JPS63250140A - 半導体チツプの実装方法 - Google Patents

半導体チツプの実装方法

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JPS63250140A
JPS63250140A JP62085005A JP8500587A JPS63250140A JP S63250140 A JPS63250140 A JP S63250140A JP 62085005 A JP62085005 A JP 62085005A JP 8500587 A JP8500587 A JP 8500587A JP S63250140 A JPS63250140 A JP S63250140A
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Japan
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metal filler
resin layer
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JP62085005A
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Yoshihisa Takayama
佳久 高山
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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  • Manufacturing Of Electrical Connectors (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は半導体チップの配線基板への実装方法に関する
もので、特に半導体チップの接続電極を直接配線基板上
の接続電極に接続するフェースダウンボンディング法の
改良に関するものである0従来の技術 近年、電気回路の小型モジュール化が注目をあびており
、特に、半導体チップの実装においても配線基板への直
接搭載の方向へ進んでいる0すなわち、従来、半導体チ
ップと配線基板との接続には、ワイヤーボンディング法
が主流であったが、配線基板上における半導体チップ接
続のための面積等の効率化から、フェースダウンポンデ
ィング法が見直されている。
このフェースダウンポンディング法においては、通常半
導体チップの接続電極の上には、バンプと呼ばれる突起
電極が形成されており、このバンプと配線基板の導電電
極とを対向させ、リフロー等により一括ボンディングさ
れる。
次に、このバンプの形成工程の代表例を、第2図を用い
て説明する。通常半導体チップ1は、a図に示すように
接続電極2の回りを表面保護層3が覆うように形成され
ている。この半導体テップ1にb図に示すように、スパ
ッタあるいは蒸着により、Ti−よりなる拡散防止層5
とCuよりなる接着層6を形成する。しかる後、0図に
示すように前もって、表面保護層3の設けられていない
区域を略々残してフォトレジスト層7を形成し、その上
にd図に示すようにAuメッキ層8を形成10図に示す
ように7オトレジスト層7を剥離、T1゜Cu層をエツ
チングし、熱処理工程を通して形成される。以上のよう
に形成されたバンブは、配線基板上の導電電極と超音波
加熱方式等により直接接続される。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、上記のような方法では、バンプ形成に多
くの工程を通らねばならず、チップコストの面で不利で
あり、また、フォトレジスト、エツチング工程を通るた
め、イオン等による半導体チップへの悪影響、信頼性の
低下等の問題点を有していた。  ・ 本発明は上記問題点に鑑み、短い工程でしかも安価で信
頼性の高い接続方法を提供するものであるO 問題点を解決するための手段 この目的を達成するために、本発明の半導体チップの実
装方法は、半導体チップの接続電極と配線基板の導電電
極との間に、金属フィラーを含有した樹脂層を介在せし
めた状態で、その両者を加熱圧着することにより、半導
体チップと配線基板とを直接接続することを特徴として
いる。
作  用 この構成により、従来のようにバンプ形成のための工程
が簡素化され、信頼性の高い接続が可能となる。
実施例 以下、本発明の一実施例について、図面を参照しながら
説明する。第1図は本実施例における実装方法の代表的
な工程図を示すものであり、従来構成と同一構成部分に
は、同一符号を付して示している。゛ 第1図において4は、金属フィラーを含有する感光性樹
脂層、1oは導電電極、11は配線基板である。以下、
その工程について説明する。まず、a図に示すように、
半導体チップiの表面に金属フィラーを含有する感光性
樹脂4を均一に塗布する。ここで、金属フィラーは、A
g、Ni、Cuなど導電体材料の単体あるいは混合体か
ら成り、粒径は約2〜10μmφである。また、感光性
樹脂は、エポキシあるいはポリイミドなどを基本骨格に
もつ熱硬化性樹脂であシ、金属フィラーとの混合比は、
体積比で40〜so%である。
次に、例えば80℃、30分のプリベークを行ない半導
体チップ1と樹脂層4の接着力を高めた後に、b図に示
すように通常のフォトリソ工程により、露光、現像吟行
ない、接続電極2上に所望の樹脂層9を残す。そして0
図に示すように、配線基板11の所定の導電電極10と
、前記樹脂層9が一致するよう整合させた後、加熱圧着
を行ない、その両者を接続させる。
以上のように、本実施例によれば、短い工程で簡単にフ
ェースダウンボンディング法により、配線基板と半導体
チップとを接続することができる。
また、信頼性においても、高温高湿(60℃。
90%RH)試験で1ooO時間、高温放置(100℃
)試験で1ooO時間、ヒートサイク/l< (−10
℃〜100℃)試験で1ooサイクル等、通常のワイヤ
ーボンディング法と遜色のないものであったO 発明、の効果 以上のように本発明によれば、金属フィラーを含有した
樹脂を接続に用いることにより、安価でしかも信頼性の
劣らない実装が可能になり、その実用的効果は大なるも
のがある・
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の半導体チップの実装方法の一実施例に
おける主要工程を示す図、第2図は従来の半導体チップ
へのバンプ形成における主要工程を示す図である。 1・・・・・・半導体チップ、2・・・・・・接続電極
、3・・・・・・表面保護層、4,9・・・・・・金属
フィラー含有樹脂層、5・・・・・・拡散防止層、6・
・・・・・接着層、7・・・・・・7オトどシスト層、
8・・・・・・バンプ、1o・・・・・・導電電極、1
1・・・・・・配線基板〇 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第 
 l  図                    
f−9,千帽苓す、フ゛2−−−撞(化4L柘 3− 煮面体護層 2            4−4イ九′・フー価1陀
屡第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体チップの接続電極と配線基板の導電電極との間に
    、金属フィラーを含有した熱硬化性樹脂層を介して加熱
    圧着させることにより、前記接続電極と導電電極との電
    気的および機械的な接続を行なう半導体チップの実装方
    法。
JP62085005A 1987-04-07 1987-04-07 半導体チツプの実装方法 Expired - Fee Related JPH0787200B2 (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008275332A (ja) * 2007-04-25 2008-11-13 Ricoh Co Ltd 半導体センサ及びその製造方法
CN112822866A (zh) * 2021-01-07 2021-05-18 Tcl华星光电技术有限公司 用于表面贴装的锡膏、驱动电路板及表面贴装方法

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JPS52113196A (en) * 1976-03-18 1977-09-22 Seiko Epson Corp Liquid crystal unit

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