JPS63252280A - 半導体放射線検出器を用いた照射線量率測定装置 - Google Patents
半導体放射線検出器を用いた照射線量率測定装置Info
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- JPS63252280A JPS63252280A JP62087583A JP8758387A JPS63252280A JP S63252280 A JPS63252280 A JP S63252280A JP 62087583 A JP62087583 A JP 62087583A JP 8758387 A JP8758387 A JP 8758387A JP S63252280 A JPS63252280 A JP S63252280A
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- Light Receiving Elements (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体放射線検出器を用いた照射線量率測定装
置に係り、特に半導体放射線検出器エネルギー特性を補
正する回路を備えた照射線量率測定装置に関するもので
ある。
置に係り、特に半導体放射線検出器エネルギー特性を補
正する回路を備えた照射線量率測定装置に関するもので
ある。
半導体放射線検出器は、高抵抗のシリコンウェハ内に形
成したPN接合に逆バイアスを印加してウェハ内に層を
拡散させておき、放射線がウェハ内に侵入した際に放射
線に応じた荷電対を発生することを利用した器具であり
、この荷電対を外部回路で測定することにより放射等を
測定できる。
成したPN接合に逆バイアスを印加してウェハ内に層を
拡散させておき、放射線がウェハ内に侵入した際に放射
線に応じた荷電対を発生することを利用した器具であり
、この荷電対を外部回路で測定することにより放射等を
測定できる。
このような半導体放射線検出器は、第3図αに示すよう
に、相対感度が100(KeV)近辺の低エネルギー領
域と1(MeV)近辺の高エネルギー領域では著しく相
違する。一方、放射線量の測定は低線量率から高線量率
まで広範囲にわたって直線性よく測定しなければならな
い。したがって。
に、相対感度が100(KeV)近辺の低エネルギー領
域と1(MeV)近辺の高エネルギー領域では著しく相
違する。一方、放射線量の測定は低線量率から高線量率
まで広範囲にわたって直線性よく測定しなければならな
い。したがって。
半導体放射線検出器の特性を補正する必要がある。
従来、半導体放射線検出器の特性を補正する装置として
は、特開昭59−214787号公報に記載されたもの
が提案されている。前述の補正する装置は、半導体放射
線検出器をしやへい材で囲み低エネルギー領域の感度を
落して相対感度特性を平坦にしているものである。
は、特開昭59−214787号公報に記載されたもの
が提案されている。前述の補正する装置は、半導体放射
線検出器をしやへい材で囲み低エネルギー領域の感度を
落して相対感度特性を平坦にしているものである。
上記従来技術は、放射線の低エネルギー領域における半
導体放射線検出器の感度をしやへい材を用いて落すこと
により、エネルギー特性を改善するものである。このよ
うに該検出器の感度を落すということは検出能力を劣化
させることにつながるという問題が生じる。
導体放射線検出器の感度をしやへい材を用いて落すこと
により、エネルギー特性を改善するものである。このよ
うに該検出器の感度を落すということは検出能力を劣化
させることにつながるという問題が生じる。
また、しやへい材を用いて該検出器の感度を落すという
ことは、しやへい材の厚さ、形状を実験的に決定するし
かなく、まち微調整することができないという問題があ
った。
ことは、しやへい材の厚さ、形状を実験的に決定するし
かなく、まち微調整することができないという問題があ
った。
本発明の目的は、半導体放射線検出器の特性を調整可能
とした半導体放射線検出器を用いた照射線量率測定装置
を提供することにある。
とした半導体放射線検出器を用いた照射線量率測定装置
を提供することにある。
本発明者らは、次のような知見に基づいて本発明をなし
たものである。
たものである。
半導体放射線検出器のパルス出力信号のエネルギー分解
能は、放射線検出受感部が小さいため、シンチレーショ
ン検出器に比較して悪いが、そのパルス出力信号の波高
値は吸収エネルギーが大きくなればなるほど、大きくな
る特性がある。このような特性は、PN接合型検出器の
製作上の問題もあって、受感部寸法が1 (cm)角、
厚さ600〔μm〕〜800〔μm〕程度であるので、
受感部を透過した放射線のエネルギーを受感部がすべて
吸収できないことに原因がある。したがって、半導体放
射線検出器のエネルギー分解能を向上させることは本質
的に難しい。
能は、放射線検出受感部が小さいため、シンチレーショ
ン検出器に比較して悪いが、そのパルス出力信号の波高
値は吸収エネルギーが大きくなればなるほど、大きくな
る特性がある。このような特性は、PN接合型検出器の
製作上の問題もあって、受感部寸法が1 (cm)角、
厚さ600〔μm〕〜800〔μm〕程度であるので、
受感部を透過した放射線のエネルギーを受感部がすべて
吸収できないことに原因がある。したがって、半導体放
射線検出器のエネルギー分解能を向上させることは本質
的に難しい。
しかしながら、照射線量率測定装置として半導体放射線
検出器を使用する場合には、エネルギー分解能が悪いこ
とは問題とならず、波高値のエネ。
検出器を使用する場合には、エネルギー分解能が悪いこ
とは問題とならず、波高値のエネ。
ルギー依存性を応用できる。
上述したようなPN接合型検出器の感度のエネルギー依
存性は、既に述べたように100 (KeV]付近で感
度が大きく、エネルギーが高くなるに従−って感度が悪
くなる。100 (Key)付近と1(MeV)付近と
の感度の比、つまり同じ照射線量率を与える計算率の比
は、30倍程度になることがある。
存性は、既に述べたように100 (KeV]付近で感
度が大きく、エネルギーが高くなるに従−って感度が悪
くなる。100 (Key)付近と1(MeV)付近と
の感度の比、つまり同じ照射線量率を与える計算率の比
は、30倍程度になることがある。
100(KeV)以下の低エネルギー領域は、数(m、
3程度の亜鉛重金属を検出器の周囲のシールド材として
使用すれば簡単に感度を悪化させることは可能であるが
、広いエネルギー範囲においてシールド材のみでエネル
ギー特性を改善することは技術的に難しい。また、しや
へい材を使用する場合は、エネルギー特性を自由に調整
する′ことが不可能である。そこで1本発明者らは、半
導体放射線検出器が光(可視光領域)にも感応すること
に着目し、放射線の高エネルギー領域では、その領域で
発生したパルスを選別してそのパルス波高値に応じて発
光素子を発生させ、該半導体放射線検出器を感度させる
ことにより、高エネルギー領域の感度を向上させること
により、エネルギー特性を補正したものである。
3程度の亜鉛重金属を検出器の周囲のシールド材として
使用すれば簡単に感度を悪化させることは可能であるが
、広いエネルギー範囲においてシールド材のみでエネル
ギー特性を改善することは技術的に難しい。また、しや
へい材を使用する場合は、エネルギー特性を自由に調整
する′ことが不可能である。そこで1本発明者らは、半
導体放射線検出器が光(可視光領域)にも感応すること
に着目し、放射線の高エネルギー領域では、その領域で
発生したパルスを選別してそのパルス波高値に応じて発
光素子を発生させ、該半導体放射線検出器を感度させる
ことにより、高エネルギー領域の感度を向上させること
により、エネルギー特性を補正したものである。
すなわち、本発明は、上記知見に基づいてなされたもの
で、半導体で構成した半導体放射線検出器と、該半導体
放射線検出器からの出力パルスを信号処理して指示する
手段とからなる照射線量率測定装置において、前記半導
体放射線検出器と発光素子とを暗箱内に収納し、前記半
導体放射線検出器からの出力パルスのうち、一定レベル
以上の振幅を有するパルスを検出し、その検出パルスの
波高値に応じて、発光素子を発光させる第2の手段を設
けてなることを特徴とするものである。
で、半導体で構成した半導体放射線検出器と、該半導体
放射線検出器からの出力パルスを信号処理して指示する
手段とからなる照射線量率測定装置において、前記半導
体放射線検出器と発光素子とを暗箱内に収納し、前記半
導体放射線検出器からの出力パルスのうち、一定レベル
以上の振幅を有するパルスを検出し、その検出パルスの
波高値に応じて、発光素子を発光させる第2の手段を設
けてなることを特徴とするものである。
半導体放射線検出器からの出力信号を増幅し、波形整形
し、ある波高値以上のパルスを選別する。
し、ある波高値以上のパルスを選別する。
このパルスの波高値により検出器と同−暗箱内に実装さ
れた発光素子を発光させ、検出器の出力パルス数を増加
させることにより、高エネルギー放射線による感度を向
上させる。
れた発光素子を発光させ、検出器の出力パルス数を増加
させることにより、高エネルギー放射線による感度を向
上させる。
(実施例〕
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は1本発明の一実施例を示す構成図である。
第1図において、半導体放射線検出器1の受感面は、発
光ダイオード等の発光素子2の方を向けて配設し、前記
受感面と発光素子2との間に光学フィルタ3を配設し、
このフィルタ3により発光素子2から放射線検出器1に
到達する光量を調節できるようになっている。該放射線
検出器1、発光素子、光学フィルタ3は暗箱としてのケ
ース4内に収納され、このケース4により周囲の光を完
全にじゃ光する。また、前記ケース4の内側を、低エネ
ルギー領域の放射線をしやへいする目的で数mm程度の
鉛等の重金属のしゃへい材5で覆っておく。
光ダイオード等の発光素子2の方を向けて配設し、前記
受感面と発光素子2との間に光学フィルタ3を配設し、
このフィルタ3により発光素子2から放射線検出器1に
到達する光量を調節できるようになっている。該放射線
検出器1、発光素子、光学フィルタ3は暗箱としてのケ
ース4内に収納され、このケース4により周囲の光を完
全にじゃ光する。また、前記ケース4の内側を、低エネ
ルギー領域の放射線をしやへいする目的で数mm程度の
鉛等の重金属のしゃへい材5で覆っておく。
放射線検出器1からのパルス出力信号は、電荷型増幅器
6に入力され、この増幅器6で電荷増幅される。該増幅
器6からの出力信号はリニア増幅器7に入力され、ここ
で数ボルトレベルに増幅される。リニア増幅器7からの
出力信号は波形整形回路8に入力され、この波形整形回
路8で短形波に整形される。該波形整形回路8からの出
力信号は分離回路9に入力され、この分離回路9により
ノイズレベル信号がカットされる。該分離回路9から出
力された信号は計数装置10で計数されることにより照
射線量率(mR/h)が表示される。
6に入力され、この増幅器6で電荷増幅される。該増幅
器6からの出力信号はリニア増幅器7に入力され、ここ
で数ボルトレベルに増幅される。リニア増幅器7からの
出力信号は波形整形回路8に入力され、この波形整形回
路8で短形波に整形される。該波形整形回路8からの出
力信号は分離回路9に入力され、この分離回路9により
ノイズレベル信号がカットされる。該分離回路9から出
力された信号は計数装置10で計数されることにより照
射線量率(mR/h)が表示される。
放射線検出器1からの出力パルスを信号処理して指示す
る手段は、該増幅器6と、リニア増幅器7と、波形整形
回路8と、分離回路9と、計数装置10とから構成され
る。
る手段は、該増幅器6と、リニア増幅器7と、波形整形
回路8と、分離回路9と、計数装置10とから構成され
る。
波形整形回路8の出力信号は、パルス遅延回路11を経
由してバイアス増幅回路12に入力される。このバイア
ス増幅回路12は分離レベルを波形整形回路8からの信
号波高値に対してかなり高いレベルに設定しておき、高
エネルギー領域の放射線を吸収した時のみ発生するパル
スだけ、この分離レベルを用いて選別し、必要な電圧レ
ベルまで増幅する。次に、該バイアス増幅回路12から
の出力信号はパルス発生回路13に入力され、このパル
ス発生回路13でパルス波高値に相当した数のパルスを
発生させる。このパルス発生回路13からの出力電圧に
よって発光素子2を発光させる。
由してバイアス増幅回路12に入力される。このバイア
ス増幅回路12は分離レベルを波形整形回路8からの信
号波高値に対してかなり高いレベルに設定しておき、高
エネルギー領域の放射線を吸収した時のみ発生するパル
スだけ、この分離レベルを用いて選別し、必要な電圧レ
ベルまで増幅する。次に、該バイアス増幅回路12から
の出力信号はパルス発生回路13に入力され、このパル
ス発生回路13でパルス波高値に相当した数のパルスを
発生させる。このパルス発生回路13からの出力電圧に
よって発光素子2を発光させる。
発光素子2を発光させる第2の手段は、パルス遅延回路
11と、バイアス増幅回路12と、パルス発生回路13
とから構成されている。
11と、バイアス増幅回路12と、パルス発生回路13
とから構成されている。
第2図は半導体放射線検出器1の波高分布の例を示す図
である。図中aは100(KeV)近辺の、−bは30
0〜400 (KeV)近辺の、Cは1(MeV)近辺
の波高分布である。図中aのレベル付近にバイアス増幅
器12の分離レベルを設定すれば、低エネルギー領域の
パルスをカウントすることはない。また高エネルギー領
域においては、エネルギーが高くなるほどカウントされ
る頻度は高くなる傾向がある。
である。図中aは100(KeV)近辺の、−bは30
0〜400 (KeV)近辺の、Cは1(MeV)近辺
の波高分布である。図中aのレベル付近にバイアス増幅
器12の分離レベルを設定すれば、低エネルギー領域の
パルスをカウントすることはない。また高エネルギー領
域においては、エネルギーが高くなるほどカウントされ
る頻度は高くなる傾向がある。
第3図は半導体放射線検出器1の相対感度の例を示す特
性図である。図中αは半導体放射線検出器1の相対感度
を示すが、100(KeV]近辺の低エネルギー領域と
1(MeV]近辺の高エネルギー領域では大きな差があ
る。図中βは第1図に示したように検出器1をシールド
した場合の相対感度を示しており、低エネルギー領域の
感度が落ちていることがわかる。
性図である。図中αは半導体放射線検出器1の相対感度
を示すが、100(KeV]近辺の低エネルギー領域と
1(MeV]近辺の高エネルギー領域では大きな差があ
る。図中βは第1図に示したように検出器1をシールド
した場合の相対感度を示しており、低エネルギー領域の
感度が落ちていることがわかる。
第4図(a)、(b)は、本発明の実施例の動作を説明
するために示すタイムチャートである。
するために示すタイムチャートである。
第4図(a)は波形整形回路8から出力されるパルス信
号を示している。図(a)からもわかるように、種々の
波高値のパルスが含まれており、図中分離レベルL1は
ノイズレベルをカットするためのものであり、分離回路
9に設定されている。
号を示している。図(a)からもわかるように、種々の
波高値のパルスが含まれており、図中分離レベルL1は
ノイズレベルをカットするためのものであり、分離回路
9に設定されている。
また、分離レベルL2はバイアス増幅回路12の分離レ
ベルを示している。
ベルを示している。
バイアス増幅回路12は、分離レベル2をこえる波高値
のパルスを選別後、これを増幅する。バイアス増幅回路
12から出力されたパルスの電圧(波高)レベルに相当
する量のパルスをパルス発生回路13により発生し、発
光素子2に与えると、発光素子2はそのパルスに応じて
発光する。検出器1がその光に感応すると、第4図(b
)に示すように、検出器1のパルス出力数が増加する。
のパルスを選別後、これを増幅する。バイアス増幅回路
12から出力されたパルスの電圧(波高)レベルに相当
する量のパルスをパルス発生回路13により発生し、発
光素子2に与えると、発光素子2はそのパルスに応じて
発光する。検出器1がその光に感応すると、第4図(b
)に示すように、検出器1のパルス出力数が増加する。
このとき、発光素子2からの光によって増加する分の出
力パルス波高値は、分離レベルL2を超えないように、
フィルタ3及びパルス発生回路13からの出力パルスの
波高値を調整する。
力パルス波高値は、分離レベルL2を超えないように、
フィルタ3及びパルス発生回路13からの出力パルスの
波高値を調整する。
本実施例によれば第5図に示すように、発光素子2を用
いた補正法がない場合の相対感度である特性(n)に対
して上記補正を行うことにより特性mのように広いエネ
ルギー範囲にわたってエネルギー特性を補正することが
できる。
いた補正法がない場合の相対感度である特性(n)に対
して上記補正を行うことにより特性mのように広いエネ
ルギー範囲にわたってエネルギー特性を補正することが
できる。
第6図はパルス発生回路13の具体例を示すブロック図
である。
である。
第6図において、パルス発生回路13は、微分回路14
と、チョッパ回路15とから構成されている。
と、チョッパ回路15とから構成されている。
すなわち、パルス発生回路13は次のように構成されて
いる。バイアス増幅器12からの出力パルスを微分回路
14で微分し、チョッパ回路15に入力すると波高の違
うパルスが発生するようにしである。チョッパ回路15
から出力されるパルスにより発光素子2を発光させるよ
うにしである。
いる。バイアス増幅器12からの出力パルスを微分回路
14で微分し、チョッパ回路15に入力すると波高の違
うパルスが発生するようにしである。チョッパ回路15
から出力されるパルスにより発光素子2を発光させるよ
うにしである。
第7図は、パルス発光回路13の動作を示すタイムチャ
ートを示す。
ートを示す。
第7図(a)は前段のバイアス増幅器12により選別後
、増幅された1パルスである。このパルス(第7図(a
))が微分回路13により微分されて第7図(b)の如
き信号となる。微分回路13からの信号(第7図(b)
)をチョッパ回路15により高周波で変調することによ
り第7図(c)の如きパルスが得られる。
、増幅された1パルスである。このパルス(第7図(a
))が微分回路13により微分されて第7図(b)の如
き信号となる。微分回路13からの信号(第7図(b)
)をチョッパ回路15により高周波で変調することによ
り第7図(c)の如きパルスが得られる。
第7図(c)のような波形のパルスにより発光素子2を
発行させると、入力パルスの波高値に応じて発光量が変
化するので、光子を受光した検呂器1の出力パルスは第
7図(α)のようになる。
発行させると、入力パルスの波高値に応じて発光量が変
化するので、光子を受光した検呂器1の出力パルスは第
7図(α)のようになる。
第7図(α)に示すごとく、分離(ディスクリ)レベル
L1 (第4図と同じ)を超えるパルス数は、第7図(
a)で示すパルスの波高値が大きくなればなるほど、多
くなるので、エネルギーの高い放射線を検出するほど発
光による検出パルス数の増加分が多くなるのみである。
L1 (第4図と同じ)を超えるパルス数は、第7図(
a)で示すパルスの波高値が大きくなればなるほど、多
くなるので、エネルギーの高い放射線を検出するほど発
光による検出パルス数の増加分が多くなるのみである。
以上述べたように本発明によれば、放射線感度特性の微
調整を可能とし、半導体検出器の放射線感度特性の個々
のバラツキを補正できる効果がある。
調整を可能とし、半導体検出器の放射線感度特性の個々
のバラツキを補正できる効果がある。
第1図は本発明の一実施例を示すブロック図、第2図は
半導体放射線検出器の出力パルスの波高分を示す特性図
、第3図は半導体放射線検出器のシールド無しと有の場
合の相対感度特性を示す特性図、第4図(a)、(b)
はパルス信号処理中の信号波形図、第5図は補正有無に
おける相対感度特性を示す特性図、第6図はパルス発生
回路の具体例を示すブロック図、第7図(a)、(b)
は第6図のパルス発生回路の動作を説明するために示す
パルス波形図である。 1・・・半導体放射線検出器、2・・・発光素子、3・
・・光学フィルタ、4・・・ケース、5・・・重金属シ
ールド材、6・・・電荷型増幅器、7・・・リニア増幅
器、8・・・波形整形回路、9・・・分離回路、1o・
・・計数装置、11・・・パルス遅延回路、12・・・
バイアス増幅回路、13・・・パルス発生回路・
半導体放射線検出器の出力パルスの波高分を示す特性図
、第3図は半導体放射線検出器のシールド無しと有の場
合の相対感度特性を示す特性図、第4図(a)、(b)
はパルス信号処理中の信号波形図、第5図は補正有無に
おける相対感度特性を示す特性図、第6図はパルス発生
回路の具体例を示すブロック図、第7図(a)、(b)
は第6図のパルス発生回路の動作を説明するために示す
パルス波形図である。 1・・・半導体放射線検出器、2・・・発光素子、3・
・・光学フィルタ、4・・・ケース、5・・・重金属シ
ールド材、6・・・電荷型増幅器、7・・・リニア増幅
器、8・・・波形整形回路、9・・・分離回路、1o・
・・計数装置、11・・・パルス遅延回路、12・・・
バイアス増幅回路、13・・・パルス発生回路・
Claims (1)
- 1、半導体で構成した半導体放射線検出器と、該半導体
放射線検出器からの出力パルスを信号処理して指示する
手段とからなる照射線量率測定装置において、前記半導
体放射線検出器と発光素子とを暗箱内に収納し、前記半
導体放射線検出器からの出力パルスのうち、一定レベル
以上の振幅を有するパルスを検出し、その検出パルスの
波高値に応じて該発光素子を発光させる第2の手段を設
けてなることを特徴とする半導体放射線検出器を用いた
照射線量率測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62087583A JPS63252280A (ja) | 1987-04-09 | 1987-04-09 | 半導体放射線検出器を用いた照射線量率測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62087583A JPS63252280A (ja) | 1987-04-09 | 1987-04-09 | 半導体放射線検出器を用いた照射線量率測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63252280A true JPS63252280A (ja) | 1988-10-19 |
Family
ID=13919023
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62087583A Pending JPS63252280A (ja) | 1987-04-09 | 1987-04-09 | 半導体放射線検出器を用いた照射線量率測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63252280A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008082848A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Toshiba Corp | 放射線検出器 |
-
1987
- 1987-04-09 JP JP62087583A patent/JPS63252280A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008082848A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Toshiba Corp | 放射線検出器 |
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