JPS63267707A - 除黴剤 - Google Patents

除黴剤

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Publication number
JPS63267707A
JPS63267707A JP10543787A JP10543787A JPS63267707A JP S63267707 A JPS63267707 A JP S63267707A JP 10543787 A JP10543787 A JP 10543787A JP 10543787 A JP10543787 A JP 10543787A JP S63267707 A JPS63267707 A JP S63267707A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sodium hypochlorite
concentration
saccharides
antimold agent
solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10543787A
Other languages
English (en)
Inventor
Naoshi Okawa
直士 大川
Masao Hirayama
平山 政生
Takuji Satonaga
里永 卓爾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Neos Co Ltd
Original Assignee
Neos Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP10543787A priority Critical patent/JPS63267707A/ja
Publication of JPS63267707A publication Critical patent/JPS63267707A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Detergent Compositions (AREA)
  • Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な除黴剤に関する。
従来の技術 一般住宅の日当の悪い部屋、厨房、浴室、洗面所等力よ
び食品加工工場や醸造工場等の天井や壁面等は黴の発生
繁殖に好適な環境となっており。
従来からこのような環境を清浄化するために次亜塩素酸
す) IJウムを主成分とする除黴剤が利用されている
しかしながら、次亜塩素酸ナトリウムは特異な塩素臭を
発生するだけでなく、目や口腔部等の粘膜や皮膚を強く
刺激するので、市販の除黴剤の次亜塩素酸ナトリウムの
含有量は極めて低いものとなっており(通常約2〜5重
量%)、従って、市販の除黴剤を使用しても十分な除黴
効果は得難く。
強固に繁殖付着した黴の除去は困難である。このため1
食品加工工場や一造工場等においては作業環境を犠牲に
しても、保健衛生上の観点から高濃度の次亜塩素酸す)
 IJウムを含有する除黴剤の使用を余儀なくさせられ
ている。
本発明は従来の除黴剤の上記欠点を有さない新規な除黴
剤を提供するためになされたものである。
問題点を解決するための手段 即ち本発明は、糖類含有液と次亜塩素酸ナトリウム含有
液から成る二液型除黴剤に関する。
本発明に使用する糖類としては単糖類(C4H804゜
C3H1oo5.C6H12O6等)および二糖類が挙
げられ、好適なものとしてはエリスロース2キシロース
、キシルロース、リボース IJ フロース。
グルコース、フルクトース、ラクトース、ガラクトース
、マンノース、シュークロース、マルトース等が例示さ
れるが、グルコースが特に好ましい。
これらの糖類は所望により2種以上併用してもよい。
これらの糖類は通常約0.1〜50重量%1好ましくは
約1〜30重量%の水溶液として使用する。
糖類含有液には所望により常套の添加剤1例えば界面活
性剤(アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、
カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤)、防黴剤、防
錆剤、殺菌剤等を適宜配合してもよい。
糖類含有液のpHは通常約5〜7.好ましくは約6〜7
である。
上記の糖類と組合せで用いる次亜塩素酸ナトリウムは通
常約0.1〜12重量%、好ましくは約0゜5〜10重
量%の水溶液として使用する。
次亜塩素酸ナトリウム溶液にも所望により前記の界面活
性剤等を適宜配合してもよい。
次亜塩素酸す) IJウム溶液のpHは通常約7以上、
好ましくは約9以上である。
本発明による糖類含有液と次亜塩素酸ナトリウム含有液
から成る二液型除黴剤の使用方法は特に限定的ではない
が、両方の処理液を吏用前に混合し、この混合液を可及
的速やかに(通常は遅くとも約1時間以内、好ましくは
約30分以内)被処理面へ塗布、散布または噴霧するの
がより効果的である。
本発明による除黴剤を用いて処理した壁面等は通常、水
洗と乾燥の後処理に付される。
以下1本発明を実施例によって説明する。
クロカビ〔アスペルギルス−ニガー( Aspergillus  niger ) )  を
接種した素焼板を37℃で7日間培養することによって
調製したテストプレートに1表−1に示す配合処方によ
って調製したA液を塗布し、直ちにB液を塗布し、5分
後の除黴効果を次式によって除黴率として求めた: (式中、ROは黴を接種する前の素焼板の反射′ 率、
R3は除黴剤を用いて処理する前のテストプレートの反
射率、およびRWは除黴剤を用いて処理した後のテスト
プレートの反射率をそれぞれ示す) なお1反射率は測色素コンピューターSZ−Σ80(日
本電色工業株式会社製)を用いて測定した。
得られた結果を表−1に示す。
比較例1〜3 実施例1および2の手順に準拠し1表−1の配合処方に
よって調製した除黴剤の除黴効果を調べた。結果を表−
1に示す。
表−1 本発明による糖類含有液と次亜塩素酸ナトリウム含有液
から成る二液型除黴剤を使用することによって、各処理
液の単独吏用によっては得られない強力な相乗的除黴効
果が得られる。
さらに、このような相乗効果は従来から常用されている
除黴剤よりも低濃度の次亜塩素酸ナトリウムを使用する
ことによっても得られるので、次亜塩素酸ナトリウムに
起因する前記の作業環境上の問題も解消される。
手続補正書 昭和 62年特許願第 105437  号2、発明の
名称 除黴剤 3、 補正をする者 事件との関係 特許出願人 (t 所  兵1ゼ県神戸市中央区加納町6丁目2番1
号4代理人 住所 〒540 大阪府大阪市東区域見2丁目1番61
す7、補正の内容 (1)明細占、第4頁、末行、[A液を・・・・・・塗
布し、」とあるのを「A液とB液の混合液を塗布し、」
と補正する。
(2)同第6頁の表−1を次の様に補正する:「表−1 1)日本触媒化学工業(株)市販品。        
 」以上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、糖類含有液と次亜塩素酸ナトリウム含有液から成る
    二液型除黴剤。 2、糖類が単糖類および二糖類から成る群から選択され
    る1種もしくは2種以上の糖である第1項記載の除黴剤
    。 3、糖類の濃度が約0.1〜50重量%であり、次亜塩
    素酸ナトリウムの濃度が約0.1〜12重量%である第
    1項記載の除黴剤。
JP10543787A 1987-04-27 1987-04-27 除黴剤 Pending JPS63267707A (ja)

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JP10543787A JPS63267707A (ja) 1987-04-27 1987-04-27 除黴剤

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006008669A (ja) * 2004-05-24 2006-01-12 Kagawa Univ 植物または微生物への希少糖の使用

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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