライド123111gを無水テ
トラヒドロフラン10m9にアルゴン下懸濁させ、攪拌
下2−ジエチルフォスフォノ−3−メチルブタン酸エチ
ルエステル0.69meを加え攪拌する.次に20%ジ
アザビシクロウンデセンの無水テトラヒドロフラン溶液
2 、 7 mQを加え,10分室温で攪拌する.次い
で(4S,5R)−3−ベンジルオキシカルボニル−2
,2−ジメチル−5−ホルミル−4−イソブチルオキサ
ゾリジン773mgを無水テトラヒドロフラン溶液とし
て除々に滴下する。室温で一晩攪拌後、析出する無機塩
をS去し。
溶媒を減圧留去する。残留物をベンゼン300mQに溶
解し、水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥する
。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(キーセルゲール60,32g)によりn−
ヘキサン/酢酸エチル(10:l)の混合物を用いて精
製する。 3−[(45,5S)−3−ベンジルオキシ
カルボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサ
ゾリジン−5−イルツー2−イソプロピル−2−プロペ
ン酸エチルエステル623mgが無色油状物として得ら
れる。
解し、水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で乾燥する
。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(キーセルゲール60,32g)によりn−
ヘキサン/酢酸エチル(10:l)の混合物を用いて精
製する。 3−[(45,5S)−3−ベンジルオキシ
カルボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサ
ゾリジン−5−イルツー2−イソプロピル−2−プロペ
ン酸エチルエステル623mgが無色油状物として得ら
れる。
Rf4!10.31(シリカゲルプレート、展開剤:ベ
ンゼンー酢酸エチル(30:1)) 質量スペクトル mHz 432CM”+1)、41
6(M”・CI+、) 核磁気共鳴スペクトル(60旧1y、、CDC1,)δ
pp+m : 0.60−0.95(6H)、1.02
(611,d、J=9FIz)。
ンゼンー酢酸エチル(30:1)) 質量スペクトル mHz 432CM”+1)、41
6(M”・CI+、) 核磁気共鳴スペクトル(60旧1y、、CDC1,)δ
pp+m : 0.60−0.95(6H)、1.02
(611,d、J=9FIz)。
1.25(311,t、J=911z)、1.50(3
11,s)、1.60(311,s)、1.5−1.8
(311,+n)、2.66(lft、lIl、J:1
.911z)、3.72(111,m)、4.18(2
11,q、J=911z)。
11,s)、1.60(311,s)、1.5−1.8
(311,+n)、2.66(lft、lIl、J:1
.911z)、3.72(111,m)、4.18(2
11,q、J=911z)。
4.2(0,31+、m) 、4.85(0,711,
dd、J:4.8.511z)5.10(211,s)
、5.69(0,711,dd、、I’l、8.511
z)。
dd、J:4.8.511z)5.10(211,s)
、5.69(0,711,dd、、I’l、8.511
z)。
6.48(0,3tl、d、J=811z)、7.28
(511,5)(b)3−[(4S、5S)−3−ベン
ジルオキシカルボニル−2,2−ジメチル−4−インブ
チルオキサゾリジン−5−イルツー2−イソプロピル−
2−プロペン酸エチルエステル400mgをエタノール
0 、2 meに溶解し、2規定水酸化カリウムのエタ
ノールl水(toot)溶液2.32mftを加え、室
温で3時間、さらに55℃で1時間攪拌する。
(511,5)(b)3−[(4S、5S)−3−ベン
ジルオキシカルボニル−2,2−ジメチル−4−インブ
チルオキサゾリジン−5−イルツー2−イソプロピル−
2−プロペン酸エチルエステル400mgをエタノール
0 、2 meに溶解し、2規定水酸化カリウムのエタ
ノールl水(toot)溶液2.32mftを加え、室
温で3時間、さらに55℃で1時間攪拌する。
反応液に水24−を加え、水冷下l規定塩酸により反応
液のpl+を2に調整する。酢酸エチルで3回抽出し、
有機層を水、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウム上
で乾燥後、減圧上溶媒留去する。3−[(4S、5S)
−3−ベンジルオキシカルボニル−2,2−ジメチル−
4−イソブチルオキサゾリジン−5−イルコーク−イソ
プロピル−2−プロペン酸375Bが無色油状物として
得られる。
液のpl+を2に調整する。酢酸エチルで3回抽出し、
有機層を水、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウム上
で乾燥後、減圧上溶媒留去する。3−[(4S、5S)
−3−ベンジルオキシカルボニル−2,2−ジメチル−
4−イソブチルオキサゾリジン−5−イルコーク−イソ
プロピル−2−プロペン酸375Bが無色油状物として
得られる。
これを精製せずに無水ジメチルホルムアミド1蛇に溶解
し、−10℃で攪拌しながらイソブチルアミン109d
、ジフェニルホスホリルアジド241μを及びトリエチ
ルアミン156μeを加える。−10℃で1時間、さら
に室温で一晩攪拌後、反応液に酢酸エチル62mQを加
える。有機層を10%クエン酸水溶液、水、4%炭酸水
素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で洗浄後、無水
硫酸ナトリウム上で乾燥する。
し、−10℃で攪拌しながらイソブチルアミン109d
、ジフェニルホスホリルアジド241μを及びトリエチ
ルアミン156μeを加える。−10℃で1時間、さら
に室温で一晩攪拌後、反応液に酢酸エチル62mQを加
える。有機層を10%クエン酸水溶液、水、4%炭酸水
素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で洗浄後、無水
硫酸ナトリウム上で乾燥する。
減圧上溶媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(キーゼルゲール60,48g)により、n−
ヘキサンl酢酸エチル(5: 1 )の混合物を用いて
精製すると3−[(45,5S)−3−ベンジルオキシ
カルボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサ
ゾリジン−5−イルツー2−イソプロピル−2(z)−
プロペン酸イソブチルアミド174mg、 3−[(4
S、5S)−3−ベンジルオキシカルボニル−2,2−
ジメチル−4−イソブチルオキサゾリジン−5−イルツ
ー2−イソプロピル−2(E)−プロペン酸イソブチル
アミド18mgが無色油状物として得られる。
ラフィー(キーゼルゲール60,48g)により、n−
ヘキサンl酢酸エチル(5: 1 )の混合物を用いて
精製すると3−[(45,5S)−3−ベンジルオキシ
カルボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサ
ゾリジン−5−イルツー2−イソプロピル−2(z)−
プロペン酸イソブチルアミド174mg、 3−[(4
S、5S)−3−ベンジルオキシカルボニル−2,2−
ジメチル−4−イソブチルオキサゾリジン−5−イルツ
ー2−イソプロピル−2(E)−プロペン酸イソブチル
アミド18mgが無色油状物として得られる。
Rf値 2(Z)rA性棒体+037.2(E)5’
!性体:0.31(シリカゲルプレート、R開削:11
−ヘキサン−酢酸エチル(5:2)) 核磁気共鳴スペクトル 2(Z)異性体(60MI(z 、CDCl、 )2(
E)異性体(30ONIIz 、CDCl、 )2CZ
)R性体δppH: 0.75−0.95(611,b
r)、0.95(611,d、J=711z)、1.0
5(311,d、Jニア、511z)。
!性体:0.31(シリカゲルプレート、R開削:11
−ヘキサン−酢酸エチル(5:2)) 核磁気共鳴スペクトル 2(Z)異性体(60MI(z 、CDCl、 )2(
E)異性体(30ONIIz 、CDCl、 )2CZ
)R性体δppH: 0.75−0.95(611,b
r)、0.95(611,d、J=711z)、1.0
5(311,d、Jニア、511z)。
1.08(311,d、J=7.511z)、1.50
(311,s)、1.60(311,s)、1.5−2
.1(411,m)、2.75(ill、m、J=1.
5.7Hz)、3.20(211,dd、J=6.5,
6.511z)。
(311,s)、1.60(311,s)、1.5−2
.1(411,m)、2.75(ill、m、J=1.
5.7Hz)、3.20(211,dd、J=6.5,
6.511z)。
3.85(Ill 9m)、4.45(III 、dd
、J−3,911z C5,10(211,s)、6
.38(+11.br)、7.30(511,5)2(
E)異性体δppm:0.75−0.85(311,b
r)、0.9(611゜d、J=6.811z)、1.
19(611,d、J=711z)、1.50(311
,s)、1.55(611,br s)、1.55−1
.65(311゜br)、1.78(111,m、J=
6,811z)、2.89(III、m、J=711z
)、3.08(211,dd、、I’7.3,7.31
1z)、3.79(111,br)、4.63(IH,
dd、J=3.6,9tlz)、5.06(+11.b
rd、J=13.211z)、5.17(Ill、d、
J=13.21!z)5.68(111,br)、5.
70(ltl、d、に9!Iz)。
、J−3,911z C5,10(211,s)、6
.38(+11.br)、7.30(511,5)2(
E)異性体δppm:0.75−0.85(311,b
r)、0.9(611゜d、J=6.811z)、1.
19(611,d、J=711z)、1.50(311
,s)、1.55(611,br s)、1.55−1
.65(311゜br)、1.78(111,m、J=
6,811z)、2.89(III、m、J=711z
)、3.08(211,dd、、I’7.3,7.31
1z)、3.79(111,br)、4.63(IH,
dd、J=3.6,9tlz)、5.06(+11.b
rd、J=13.211z)、5.17(Ill、d、
J=13.21!z)5.68(111,br)、5.
70(ltl、d、に9!Iz)。
7.35(511,5)
3)(4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカ
ルボニルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ
−4−ヒドロキシ−2−イソプロピル−7−メチル−2
(E)−オクテン酸イソブチルアミド (a)3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキシカル
ボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリ
ジン−5−イル]−2−イソプロピル−2(E)−プロ
ペン酸イソブチルアミド15.7mgをエタノール0.
5 m2に溶解し、パラジウム黒を用いて常圧上水素添
加する0反応混合物を濾過し、濾液の溶媒を減圧留去す
る。 (45,5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−
2−イソプロピル−7−メチル−2(E)−オクテン酸
イソブチルアミド9II1gが無色油状物として得られ
る。
ルボニルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ
−4−ヒドロキシ−2−イソプロピル−7−メチル−2
(E)−オクテン酸イソブチルアミド (a)3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキシカル
ボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリ
ジン−5−イル]−2−イソプロピル−2(E)−プロ
ペン酸イソブチルアミド15.7mgをエタノール0.
5 m2に溶解し、パラジウム黒を用いて常圧上水素添
加する0反応混合物を濾過し、濾液の溶媒を減圧留去す
る。 (45,5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−
2−イソプロピル−7−メチル−2(E)−オクテン酸
イソブチルアミド9II1gが無色油状物として得られ
る。
Rf値 0.28(シリカゲルプレート展開剤:クロ
ロホルム−メタノール−アンモ ニア水(10:1:0,2)) (b)(4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−
2−イソプロピル−7−メチル−2(E)−オクテン酸
イソブチルアミド9mgを無水ジメチルホルムアミド0
、5 mQに溶解し、−10℃で攪拌しなからL−N
−ベンジルオキシカルボニルナフチルアラニル−し−ノ
ルロイシン13mg、ジフェニルホスホリルアジド8.
8μe及びトリエチルアミン5.7μCを加え、−10
℃で1時間、さらに室温で−@撹拌する0反応液に酢酸
エチル6−を加え、有機層を10%クエン酸水溶液、水
、4%炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウム上でvt燥後、溶媒を減圧
留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(キーゼルゲールso、4g)により、クロロホルム/
Wf酸エチル(5:2)の混合物を用いて精製すると(
4S。
ロホルム−メタノール−アンモ ニア水(10:1:0,2)) (b)(4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−
2−イソプロピル−7−メチル−2(E)−オクテン酸
イソブチルアミド9mgを無水ジメチルホルムアミド0
、5 mQに溶解し、−10℃で攪拌しなからL−N
−ベンジルオキシカルボニルナフチルアラニル−し−ノ
ルロイシン13mg、ジフェニルホスホリルアジド8.
8μe及びトリエチルアミン5.7μCを加え、−10
℃で1時間、さらに室温で−@撹拌する0反応液に酢酸
エチル6−を加え、有機層を10%クエン酸水溶液、水
、4%炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウム上でvt燥後、溶媒を減圧
留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(キーゼルゲールso、4g)により、クロロホルム/
Wf酸エチル(5:2)の混合物を用いて精製すると(
4S。
5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボニルナフ
チルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ−4−ヒドロ
キシ−2−イソプロピル−7−メチル−2(E)−オク
テン酸イソブチルアミド[化合物F]8a+gが無色粉
末として得られる。
チルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ−4−ヒドロ
キシ−2−イソプロピル−7−メチル−2(E)−オク
テン酸イソブチルアミド[化合物F]8a+gが無色粉
末として得られる。
Rf値 0.26(シリカゲルプレート、展開剤:ク
ロロホルム−メタノール(20:1))質量スペクトル
m/z 729(?I”+1)核磁気共鳴スペクト
ル(30ON+(z 、CDCl、 )δppIIl:
0.74〜0.95(15+1)、1.05〜1.3
1(1011)。
ロロホルム−メタノール(20:1))質量スペクトル
m/z 729(?I”+1)核磁気共鳴スペクト
ル(30ON+(z 、CDCl、 )δppIIl:
0.74〜0.95(15+1)、1.05〜1.3
1(1011)。
1.31〜1.58(4+1)、1.58〜1.83(
211)、3.74(Ill 、ra 、J=7.41
1z) 、3.0(211、m)、3.36(III
、n)3.55(111,m)、3.85(111,m
)、4.15(III、+a)4.33(111,dd
、J=2.6,9.511z)、4.50(IH,m)
。
211)、3.74(Ill 、ra 、J=7.41
1z) 、3.0(211、m)、3.36(III
、n)3.55(111,m)、3.85(111,m
)、4.15(III、+a)4.33(111,dd
、J=2.6,9.511z)、4.50(IH,m)
。
4.97(211,s)、5.41(111,d、JI
I9,5)lz)、7.24−7.40(7H,l11
)、7.40〜7.57(211,1)、7.72(I
If、d、J:811z)、7.81(lit、d、J
=811z)、8.07(IIf、d、1lJIIy、
) 4)(4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカ
ルボニルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ
−4−ヒドロキシ−2−イソプロピル−7−メチル−2
(z)−オクテン酸イソブチルアミド (a)3−[(45,5S)−3−ベンジルオキシカル
ボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリ
ジン−5−イル]−2−イソプロピル−2(z)−プロ
ペン酸イソブチルアミド127mgをエタノール2 、
5 mllに溶解し、10%パラジウム炭素を用いて常
圧上水素添加する0反応混合物を濃過し、濾液の溶媒を
減圧留去すると(4S。
I9,5)lz)、7.24−7.40(7H,l11
)、7.40〜7.57(211,1)、7.72(I
If、d、J:811z)、7.81(lit、d、J
=811z)、8.07(IIf、d、1lJIIy、
) 4)(4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカ
ルボニルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ
−4−ヒドロキシ−2−イソプロピル−7−メチル−2
(z)−オクテン酸イソブチルアミド (a)3−[(45,5S)−3−ベンジルオキシカル
ボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリ
ジン−5−イル]−2−イソプロピル−2(z)−プロ
ペン酸イソブチルアミド127mgをエタノール2 、
5 mllに溶解し、10%パラジウム炭素を用いて常
圧上水素添加する0反応混合物を濃過し、濾液の溶媒を
減圧留去すると(4S。
5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−2−イソプロピ
ル−7−メチル−2(z)−オクテン酸イソブチルアミ
ド78mgが無色油状物として得られる。
ル−7−メチル−2(z)−オクテン酸イソブチルアミ
ド78mgが無色油状物として得られる。
Rf値 0.67(シリカゲルプレート、展開剤二ク
ロロホルム−メタノール−アンモ ニア水(10:2:0.2)) (b)(4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−
2−イソプロピル−7−メチル−2(z)−オクテン酸
イソブチルアミド78ragを無水ジメチルホルムアミ
ド2dに溶解し、−10℃で攪拌しながらL−N−ベン
ジルオキシカルボニルナフチルアラニル−し−ノルロイ
シン128mg、ジフェニルホスホリルアジド72μ8
及びトリエチルアミン46越を加え、−10℃で1時間
、さらに室温で一晩1ff!t1!する0反応液中に析
出する沈殿物を濾取すると(4S、5S)−5−(L−
N−ベンジルオキシカルボニルナフチルアラニル−し−
ノルロイシル)アミノ−4−ビトロキシ−2−イソプロ
ピル−7−メチル−2(z)−オクテン酸イソブチルア
ミド[化合物に137mgが無色粉末として得られる。
ロロホルム−メタノール−アンモ ニア水(10:2:0.2)) (b)(4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−
2−イソプロピル−7−メチル−2(z)−オクテン酸
イソブチルアミド78ragを無水ジメチルホルムアミ
ド2dに溶解し、−10℃で攪拌しながらL−N−ベン
ジルオキシカルボニルナフチルアラニル−し−ノルロイ
シン128mg、ジフェニルホスホリルアジド72μ8
及びトリエチルアミン46越を加え、−10℃で1時間
、さらに室温で一晩1ff!t1!する0反応液中に析
出する沈殿物を濾取すると(4S、5S)−5−(L−
N−ベンジルオキシカルボニルナフチルアラニル−し−
ノルロイシル)アミノ−4−ビトロキシ−2−イソプロ
ピル−7−メチル−2(z)−オクテン酸イソブチルア
ミド[化合物に137mgが無色粉末として得られる。
1?f値 0.50(シリカゲルプレート、展開剤:
クロロホルム−メタノール(20:1))質量スペクト
ル m/z 729(M”+1)核磁気共鳴スペクト
ル(3001h、CD、OD)δppm : 0.82
−0.96(151)、1.04(311,d、J=G
、8!Iz)。
クロロホルム−メタノール(20:1))質量スペクト
ル m/z 729(M”+1)核磁気共鳴スペクト
ル(3001h、CD、OD)δppm : 0.82
−0.96(151)、1.04(311,d、J=G
、8!Iz)。
1.05(311,d、J=6.811z)、1.28
(611,br)。
(611,br)。
1.54(311,m)、 1.79(III、m、J
=(E、811z)。
=(E、811z)。
2.49(111,m、J=1.5,6.811z)、
3.05(211,m)。
3.05(211,m)。
3.65(Ill、dd、J=5.1 、13.711
z)、3.90(Ill。
z)、3.90(Ill。
m)、4.10(lft、dd、J:3.8,9.0I
Iz)、4.25(LH911)+4.52(211,
s)、5.31(111,dd、J:1.5゜911z
)、7.15−7.35(711,m)、7.47(1
11,m)。
Iz)、4.25(LH911)+4.52(211,
s)、5.31(111,dd、J:1.5゜911z
)、7.15−7.35(711,m)、7.47(1
11,m)。
7.73(111,++)、7.83(111,brd
、J=811z)、8.14(2+1 、d 、J=8
111) 実施例5 (4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボ
ニルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ−4
−ヒドロキシ−2−(2−ヒドロキシエチル)−7メチ
ルー2(E)−オクテン酸イソブチルアミド (a)3−[(4s、5S)−a−ベンジルオキシカル
ボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリ
ジン−5−イル]−2−[2−(2−テトラヒドロピラ
ニルオキシ)エチルツー2−プロペン酸イソブチルアミ
ド216mgをエタノール2 、1 mQに溶解し、1
0%パラジウム炭素を用いて常圧下水素添加する0反応
混合物を濾過し5濾液の溶媒を減圧留去すると(4S、
FIS)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−2−[2−(
2−テトラヒドロピラニルオキシ)エチルコーマ−メチ
ル−2−オクテン酸イソブチルアミド124mgが無色
油状物として得られる。
、J=811z)、8.14(2+1 、d 、J=8
111) 実施例5 (4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボ
ニルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ−4
−ヒドロキシ−2−(2−ヒドロキシエチル)−7メチ
ルー2(E)−オクテン酸イソブチルアミド (a)3−[(4s、5S)−a−ベンジルオキシカル
ボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリ
ジン−5−イル]−2−[2−(2−テトラヒドロピラ
ニルオキシ)エチルツー2−プロペン酸イソブチルアミ
ド216mgをエタノール2 、1 mQに溶解し、1
0%パラジウム炭素を用いて常圧下水素添加する0反応
混合物を濾過し5濾液の溶媒を減圧留去すると(4S、
FIS)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−2−[2−(
2−テトラヒドロピラニルオキシ)エチルコーマ−メチ
ル−2−オクテン酸イソブチルアミド124mgが無色
油状物として得られる。
Rf値 0.29(シリカゲルプレート、展開剤:ク
ロロホルム−メタノール−アンモ ニア水(10:0.5:0.2)) (b)(4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−
2−[2−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)エチル
]−7−メチルー2−オクテン酸イソブチルアミド12
4mgを無水ジメチルホルムアミド1meに溶解し、−
10℃で攪拌しなからL−N−ベンジルオキシカルボニ
ルナフチルアラニル−L−ノルロイシン154■、ジフ
ェニルホスホリルアジド87μe及びトリエチルアミン
56μeを加え、−10℃で1時間、さらに室温で一晩
攪拌する1反応液に酢酸エチル100mgを加え、有機
層を10%クエン酸水溶液、水、4%炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウム
上で乾燥する。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(キーゼルゲール60,40g
)により、クロロホルムlメタノール(40:1)の混
合物を用いて精製すると(4S、5S)−5−(L−N
−ベンジルオキシカルボニルナフチルアラニル−し−ノ
ルロイシル)アミノ−4−ヒドロキシ−2−[2−(2
−テトラヒドロピラニルオキシ)エチル]−7−メチル
ー2−オクテン酸イソブチルアミド116n+gが無色
油状物として得られる6Rf4ff 0.51(シ
リカゲルプレート、展開剤:クロロホルム−メタノール
(20:1))質量スペクトル w/z 816(M
”+1)核磁気共鳴スペクトル(60旧ヒ、CD(1:
13+CD30D)δppm : 0.7−1 、1(
1511)、 1.1−1.2(16i1)、2.7(
211゜a+)、3.0(211,m) 、3.2〜4
.5(1111,m)、5.0(2H。
ロロホルム−メタノール−アンモ ニア水(10:0.5:0.2)) (b)(4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−
2−[2−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)エチル
]−7−メチルー2−オクテン酸イソブチルアミド12
4mgを無水ジメチルホルムアミド1meに溶解し、−
10℃で攪拌しなからL−N−ベンジルオキシカルボニ
ルナフチルアラニル−L−ノルロイシン154■、ジフ
ェニルホスホリルアジド87μe及びトリエチルアミン
56μeを加え、−10℃で1時間、さらに室温で一晩
攪拌する1反応液に酢酸エチル100mgを加え、有機
層を10%クエン酸水溶液、水、4%炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウム
上で乾燥する。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(キーゼルゲール60,40g
)により、クロロホルムlメタノール(40:1)の混
合物を用いて精製すると(4S、5S)−5−(L−N
−ベンジルオキシカルボニルナフチルアラニル−し−ノ
ルロイシル)アミノ−4−ヒドロキシ−2−[2−(2
−テトラヒドロピラニルオキシ)エチル]−7−メチル
ー2−オクテン酸イソブチルアミド116n+gが無色
油状物として得られる6Rf4ff 0.51(シ
リカゲルプレート、展開剤:クロロホルム−メタノール
(20:1))質量スペクトル w/z 816(M
”+1)核磁気共鳴スペクトル(60旧ヒ、CD(1:
13+CD30D)δppm : 0.7−1 、1(
1511)、 1.1−1.2(16i1)、2.7(
211゜a+)、3.0(211,m) 、3.2〜4
.5(1111,m)、5.0(2H。
s)、5.55(0,511,d、に811z)、6.
05(0,51+、d。
05(0,51+、d。
J=811z)、7.0−8.3(1211)(c)(
4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボニ
ルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ−4−
ヒドロキシ−2−[2−(2−テトラヒドロピラニルオ
キシ)工1チルコー7−メチルー2−オクテン酸イソブ
チルアミド113111gをメタノールl酢酸エチルl
クロロホルム(1,6mg71.6mg70.5III
Q、)(7)混合溶媒に溶解し、l規定塩酸0.41m
+!を加える。室温で2時間攪拌接水15mQを加え、
酢酸エチル30IIleテ1回、15mgテ2回抽出し
、有機層を水及び飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウ
ム上で乾燥する。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(キーゼルゲール60.10
g)により、クロロホルム/メタノール(40:l)の
混合物を泪いて精製すると(4S、5S)−5−(L−
N−ベンジルオキシカルボニルナフチルアラニル−し−
ノルロイシル)アミノ−4−ヒドロキシ−2−(2−ヒ
ドロキシエチル)−7−メチル−2(E)−オクテン酸
インブチルアミド58Bが無色粉末として得られる。
4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボニ
ルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ−4−
ヒドロキシ−2−[2−(2−テトラヒドロピラニルオ
キシ)工1チルコー7−メチルー2−オクテン酸イソブ
チルアミド113111gをメタノールl酢酸エチルl
クロロホルム(1,6mg71.6mg70.5III
Q、)(7)混合溶媒に溶解し、l規定塩酸0.41m
+!を加える。室温で2時間攪拌接水15mQを加え、
酢酸エチル30IIleテ1回、15mgテ2回抽出し
、有機層を水及び飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウ
ム上で乾燥する。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(キーゼルゲール60.10
g)により、クロロホルム/メタノール(40:l)の
混合物を泪いて精製すると(4S、5S)−5−(L−
N−ベンジルオキシカルボニルナフチルアラニル−し−
ノルロイシル)アミノ−4−ヒドロキシ−2−(2−ヒ
ドロキシエチル)−7−メチル−2(E)−オクテン酸
インブチルアミド58Bが無色粉末として得られる。
Rf4ff 0.24(シリカゲルプレート、展開
剤:クロロホルム−メタノール(20:1))Tt量ス
ペクトル m/z 731(M”+1)核磁気共鳴ス
ペクトル(60M比、CD30D+CDCl、 )δp
pm : 0.7〜1.1(15+1)、1.1〜2.
0(1011)、2.6(211゜m)、3.0(21
1,l11)、3.3−4.7(8H)、5.0(2H
,s)。
剤:クロロホルム−メタノール(20:1))Tt量ス
ペクトル m/z 731(M”+1)核磁気共鳴ス
ペクトル(60M比、CD30D+CDCl、 )δp
pm : 0.7〜1.1(15+1)、1.1〜2.
0(1011)、2.6(211゜m)、3.0(21
1,l11)、3.3−4.7(8H)、5.0(2H
,s)。
6.0(211,d 、J=811z) 、7.1−8
.2(1211)実施例6 (4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボ
ニルナフチルアラニル−L−ノルロイシル)アミノ−4
−ヒドロキシ−2−(3−ヒドロキシプロピル)−7−
メチル−2(E)−オクテン酸イソブチルアミド 1) (4S、5S)−5−(N−ベンジルオキシカル
ボニル)アミノ−4−ヒドロキシ−2−(3−ヒドロキ
シプロピル)−7−メチル−2−オクテン酸インブチル
アミド3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキシカル
ボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリ
ジン−5−イル]−2−[3−(2−テトラヒドロピラ
ニルオキシ)プロピルゴー2−プロペン酸イソブチルア
ミド163111gを、ジオキサン5 、6 m2に溶
解し、l規定塩酸2.8−を加える。
.2(1211)実施例6 (4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボ
ニルナフチルアラニル−L−ノルロイシル)アミノ−4
−ヒドロキシ−2−(3−ヒドロキシプロピル)−7−
メチル−2(E)−オクテン酸イソブチルアミド 1) (4S、5S)−5−(N−ベンジルオキシカル
ボニル)アミノ−4−ヒドロキシ−2−(3−ヒドロキ
シプロピル)−7−メチル−2−オクテン酸インブチル
アミド3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキシカル
ボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリ
ジン−5−イル]−2−[3−(2−テトラヒドロピラ
ニルオキシ)プロピルゴー2−プロペン酸イソブチルア
ミド163111gを、ジオキサン5 、6 m2に溶
解し、l規定塩酸2.8−を加える。
室温で2時間攪拌した後、水]0+n2を加え、酢酸エ
チルで3回抽出し、酢酸エチル層を4χ炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、水及び飽和食塩水の順で洗浄する。無水硫
酸マグネシウムで乾燥した後、減圧上溶媒を留去する。
チルで3回抽出し、酢酸エチル層を4χ炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、水及び飽和食塩水の順で洗浄する。無水硫
酸マグネシウムで乾燥した後、減圧上溶媒を留去する。
残渣゛をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(キーゼ
ルゲール60 + 4 g )により、n−へキサンl
酢酸エチル(1:5)で精製し、標圧化合物64mgを
無色油状物として得る。
ルゲール60 + 4 g )により、n−へキサンl
酢酸エチル(1:5)で精製し、標圧化合物64mgを
無色油状物として得る。
Rf値 0.27(シリカゲルプレート、展開剤二〇
−ヘキサンー酢酸エチル(1:5))2)(4S、5S
)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボニルナフチル
−し−ノルロイシル)アミノ−4−ヒドロキシ−2−(
3−ヒドロキシプロピル)−7−メチル−2(E)−オ
クテン酸イソブチルアミド[化合物11] (a)(4S、55)−5−(N−ベンジルオキシカル
ボニル)アミノ−4−ヒドロキシ−2−(3−ヒドロキ
シプロピル)−7−メチル−2−オクテン酸インブチル
アミド61mgをエタノール2 、0 mQに溶解し、
10%パラジウム炭素を用いて常圧下水素添加する1反
応混合物を嬶過し、濾液を減圧上溶媒留去する。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(キーゼルゲール
60,1.5 g )により、クロロホルムlメタノー
ル/v5アンモニア水(10:1:0.1)で精製し、
(4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−2−(
3−ヒドロキシプロピル)−7−メチル−2(E)−オ
クテン酸インブチルアミド24.7Bを無色油状物とし
て得る。
−ヘキサンー酢酸エチル(1:5))2)(4S、5S
)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボニルナフチル
−し−ノルロイシル)アミノ−4−ヒドロキシ−2−(
3−ヒドロキシプロピル)−7−メチル−2(E)−オ
クテン酸イソブチルアミド[化合物11] (a)(4S、55)−5−(N−ベンジルオキシカル
ボニル)アミノ−4−ヒドロキシ−2−(3−ヒドロキ
シプロピル)−7−メチル−2−オクテン酸インブチル
アミド61mgをエタノール2 、0 mQに溶解し、
10%パラジウム炭素を用いて常圧下水素添加する1反
応混合物を嬶過し、濾液を減圧上溶媒留去する。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(キーゼルゲール
60,1.5 g )により、クロロホルムlメタノー
ル/v5アンモニア水(10:1:0.1)で精製し、
(4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−2−(
3−ヒドロキシプロピル)−7−メチル−2(E)−オ
クテン酸インブチルアミド24.7Bを無色油状物とし
て得る。
Rf値 0.11(シリカゲルプレート、展開剤:ク
ロロホルムーメタノールー濃アン モニア水(IQ:1:0.1)) (b)L−N−ベンジルオキシカルボニルナフチルアラ
ニル−し−ノルロイシン38■を無水ジメチルホルムア
ミド0 、3 m2に溶解し、−20℃で攪拌しながら
、トリエチルアミン13.8μe、ジフェニルホスホリ
ルアジド22.5d及び(4S、5S)−5−7ミ/−
4−ヒドロキシ−2−(3−ヒドロキシプロピル)−7
−メチル−2(E)−オクテン酸インブチルアミド24
.7tngの無水ジメチルホルムアミド溶液0 、2
mP、を加える。−20℃で1時間攪拌し、次いで室温
で終夜攪拌した後、酢酸エチル25m2を加える。酢酸
エチル層を10%クエン酸水溶液、水、4%炭酸水素ナ
トリウム水溶液、水及び飽和食塩水の順で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧上溶媒留去する。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(キーゼルゲー
ル6o、3g)により、クロロホルム−メタノール(4
0:1)で精製し、表題化合物12 、7 mgを白色
粉末として得る。
ロロホルムーメタノールー濃アン モニア水(IQ:1:0.1)) (b)L−N−ベンジルオキシカルボニルナフチルアラ
ニル−し−ノルロイシン38■を無水ジメチルホルムア
ミド0 、3 m2に溶解し、−20℃で攪拌しながら
、トリエチルアミン13.8μe、ジフェニルホスホリ
ルアジド22.5d及び(4S、5S)−5−7ミ/−
4−ヒドロキシ−2−(3−ヒドロキシプロピル)−7
−メチル−2(E)−オクテン酸インブチルアミド24
.7tngの無水ジメチルホルムアミド溶液0 、2
mP、を加える。−20℃で1時間攪拌し、次いで室温
で終夜攪拌した後、酢酸エチル25m2を加える。酢酸
エチル層を10%クエン酸水溶液、水、4%炭酸水素ナ
トリウム水溶液、水及び飽和食塩水の順で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧上溶媒留去する。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(キーゼルゲー
ル6o、3g)により、クロロホルム−メタノール(4
0:1)で精製し、表題化合物12 、7 mgを白色
粉末として得る。
Rf’1iiT O,21(シリカゲルプレート、
展17)J剤:クロロホルム−メタノール(10+1)
)質量スペクトル 霞/z 745(M”+1)実施
例7 (4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボ
ニルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ−2
−エチル−4−ヒドロキシ−7−メチル−2(E)−オ
クテン酸 イソブチルアミド23.3■をメタノール3
.0mQに溶解し、 10%パラジウム炭素3mgをm
いて、常温常圧下水素添加する。触媒をろ去後、減圧下
溶媒留去し、得られる残渣をメタノール1.0mQに溶
解し、0.IN塩酸0.3mQを加え減圧上溶媒留去す
る。残渣にエーテルを加え。
展17)J剤:クロロホルム−メタノール(10+1)
)質量スペクトル 霞/z 745(M”+1)実施
例7 (4S、5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボ
ニルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ−2
−エチル−4−ヒドロキシ−7−メチル−2(E)−オ
クテン酸 イソブチルアミド23.3■をメタノール3
.0mQに溶解し、 10%パラジウム炭素3mgをm
いて、常温常圧下水素添加する。触媒をろ去後、減圧下
溶媒留去し、得られる残渣をメタノール1.0mQに溶
解し、0.IN塩酸0.3mQを加え減圧上溶媒留去す
る。残渣にエーテルを加え。
(4S、5S)−5−(L−ナフチルアラニル−し−ノ
ルロイシル)アミノ−2−エチル−4−ヒドロキシ−7
−メチル・−2(E)−オクテン酸 イソブチルアミド
塩酸塩19.6mgを白色粉末として得る。
ルロイシル)アミノ−2−エチル−4−ヒドロキシ−7
−メチル・−2(E)−オクテン酸 イソブチルアミド
塩酸塩19.6mgを白色粉末として得る。
質量スペクトルm/z 581 (M“十l)実施例8
1)(4S、55)−5−Lert−ブトキシカルボニ
ルアミノ−1,4−ジヒドロキシ−2−C2−(2−テ
トラヒドロピラニルオキシ)エチル) −2(E)オク
テン a)3− [(4S、5S)−3−ベンジルオキシカル
ボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリ
ジン−5−イル)−2−(2−(2−テトラヒドロピラ
ニルオキシ)エチル〕−2−プロペン酸 エチルエステ
ル110■をエタノール1.0m12に溶解し。
ルアミノ−1,4−ジヒドロキシ−2−C2−(2−テ
トラヒドロピラニルオキシ)エチル) −2(E)オク
テン a)3− [(4S、5S)−3−ベンジルオキシカル
ボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリ
ジン−5−イル)−2−(2−(2−テトラヒドロピラ
ニルオキシ)エチル〕−2−プロペン酸 エチルエステ
ル110■をエタノール1.0m12に溶解し。
10%パラジウム炭素12■を用いて常温室圧下水素添
加する。触媒をろ去後、減圧下溶媒留去し。
加する。触媒をろ去後、減圧下溶媒留去し。
(4S、5S)−5−アミノ−4−ヒドロキシ−2−(
2−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)エチル〕−7
−メチルー2−オクテン酸エチルエステル77■を無色
油状物として1iIる。
2−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)エチル〕−7
−メチルー2−オクテン酸エチルエステル77■を無色
油状物として1iIる。
Rf値 0.37 (シリカゲルプレート、展開剤:ク
ロロホルム−メタノール−アンモニア水(10:]:0
.2)) b)(4S、5S)−5−7ミ/−4−ヒドロキシ−2
−[2−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)エチル]
−7−メチルー2−オクテン酸エチルエステル77mz
をジメチルホルムアミド1.Os(+に溶解し、トリエ
チルアミン33μQ、二炭酸ジーt−ブチル6゜μQを
加え、室温で2時間攪拌する0反応液を水(10sfl
)中に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した俊、水、飽和食
塩水の順で洗浄する。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧下溶媒留去する。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(キーセルゲル6o、3g)
により、n−ヘキサン/酢酸エチル(10:1)で精製
し、(4S、5S)−5−tart−ブトキシカルボニ
ルアミノ−4−ヒドロキシ−2−[2−(2−テトラヒ
ドロピラニルオキシ)エチル)−7−メチル−2−オク
テン酸エチルエステル16■を無色油状物として得る。
ロロホルム−メタノール−アンモニア水(10:]:0
.2)) b)(4S、5S)−5−7ミ/−4−ヒドロキシ−2
−[2−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)エチル]
−7−メチルー2−オクテン酸エチルエステル77mz
をジメチルホルムアミド1.Os(+に溶解し、トリエ
チルアミン33μQ、二炭酸ジーt−ブチル6゜μQを
加え、室温で2時間攪拌する0反応液を水(10sfl
)中に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した俊、水、飽和食
塩水の順で洗浄する。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧下溶媒留去する。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(キーセルゲル6o、3g)
により、n−ヘキサン/酢酸エチル(10:1)で精製
し、(4S、5S)−5−tart−ブトキシカルボニ
ルアミノ−4−ヒドロキシ−2−[2−(2−テトラヒ
ドロピラニルオキシ)エチル)−7−メチル−2−オク
テン酸エチルエステル16■を無色油状物として得る。
R,f値 0,56 (シリカゲルプレート、R開削:
n−ヘキサン−酢酸エチル(3:I))c)(43,5
3)−5−tert−ブトキシカルボニルアミノ−4−
ヒドロキシ−2−[2−(2−テトラヒドロピラニルオ
キシ)エチル】−7−メチル−2−オクテン酸エチルエ
ステル!6w4をジクロロメタン0゜5−aに溶解し、
−78℃攪拌下、三フッ化ホウ素エチルエーテル錯体1
3μQを加え、同温にて30分攪拌する0次いで、1.
5M水素化ジイソブチルアルミニウムトルエン溶液75
μQを加え、更に45分攪拌する。−78℃で5M酢酸
ジクロロメタン溶液60μQを加えた後9反応液を室温
に戻し、 10%クエン酸水溶液(10■!l)を加え
る。酢酸エチルで抽出した後、水、飽和食塩水の順で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下溶媒留
去後。
n−ヘキサン−酢酸エチル(3:I))c)(43,5
3)−5−tert−ブトキシカルボニルアミノ−4−
ヒドロキシ−2−[2−(2−テトラヒドロピラニルオ
キシ)エチル】−7−メチル−2−オクテン酸エチルエ
ステル!6w4をジクロロメタン0゜5−aに溶解し、
−78℃攪拌下、三フッ化ホウ素エチルエーテル錯体1
3μQを加え、同温にて30分攪拌する0次いで、1.
5M水素化ジイソブチルアルミニウムトルエン溶液75
μQを加え、更に45分攪拌する。−78℃で5M酢酸
ジクロロメタン溶液60μQを加えた後9反応液を室温
に戻し、 10%クエン酸水溶液(10■!l)を加え
る。酢酸エチルで抽出した後、水、飽和食塩水の順で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下溶媒留
去後。
(4S、5S)−5−tert−ブトキシカルボニルア
ミノ−1,4−ジヒドロキシ−2−(2−(2−テトラ
ヒドロピラニルオキシ)エチル〕−2−オクテン15■
を無色油状物として得る。
ミノ−1,4−ジヒドロキシ−2−(2−(2−テトラ
ヒドロピラニルオキシ)エチル〕−2−オクテン15■
を無色油状物として得る。
Rf値 0.10 (シリカゲルプレート、展開剤:n
−ヘキサン−酢酸エチル(3:I))2)(4S、5S
)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボニルナフチル
アラニル−L−ノルロイシル)アミノ−1,4−ジヒド
ロキシ−2−(2−ヒドロキシエチル)−7−メチル−
2−オクテン (4S、5S)−5−tert−ブトキシカルボニルア
ミノ−1,4−ジヒドロキシ−2−[2−(2−テトラ
ヒドロピラニルオキシ)エチル]−2−オクテン!5■
を3.6M塩酸−ジオキサン0.2s Qに溶解し、0
℃で2時間放置する。減圧下溶媒留去し、脱保護体!1
■を無色油状物として得る。これを?、?製することな
く。
−ヘキサン−酢酸エチル(3:I))2)(4S、5S
)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボニルナフチル
アラニル−L−ノルロイシル)アミノ−1,4−ジヒド
ロキシ−2−(2−ヒドロキシエチル)−7−メチル−
2−オクテン (4S、5S)−5−tert−ブトキシカルボニルア
ミノ−1,4−ジヒドロキシ−2−[2−(2−テトラ
ヒドロピラニルオキシ)エチル]−2−オクテン!5■
を3.6M塩酸−ジオキサン0.2s Qに溶解し、0
℃で2時間放置する。減圧下溶媒留去し、脱保護体!1
■を無色油状物として得る。これを?、?製することな
く。
無水ジメチルホルムアミド0.25m Q l、、溶解
し、L−N−ベンジルオキシカルボニルアミノナフチル
アラニル−L−ノルロイシン13mgの無水ジメチルボ
ルムアミド溶液0.3履Ω (トリエチルアミン1oμ
Q、ジフェニルホスホリルアジド10μQ含有)に加え
、−15℃で2時間1次いで室温で終夜tn拌する1反
応液に酢酸エチル<20m Q )を加え、 10%ク
エン酸水溶液。
し、L−N−ベンジルオキシカルボニルアミノナフチル
アラニル−L−ノルロイシン13mgの無水ジメチルボ
ルムアミド溶液0.3履Ω (トリエチルアミン1oμ
Q、ジフェニルホスホリルアジド10μQ含有)に加え
、−15℃で2時間1次いで室温で終夜tn拌する1反
応液に酢酸エチル<20m Q )を加え、 10%ク
エン酸水溶液。
水、4%炭酸水素ナトリウム水溶液、水、rEi和食塩
水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下
溶媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(キーセルゲル60.Ig)により、クロロホルム/
メタノール(30:1)で椿製し、(45,5S)−5
−(L−N−ベンジルオキシカルボニルナフチルアラニ
ル−し−ノルロイシル)アミノ−1,4−ジヒドロキシ
−2−(2−ヒドロキシエチル)−7−メチル−2−オ
クテン5 、5 mgを白色粉末として71する。
水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下
溶媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(キーセルゲル60.Ig)により、クロロホルム/
メタノール(30:1)で椿製し、(45,5S)−5
−(L−N−ベンジルオキシカルボニルナフチルアラニ
ル−し−ノルロイシル)アミノ−1,4−ジヒドロキシ
−2−(2−ヒドロキシエチル)−7−メチル−2−オ
クテン5 、5 mgを白色粉末として71する。
Rf4t10.25(シリカゲルプレート、Ii%開剤
開削ロロホルム−メタノール(20: 1))+ 質請スペクトルm/z 684 (M十N a)+ 644 (M+l −H,O) 核磁気共鳴スペクトル(300MIIz、 CDCQ
、 )δppm : 0.66〜0.99(911,s
)、 0.99〜1.90(911,■)。
開削ロロホルム−メタノール(20: 1))+ 質請スペクトルm/z 684 (M十N a)+ 644 (M+l −H,O) 核磁気共鳴スペクトル(300MIIz、 CDCQ
、 )δppm : 0.66〜0.99(911,s
)、 0.99〜1.90(911,■)。
2.22−2.63(2B、園)、 3.35〜3.
68(411j)。
68(411j)。
3.75−3.90(Ill、■)、 3.90−4
.32(4H,s)。
.32(4H,s)。
4.42〜4.67(211,s)、 5.04(28
,S)、 6.01(0,3+1゜d、J−911z)
、 6.18(0,7+1.d、J婁9Hz)、7.1
2−7.42(711,s)、 7.42〜7.65(
2+1.■)、 7.78(In、d。
,S)、 6.01(0,3+1゜d、J−911z)
、 6.18(0,7+1.d、J婁9Hz)、7.1
2−7.42(711,s)、 7.42〜7.65(
2+1.■)、 7.78(In、d。
JII8!Iz)、 ?、F15(IH,d、Jl18
11z)、8.15(III、bd。
11z)、8.15(III、bd。
J=811z)
実施例9
1)L−N−ベンジルオキシカルボニルシクロへキシル
アラニン 3,5−ジメチルビラシライドa)L−フェ
ニルアラニン2gを50%酢酸301Qに溶解し酸化白
金200qを加え、高圧水素添加を行う。
アラニン 3,5−ジメチルビラシライドa)L−フェ
ニルアラニン2gを50%酢酸301Qに溶解し酸化白
金200qを加え、高圧水素添加を行う。
(水素圧、 50kg/d、 40〜70℃、2時間)
触媒をろ去後、減圧下溶媒を留去してL−シクロへキシ
ルアラニン2.2gを無色針状晶として得る。
触媒をろ去後、減圧下溶媒を留去してL−シクロへキシ
ルアラニン2.2gを無色針状晶として得る。
b)L−シクロヘキシルアラニン2.2gを水8−Qに
懸濁し、トリエチルアミン2.7會Qを加えて溶解する
0次いでS−(ベンジルオキシカルボニル)−4゜6−
シメチルー2−チオピリジン4.2gのジオキサン溶液
8■Qを加え、室温で2時間攪拌する。水100−Ωを
反応混合物に加え、酢酸エチルで抽出後。
懸濁し、トリエチルアミン2.7會Qを加えて溶解する
0次いでS−(ベンジルオキシカルボニル)−4゜6−
シメチルー2−チオピリジン4.2gのジオキサン溶液
8■Qを加え、室温で2時間攪拌する。水100−Ωを
反応混合物に加え、酢酸エチルで抽出後。
水冷下、水層を6規定塩酸でPH2とする。酢酸エチル
で抽出し、酢酸エチル層を1規定塩酸及び飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下、溶
媒を留去しL−N−ベンジルオキシカルボニルシクロへ
キシルアラニン4.1 gを−無色油状物として得る。
で抽出し、酢酸エチル層を1規定塩酸及び飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下、溶
媒を留去しL−N−ベンジルオキシカルボニルシクロへ
キシルアラニン4.1 gを−無色油状物として得る。
Rf値 0.48 (シルカゲルプレート、展開剤:ベ
ンゼン−メタノール−酢酸(1o : t : o、5
) )c)L−N−ベンジルオキシカルボニルシクロへ
キシルアラニン2gをジクロロメタン20−Qに溶解し
3.5−ジメチルピラゾール0.84 gを加える。更
に水冷下ジシクロへキシルカルボジイミド1.8gを加
え、0〜8℃で終夜攪拌する。析出物をろ去後。
ンゼン−メタノール−酢酸(1o : t : o、5
) )c)L−N−ベンジルオキシカルボニルシクロへ
キシルアラニン2gをジクロロメタン20−Qに溶解し
3.5−ジメチルピラゾール0.84 gを加える。更
に水冷下ジシクロへキシルカルボジイミド1.8gを加
え、0〜8℃で終夜攪拌する。析出物をろ去後。
減圧上溶媒を留去し、残渣を酢酸エチルに溶解し10%
クエン酸水溶液、水、4%炭酸水素ナトリウム水溶液、
水及び飽和食塩水で洗浄する。無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧上溶媒を留去し残渣と、ジエチルエーテル
−n−ヘキサンより結晶化して、L−N−ベンジルオキ
シカルボニルシクロへキシルアラニン 3.5−ジメチ
ルビラシライド2.1gを無色針状晶として得る。
クエン酸水溶液、水、4%炭酸水素ナトリウム水溶液、
水及び飽和食塩水で洗浄する。無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧上溶媒を留去し残渣と、ジエチルエーテル
−n−ヘキサンより結晶化して、L−N−ベンジルオキ
シカルボニルシクロへキシルアラニン 3.5−ジメチ
ルビラシライド2.1gを無色針状晶として得る。
rrlp93−94℃
Rf’@0.45(シリカゲルプレート、展開剤:n−
ヘキサン−酢酸エチル(3: 1))2)(3R8,4
S)−4−ベンジルオキシカルボニルアミノ−5−シク
ロへキシル−3−ヒドロキシ−1−ペンテン a)水素化リチウムアルミニウム7921gを無水テト
ラヒドロフラン50−〇に懸濁し、アルゴンガス下。
ヘキサン−酢酸エチル(3: 1))2)(3R8,4
S)−4−ベンジルオキシカルボニルアミノ−5−シク
ロへキシル−3−ヒドロキシ−1−ペンテン a)水素化リチウムアルミニウム7921gを無水テト
ラヒドロフラン50−〇に懸濁し、アルゴンガス下。
−40〜45℃でL−N−ベンジルオキシカルボニルシ
クロへキシルアラニン 3.5−ジメチルビラシライド
4gの無水テトラヒドロフラン溶液501Qを約40分
間にわたり滴下する。更に同温にて20分間攪拌した後
、5規定塩酸5■Qを加える。
クロへキシルアラニン 3.5−ジメチルビラシライド
4gの無水テトラヒドロフラン溶液501Qを約40分
間にわたり滴下する。更に同温にて20分間攪拌した後
、5規定塩酸5■Qを加える。
不溶物をろ去し、減圧下、溶媒を留去後、残渣を酢酸エ
チルに溶解する。酢酸エチル層を1規定塩酸及び飽和食
塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧
下、溶媒を留去しL−N−ベンジルオキシカルボニルシ
クロへキシルアラニナール3.4gを無色油状物として
得る。
チルに溶解する。酢酸エチル層を1規定塩酸及び飽和食
塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧
下、溶媒を留去しL−N−ベンジルオキシカルボニルシ
クロへキシルアラニナール3.4gを無色油状物として
得る。
Rf4110.30(シリカゲルプレート、fi1開削
二〇−ヘキサン−酢酸エチル(4: 1))b)L−N
−ベンジルオキシカルボニルシクロへキシルアラニナー
ル3.4gを無水テトラヒドロフラン25■aに溶解し
、アルゴンガス下、−78℃で0.88Mビニルマグネ
シウムブロマイドテトラヒドロフラン溶液36■Qを4
0分間にわたり滴下する1滴下終了後9反応混合液を室
温に戻し室温で30分間攪拌する0反応液を飽和塩化ア
ンモニウム水溶液250■Ωに注ぎ酢酸エチルで抽出す
る。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を留老する。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(キーゼルゲール6
0.トルエンー酢酸エチル(7:l))で精製し。
二〇−ヘキサン−酢酸エチル(4: 1))b)L−N
−ベンジルオキシカルボニルシクロへキシルアラニナー
ル3.4gを無水テトラヒドロフラン25■aに溶解し
、アルゴンガス下、−78℃で0.88Mビニルマグネ
シウムブロマイドテトラヒドロフラン溶液36■Qを4
0分間にわたり滴下する1滴下終了後9反応混合液を室
温に戻し室温で30分間攪拌する0反応液を飽和塩化ア
ンモニウム水溶液250■Ωに注ぎ酢酸エチルで抽出す
る。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を留老する。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(キーゼルゲール6
0.トルエンー酢酸エチル(7:l))で精製し。
表層化合物1.9gを無色油状物として得る。
Rr値 0.18 (シリカゲルプレート、展開剤二〇
−ヘキサンー酢酸エチル(4: 1))3)3− ((
4S、5R3)−3−ベンジルオキシカルボニル−4−
シクロヘキシルメチル−2,2−ジメチルオキサゾリジ
ン−5−イル〕−2−エチルー2−プロペン酸 イソブ
チルアミド a)(3R5,4S)−4−ベンジルオキシカルボニル
アミノ−5−シクロへキシル−3−ヒドロキシ−■−ペ
ンテン983■をジクロロメタン5■Qに溶解し、2.
2一ジメトキシプロパン4mQ及び無水p−トルエンス
ルホン酸30IIgを加え、室温下終夜攪拌する1反応
混合液に酢酸エチル1001Qを加え、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液及び飽和食液水で洗浄後、有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下、flj媒を留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラブイ−(キー
ゼルゲール60.rl−Aキサン−酢酸エチル(20:
l))で精製し、 (45,5R5)−3−ベンジ
ル、オキシカルボニル−4−シクロヘキシルメチル−5
−エチニル−2,2−ジメチルオキサゾリジン967m
g!、It色色状状物して得る。
−ヘキサンー酢酸エチル(4: 1))3)3− ((
4S、5R3)−3−ベンジルオキシカルボニル−4−
シクロヘキシルメチル−2,2−ジメチルオキサゾリジ
ン−5−イル〕−2−エチルー2−プロペン酸 イソブ
チルアミド a)(3R5,4S)−4−ベンジルオキシカルボニル
アミノ−5−シクロへキシル−3−ヒドロキシ−■−ペ
ンテン983■をジクロロメタン5■Qに溶解し、2.
2一ジメトキシプロパン4mQ及び無水p−トルエンス
ルホン酸30IIgを加え、室温下終夜攪拌する1反応
混合液に酢酸エチル1001Qを加え、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液及び飽和食液水で洗浄後、有機層を無水
硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下、flj媒を留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラブイ−(キー
ゼルゲール60.rl−Aキサン−酢酸エチル(20:
l))で精製し、 (45,5R5)−3−ベンジ
ル、オキシカルボニル−4−シクロヘキシルメチル−5
−エチニル−2,2−ジメチルオキサゾリジン967m
g!、It色色状状物して得る。
Rf’値:0.74(シリカゲルプレート、展開剤二〇
−ヘキサンー酢酸エチル(3: 1)) b)(4S、5R3)−ベンジルオキシカルボニル−4
−シクロヘキシルメチル−5−エチニル−2,2−ジメ
チルオキサゾリジン960mgをジオキサン7a(lに
溶解後。
−ヘキサンー酢酸エチル(3: 1)) b)(4S、5R3)−ベンジルオキシカルボニル−4
−シクロヘキシルメチル−5−エチニル−2,2−ジメ
チルオキサゾリジン960mgをジオキサン7a(lに
溶解後。
四酸化オスニウム35■を含むジオキサン溶液5m(l
を加え、遮光、室温下15分間反応させる1反応混合物
に水2.5gMを加え希釈後、過ヨウ素酸ナトリウム1
.15gを含む水溶液8sflを40分間にわたり滴下
する。1m下終了後更に1.5時間室温下攪拌する。不
溶物をろ去後、ろ液にジエチルエーテル100■αを加
え希釈し、5%硫化ナトリウム水溶液、水、及び飽和食
塩水で洗浄する。
を加え、遮光、室温下15分間反応させる1反応混合物
に水2.5gMを加え希釈後、過ヨウ素酸ナトリウム1
.15gを含む水溶液8sflを40分間にわたり滴下
する。1m下終了後更に1.5時間室温下攪拌する。不
溶物をろ去後、ろ液にジエチルエーテル100■αを加
え希釈し、5%硫化ナトリウム水溶液、水、及び飽和食
塩水で洗浄する。
態化硫酸マグネシウムで乾燥俊、減圧下、溶媒を留去し
く43,5R3) −3−ベンジルオキシカルボニル−
4−シクロヘキシルメチル−5−ホルミル−2,2−ジ
メチルオキサゾリジン992mgを無色油状物として得
る。
く43,5R3) −3−ベンジルオキシカルボニル−
4−シクロヘキシルメチル−5−ホルミル−2,2−ジ
メチルオキサゾリジン992mgを無色油状物として得
る。
Rf値: 0.40 (シリカゲルプレート、展開剤:
n−ヘキサンー酢酸エチル(3: 1)) C)リチウムクロリド+76m1gを無水テトラヒドロ
フラン10−αに懸濁し、アルゴンガス下2−ジエチル
フォスフォノブタン酸エチルエステル8341gを加え
る。5分間室温で攪拌後、ジアザビシクロウンデセン6
30[を滴下する。10分間室温で攪拌後b)、で得ら
れたアルデヒド体990mgの無水テトラヒドロフラン
溶液low Qを加え、室温で終夜攪拌する9反応液に
0.5規定塩酸を加えP83〜4とし、水で希釈後、酢
酸エチルで抽出する。
n−ヘキサンー酢酸エチル(3: 1)) C)リチウムクロリド+76m1gを無水テトラヒドロ
フラン10−αに懸濁し、アルゴンガス下2−ジエチル
フォスフォノブタン酸エチルエステル8341gを加え
る。5分間室温で攪拌後、ジアザビシクロウンデセン6
30[を滴下する。10分間室温で攪拌後b)、で得ら
れたアルデヒド体990mgの無水テトラヒドロフラン
溶液low Qを加え、室温で終夜攪拌する9反応液に
0.5規定塩酸を加えP83〜4とし、水で希釈後、酢
酸エチルで抽出する。
有機層を水及び飽和食液水で洗浄後!水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。減圧下、溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(キーゼルゲール60、n
−ヘキサン−酢酸エチル(lo : 1))で精製し。
ムで乾燥する。減圧下、溶媒を留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(キーゼルゲール60、n
−ヘキサン−酢酸エチル(lo : 1))で精製し。
3− [(43,5R5)−3−ベンジルオキシカルボ
ニル−4−シクロヘキシルメチル−2,2−ジメチルオ
キサゾリジン−5−イル]−2−エチルー2−プロペン
酸エチルエステル965■を無色油状物として得る。
ニル−4−シクロヘキシルメチル−2,2−ジメチルオ
キサゾリジン−5−イル]−2−エチルー2−プロペン
酸エチルエステル965■を無色油状物として得る。
Rf4ff :0.43 (シリカゲルプレート、展開
剤:n−ヘキサン−酢酸エチル(5:1)) d)c)で得たエチルエステル体960■を2規定水酸
化カリウムエタノール−水溶液(10: 1)5.3■
Qに溶解し、室温で終夜、攪拌する0反応液に2規定塩
酸を加えPH2とし、酢酸エチルで抽出する。酢酸エチ
ル層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。減圧下、溶媒を留去いカルボン酸827qを無
色油状物として得る。このカルボン酸をジメチルホルム
アミド7mQに溶解し、トリエチルアミン255鵬g、
ジフェニルホスホリルアジド694mg及びイソブチル
アミン200mgを一15℃で加え、0℃以下で2時間
、更に室温で終夜、III拌する。酢酸エチル150m
ffを加え、1規定塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム
溶液、水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。
剤:n−ヘキサン−酢酸エチル(5:1)) d)c)で得たエチルエステル体960■を2規定水酸
化カリウムエタノール−水溶液(10: 1)5.3■
Qに溶解し、室温で終夜、攪拌する0反応液に2規定塩
酸を加えPH2とし、酢酸エチルで抽出する。酢酸エチ
ル層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥する。減圧下、溶媒を留去いカルボン酸827qを無
色油状物として得る。このカルボン酸をジメチルホルム
アミド7mQに溶解し、トリエチルアミン255鵬g、
ジフェニルホスホリルアジド694mg及びイソブチル
アミン200mgを一15℃で加え、0℃以下で2時間
、更に室温で終夜、III拌する。酢酸エチル150m
ffを加え、1規定塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム
溶液、水及び飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。
減圧下、溶媒な留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(キーゼルゲール60. n−ヘキサン
−酢酸エチル(5:I))で精製し、第2画分より3−
((4S、5S)−3−ベンジルオキシカルボニル−
4−シクロヘキシルメチル−2,2−ジメチルオキサゾ
リジン−5−イル〕−2−エチル−2(Z)−プロペン
酸 イソブチルアミド120■を無色油状物として得る
。
トグラフィー(キーゼルゲール60. n−ヘキサン
−酢酸エチル(5:I))で精製し、第2画分より3−
((4S、5S)−3−ベンジルオキシカルボニル−
4−シクロヘキシルメチル−2,2−ジメチルオキサゾ
リジン−5−イル〕−2−エチル−2(Z)−プロペン
酸 イソブチルアミド120■を無色油状物として得る
。
Rf値:0.36Cシリカゲルプレート、 IRIin
M : n −ヘキサン−酢酸エチル(3:I)) 核1a気共鳴スペクトル(300Mllz、 CDCQ
、 )δppm ; 2.15−2.32(Ill、
m)、 2.32〜2.50(III、m)3.10
−3.30(211,s)、 3.75−3.95(I
II、br)、 4.50(211,dd、J、g2.
411z、J、m8.71!z)、 5.50−5.
25(211,m)。
M : n −ヘキサン−酢酸エチル(3:I)) 核1a気共鳴スペクトル(300Mllz、 CDCQ
、 )δppm ; 2.15−2.32(Ill、
m)、 2.32〜2.50(III、m)3.10
−3.30(211,s)、 3.75−3.95(I
II、br)、 4.50(211,dd、J、g2.
411z、J、m8.71!z)、 5.50−5.
25(211,m)。
5、.61(III、d、J、118.711z)、
6.52−6.72(IH,br)。
6.52−6.72(IH,br)。
また、第4画分より3− ((4S、5S)−3−ベン
ジルオキシカルボニル−4−シクロヘキシルメチル−2
,2−ジメチルオキサゾリジン−5−イル)−2−エチ
ル−2(E)−プロペン酸 イソブチルアミド及び3−
((4S、5R)−3−ベンジルオキシカルボニル−
4−シクロヘキシルメチル−2,2−ジメチルオキサゾ
リジン−5−イル】−2−エチル−2(E)−プロペン
酸 イソブチルアミドの混合物180mgを無色粉末と
して得、この混合物を更にシリカゲルクロマトグラフィ
ー(キーゼルゲール60. n−ヘキサン−酢酸エチル
(5: l))で精製し、第1両分より(5S)体66
mg@無色油状物として得る。
ジルオキシカルボニル−4−シクロヘキシルメチル−2
,2−ジメチルオキサゾリジン−5−イル)−2−エチ
ル−2(E)−プロペン酸 イソブチルアミド及び3−
((4S、5R)−3−ベンジルオキシカルボニル−
4−シクロヘキシルメチル−2,2−ジメチルオキサゾ
リジン−5−イル】−2−エチル−2(E)−プロペン
酸 イソブチルアミドの混合物180mgを無色粉末と
して得、この混合物を更にシリカゲルクロマトグラフィ
ー(キーゼルゲール60. n−ヘキサン−酢酸エチル
(5: l))で精製し、第1両分より(5S)体66
mg@無色油状物として得る。
Rf’値:0.29(シリカゲルプレート、n−ヘキサ
ン−酢酸エチル(3:1ン) 核磁気共鳴スペクトル(300MIIz、 CDCQ
、 )δPP@ : 2.20−2.52(211,1
)、 3.05−3.20(211,m)、3.80
−3.95(III、br)、 4.60(III、
dd、J、m3.OHz、J、*9.0Hz)、 5
.02−5.20(211,m)、 5.70−5.
82(l11.br)。
ン−酢酸エチル(3:1ン) 核磁気共鳴スペクトル(300MIIz、 CDCQ
、 )δPP@ : 2.20−2.52(211,1
)、 3.05−3.20(211,m)、3.80
−3.95(III、br)、 4.60(III、
dd、J、m3.OHz、J、*9.0Hz)、 5
.02−5.20(211,m)、 5.70−5.
82(l11.br)。
6.08(IH,d、J、−9,0IIz)4)(2E
、43,5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボ
ニルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ−6
−シクロへキシル−2−エチル−4−とドロキシ−2−
ヘキセン酸 イソブチルアミド3− [(4S、53)
−3−ベンジルオキシカルボニル−4−シクロヘキシル
メチル−2,2−ジメチルオキサゾリジン−5−イル]
−2−エチル−2(E)−プロペン酸 イソブチルアミ
ド561gをエタノール!、5mΩに溶解し、10%パ
ラジウム−炭素5■を加え、室温下 1圧で2.5時間
水素添加する8触媒をろ去後、減圧下。
、43,5S)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボ
ニルナフチルアラニル−し−ノルロイシル)アミノ−6
−シクロへキシル−2−エチル−4−とドロキシ−2−
ヘキセン酸 イソブチルアミド3− [(4S、53)
−3−ベンジルオキシカルボニル−4−シクロヘキシル
メチル−2,2−ジメチルオキサゾリジン−5−イル]
−2−エチル−2(E)−プロペン酸 イソブチルアミ
ド561gをエタノール!、5mΩに溶解し、10%パ
ラジウム−炭素5■を加え、室温下 1圧で2.5時間
水素添加する8触媒をろ去後、減圧下。
溶媒を留去する。残渣をジメチルホルムアミド1IIQ
に溶解し、−15℃でL−N−ベンジルオキシカルボニ
ルナフチルアラニル−L−ノルロイシン54I1g、ジ
フェニルホスホリルアジド39mg及びトリエチルアミ
ン14wtgを加え、−15〜0℃で2時間、更に室温
で終夜、攪拌する。
に溶解し、−15℃でL−N−ベンジルオキシカルボニ
ルナフチルアラニル−L−ノルロイシン54I1g、ジ
フェニルホスホリルアジド39mg及びトリエチルアミ
ン14wtgを加え、−15〜0℃で2時間、更に室温
で終夜、攪拌する。
反応液に水を加え、析出する結晶をろ取し、減圧下乾燥
する。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(キーゼル
ゲール60. n−ヘキサン−酢酸エチル(7: 4)
)で精製し1表悪化合物27mgを無色粉末として得る
。
する。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(キーゼル
ゲール60. n−ヘキサン−酢酸エチル(7: 4)
)で精製し1表悪化合物27mgを無色粉末として得る
。
mp82−86℃
Rf値、0.54(シリカゲルプレート、展開剤:クロ
ロホルム−メタノール(40: l))核磁気共鳴スペ
クトル(300MIIz、CDCQ 、 )δpp■:
0.70−1.95(30114)、 2.30〜
2.55(2H,s)。
ロホルム−メタノール(40: l))核磁気共鳴スペ
クトル(300MIIz、CDCQ 、 )δpp■:
0.70−1.95(30114)、 2.30〜
2.55(2H,s)。
3.07〜3.20(211,■)、 3.45〜3
.60(311,s)。
.60(311,s)。
4.35〜4.55(H(、m)、 4.62(11
,d、Jl18.8!1z)。
,d、Jl18.8!1z)。
4.84(111,5J−7,4114)、 5.04
(2B、S)。
(2B、S)。
5.30CIII、dd、J−8,2Hz、2.3tl
z)。
z)。
5.30−5.47(III、br)、 5.75−5
.87(IH,br)。
.87(IH,br)。
6.10(ill、d、J−8,8H1)、 6.51
(III、d、J−6,8111)。
(III、d、J−6,8111)。
7.20−7.45(711,s)、 7.45−7.
65(2H,m)。
65(2H,m)。
7.78(IH,d、JII7JHz)、 7.86(
1[1,d、Jl17.811z)。
1[1,d、Jl17.811z)。
8.20(11,brs)
実施例10
実施例2−2)−b)に従い、3− [(4S、58)
−3−ベンジルオキシカルボニル−2,2−ジメチル−
4−イソブチルオキサゾリジン−5−イル]−2−エチ
ル−2−プロペン酸と4−ピコリルアミンより得られる
、3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキシカルボニ
ル−2゜2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリジン
−5−イル]−2−エチル−2(E)−プロペン酸4−
ピコリルアミド58■を実施例2−3)に従い脱保護し
1次いでL−N−ベンジルオキシカルボニルナフチルア
ラニル−L−ノルロイシン40■gとカップリングして
、(4S。
−3−ベンジルオキシカルボニル−2,2−ジメチル−
4−イソブチルオキサゾリジン−5−イル]−2−エチ
ル−2−プロペン酸と4−ピコリルアミンより得られる
、3−[(4S、5S)−3−ベンジルオキシカルボニ
ル−2゜2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリジン
−5−イル]−2−エチル−2(E)−プロペン酸4−
ピコリルアミド58■を実施例2−3)に従い脱保護し
1次いでL−N−ベンジルオキシカルボニルナフチルア
ラニル−L−ノルロイシン40■gとカップリングして
、(4S。
53)−5−(L−N−ベンジルオキシカルボニルナフ
チルアラニル−L−ノルロイシル)アミノ−4−ヒドロ
キシ−2−エチル−7−メチル−2(E)−オクテン1
ta4−ピコリルアミド4.9■を無色粉末として得る
。
チルアラニル−L−ノルロイシル)アミノ−4−ヒドロ
キシ−2−エチル−7−メチル−2(E)−オクテン1
ta4−ピコリルアミド4.9■を無色粉末として得る
。
Rf@ 0.13(シリカゲルプレート、展開剤;クロ
ロホルム−メタノール(20: I))核磁気共鳴スペ
クトル(300MIIz、 CDCl2.)δppm
二 〇、70〜0.96(911,s)、 0.9
6〜1.92(1211,■)。
ロホルム−メタノール(20: I))核磁気共鳴スペ
クトル(300MIIz、 CDCl2.)δppm
二 〇、70〜0.96(911,s)、 0.9
6〜1.92(1211,■)。
2.37−2.57(2Lm)、 3.36−4.75
(811,m)。
(811,m)。
4.93(ill、d、J111311z)、 5.0
5(III、d、J+l+311z)。
5(III、d、J+l+311z)。
6、fl(lit、d、lll8.611z)、 7.
17−7.42(911,1)。
17−7.42(911,1)。
7.42〜7.6fi(211,1)、 7.65〜
7.92(211,m)。
7.92(211,m)。
8.13(III、br s)、 8.38(IH,b
r s)。
r s)。
8.48〜8.61(Ill、m)
実施例11
実施例2−2) −b)に従い、3− ((45,5S
)−3−t−ブトキシカルボニル−2,2−ジメチル−
4−イソブチルオキサゾリジン−5−イル〕−2−エチ
ルー2−プロペン酸とN−(2−アミノエチル)モルホ
リンより得られる3−[(43,53)−3−t−ブト
キシカルボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオ
キサゾリジン−5−イル)−2−エチル−2(E)−プ
ロペン酸 2−モルホリノエチルアミド30m(を10
%塩酸−メタノール0.3s (1を用いて脱保護し1
次いで、実施例2−3)に従い、L−N−ベンジルオキ
シカルボニルナフチルアラニル−L−ノルロイシン21
昭とカップリングして、 (4S、5S)−5−(L
−N−ベンジルオキシカルボニルナフチルアラニル−し
−ノルロイシル)アミノ−4−ヒドロキシ−2−エチル
−7−メチル−2(E)−オクテン酸 2−モルホリノ
エチルアミド15■を白色粉末として得る。
)−3−t−ブトキシカルボニル−2,2−ジメチル−
4−イソブチルオキサゾリジン−5−イル〕−2−エチ
ルー2−プロペン酸とN−(2−アミノエチル)モルホ
リンより得られる3−[(43,53)−3−t−ブト
キシカルボニル−2,2−ジメチル−4−イソブチルオ
キサゾリジン−5−イル)−2−エチル−2(E)−プ
ロペン酸 2−モルホリノエチルアミド30m(を10
%塩酸−メタノール0.3s (1を用いて脱保護し1
次いで、実施例2−3)に従い、L−N−ベンジルオキ
シカルボニルナフチルアラニル−L−ノルロイシン21
昭とカップリングして、 (4S、5S)−5−(L
−N−ベンジルオキシカルボニルナフチルアラニル−し
−ノルロイシル)アミノ−4−ヒドロキシ−2−エチル
−7−メチル−2(E)−オクテン酸 2−モルホリノ
エチルアミド15■を白色粉末として得る。
Rf値 0.17 (シリカゲルプレート展開剤:クロ
ロホルム−メタノール(20: 1))核磁気共鳴スペ
クトル(300MHz、 CDCl2.)δppm :
0.85(3Fl、t、III7.711z)、 0
.92(611,d、lll7.711z)。
ロホルム−メタノール(20: 1))核磁気共鳴スペ
クトル(300MHz、 CDCl2.)δppm :
0.85(3Fl、t、III7.711z)、 0
.92(611,d、lll7.711z)。
1.04(311,t、J−7,711Z)、 1.
17−1.31(2■、讃)。
17−1.31(2■、讃)。
1.35〜1.80(711,■)、 2.27−2.
52(611,m)。
52(611,m)。
2.56(21,t、III7.711z)、 3.3
6−3.52(3H,s)。
6−3.52(3H,s)。
3.55−3.72(511,s)、 3.88〜4
.01(11,讃)。
.01(11,讃)。
4.06−4.16(III、s)、 4.38(Il
l、dd、Jx8.611z、4.31+z)、 4.
48(III、dd、III8.6!lz、6.9Hz
)、 5.00(lll。
l、dd、Jx8.611z、4.31+z)、 4.
48(III、dd、III8.6!lz、6.9Hz
)、 5.00(lll。
d、JllI3+1z)、 5.11(III、d、
J−1311z)、 5.99(1■1dlJ118
.611z)、 7.18−7.45(711,s)、
7.45−7.65(211゜m)、7.81(II
I、d、III8.6Hz)、7.90(III、d、
III8.6Hz)、 8.08(IIl、d、J−
8,611z)実施例12 −4−ヒ0ロ シー27−シメチルー2 E)−オクー
ン イソブチルアミド 2−ジエチルフォスフォノプロピオン酸エチルエステル
174g、 (4S、5R)−3−terL−ブチル
オキシカルボニル−2,2−ジメチル−5−ホルミル−
4−インブチルオキサゾリジン174gを用いて実施例
2と同様にして3− ((4S、 5S) −3−te
rt−ブチルオキシカルボニル−2,2−ジメチル−4
−イソブチルオキサゾリジン−5−イル〕−2−メチル
ー2−プロペン酸エチルエステル249mgを得た。得
られた化合物2251gを用いてアルカリケン化を行な
い、ついでイソブチルアミンと縮合して3−((4S、
5S) −3−tert−ブチルオキシカルボニル−
2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリジン−5
−イル〕−2−メチルー2−プロペン酸イソブチルアミ
ドの2体22.5mg、 E体45.9■、2体とE体
の混合物89.7■を得た。E体33.5mgに10%
塩酸メタノール溶液0.4sαを加え、室温下に脱保護
し、ついでL−N−ベンジルオキシカルボニルナフチル
アラニル−し−ノルロイシンとジフェニルホスホリルア
ジドを用いて縮合し、 (4S、5S)−5−(L−
N−ベンジルオキシカルボニルナフチルアラニル−L−
ノルロイシル)アミノ−4−ヒドロキシ−2,7−シメ
チルー2(E)−オクテン酸 インブチルアミド31.
3[を7+)た。
J−1311z)、 5.99(1■1dlJ118
.611z)、 7.18−7.45(711,s)、
7.45−7.65(211゜m)、7.81(II
I、d、III8.6Hz)、7.90(III、d、
III8.6Hz)、 8.08(IIl、d、J−
8,611z)実施例12 −4−ヒ0ロ シー27−シメチルー2 E)−オクー
ン イソブチルアミド 2−ジエチルフォスフォノプロピオン酸エチルエステル
174g、 (4S、5R)−3−terL−ブチル
オキシカルボニル−2,2−ジメチル−5−ホルミル−
4−インブチルオキサゾリジン174gを用いて実施例
2と同様にして3− ((4S、 5S) −3−te
rt−ブチルオキシカルボニル−2,2−ジメチル−4
−イソブチルオキサゾリジン−5−イル〕−2−メチル
ー2−プロペン酸エチルエステル249mgを得た。得
られた化合物2251gを用いてアルカリケン化を行な
い、ついでイソブチルアミンと縮合して3−((4S、
5S) −3−tert−ブチルオキシカルボニル−
2,2−ジメチル−4−イソブチルオキサゾリジン−5
−イル〕−2−メチルー2−プロペン酸イソブチルアミ
ドの2体22.5mg、 E体45.9■、2体とE体
の混合物89.7■を得た。E体33.5mgに10%
塩酸メタノール溶液0.4sαを加え、室温下に脱保護
し、ついでL−N−ベンジルオキシカルボニルナフチル
アラニル−し−ノルロイシンとジフェニルホスホリルア
ジドを用いて縮合し、 (4S、5S)−5−(L−
N−ベンジルオキシカルボニルナフチルアラニル−L−
ノルロイシル)アミノ−4−ヒドロキシ−2,7−シメ
チルー2(E)−オクテン酸 インブチルアミド31.
3[を7+)た。
Rf4110.42(シリカゲルプレート、展開剤:ク
ロロホルム−メタノール(20: l))質量スペクト
ル 701 CM”+1)核磁気共鳴スペクトル(30
0MIIz、 CD、00)δpρ−: 0.8−1.
85(2511)、 1.9(3H,S)、 2.9
5(211,d。
ロロホルム−メタノール(20: l))質量スペクト
ル 701 CM”+1)核磁気共鳴スペクトル(30
0MIIz、 CD、00)δpρ−: 0.8−1.
85(2511)、 1.9(3H,S)、 2.9
5(211,d。
JII711z)、 3.68(III、dd)、 4
.02(ill、m)、 4.22(18゜s)、
4.4(IH,m)、 4.55(211,■)、
6.07(111,d。
.02(ill、m)、 4.22(18゜s)、
4.4(IH,m)、 4.55(211,■)、
6.07(111,d。
711z)、 7.2−7.4(811)、 7.
75(211,m)、 7.87(III、d)、
a、l6(III、d) 進11ソ九呈 本発明の化合物はレニン−アンジオテンシン血圧上昇系
に関与するレニンな強力に阻害することから、レニン−
アンジオテンシン系の光通の起因する高血圧症の治療剤
としての使用が期待される。
75(211,m)、 7.87(III、d)、
a、l6(III、d) 進11ソ九呈 本発明の化合物はレニン−アンジオテンシン血圧上昇系
に関与するレニンな強力に阻害することから、レニン−
アンジオテンシン系の光通の起因する高血圧症の治療剤
としての使用が期待される。
Claims (2)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼[ I ] [式中、R^1及びR^2は同一又は異なっていてもよ
く、水素原子、低級アルキル基、アラルキル基、低級ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
アラルキルオキシカルボニル基、又は、アミノ基、水酸
基、カルボキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキ
シカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミ
ノ基若しくは 式:▲数式、化学式、表等があります▼で表わされる基
(式中、X^1及びX^2は同一又は異なっていてもよ
く、水素原子、低級アルキル基、アリール基又はアラル
キル基を示すか、又はX^1及びX^2が互いに結合し
て隣接する窒素原子と共に、さらに窒素原子、酸素原子
及びイオウ原子からなる群から選ばれる他のヘテロ原子
を含んでいてもよい、5ないし6員の複素環基を形成し
てもよい)からなる群から選ばれる、1ないし3個の置
換基で置換されていてもよく、さらに炭素鎖中に二重結
合を含んでいてもよい低級アルカノイル基を、R^3、
R^4及びR^6は同一又は異なっていてもよく、水素
原子、低級アルキル基、シクロアルキル基、シクロアル
キルアルキル基、アリール基、アラルキル基、又は、酸
性、中性若しくは塩基性アミノ酸の残基を、R^5は水
素原子又は低級アルキル基を、R^7は水素原子、1な
いし2個の水酸基で置換されていてもよい、低級アルキ
ル基、シクロアルキルアルキル基若しくはアラルキル基
、又は、酸性、中性若しくは塩基性アミノ酸残基を、R
^8は水酸基、式:−OYで表わされる基(式中、Yは
低級アルキル基、アリール基、アラルキル基、低級アル
コキシアルキル基、低級アルカノイルオキシアルキル基
、低級アルコキシカルボニルオキシアルキル基又は1−
フタリジル基を示す)又は 式:▲数式、化学式、表等があります▼で表わされる基
(式中、Y^1及びY^2は同一又は異なっていてもよ
く、水素原子、低級アルキル基、アリール基、アラルキ
ル基又はシクロアルキル基を示すか、又はY^1及びY
^2が互いに結合して隣接する窒素原子と共に、さらに
窒素原子、酸素原子及びイオウ原子からなる群から選ば
れる他のヘテロ原子を含んでいてもよい、5ないし6員
の複素環基を形成してもよい)を、n及びmは同一又は
異なっていてもよく、0又は1をそれぞれ示す]で表わ
される5−置換アミノ−4−ヒドロキシペンテン酸又は
その塩。 - (2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼[ I ] [式中、R^1及びR^2は同一又は異なっていてもよ
く、水素原子、低級アルキル基、アラルキル基、低級ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
アラルキルオキシカルボニル基、又は、アミノ基、水酸
基、カルボキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキ
シカルボニルアミノ基、低級アルコキシカルボニルアミ
ノ基若しくは 式:▲数式、化学式、表等があります▼で表わされる基
(式中、X^1及びX^2は同一又は異なっていてもよ
く、水素原子、低級アルキル基、アリール基又はアラル
キル基を示すか、又はX^1及びX^2が互いに結合し
て隣接する窒素原子と共に、さらに窒素原子、酸素原子
及びイオウ原子からなる群から選ばれる他のヘテロ原子
を含んでいてもよい、5ないし6員の複素環基を形成し
てもよい)からなる群から選ばれる1ないし3個の置換
基で置換されていてもよく、さらに炭素鎖中に二重結合
を含んでいてもよい低級アルカノイル基を、R^3、R
^4及びR^6は同一又は異なっていてもよく、水素原
子、低級アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキ
ルアルキル基、アリール基、アラルキル基、又は、酸性
、中性若しくは塩基性アミノ酸の残基を、R^5は水素
原子又は低級アルキル基を、R^7は水素原子、1ない
し2個の水酸基で置換されていてもよい、低級アルキル
基、シクロアルキルアルキル基若しくはアラルキル基、
又は、酸性、中性若しくは塩基性アミノ酸残基を、R^
8は水酸基、式:−OYで表わされる基(式中、Yは低
級アルキル基、アリール基、アラルキル基、低級アルコ
キシアルキル基、低級アルカノイルオキシアルキル基、
低級アルコキシカルボニルオキシアルキル基又は1−フ
タリジル基を示す)又は 式:▲数式、化学式、表等があります▼で表わされる基
(式中、Y^1及びY^2は同一又は異なっていてもよ
く、水素原子、低級アルキル基、アリール基、アラルキ
ル基又はシクロアルキル基を示すか、又はY^1及びY
^2が互いに結合して隣接する窒素原子と共に、さらに
窒素原子、酸素原子及びイオウ原子からなる群から選ば
れる他のヘテロ原子を含んでいてもよい、5ないし6員
の複素環基を形成してもよい)を、n及びmは同一又は
異なっていてもよく、0又は1をそれぞれ示す]で表わ
される5−置換アミノ−4−ヒドロキシ−ペンテン酸又
はその塩を有効成分とする血圧降下剤。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62313886A JPS63270649A (ja) | 1986-12-19 | 1987-12-11 | 5−置換アミノ−4−ヒドロキシペンテン酸誘導体及びその用途 |
EP87118570A EP0272583B1 (en) | 1986-12-19 | 1987-12-15 | 5-substituted amino-4-hydroxy-pentenoic acid derivatives and their use |
DE87118570T DE3787455D1 (de) | 1986-12-19 | 1987-12-15 | N-Substituierte Derivate der 5-Amino-4-hydroxy-pentensäure und ihre Anwendung. |
AT87118570T ATE94559T1 (de) | 1986-12-19 | 1987-12-15 | N-substituierte derivate der 5-amino-4-hydroxypentens|ure und ihre anwendung. |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61-301596 | 1986-12-19 | ||
JP30159686 | 1986-12-19 | ||
JP62313886A JPS63270649A (ja) | 1986-12-19 | 1987-12-11 | 5−置換アミノ−4−ヒドロキシペンテン酸誘導体及びその用途 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63270649A true JPS63270649A (ja) | 1988-11-08 |
Family
ID=26562766
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62313886A Pending JPS63270649A (ja) | 1986-12-19 | 1987-12-11 | 5−置換アミノ−4−ヒドロキシペンテン酸誘導体及びその用途 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0272583B1 (ja) |
JP (1) | JPS63270649A (ja) |
DE (1) | DE3787455D1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US12036286B2 (en) | 2021-03-18 | 2024-07-16 | Seagen Inc. | Selective drug release from internalized conjugates of biologically active compounds |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0163237A3 (en) * | 1984-05-29 | 1988-04-27 | Merck & Co. Inc. | Di- and tri-peptidal renin inhibitors |
-
1987
- 1987-12-11 JP JP62313886A patent/JPS63270649A/ja active Pending
- 1987-12-15 DE DE87118570T patent/DE3787455D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-12-15 EP EP87118570A patent/EP0272583B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0272583B1 (en) | 1993-09-15 |
EP0272583A3 (en) | 1990-01-10 |
EP0272583A2 (en) | 1988-06-29 |
DE3787455D1 (de) | 1993-10-21 |
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