JPS63255369A - 細物への膜被覆方法 - Google Patents
細物への膜被覆方法Info
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- JPS63255369A JPS63255369A JP8958487A JP8958487A JPS63255369A JP S63255369 A JPS63255369 A JP S63255369A JP 8958487 A JP8958487 A JP 8958487A JP 8958487 A JP8958487 A JP 8958487A JP S63255369 A JPS63255369 A JP S63255369A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 21
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 11
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract description 11
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 abstract description 6
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 abstract description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 208000035824 paresthesia Diseases 0.000 abstract 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 2
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 238000005261 decarburization Methods 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000012768 molten material Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、例えばマイクロドリル、ポンチ、マイクロ
カッター、ピン、針等のような絹物への膜被覆方法に関
する。
カッター、ピン、針等のような絹物への膜被覆方法に関
する。
上記のような細物以外の一般の工具類に、切削性向上、
耐摩耗性向上、耐蝕性向上等のために、真空蒸着、スパ
ッタリング、イオンブレーティング、真空蒸着とイオン
照射の併用等のPVD法(物理気相成長法)によって、
例えばT s N % T 1C1AIN、ZrN等の
高硬度膜を被覆する方法が従来から採られている。
耐摩耗性向上、耐蝕性向上等のために、真空蒸着、スパ
ッタリング、イオンブレーティング、真空蒸着とイオン
照射の併用等のPVD法(物理気相成長法)によって、
例えばT s N % T 1C1AIN、ZrN等の
高硬度膜を被覆する方法が従来から採られている。
その場合に通常は、被覆されるもの、即ちこの例では工
具類に対する加熱が併用される。これは、加熱によって
被覆前の工具類のクリーニングを行って被覆する膜の密
着性向上を図ったり、工具類の温度制御を行うことによ
って膜の密着性や膜質の向上を図ったり等するためであ
る。
具類に対する加熱が併用される。これは、加熱によって
被覆前の工具類のクリーニングを行って被覆する膜の密
着性向上を図ったり、工具類の温度制御を行うことによ
って膜の密着性や膜質の向上を図ったり等するためであ
る。
そのような工具類の加熱は、通常、真空中で効率良く加
熱が行えるようにするため、輻射式のヒータを工具類の
周囲に配置し、主にそれからの輻射熱で行われている。
熱が行えるようにするため、輻射式のヒータを工具類の
周囲に配置し、主にそれからの輻射熱で行われている。
そして加熱の際の工具類の温度測定には、対象物からの
赤外線の輻射を測定するパイロメータや、対象物に取り
付けて測温する熱電対が通常用いられている。
赤外線の輻射を測定するパイロメータや、対象物に取り
付けて測温する熱電対が通常用いられている。
ところが従来は、マイクロドリル(ここではドリル径が
数mmφ程度以下のものを言う)等のような絹物に対す
る膜の被覆は、他の工具類に対する程には工業的な規模
で行われていない。その理 ”由は、従来の方法では、
細物に対する被覆の効果が、他の工具類に対する程には
顕著に得られないからであると考えられる。
数mmφ程度以下のものを言う)等のような絹物に対す
る膜の被覆は、他の工具類に対する程には工業的な規模
で行われていない。その理 ”由は、従来の方法では、
細物に対する被覆の効果が、他の工具類に対する程には
顕著に得られないからであると考えられる。
この原因には、大別すれば次の二つが考えられる。
■ 一つは、細物の加熱に上述したような輻射式の加熱
方法を用いると、刃先部のように特に細くなっている先
端部が集中して過度に加熱されることによる。
方法を用いると、刃先部のように特に細くなっている先
端部が集中して過度に加熱されることによる。
これは、従来の方法では細物全体に輻射熱を供給するた
め、表面積が体積の割に大きい先端部に対する熱入力が
過大になるからである。
め、表面積が体積の割に大きい先端部に対する熱入力が
過大になるからである。
■ もう一つは、細物の免端部の温度測定が極めて困難
であるため温度制御が難しいことによる。
であるため温度制御が難しいことによる。
これは、パイロメータの場合はある程度以上の視野が必
要なのに細物ではそれが得られないからであり、また熱
電対の場合は大きさに制約があってそれを細物に取付け
られないからである。
要なのに細物ではそれが得られないからであり、また熱
電対の場合は大きさに制約があってそれを細物に取付け
られないからである。
例えばマイクロドリルを例に取ると、細い刃先部に均一
に膜を被覆することが要求されており、そのためには加
熱温度が一様でしかも精密な温度制御が必要である。ま
たマイクロドリルの材質は例えばタングステンカーバイ
ド(WC)であり、加熱温度が低すぎると膜の密着性等
が悪く、逆に高過ぎると脱炭現象を起こして脆くなって
しまう。
に膜を被覆することが要求されており、そのためには加
熱温度が一様でしかも精密な温度制御が必要である。ま
たマイクロドリルの材質は例えばタングステンカーバイ
ド(WC)であり、加熱温度が低すぎると膜の密着性等
が悪く、逆に高過ぎると脱炭現象を起こして脆くなって
しまう。
また回路基板の穴あけ用のものの場合には、被削材がF
RP等のような高硬度で粘着性の高い複合材料であるの
で、膜質をそのようなものに対して最適にするための精
密な温度制御が必要である。
RP等のような高硬度で粘着性の高い複合材料であるの
で、膜質をそのようなものに対して最適にするための精
密な温度制御が必要である。
そこでこの発明は、膜を被覆する際の細物の加熱に当り
、当該細物の先端部の過度の加熱を防ぐと共に当該先端
部の温度測定が容易に行えるようにした膜被覆方法を提
供することを目的とする。
、当該細物の先端部の過度の加熱を防ぐと共に当該先端
部の温度測定が容易に行えるようにした膜被覆方法を提
供することを目的とする。
この発明の膜被覆方法は、絹物にPVD法によって膜を
被覆する際に、絹物をその柄部で治具に取付け、当該治
具を加熱することによってそれからの熱伝導で絹物を加
熱すると共に当該治具の温度を測定することを特徴とす
る。
被覆する際に、絹物をその柄部で治具に取付け、当該治
具を加熱することによってそれからの熱伝導で絹物を加
熱すると共に当該治具の温度を測定することを特徴とす
る。
細物をその柄部で治具に取り付けて当該治具を加熱する
と、それからの熱伝導で細物の柄部が加熱されると共に
柄部からの熱伝導で先端部が加熱される。そのため、細
物の先端部に対する熱入力が過大になることはなく、当
該先端部の過度の加熱が防止される。
と、それからの熱伝導で細物の柄部が加熱されると共に
柄部からの熱伝導で先端部が加熱される。そのため、細
物の先端部に対する熱入力が過大になることはなく、当
該先端部の過度の加熱が防止される。
また、治具の温度測定はパイロメータや熱電対等によっ
て容易に行うことができ、しかも治具の温度と細物の先
端部の温度との間にはほぼ一義的に定まる関係があるた
め、治具の測温によって絹物の先端部の温度を容易にし
かも大きな誤差無しに測定することができる。
て容易に行うことができ、しかも治具の温度と細物の先
端部の温度との間にはほぼ一義的に定まる関係があるた
め、治具の測温によって絹物の先端部の温度を容易にし
かも大きな誤差無しに測定することができる。
第1図は、この発明に係る方法を実施する装置の一例を
示す概略断面図である。
示す概略断面図である。
真空排気装置4によって真空排気される真空容器2内に
、円筒状の治具10aが収納されている。
、円筒状の治具10aが収納されている。
この治具10aは、上下の真空シール部6.6を介して
真空容器2を貫通する回転軸8の中間に取り付けられて
おり、この回転軸8および治具10aは、真空容器2外
の回転駆動装置26によって例えば矢印Aのように回転
させられる。
真空容器2を貫通する回転軸8の中間に取り付けられて
おり、この回転軸8および治具10aは、真空容器2外
の回転駆動装置26によって例えば矢印Aのように回転
させられる。
治具10aの外周面側には、膜を被覆しようとするマイ
クロドリル等の細物12の柄部(シャンク部)13を挿
入・保持することができる複数の穴11があけられてい
る。ちなみにこの治具10aの厚さは、取り付ける細物
12の柄部13の長さく例えば約25mm)より厚くし
ている。
クロドリル等の細物12の柄部(シャンク部)13を挿
入・保持することができる複数の穴11があけられてい
る。ちなみにこの治具10aの厚さは、取り付ける細物
12の柄部13の長さく例えば約25mm)より厚くし
ている。
治具10aの細物12を取り付ける面と反対側には、即
ちこの例では治具10aの内側には、複数本のヒータ1
4aが収納されており、加熱電源20からの電力を、こ
の例では絶縁トランス18およびブラシ16を介してか
つ回転軸8内の導体を通して、このヒータ14aに供給
してそれを加熱するようにしている。
ちこの例では治具10aの内側には、複数本のヒータ1
4aが収納されており、加熱電源20からの電力を、こ
の例では絶縁トランス18およびブラシ16を介してか
つ回転軸8内の導体を通して、このヒータ14aに供給
してそれを加熱するようにしている。
一方、真空容器2の壁面には、治具10aの外周面に向
けて、この例では複数台のアーク式の蒸発源28aが取
り付けられている。この蒸発源28aは、細物12に対
して被覆しようとする物質から成るカソード30を有し
ており、それと真空容器2間にアーク電源32から例え
ば数十V〜数百V程度の電圧を印加して両者間に真空直
流アーク放電を行わせることによって、カソード物質3
1を蒸発させることができる。その場合、カソード30
は放電点のみが局部的に溶融されるため、蒸発源28a
をこの例のように横向きにしても、溶融物がこぼれ落ち
る恐れはない、尚、アーク放電起動用のトリガ等は図示
を省略している。
けて、この例では複数台のアーク式の蒸発源28aが取
り付けられている。この蒸発源28aは、細物12に対
して被覆しようとする物質から成るカソード30を有し
ており、それと真空容器2間にアーク電源32から例え
ば数十V〜数百V程度の電圧を印加して両者間に真空直
流アーク放電を行わせることによって、カソード物質3
1を蒸発させることができる。その場合、カソード30
は放電点のみが局部的に溶融されるため、蒸発源28a
をこの例のように横向きにしても、溶融物がこぼれ落ち
る恐れはない、尚、アーク放電起動用のトリガ等は図示
を省略している。
また、真空容器2の壁面にこの例ではパイロメータ34
aを取り付けており、それによって治具10aの外周面
の温度を測定するようにしている。
aを取り付けており、それによって治具10aの外周面
の温度を測定するようにしている。
またこの例では、治具10a、回転軸8、ヒータ14a
等はアースから電気的に絶縁しており、バイアス電源2
4からブラシ22および回転軸8を介して治具10a、
ひいてはそこに装着された細物12に、例えば数百V〜
100OV程度の負のバイアス電圧を印加できるように
している。これによって、加熱と共に細物12の放電洗
浄を行ったり、細物12にバイアス電圧を印加した状態
で膜の被覆を行ったりすることができる。
等はアースから電気的に絶縁しており、バイアス電源2
4からブラシ22および回転軸8を介して治具10a、
ひいてはそこに装着された細物12に、例えば数百V〜
100OV程度の負のバイアス電圧を印加できるように
している。これによって、加熱と共に細物12の放電洗
浄を行ったり、細物12にバイアス電圧を印加した状態
で膜の被覆を行ったりすることができる。
膜の被覆に際しては、被覆しようとする複数の細物12
の柄部13を治具10aの各穴11にそれぞれ差し込み
、真空容器2内を所定の真空度(例えば10−’〜10
−’T o r r程度)に排気し、ヒータ14aによ
って治具10aをその内側から加熱する。そして各蒸発
源28aを動作させて、それからのカソード物質31を
各細物12の先端部等の所望領域に蒸着させて膜を被覆
する。その際、処理の均一性を高める等のために、治具
10aを回転させる。また化合物膜を被覆する場合は、
真空容器2内にカソード物質31と反応する反応ガスを
導入しても良い。
の柄部13を治具10aの各穴11にそれぞれ差し込み
、真空容器2内を所定の真空度(例えば10−’〜10
−’T o r r程度)に排気し、ヒータ14aによ
って治具10aをその内側から加熱する。そして各蒸発
源28aを動作させて、それからのカソード物質31を
各細物12の先端部等の所望領域に蒸着させて膜を被覆
する。その際、処理の均一性を高める等のために、治具
10aを回転させる。また化合物膜を被覆する場合は、
真空容器2内にカソード物質31と反応する反応ガスを
導入しても良い。
上記の場合、各細物12は、従来のようにヒータからの
輻射熱で直接加熱するのと違って、治具10aからの熱
伝導で柄部13が加熱されると共に、柄部13からの熱
伝導で先端部が加熱される。
輻射熱で直接加熱するのと違って、治具10aからの熱
伝導で柄部13が加熱されると共に、柄部13からの熱
伝導で先端部が加熱される。
そのため、細物12の先端部に対する熱入力が過大にな
ることはなく、当該先端部の過度の加熱が防止される。
ることはなく、当該先端部の過度の加熱が防止される。
また、被覆の際は、パイロメータ34aによって治具1
0aの外周面の温度を測定するが、この場合はパイロメ
ータ34aに必要な視野を十分に確保することができる
ため、容易にかつ正確に測温することができる。しかも
、治具10aの温度と細物12の先端部の温度との間に
は、はぼ一義的に定まる関係があるため、予めその関係
を把握しておけば、パイロメータ34aによって細物1
2の先端部の温度を容易にしかも大きな誤差無しに測定
することができる。その結果、細物12の先端部の温度
管理(温度制御)が容易にかつ正確に行える。
0aの外周面の温度を測定するが、この場合はパイロメ
ータ34aに必要な視野を十分に確保することができる
ため、容易にかつ正確に測温することができる。しかも
、治具10aの温度と細物12の先端部の温度との間に
は、はぼ一義的に定まる関係があるため、予めその関係
を把握しておけば、パイロメータ34aによって細物1
2の先端部の温度を容易にしかも大きな誤差無しに測定
することができる。その結果、細物12の先端部の温度
管理(温度制御)が容易にかつ正確に行える。
以上の結果、従来困難とされていたマイクロドリル等の
細物12に対して、膜の被覆を良好に行うことができる
。即ち、複数の細物12の先端部等に、密着性や膜質等
の良好な膜を工業的規模で被覆することができる。
細物12に対して、膜の被覆を良好に行うことができる
。即ち、複数の細物12の先端部等に、密着性や膜質等
の良好な膜を工業的規模で被覆することができる。
またこの例では、ヒータ14aによって治具10aを加
熱すれば良いため、ヒータ14aを治具10aの内側や
内部に組み込むことができ、また従来の輻射式ヒータの
場合のようなりフレフタ−が不要となるため、それによ
ってヒータ取付けに伴うスペースが削減でき、真空容器
2の小形化を図ることもできる。
熱すれば良いため、ヒータ14aを治具10aの内側や
内部に組み込むことができ、また従来の輻射式ヒータの
場合のようなりフレフタ−が不要となるため、それによ
ってヒータ取付けに伴うスペースが削減でき、真空容器
2の小形化を図ることもできる。
またこの例では、ヒータ14aが治具10aによって、
蒸発源28aによる被覆雰囲気から隔離されるため、ヒ
ータ14aにカソード物質31が付着しに<<、従って
ヒータ4aの頻繁な清掃を必要としない。
蒸発源28aによる被覆雰囲気から隔離されるため、ヒ
ータ14aにカソード物質31が付着しに<<、従って
ヒータ4aの頻繁な清掃を必要としない。
尚、ヒータ14aは、摺動部を設ける等して、治具10
aの回転に拘らず回転しないようにしても良く、そのよ
うにすればヒータ14aへの給電がより行い易くなる。
aの回転に拘らず回転しないようにしても良く、そのよ
うにすればヒータ14aへの給電がより行い易くなる。
また、真空シール部6、特に上側の真空シール部6は、
ヒータ14aによる熱から内部の0リング等を保護する
ために、冷却水等によって冷却するようにしても良い。
ヒータ14aによる熱から内部の0リング等を保護する
ために、冷却水等によって冷却するようにしても良い。
また、治具10aは、それへの細物12の着脱を容易に
する等のために、円周方向および/または軸方向に複数
分割できるような構造にしても良い。
する等のために、円周方向および/または軸方向に複数
分割できるような構造にしても良い。
第2図は、この発明に係る方法を実施する装置の他の例
を示す概略断面図である。第1図の例との相違点を主に
説明すると、この例では、真空容器2内に円筒状の治具
10bを収納して絶縁物から成る台52の上に固定して
いる。この治具10bと真空容器2間には、上記例の場
合と同様にバイアス電源24が接続されている。
を示す概略断面図である。第1図の例との相違点を主に
説明すると、この例では、真空容器2内に円筒状の治具
10bを収納して絶縁物から成る台52の上に固定して
いる。この治具10bと真空容器2間には、上記例の場
合と同様にバイアス電源24が接続されている。
そして治具fobの内周面側に、前述したような細物1
2の柄部13を挿入・保持することができる複数の穴1
1をあけている。
2の柄部13を挿入・保持することができる複数の穴1
1をあけている。
また治具10bの内側であってそのほぼ中心軸上に、電
子ビーム式の蒸発源28bを設けている。
子ビーム式の蒸発源28bを設けている。
この蒸発源28bは、るつぼ36内に、細物12に対し
て被覆しようとする物質から成る蒸発材料38を有して
おり、それに電子銃40から電子ビーム42を照射する
ことによって当該蒸発材料38を蒸発させることができ
る。しかも複数の細物12に対する処理の均一性を高め
るために、直線駆動装置50によって軸46を介して、
るつぼ36を矢印Bのように上下動させることができる
ようにしている。48は軸46のための真空シール部で
ある。
て被覆しようとする物質から成る蒸発材料38を有して
おり、それに電子銃40から電子ビーム42を照射する
ことによって当該蒸発材料38を蒸発させることができ
る。しかも複数の細物12に対する処理の均一性を高め
るために、直線駆動装置50によって軸46を介して、
るつぼ36を矢印Bのように上下動させることができる
ようにしている。48は軸46のための真空シール部で
ある。
一方、治具10bの外周面内には、コイル状のヒータ1
4bを巻いており、加熱電源20からの電力を絶縁トラ
ンスI8を介して当該ヒータ14bに供給するようにし
ている。54は給電のための真空シール部である。
4bを巻いており、加熱電源20からの電力を絶縁トラ
ンスI8を介して当該ヒータ14bに供給するようにし
ている。54は給電のための真空シール部である。
またこの例では、治具10b内に、その温度測定のため
の熱電対34bを埋め込んでいる。
の熱電対34bを埋め込んでいる。
膜の被覆に際しては、細物12をその柄部13で治具1
0bに取付け、ヒータ14bによって治具10bを加熱
し、それからの熱伝導によって各細物12の加熱を行う
、また熱電対34bによって、その際の治具10bの温
度を測定する。
0bに取付け、ヒータ14bによって治具10bを加熱
し、それからの熱伝導によって各細物12の加熱を行う
、また熱電対34bによって、その際の治具10bの温
度を測定する。
従ってこの例の場合も、上記例の場合と同様に、細物1
2の加熱を均一に行えると共にその温度管理も容易に行
えるため、マイクロドリル等の細物12に対して膜の被
覆を良好に行うことができる。
2の加熱を均一に行えると共にその温度管理も容易に行
えるため、マイクロドリル等の細物12に対して膜の被
覆を良好に行うことができる。
また、真空容器2の小形化を図ることができることやヒ
ータ14bの頻繁な清掃を必要としないことも上記例の
場合と同様である。
ータ14bの頻繁な清掃を必要としないことも上記例の
場合と同様である。
またこの例の場合も、治具10bを円周方向および/ま
たは軸方向に複数分割できる構造にしても良い。また真
空シール部54を、ヒータ14bによる熱から保護する
ために冷却しても良い。
たは軸方向に複数分割できる構造にしても良い。また真
空シール部54を、ヒータ14bによる熱から保護する
ために冷却しても良い。
尚、上記2例はいずれも真空蒸着によって細物12に膜
を被覆する場合を説明したが、それ以外の前述したよう
なPVD法によって膜を被覆しても良い。
を被覆する場合を説明したが、それ以外の前述したよう
なPVD法によって膜を被覆しても良い。
以上のようにこの発明によれば、膜を被覆する際の絹物
の加熱に当り、当該細物の先端部の過度の加熱を防ぐこ
とができると共に当該先端部の温度測定が容易に行える
ため、従来困難とされていたマイクロドリル等の細物に
対して、膜の被覆を良好に行うことができる。
の加熱に当り、当該細物の先端部の過度の加熱を防ぐこ
とができると共に当該先端部の温度測定が容易に行える
ため、従来困難とされていたマイクロドリル等の細物に
対して、膜の被覆を良好に行うことができる。
第1図は、この発明に係る方法を実施する装置の一例を
示す概略断面図である。第2図は、この発明に係る方法
を実施する装置の他の例を示す概略断面図である。 2・・・真空容器、10a、10b−−−治具、12・
・・細物、13・・・柄部、14a、14b・・・ヒー
タ、28a、28b・・・蒸発源、34a・・・パイロ
メータ、34b・・・熱電対。
示す概略断面図である。第2図は、この発明に係る方法
を実施する装置の他の例を示す概略断面図である。 2・・・真空容器、10a、10b−−−治具、12・
・・細物、13・・・柄部、14a、14b・・・ヒー
タ、28a、28b・・・蒸発源、34a・・・パイロ
メータ、34b・・・熱電対。
Claims (1)
- (1)細物にPVD法によって膜を被覆する際に、細物
をその柄部で治具に取付け、当該治具を加熱することに
よってそれからの熱伝導で細物を加熱すると共に当該治
具の温度を測定することを特徴とする細物への膜被覆方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8958487A JPH0730446B2 (ja) | 1987-04-10 | 1987-04-10 | 細物への膜被覆方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8958487A JPH0730446B2 (ja) | 1987-04-10 | 1987-04-10 | 細物への膜被覆方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63255369A true JPS63255369A (ja) | 1988-10-21 |
JPH0730446B2 JPH0730446B2 (ja) | 1995-04-05 |
Family
ID=13974832
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8958487A Expired - Fee Related JPH0730446B2 (ja) | 1987-04-10 | 1987-04-10 | 細物への膜被覆方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0730446B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007008972A1 (en) * | 2005-07-12 | 2007-01-18 | Praxair S.T. Technology, Inc. | Fixture for use in a coating operation |
US7901799B2 (en) | 2006-10-02 | 2011-03-08 | Praxair S.T. Technology, Inc. | Multilayer nitride-containing coatings |
WO2016156601A1 (de) * | 2015-04-02 | 2016-10-06 | Cemecon Ag | Chargierung von werkstücken in einer beschichtungsanlage |
-
1987
- 1987-04-10 JP JP8958487A patent/JPH0730446B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2007008972A1 (en) * | 2005-07-12 | 2007-01-18 | Praxair S.T. Technology, Inc. | Fixture for use in a coating operation |
JP2009501278A (ja) * | 2005-07-12 | 2009-01-15 | プラックセアー エス.ティ.テクノロジー、 インコーポレイテッド | 被覆加工の作業に用いる固定具 |
US8308916B2 (en) | 2005-07-12 | 2012-11-13 | Praxair S. T. Technology, Inc. | Method for simultaneously coating a plurality of workpieces |
US7901799B2 (en) | 2006-10-02 | 2011-03-08 | Praxair S.T. Technology, Inc. | Multilayer nitride-containing coatings |
US8097129B2 (en) | 2006-10-02 | 2012-01-17 | Praxair S.T. Technology, Inc. | Multilayer nitride-containing coatings |
WO2016156601A1 (de) * | 2015-04-02 | 2016-10-06 | Cemecon Ag | Chargierung von werkstücken in einer beschichtungsanlage |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0730446B2 (ja) | 1995-04-05 |
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