JPS63257920A - 磁気デイスク基板の加工方法 - Google Patents
磁気デイスク基板の加工方法Info
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- JPS63257920A JPS63257920A JP9351587A JP9351587A JPS63257920A JP S63257920 A JPS63257920 A JP S63257920A JP 9351587 A JP9351587 A JP 9351587A JP 9351587 A JP9351587 A JP 9351587A JP S63257920 A JPS63257920 A JP S63257920A
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- magnetic disk
- disk substrate
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- press die
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Links
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
八−
〔産業上の利用分野〕
この発明は、磁気ディスク装置の記録媒体に用いらｎる
磁気ディスクの７１０工方法に関するものである〇 〔従来の技術〕 磁気ディスク装＆は高密度化の傾向から、不動作詩には
磁気ディスクと磁気ヘッドが接触し、動作時には磁気デ
ィスクの回転による空気流の作用で磁気ヘッドが浮上す
るコンタクト・スタート・ストップ方式（ａＳＳ方弐方
式磁気ディスク装置が用いられている。
磁気ディスクの７１０工方法に関するものである〇 〔従来の技術〕 磁気ディスク装＆は高密度化の傾向から、不動作詩には
磁気ディスクと磁気ヘッドが接触し、動作時には磁気デ
ィスクの回転による空気流の作用で磁気ヘッドが浮上す
るコンタクト・スタート・ストップ方式（ａＳＳ方弐方
式磁気ディスク装置が用いられている。
この方式では・磁気ヘッドと磁気ディスクを保護する１
因から、ディスク表面に潤滑剤を塗布する必要がある。
因から、ディスク表面に潤滑剤を塗布する必要がある。
そこでこのＷ４１１１１剤の膜厚か薄く、少ない部分で
は、ヘッドとディスクが（ロ）転接触した際にディスク
表面？傷めたり、ヘッドを損傷したりし、また膜厚が厚
く、多い場合＆ゴ、ヘッドとディスクとが吸着して始動
できなくなることがある０そしてこの吸着は磁気ディス
クの表面が平坦化し過ぎると生じ易くなる□このことか
ら、回転接触時の１ＷｆＲ性を良くしながら、丁なわち
潤滑膜の厚さを厚くしなから、ｇ＆層か生じない方法と
しては、磁気ディスク表面に微少の凹凸を付けることが
有効である。
は、ヘッドとディスクが（ロ）転接触した際にディスク
表面？傷めたり、ヘッドを損傷したりし、また膜厚が厚
く、多い場合＆ゴ、ヘッドとディスクとが吸着して始動
できなくなることがある０そしてこの吸着は磁気ディス
クの表面が平坦化し過ぎると生じ易くなる□このことか
ら、回転接触時の１ＷｆＲ性を良くしながら、丁なわち
潤滑膜の厚さを厚くしなから、ｇ＆層か生じない方法と
しては、磁気ディスク表面に微少の凹凸を付けることが
有効である。
従来の凹凸形成の加工方法としては、例えば第２肉σ〕
特開昭６１−２９４１８に示されているような方法があ
る。こσ〕方法は磁気ディスク１を回転させ、ラッピン
グフィルム５を加圧接触させながら磁気ディスク基板面
に微細な凹凸を形成させる方法である、なお６は加圧シ
リンダを示す。
特開昭６１−２９４１８に示されているような方法があ
る。こσ〕方法は磁気ディスク１を回転させ、ラッピン
グフィルム５を加圧接触させながら磁気ディスク基板面
に微細な凹凸を形成させる方法である、なお６は加圧シ
リンダを示す。
ところがこσ〕従来σノ加工方法では、ラッピングフィ
ルムを用いているため、鋭い突起が生じて、ＩＷ１滑性
を悪くしたり、凹凸形状が回転円周に沿ったものなσｊ
で、ヘッドとＤ接触面積が大きくなり、吸着か生じ易い
などの問題点があった。
ルムを用いているため、鋭い突起が生じて、ＩＷ１滑性
を悪くしたり、凹凸形状が回転円周に沿ったものなσｊ
で、ヘッドとＤ接触面積が大きくなり、吸着か生じ易い
などの問題点があった。
この発明に上記のような問題点を解消するためになさｎ
たもので、潤滑性を保持するとともに、吸着を生じしめ
ないように磁気ディスク基板表面に微細な凹凸ご形成さ
せる加工方法と得ることを目面とする。
たもので、潤滑性を保持するとともに、吸着を生じしめ
ないように磁気ディスク基板表面に微細な凹凸ご形成さ
せる加工方法と得ることを目面とする。
〔間１点を解決Ｔる２めの手段〕
この発明に係る磁気ディスク基板の加工方法は、多数の
凹凸を有するプレス金型を磁気ディスクに加圧し、該磁
気ディスク基板面に滑らかで微細な凹凸を形成するよう
にしたもσｊである。
凹凸を有するプレス金型を磁気ディスクに加圧し、該磁
気ディスク基板面に滑らかで微細な凹凸を形成するよう
にしたもσｊである。
この発明でに、プレス金型の凹凸？磁気ディスク基板上
に写しとることにより、同一形状のもＱＪご再現性良く
、多■に作製することができる。
に写しとることにより、同一形状のもＱＪご再現性良く
、多■に作製することができる。
以下、こ（／Ｊ発明の一実施例を図について説明下る。
第１図において、１はディスク、２に凹凸を有するプレ
ス金型、６は加圧シリンダである。
ス金型、６は加圧シリンダである。
〔実施例１〕
プレス金型２は放射状に芯研磨して凹凸を付け、窒化処
理して磁気ディスク基板よりも硬度を高くし、更に突起
を除くため、剛力）いラッピングをしｚものを用いた。
理して磁気ディスク基板よりも硬度を高くし、更に突起
を除くため、剛力）いラッピングをしｚものを用いた。
なお、凸部の高さに０．２μｍ以下、ピッチは円周方向
に３μｍ以下σ」ものであ６゜こびｊブレス金型を用い
て、基板号プレスした後、メッキで磁性膜を付け、更に
潤滑剤を塗布したもび」コ、Ｃ８Ｓ試＠（コンタクト・
スタート・ストップを行ない、磁気ヘッドまたはａｆ気
ディスクが損傷を受けるまでの回数で評価する試験方法
）した結果、１有回以上で良好であった。！！り吸着試
験（磁気ディスク上にヘッドを停止接触させて放置し、
始動時に吸着により初期回転応力が大きくなるまでの時
間で評価する試験方法）した結果、従来の方法で形成し
た磁気ディスクは６日で吸着したが、この実施例σ」も
のは１４日以上吸着しｔかっ二〇 〔実施例２〕 プレス台型にゴジ型ホトレジストを塗布し、マスクを用
いて１〜２Ｐの円形に露光し、深さ０．２Ｐ以下にエツ
チングをしたもの力）らレジストを除き、金型表面を窒
化処理したものを用いて磁気ディスク基板をプレスした
。そして上記実施例１と同様に磁性膜を形成し、潤滑剤
を塗り、ａＳＳ試験、吸着試験を行なった。ａＳＳ試験
は１有回以上、吸着試験は１４日以上吸層せず、良好な
結果を得た。
に３μｍ以下σ」ものであ６゜こびｊブレス金型を用い
て、基板号プレスした後、メッキで磁性膜を付け、更に
潤滑剤を塗布したもび」コ、Ｃ８Ｓ試＠（コンタクト・
スタート・ストップを行ない、磁気ヘッドまたはａｆ気
ディスクが損傷を受けるまでの回数で評価する試験方法
）した結果、１有回以上で良好であった。！！り吸着試
験（磁気ディスク上にヘッドを停止接触させて放置し、
始動時に吸着により初期回転応力が大きくなるまでの時
間で評価する試験方法）した結果、従来の方法で形成し
た磁気ディスクは６日で吸着したが、この実施例σ」も
のは１４日以上吸着しｔかっ二〇 〔実施例２〕 プレス台型にゴジ型ホトレジストを塗布し、マスクを用
いて１〜２Ｐの円形に露光し、深さ０．２Ｐ以下にエツ
チングをしたもの力）らレジストを除き、金型表面を窒
化処理したものを用いて磁気ディスク基板をプレスした
。そして上記実施例１と同様に磁性膜を形成し、潤滑剤
を塗り、ａＳＳ試験、吸着試験を行なった。ａＳＳ試験
は１有回以上、吸着試験は１４日以上吸層せず、良好な
結果を得た。
なお上記実施例では、片面だけをプレスしたが、両面を
同時にプレスすることもできる。こσ〕加工方法に基板
たけでなく、磁性膜を形成後、または保−膜ご形成後、
或いはまＴ−潤１１！膜を形成後に適用しても艮い。′
ｆたプレス金型として、線形放射状の四凸夕、円ま′ｒ
：、はだ円状の凹凸を有するものを用いると、基板に回
転円周方法と直角になる凸部が形成さｎ、その１個当り
の接触面積が小さくなり、吸着防止効果か大きくなる。
同時にプレスすることもできる。こσ〕加工方法に基板
たけでなく、磁性膜を形成後、または保−膜ご形成後、
或いはまＴ−潤１１！膜を形成後に適用しても艮い。′
ｆたプレス金型として、線形放射状の四凸夕、円ま′ｒ
：、はだ円状の凹凸を有するものを用いると、基板に回
転円周方法と直角になる凸部が形成さｎ、その１個当り
の接触面積が小さくなり、吸着防止効果か大きくなる。
以上のようにこの発明にょｎば、プレス金型で磁気ディ
スク基板の表面に凹凸？形成下６ようにしたので、凹凸
形状を再現性良く量産できる効果がある。
スク基板の表面に凹凸？形成下６ようにしたので、凹凸
形状を再現性良く量産できる効果がある。
第１因はこの発明の一実施例による加工方法を示す概略
図、第２図は従来の加工方法を示す図である。 図中、１は磁気ディスク基板、２は多数の凹凸２有する
プレス金型、６に加圧シリンダである。 尚、図中同一符号は同一または相当部分な示す。
図、第２図は従来の加工方法を示す図である。 図中、１は磁気ディスク基板、２は多数の凹凸２有する
プレス金型、６に加圧シリンダである。 尚、図中同一符号は同一または相当部分な示す。
Claims (3)
- （１）多数の凹凸部を有するプレス金型を磁気ディスク
に加圧し、該磁気ディスク基板面に滑らかで微細な凹凸
を形成するようにしたことを特徴とする磁気ディスク基
板の加工方法。 - （２）線形放射状の凹凸を有するプレス金型を用いるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気ディス
ク基板の加工方法。 - （３）円またはだ円状の凹凸を有するプレス金型を用い
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気デ
ィスク基板の加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9351587A JPS63257920A (ja) | 1987-04-15 | 1987-04-15 | 磁気デイスク基板の加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9351587A JPS63257920A (ja) | 1987-04-15 | 1987-04-15 | 磁気デイスク基板の加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63257920A true JPS63257920A (ja) | 1988-10-25 |
Family
ID=14084477
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9351587A Pending JPS63257920A (ja) | 1987-04-15 | 1987-04-15 | 磁気デイスク基板の加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63257920A (ja) |
-
1987
- 1987-04-15 JP JP9351587A patent/JPS63257920A/ja active Pending
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