JPS63250364A - ゲラニルフエニルスルホンの製造方法 - Google Patents
ゲラニルフエニルスルホンの製造方法Info
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- JPS63250364A JPS63250364A JP62085164A JP8516487A JPS63250364A JP S63250364 A JPS63250364 A JP S63250364A JP 62085164 A JP62085164 A JP 62085164A JP 8516487 A JP8516487 A JP 8516487A JP S63250364 A JPS63250364 A JP S63250364A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は一般式(I)
(式中、Rは水素原子または低級アルキル基を表わし、
二重結合は立体異性を区別しないンで表わされるrラニ
ルスルホンの製造方法に関する。本発明で提供される一
般式(りのグラニルスルホンは、例えば閉環反応ののち
、医薬、飼料添加剤として使用されているビタミン人ア
セテートの合成中間体として有用なシクロゲラニルフェ
ニルスルホンへと導びくことかできる(特公昭57−4
8549号公報および大寺らJ、 Org、 Chem
51 。
二重結合は立体異性を区別しないンで表わされるrラニ
ルスルホンの製造方法に関する。本発明で提供される一
般式(りのグラニルスルホンは、例えば閉環反応ののち
、医薬、飼料添加剤として使用されているビタミン人ア
セテートの合成中間体として有用なシクロゲラニルフェ
ニルスルホンへと導びくことかできる(特公昭57−4
8549号公報および大寺らJ、 Org、 Chem
51 。
3834 (1986)を参照)。
従来、ゲラニルフェニルスルホンの製造法としてミルセ
ンを原料に用いる方法、リナリルアセテートを原料に用
いる方法、rラニルツロマイドを原料に用いる方法など
が知られている。
ンを原料に用いる方法、リナリルアセテートを原料に用
いる方法、rラニルツロマイドを原料に用いる方法など
が知られている。
(IP#開昭58−52267号公報)0ムロ
(Ch@w、 L@tt、 、 1357 (1981
) )(J、 Org−# 3G −2i35 (19
74) )〔発明が解決しようとすゐ問題点〕 上記1)および2)の従来法はともにノッジクムなどの
高価な試薬を必要とするので、価格的な不利ヲ伴い、ま
た3)のr51ニルツ田マイトを用いる方法は、グラニ
ルゾロマイト9自体を比較的高価なダラニオールと=臭
化リンから合成することが必要であシ、とのことが従来
法の工業的規模での実施を困難なものにしている。
) )(J、 Org−# 3G −2i35 (19
74) )〔発明が解決しようとすゐ問題点〕 上記1)および2)の従来法はともにノッジクムなどの
高価な試薬を必要とするので、価格的な不利ヲ伴い、ま
た3)のr51ニルツ田マイトを用いる方法は、グラニ
ルゾロマイト9自体を比較的高価なダラニオールと=臭
化リンから合成することが必要であシ、とのことが従来
法の工業的規模での実施を困難なものにしている。
本発明者らはミルセンと塩化水素を反応させるか又はリ
ナ四−ルと塩化チオニルを反応させることKよりて得ら
れるリナリルクロライドとゲラニルクロライrの混合物
をハロゲン化テト2アルキルアンモニウム塩の存在下に
7エニルスルフイン酸塩と反応させることkよ〕一般式
(I)で表わされるrツニルフェニルスルホンを工業的
に有利に製造しうろことを見出し、本発明に到った。
ナ四−ルと塩化チオニルを反応させることKよりて得ら
れるリナリルクロライドとゲラニルクロライrの混合物
をハロゲン化テト2アルキルアンモニウム塩の存在下に
7エニルスルフイン酸塩と反応させることkよ〕一般式
(I)で表わされるrツニルフェニルスルホンを工業的
に有利に製造しうろことを見出し、本発明に到った。
本発明によれば安価にかつ容易に入手できる原料から特
別な試薬を用いることなく一般式(りで表わされるrラ
ニルフェニルスルホンを収率よく製造することができる
。
別な試薬を用いることなく一般式(りで表わされるrラ
ニルフェニルスルホンを収率よく製造することができる
。
本発明方法にしたがうrラニ/L’ 7 エニルスルホ
ンの合成反応は下記式によって表わすことができる。
ンの合成反応は下記式によって表わすことができる。
本発明方法にしたがうミル七)と塩化水素の反応は銅触
媒の存在下に行なうことができる。銅触媒としては塩化
物、臭化物、炭酸塩、ギ酸塩、酢醸塩、硫酸塩、酸化物
などの第一銅および第二銅誘導体が用いられ、特に好ま
しくは塩化第一銅である。触媒の使用量は乾燥ミルセン
に対して0.01〜10重量−である。ミルセンに対す
る塩化水素の付加反応は、ミルセンと上記の銅触媒の混
合物の中に塩化水素ガスを導入することによって達成す
ることが出来る。塩化水素の使用量はミルセンに対して
0.8〜1.2モル倍である。1.2モル倍を超える塩
化水素を使用することもできるが、過剰な塩化水素のた
めに、目的とするりナリルクロライド、ネリルクロツイ
ドおよびゲラニルクロライドがさらに塩化水素付加反応
を受け、結果として目的物の収率低下の原因となる。こ
の反応は約−20℃〜50℃、好ましくは約0℃〜15
℃の範囲内の温度下で行なわれる。
媒の存在下に行なうことができる。銅触媒としては塩化
物、臭化物、炭酸塩、ギ酸塩、酢醸塩、硫酸塩、酸化物
などの第一銅および第二銅誘導体が用いられ、特に好ま
しくは塩化第一銅である。触媒の使用量は乾燥ミルセン
に対して0.01〜10重量−である。ミルセンに対す
る塩化水素の付加反応は、ミルセンと上記の銅触媒の混
合物の中に塩化水素ガスを導入することによって達成す
ることが出来る。塩化水素の使用量はミルセンに対して
0.8〜1.2モル倍である。1.2モル倍を超える塩
化水素を使用することもできるが、過剰な塩化水素のた
めに、目的とするりナリルクロライド、ネリルクロツイ
ドおよびゲラニルクロライドがさらに塩化水素付加反応
を受け、結果として目的物の収率低下の原因となる。こ
の反応は約−20℃〜50℃、好ましくは約0℃〜15
℃の範囲内の温度下で行なわれる。
リナμ−々と塩化チオニルの反応は一般にヘキサン、ペ
ンヤン、トルエンなどの炭化水素系溶媒中またはジエチ
ルエーテル、イソプ四ビルエーテル、テトラヒドロフラ
ンなどのエーテル系溶媒中で行なわれる。また、反応で
副生する塩化水素を補促する丸めに、♂リジン、トリエ
チルアミンなどのアミン類を共存させることが好ましい
。反応は0℃から70℃までの範囲内の温度、好ましく
は20℃から40℃までの範囲内の温度で行なうことが
できる。本発明方法にし九がうミルセンと塩化水素の反
応およびリナロールと塩化チオニルの反応では、通常、
リナリルクロライドとrラニルク諧うイPが混合物とし
て得られる。これらの化合物の生成割合は反応条件によ
ってかなシ変化するが、リナリルクロライドの生成割合
は通常約5〜401程度である。
ンヤン、トルエンなどの炭化水素系溶媒中またはジエチ
ルエーテル、イソプ四ビルエーテル、テトラヒドロフラ
ンなどのエーテル系溶媒中で行なわれる。また、反応で
副生する塩化水素を補促する丸めに、♂リジン、トリエ
チルアミンなどのアミン類を共存させることが好ましい
。反応は0℃から70℃までの範囲内の温度、好ましく
は20℃から40℃までの範囲内の温度で行なうことが
できる。本発明方法にし九がうミルセンと塩化水素の反
応およびリナロールと塩化チオニルの反応では、通常、
リナリルクロライドとrラニルク諧うイPが混合物とし
て得られる。これらの化合物の生成割合は反応条件によ
ってかなシ変化するが、リナリルクロライドの生成割合
は通常約5〜401程度である。
リナリルクロライドとダンニルクロライドの混合物は次
いでハロゲン化テトラアルキルアンモニウム塩の存在下
7エエルスルフイン酸塩との反応に供される。この反応
に用いられるフェニルスルフィン酸塩は具体的には一般
式ω) (式中、Rは水素原子又は低級アルキル基を表わし、M
はナトリウム原子又はカリウム原子である)で表わされ
る化合物であ)、この反応は通常無水系で実施される。
いでハロゲン化テトラアルキルアンモニウム塩の存在下
7エエルスルフイン酸塩との反応に供される。この反応
に用いられるフェニルスルフィン酸塩は具体的には一般
式ω) (式中、Rは水素原子又は低級アルキル基を表わし、M
はナトリウム原子又はカリウム原子である)で表わされ
る化合物であ)、この反応は通常無水系で実施される。
次(、一般式(1)及びω)のRならびに一般弐〇)の
MについてaBAする。Rは水素、メチル基、エチル基
、n−fロビル基、s−fロビル基、n−グチル基、1
−グチル基およびt−グチル基などの低級アルキル基で
あシ、これらの低級アルキル基はスルフィン酸塩の位置
に対してオルト位(、−)、メタ位(m−)、およびノ
4う位(p−)のいずれの位置Ktf換されていてもよ
い。この中で最も好ましいRは水素原子およびメチル基
である。Mはナトリウム原子およびカリクム原子である
。フェニルスルフィン酸塩の使用量は、リナリルクロラ
イドとrラニルクロライドの合計量に対して一般に当モ
ル以上、好ましくは当モル乃至2モル倍量である。
MについてaBAする。Rは水素、メチル基、エチル基
、n−fロビル基、s−fロビル基、n−グチル基、1
−グチル基およびt−グチル基などの低級アルキル基で
あシ、これらの低級アルキル基はスルフィン酸塩の位置
に対してオルト位(、−)、メタ位(m−)、およびノ
4う位(p−)のいずれの位置Ktf換されていてもよ
い。この中で最も好ましいRは水素原子およびメチル基
である。Mはナトリウム原子およびカリクム原子である
。フェニルスルフィン酸塩の使用量は、リナリルクロラ
イドとrラニルクロライドの合計量に対して一般に当モ
ル以上、好ましくは当モル乃至2モル倍量である。
この反応で用いられるハロゲン化テトラアルキルアンモ
ニウム塩は4個のアルキル基の炭素数の合計が8〜32
程度の範囲内にあるのがよく、具体例としてハロゲン化
テトラーn−プチルアンモニクム、ハロゲン化テトラ−
n−ペンチルアンモ二’7 ム、 /% Oクン化ステ
アリルトリメチルアンモニウムなどを例示できる。八日
ダン化に用いられるハロ27厘子のうちで特に好ましい
のは菅つ素原子であ夛、ラフ素化テトラアルキルアンモ
ニウム塩を用いた場合、一般式(DI) (式中、Ra水素原子又祉低級アルキル基を表わす) で表わされるようなりナリルフェニルスルホンの生成が
抑えられ、目的とするグラニルフェニルスルホンを高い
収率で得るととができる。ハロゲン化テトラアルキルア
ンモニウム塩はりナリルクロライドとrラニルクロライ
ドの合計量に対して一般K O,1〜30モル嘩、好ま
しくは0.5〜10モル−の割合で用いられる。
ニウム塩は4個のアルキル基の炭素数の合計が8〜32
程度の範囲内にあるのがよく、具体例としてハロゲン化
テトラーn−プチルアンモニクム、ハロゲン化テトラ−
n−ペンチルアンモ二’7 ム、 /% Oクン化ステ
アリルトリメチルアンモニウムなどを例示できる。八日
ダン化に用いられるハロ27厘子のうちで特に好ましい
のは菅つ素原子であ夛、ラフ素化テトラアルキルアンモ
ニウム塩を用いた場合、一般式(DI) (式中、Ra水素原子又祉低級アルキル基を表わす) で表わされるようなりナリルフェニルスルホンの生成が
抑えられ、目的とするグラニルフェニルスルホンを高い
収率で得るととができる。ハロゲン化テトラアルキルア
ンモニウム塩はりナリルクロライドとrラニルクロライ
ドの合計量に対して一般K O,1〜30モル嘩、好ま
しくは0.5〜10モル−の割合で用いられる。
本反応には反応溶媒を用いることができ、使用可能な反
応溶媒の例としてヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの
脂肪族炭化水素およびペンぜン、トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素々との炭化水素系溶媒をあげること
ができる。この中でもトルエンが#に好適である。反応
温度は0℃〜150℃、好ましくは50℃〜120℃の
範囲内から選ぶことができる。
応溶媒の例としてヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの
脂肪族炭化水素およびペンぜン、トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素々との炭化水素系溶媒をあげること
ができる。この中でもトルエンが#に好適である。反応
温度は0℃〜150℃、好ましくは50℃〜120℃の
範囲内から選ぶことができる。
以下、実施例によシ本発明の詳細な説明する。
実施例1
j#4y1 g8.5?(83’j純度、x、xs−v
−、b)および塩化鋼(I)0.77の混合液に、0〜
8℃の温度下塩化水素ガスをミルセンが消失するまで吸
き込み、その温度でさらに20時間攪拌した。水100
WLld”あけ九後、トルエン100111をいれて抽
出し、トルエン層を水100肩!、5%重1水100r
Lt、水100dを用いて順次洗浄してさらに溶媒を減
圧下で留去することKよシ、油状物235.3Pを得た
。ガスクロマトグラフィーによる分析の結果、このもの
は、リナリルクロライドとダツニルクロライドの比が1
0.8対89.2の混合物であった。
−、b)および塩化鋼(I)0.77の混合液に、0〜
8℃の温度下塩化水素ガスをミルセンが消失するまで吸
き込み、その温度でさらに20時間攪拌した。水100
WLld”あけ九後、トルエン100111をいれて抽
出し、トルエン層を水100肩!、5%重1水100r
Lt、水100dを用いて順次洗浄してさらに溶媒を減
圧下で留去することKよシ、油状物235.3Pを得た
。ガスクロマトグラフィーによる分析の結果、このもの
は、リナリルクロライドとダツニルクロライドの比が1
0.8対89.2の混合物であった。
ガスクロ!トゲ2フィー分析条件
カラJA : PIo 20M 12m力2ム温度;1
00℃(2分径KIO℃/分で150℃まで昇温した) ベンゼンスルフィン酸ナトリウムの二水塩215iP(
1,07モ/I/) K )ルエン100017をいれ
、水分離器を用いて90℃から110℃まで加熱しなが
ら水を留出させた。その後105℃まで冷却し、ヨウ素
化テトラ−n−ブチルアンモニウム塩3.76P(10
,2ミリモル)をいれ、さらに上記の方法で得たりナリ
ルクロライドとゲラニルクロライドの混合物235.3
Pを20分かけて滴下し、同温度で2時間攪拌した。冷
却後、固形物を炉別したのち、F液を11のチオ硫酸ナ
トリウム水100a/、水1001で洗浄して溶媒を減
圧下で留去することによシ、油状物287.3j’を得
た。
00℃(2分径KIO℃/分で150℃まで昇温した) ベンゼンスルフィン酸ナトリウムの二水塩215iP(
1,07モ/I/) K )ルエン100017をいれ
、水分離器を用いて90℃から110℃まで加熱しなが
ら水を留出させた。その後105℃まで冷却し、ヨウ素
化テトラ−n−ブチルアンモニウム塩3.76P(10
,2ミリモル)をいれ、さらに上記の方法で得たりナリ
ルクロライドとゲラニルクロライドの混合物235.3
Pを20分かけて滴下し、同温度で2時間攪拌した。冷
却後、固形物を炉別したのち、F液を11のチオ硫酸ナ
トリウム水100a/、水1001で洗浄して溶媒を減
圧下で留去することによシ、油状物287.3j’を得
た。
ガスクロマトグラフィーによる分析の結果、目的とfる
’)’ラニルフェニルスルホンti2.61.LP”t
”、%シ、ミルセンからの収率は81チでありた。なお
、ゲラニルフェニルスルホンとりナリルフェニルスルホ
ンの比は97.7対2.3であった。
’)’ラニルフェニルスルホンti2.61.LP”t
”、%シ、ミルセンからの収率は81チでありた。なお
、ゲラニルフェニルスルホンとりナリルフェニルスルホ
ンの比は97.7対2.3であった。
ガスクロマトグラフィー分析条件
力2ム: Th@mon 1000 # 1 mカラ
ム温度;100℃(10℃/分で250℃まで昇温した
) 実施例2 リナロール50 j’ (0,325mol )ピリジ
ン26.9? (0,341mol )およびヘキサン
459a/の溶液に激しく攪拌下内温を30℃に保ちな
がら塩化チオニル40.6 j’ (0,341mOl
)を除々に滴下し、さらに2.5時間攪拌した。反応
液を509m7の氷水中に注ぎ、ヘキサン層を分離して
5チ重1水100+11,200−の水および100I
IL(の飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸す) IJウ
ムで乾燥後、溶媒を除去することによシ微黄色の油分5
5.LPを得た。ガスクロマトグラフィーによる分析の
結果、このものはりナリルクロライドとゲラニルクロラ
イドの比が31対69の混合物でありた。
ム温度;100℃(10℃/分で250℃まで昇温した
) 実施例2 リナロール50 j’ (0,325mol )ピリジ
ン26.9? (0,341mol )およびヘキサン
459a/の溶液に激しく攪拌下内温を30℃に保ちな
がら塩化チオニル40.6 j’ (0,341mOl
)を除々に滴下し、さらに2.5時間攪拌した。反応
液を509m7の氷水中に注ぎ、ヘキサン層を分離して
5チ重1水100+11,200−の水および100I
IL(の飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸す) IJウ
ムで乾燥後、溶媒を除去することによシ微黄色の油分5
5.LPを得た。ガスクロマトグラフィーによる分析の
結果、このものはりナリルクロライドとゲラニルクロラ
イドの比が31対69の混合物でありた。
ベンゼンスルフィン酸ナトリウムの二水塩64.53
P (0,32モル)にトルエン300dをいれ、水分
離器を用いて90℃から110℃まで加熱しながら水を
留出させた。その後105℃まで冷却し、ヨウ素化テト
ラ−n−ブチルアンモニウム1.13 Ji’ (3,
06ミリモル)をいれ、さらに上記で得たりナリルクロ
ライドとゲラニルクロライドの混合物55.2 Pを2
0分かけて滴下し、同温度で2時間攪拌した。冷却後、
固形物を炉別したのち、P液を1tsのチオ硫酸ナトリ
ウム301j。
P (0,32モル)にトルエン300dをいれ、水分
離器を用いて90℃から110℃まで加熱しながら水を
留出させた。その後105℃まで冷却し、ヨウ素化テト
ラ−n−ブチルアンモニウム1.13 Ji’ (3,
06ミリモル)をいれ、さらに上記で得たりナリルクロ
ライドとゲラニルクロライドの混合物55.2 Pを2
0分かけて滴下し、同温度で2時間攪拌した。冷却後、
固形物を炉別したのち、P液を1tsのチオ硫酸ナトリ
ウム301j。
水30W11で洗浄した。溶媒を減圧下で留去すること
によル油状物78.2 JF−を得た。ガスクロマトグ
ラフィーによる分析の結果、目的とするゲラニルフェニ
ルスルホンは63.25 Pテア!I 、17 t c
l −#からの収率は70チでありた。なお、ゲラニル
フェニルスルホンとりナリルフェエルスルホンの比は9
5.0対5.0であった。
によル油状物78.2 JF−を得た。ガスクロマトグ
ラフィーによる分析の結果、目的とするゲラニルフェニ
ルスルホンは63.25 Pテア!I 、17 t c
l −#からの収率は70チでありた。なお、ゲラニル
フェニルスルホンとりナリルフェエルスルホンの比は9
5.0対5.0であった。
本発明によれば、安gfJKかつ容易に入手できる原料
から一般式(夏)で示されるゲラニルフェニルスルホン
を好収率で製造することができる。この化合物は閉環反
応によシ、ビタミンAアセテートの合成中間体として有
用なシクaダンニルフェニルスルホンへと導びくことが
できる。
から一般式(夏)で示されるゲラニルフェニルスルホン
を好収率で製造することができる。この化合物は閉環反
応によシ、ビタミンAアセテートの合成中間体として有
用なシクaダンニルフェニルスルホンへと導びくことが
できる。
以下余白
Claims (1)
- ミルセンと塩化水素を反応させるか又はリナロールと塩
化チオニルを反応させることによって得られるリナリル
クロライドとゲラニルクロライドの混合物をハロゲン化
テトラアルキルアンモニウム塩の存在下にフェニルスル
フィン酸塩と反応させることを特徴とするゲラニルフェ
ニルスルホンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62085164A JP2558275B2 (ja) | 1987-04-06 | 1987-04-06 | ゲラニルフエニルスルホンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62085164A JP2558275B2 (ja) | 1987-04-06 | 1987-04-06 | ゲラニルフエニルスルホンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63250364A true JPS63250364A (ja) | 1988-10-18 |
JP2558275B2 JP2558275B2 (ja) | 1996-11-27 |
Family
ID=13851019
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62085164A Expired - Fee Related JP2558275B2 (ja) | 1987-04-06 | 1987-04-06 | ゲラニルフエニルスルホンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2558275B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003043977A1 (fr) * | 2001-11-19 | 2003-05-30 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Procede de preparation de sulfones de geranyle aryle |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5852267A (ja) * | 1981-09-21 | 1983-03-28 | Nissan Chem Ind Ltd | 不飽和スルホンの製造方法 |
JPS5942359A (ja) * | 1982-09-01 | 1984-03-08 | Nippon Tokushu Kagaku Kogyo Kk | スルホン類の製造法 |
JPS6041623A (ja) * | 1983-07-20 | 1985-03-05 | ユニオン・キヤンプ・コ−ポレイシヨン | 有機アミン存在下における共役ジエンのハロゲン水素化 |
-
1987
- 1987-04-06 JP JP62085164A patent/JP2558275B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5852267A (ja) * | 1981-09-21 | 1983-03-28 | Nissan Chem Ind Ltd | 不飽和スルホンの製造方法 |
JPS5942359A (ja) * | 1982-09-01 | 1984-03-08 | Nippon Tokushu Kagaku Kogyo Kk | スルホン類の製造法 |
JPS6041623A (ja) * | 1983-07-20 | 1985-03-05 | ユニオン・キヤンプ・コ−ポレイシヨン | 有機アミン存在下における共役ジエンのハロゲン水素化 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003043977A1 (fr) * | 2001-11-19 | 2003-05-30 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Procede de preparation de sulfones de geranyle aryle |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2558275B2 (ja) | 1996-11-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |