JPS63248885A - 反応性基を有するベンゾトリアゾ−ル系紫外線吸収剤 - Google Patents
反応性基を有するベンゾトリアゾ−ル系紫外線吸収剤Info
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- JPS63248885A JPS63248885A JP8256887A JP8256887A JPS63248885A JP S63248885 A JPS63248885 A JP S63248885A JP 8256887 A JP8256887 A JP 8256887A JP 8256887 A JP8256887 A JP 8256887A JP S63248885 A JPS63248885 A JP S63248885A
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は有機材料用紫外線安定剤として使用されるベン
ゾトリアゾール系化合物に関するものであり、特にウレ
タン樹脂あるいはエポキシ樹脂材料と反応するような反
応性基(インシアネート基・水酸基・エポキシ基等)を
有するベンゾトリアゾール系化合物に関するものである
。
ゾトリアゾール系化合物に関するものであり、特にウレ
タン樹脂あるいはエポキシ樹脂材料と反応するような反
応性基(インシアネート基・水酸基・エポキシ基等)を
有するベンゾトリアゾール系化合物に関するものである
。
太陽光線中の有害な紫外線をポリマーあるいは染料が吸
収すると、ポリマーあるいは染料は高エネルギー状態に
励磁され、光化学的反応を起こす可能性が大きくなる。
収すると、ポリマーあるいは染料は高エネルギー状態に
励磁され、光化学的反応を起こす可能性が大きくなる。
この光化学的反応は、ポリマー鎖の分解や変性、染料の
劣化等を引き起こすため、紫外光からプラスチックおよ
び染料を保護するために、通常、紫外線吸収剤がグラス
チックに添加される。
劣化等を引き起こすため、紫外光からプラスチックおよ
び染料を保護するために、通常、紫外線吸収剤がグラス
チックに添加される。
紫外線吸収剤とは有害な紫外線を吸収し、紫外線の光エ
ネルギーを無害な形(例えば熱)に再放出するものであ
る。紫外線吸収剤には通常ベンゾトリアゾール系、ヘン
シフエノン系、ベンゾエート系化合物が使用されている
。前記の化合物は、紫外域に高い吸光係数を持ち、自分
自身は光に対し安定である。特に、ベンゾ) IJアゾ
ール系化合物は、3QQnm付近と、35Qnm付近に
二つの吸収極大を有し有害な紫外光線を広い領域にわた
って吸収する。また、400nm付近でその吸1光係数
は著しく減少し、紫外線吸収剤の添加による着色性も小
さい。
ネルギーを無害な形(例えば熱)に再放出するものであ
る。紫外線吸収剤には通常ベンゾトリアゾール系、ヘン
シフエノン系、ベンゾエート系化合物が使用されている
。前記の化合物は、紫外域に高い吸光係数を持ち、自分
自身は光に対し安定である。特に、ベンゾ) IJアゾ
ール系化合物は、3QQnm付近と、35Qnm付近に
二つの吸収極大を有し有害な紫外光線を広い領域にわた
って吸収する。また、400nm付近でその吸1光係数
は著しく減少し、紫外線吸収剤の添加による着色性も小
さい。
しかし上記紫外線吸収剤の様な低分子化合物をポリマー
中に添加した場合、低分子化合物がマトリックス中を移
動するための揮発あるいは表面への浸出という問題が発
現する。
中に添加した場合、低分子化合物がマトリックス中を移
動するための揮発あるいは表面への浸出という問題が発
現する。
そこで、本発明は紫外線吸収剤分子にマトリックスポリ
マーと反応可能な官能基を導入し、マトリックス中に紫
外線吸収剤分子を共有結合によって固定化することを目
的とする。
マーと反応可能な官能基を導入し、マトリックス中に紫
外線吸収剤分子を共有結合によって固定化することを目
的とする。
現在、屋外で使用されているプラスチックは、その耐溶
剤性、耐摩耗性或は透明性、光沢感などの点から、反応
型のウレタン樹脂或はエポキシ樹脂が多く使用されてい
る。
剤性、耐摩耗性或は透明性、光沢感などの点から、反応
型のウレタン樹脂或はエポキシ樹脂が多く使用されてい
る。
反応型樹脂とは、ある種の反応性官能基を有した低分子
量のモノマー間で、加熱等により化学反応が引き起こさ
れ、それにより生成した共有結合を介して高分子量の樹
脂となるものを指す。また反応型樹脂は架橋による網目
状構造によって構成されていることが特徴である。ゆえ
に直鎖状高分子にはない剛直さ、耐溶剤性が発現するた
め、反応型樹脂は特に表面被覆剤として使用されること
が多く、より光(とくに290〜400nmの紫外光)
に対し安定であることが要求される。そこで樹脂中に紫
外線吸収剤分子が添加されるわけであるが、従来の問題
点に挙げたように紫外線吸収剤の添加量には一定の制限
が加えられる。すなわち、低分子であるが故に紫外線吸
収分子が揮発したり、あるいは水や有機溶剤等で洗い流
され、消失してしまう。しかし、ある濃度以上、例えば
5%以上添加しても、数日後には紫外線吸収分子は表面
に析出して来てしまい、添加した量に見合う紫外線吸収
効果が発現されず、加えて表面の美観も失われてしまう
。したがって、紫外線吸収分子をマトリックスである樹
脂と共有結合させてやれば上記の問題は解決され、必要
最低限の使用量で、最大の効果が長期間持続して発揮さ
れることになる。
量のモノマー間で、加熱等により化学反応が引き起こさ
れ、それにより生成した共有結合を介して高分子量の樹
脂となるものを指す。また反応型樹脂は架橋による網目
状構造によって構成されていることが特徴である。ゆえ
に直鎖状高分子にはない剛直さ、耐溶剤性が発現するた
め、反応型樹脂は特に表面被覆剤として使用されること
が多く、より光(とくに290〜400nmの紫外光)
に対し安定であることが要求される。そこで樹脂中に紫
外線吸収剤分子が添加されるわけであるが、従来の問題
点に挙げたように紫外線吸収剤の添加量には一定の制限
が加えられる。すなわち、低分子であるが故に紫外線吸
収分子が揮発したり、あるいは水や有機溶剤等で洗い流
され、消失してしまう。しかし、ある濃度以上、例えば
5%以上添加しても、数日後には紫外線吸収分子は表面
に析出して来てしまい、添加した量に見合う紫外線吸収
効果が発現されず、加えて表面の美観も失われてしまう
。したがって、紫外線吸収分子をマトリックスである樹
脂と共有結合させてやれば上記の問題は解決され、必要
最低限の使用量で、最大の効果が長期間持続して発揮さ
れることになる。
本発明が作用するマトリックスがウレタン樹脂や、エポ
キシ樹脂といった反応性樹脂であることから、樹脂原料
と反応可能な官能基であるイソシアネート基、エポキシ
基を紫外線吸収分子に導入してやることで、容易に目的
であるマトリックスとの共有結合による固定化が達成さ
れた。
キシ樹脂といった反応性樹脂であることから、樹脂原料
と反応可能な官能基であるイソシアネート基、エポキシ
基を紫外線吸収分子に導入してやることで、容易に目的
であるマトリックスとの共有結合による固定化が達成さ
れた。
さらに、本発明の紫外線吸収分子自身は低分子量である
ので、樹脂原料との混合比も任意であり、目的に応じた
添加量が種々の基材に適用することが出来る。
ので、樹脂原料との混合比も任意であり、目的に応じた
添加量が種々の基材に適用することが出来る。
(実施例1)
3− (5’−クロルベンゾトリアゾール)−4−ヒド
ロキシ−5−第3ブチルベンジルイソシアネート HOt −Bu の合成 6Nの塩酸400mAlに分散させた4−クロロ−2−
ニトロアニリン(70,9,0,5モル)に水150m
lと亜硝酸ナトリウム(38,9,0,55モル)との
溶液を0〜5℃で2時間に渡って滴下しアニリンをジア
ゾ化した。
ロキシ−5−第3ブチルベンジルイソシアネート HOt −Bu の合成 6Nの塩酸400mAlに分散させた4−クロロ−2−
ニトロアニリン(70,9,0,5モル)に水150m
lと亜硝酸ナトリウム(38,9,0,55モル)との
溶液を0〜5℃で2時間に渡って滴下しアニリンをジア
ゾ化した。
得られたジアゾニウム塩溶液を3−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンジルアミンのpH11の攪拌水溶液中に3
0分間で滴下、さらに2時間反応を行った。沈澱してき
たジアゾ化合物をろ過により分離し、2Mの水酸化す)
IJウム水溶液に溶解し、攪拌を行い、酸化亜鉛(1
22,!i+、1.5モル)を加え(発熱反応)攪拌を
続け、さらに25%水酸化ナトリウム水溶液200m1
を3時間に渡って加えた。反応終了後溶液を放冷し沈澱
物をろ過し、沈澱物はクロロホルムで洗浄した。ろ液は
塩酸水溶液で酸性化し、クロロホルムで抽出し、沈澱を
洗浄したクロロホルムと合わせて乾燥させた。
ドロキシベンジルアミンのpH11の攪拌水溶液中に3
0分間で滴下、さらに2時間反応を行った。沈澱してき
たジアゾ化合物をろ過により分離し、2Mの水酸化す)
IJウム水溶液に溶解し、攪拌を行い、酸化亜鉛(1
22,!i+、1.5モル)を加え(発熱反応)攪拌を
続け、さらに25%水酸化ナトリウム水溶液200m1
を3時間に渡って加えた。反応終了後溶液を放冷し沈澱
物をろ過し、沈澱物はクロロホルムで洗浄した。ろ液は
塩酸水溶液で酸性化し、クロロホルムで抽出し、沈澱を
洗浄したクロロホルムと合わせて乾燥させた。
得られた溶液は減圧下で溶媒を除去し、3−(5’ −
クロルペンツトリアゾール)−4−ヒドロキシ−5−t
−ブチルベンジルアミンを得た。
クロルペンツトリアゾール)−4−ヒドロキシ−5−t
−ブチルベンジルアミンを得た。
(123g、収率75%)
酢酸エチル中にフォスゲンを飽和させた中に、得られた
3−(5’−クロルベンゾトリアゾール)−4−ヒドロ
キシ−5−t−ブチルベンジルアミンの酢酸エチル溶液
を4時間かげてゆっくり滴下した。この間フォスゲンは
たえず溶液中に流しておく。滴下終了後も5分間はフォ
スゲンを流し、その後、酢酸エチルを蒸留により除去し
、四塩化炭素を加え、不溶液はろ過によって除去した。
3−(5’−クロルベンゾトリアゾール)−4−ヒドロ
キシ−5−t−ブチルベンジルアミンの酢酸エチル溶液
を4時間かげてゆっくり滴下した。この間フォスゲンは
たえず溶液中に流しておく。滴下終了後も5分間はフォ
スゲンを流し、その後、酢酸エチルを蒸留により除去し
、四塩化炭素を加え、不溶液はろ過によって除去した。
得られた溶液が1/3景になるまで四塩化炭素を蒸留に
より除去すると、生成物の結晶が現れる。
より除去すると、生成物の結晶が現れる。
この沈澱物を素早くろ過しく空気中の水分に対して非常
に活性なため)これを四塩化炭素で再結晶させ淡黄色結
晶(117g、収率85%)を得た。
に活性なため)これを四塩化炭素で再結晶させ淡黄色結
晶(117g、収率85%)を得た。
元素分析結果(%)CHN
理論値: 60.59 4.08 15.70分析
値: 60.72 4.37 15.55(実施例
2) 3− ヘア :、/’ ) IJアゾール−4−ヒドロ
キシスチレンオキサイド の合
成O−ニトロアニリン(61g、0.5モル)を亜硝酸
ナトリウム(38g、0.55モル)でジアゾ化し、生
成物をp−エチルフェノール(59g、0.5モル)の
pH11の水溶液中に攪拌下30分間で滴下し、さらに
2時間攪拌しカップリングを行った。得られたジアゾ化
合物をろ過により分離し、2Mの水酸化ナトリヴム水溶
液に溶解し、攪拌を行い酸化亜鉛(122,9,1,5
モ゛ル)を加え(発熱反応)攪拌を続けさらに25%水
酸化ナトリウム水溶液200m1Iを3時間に渡って加
えた。
値: 60.72 4.37 15.55(実施例
2) 3− ヘア :、/’ ) IJアゾール−4−ヒドロ
キシスチレンオキサイド の合
成O−ニトロアニリン(61g、0.5モル)を亜硝酸
ナトリウム(38g、0.55モル)でジアゾ化し、生
成物をp−エチルフェノール(59g、0.5モル)の
pH11の水溶液中に攪拌下30分間で滴下し、さらに
2時間攪拌しカップリングを行った。得られたジアゾ化
合物をろ過により分離し、2Mの水酸化ナトリヴム水溶
液に溶解し、攪拌を行い酸化亜鉛(122,9,1,5
モ゛ル)を加え(発熱反応)攪拌を続けさらに25%水
酸化ナトリウム水溶液200m1Iを3時間に渡って加
えた。
反応終了後溶液を放冷し沈澱物をろ過し、その沈澱物は
クロロホルムで洗浄した。
クロロホルムで洗浄した。
ろ液は塩酸水溶液で酸性にし、クロロホルムで抽出し、
沈澱を洗浄したクロロホルムと合わせて乾燥させた。得
られた溶液は減圧下で溶媒を除去L、2−(2’−ヒド
ロキシ−5′−エチルフェニル)−ベンゾトリアゾール
を得た(94g、収率8゜%)。
沈澱を洗浄したクロロホルムと合わせて乾燥させた。得
られた溶液は減圧下で溶媒を除去L、2−(2’−ヒド
ロキシ−5′−エチルフェニル)−ベンゾトリアゾール
を得た(94g、収率8゜%)。
この2− (2’−ヒドロキシ−5′−エチルフェニル
)−ベンゾトリアゾールを四塩化炭素500m1に溶解
し、N−プロモサクシンイミド(1773,9,1モル
)を加え、還流下アゾビスイソブチロニトリル(5g%
0.03モル)を加え5時間反応を行った。反応終了後
溶液を冷却し、生成した固形物をろ過し、クロロホルム
で洗浄した。ろ液と固形物を洗浄したクロロホルムを合
わせた溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄後
乾燥し、溶媒は減圧で除去し2−(2’−ヒト0 キシ
−5’ −(1−7’ロモエチル)フェニル〕−ベンゾ
トリアゾールを得た(113&、収率9゜%)。
)−ベンゾトリアゾールを四塩化炭素500m1に溶解
し、N−プロモサクシンイミド(1773,9,1モル
)を加え、還流下アゾビスイソブチロニトリル(5g%
0.03モル)を加え5時間反応を行った。反応終了後
溶液を冷却し、生成した固形物をろ過し、クロロホルム
で洗浄した。ろ液と固形物を洗浄したクロロホルムを合
わせた溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液及び水で洗浄後
乾燥し、溶媒は減圧で除去し2−(2’−ヒト0 キシ
−5’ −(1−7’ロモエチル)フェニル〕−ベンゾ
トリアゾールを得た(113&、収率9゜%)。
この2−[:2’−ヒドロキシ−5’−(1−プロモエ
チルンフェニル]−ペンツトリアン°−ルトトリエチル
アミン(50’10.5モル)、アセトニド+J#(1
50m/)及び重合禁止剤としてピクリン酸(0,5g
)からなる溶液を3時間還流して脱臭化水素反応を行い
、反応終了後o℃に冷却し、四塩化炭素(1ooml)
を加え、2N塩酸水溶液で洗浄しさらKこの溶液を炭酸
水素ナトリウム水溶液および水で洗浄後乾燥し、溶媒は
減圧下で除去シ2−(2′−ヒドロキシ−5′−ビニル
フェニル)−ベンゾトリアゾールを得た。これをクロロ
ホルム中で過酢酸で酸化することにより目的生成物であ
る3−ベンゾトリアゾール−4−ヒドロキシスチレンオ
キサイドを得た(58I、収率65%ン。
チルンフェニル]−ペンツトリアン°−ルトトリエチル
アミン(50’10.5モル)、アセトニド+J#(1
50m/)及び重合禁止剤としてピクリン酸(0,5g
)からなる溶液を3時間還流して脱臭化水素反応を行い
、反応終了後o℃に冷却し、四塩化炭素(1ooml)
を加え、2N塩酸水溶液で洗浄しさらKこの溶液を炭酸
水素ナトリウム水溶液および水で洗浄後乾燥し、溶媒は
減圧下で除去シ2−(2′−ヒドロキシ−5′−ビニル
フェニル)−ベンゾトリアゾールを得た。これをクロロ
ホルム中で過酢酸で酸化することにより目的生成物であ
る3−ベンゾトリアゾール−4−ヒドロキシスチレンオ
キサイドを得た(58I、収率65%ン。
元素分析結果(%) CHN
理論値:66.40 4.38 16.59分析値:
66.68 4.32 16.45(実施例3) ヘキサメチレンジイソシアネートのトリマータイプ(住
友バイエルウレタン社製スミジュールN−752とアク
リルポリオール(住友バイエルウレタン社製デスモフエ
ンTPKL 5−2576 )を当量混合し、トルエン
:キシレン:酢酸n−ブチル=1:1:1の配合比の混
合溶媒で50%に希釈したウレタン樹脂原料中に実施例
1で合成した紫外線吸収剤を樹脂固形分の5wt%とな
るよう添加し石英基板上に浸漬法により塗布し100℃
で30分間、加熱硬化した。得られたウレタン塗膜の厚
さは5μmであった。この塗膜は390nm以下の紫外
線を95%以上吸収し410nmではわずか10%の吸
収しか示さなかった。
66.68 4.32 16.45(実施例3) ヘキサメチレンジイソシアネートのトリマータイプ(住
友バイエルウレタン社製スミジュールN−752とアク
リルポリオール(住友バイエルウレタン社製デスモフエ
ンTPKL 5−2576 )を当量混合し、トルエン
:キシレン:酢酸n−ブチル=1:1:1の配合比の混
合溶媒で50%に希釈したウレタン樹脂原料中に実施例
1で合成した紫外線吸収剤を樹脂固形分の5wt%とな
るよう添加し石英基板上に浸漬法により塗布し100℃
で30分間、加熱硬化した。得られたウレタン塗膜の厚
さは5μmであった。この塗膜は390nm以下の紫外
線を95%以上吸収し410nmではわずか10%の吸
収しか示さなかった。
上記の結果は、この塗膜が紫外線のみを選択的に吸収し
、可視域での吸収が非常に小さいことから着色のない透
明な膜が得られる事を示す。
、可視域での吸収が非常に小さいことから着色のない透
明な膜が得られる事を示す。
この塗膜を、フェードメーターによって100時間耐候
性試験を行った。試験前後での390nmにおける透過
率の変化は3%以下であり、塗膜の光沢保持率は95%
以上であった。
性試験を行った。試験前後での390nmにおける透過
率の変化は3%以下であり、塗膜の光沢保持率は95%
以上であった。
(比較例1)
実施例3に対する比較として、反応性官能基を持たない
紫外線吸収剤である2 −(2’−ヒドロキシ−3′−
t−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベン
ゾトリアゾールを用いて実施例3と同様条件で塗膜を作
製した。塗膜は、形成直後は実施例3と同様の特性を有
した。しかし室温で24時間後には、紫外線吸収剤であ
る2−(2’−ヒドロキシ−a’−t−7”チル−5′
−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾールが
表面に析出結晶化し、膜の紫外線吸収特性は塗膜直後に
比ベア0%にまで減少した。
紫外線吸収剤である2 −(2’−ヒドロキシ−3′−
t−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベン
ゾトリアゾールを用いて実施例3と同様条件で塗膜を作
製した。塗膜は、形成直後は実施例3と同様の特性を有
した。しかし室温で24時間後には、紫外線吸収剤であ
る2−(2’−ヒドロキシ−a’−t−7”チル−5′
−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾールが
表面に析出結晶化し、膜の紫外線吸収特性は塗膜直後に
比ベア0%にまで減少した。
反応性基を持たない紫外線吸収剤のこの系への添加量は
、樹脂固形分の3wt%迄が限界で、それ以上は表面へ
の析出により失われてしまう。反応性官能基を持たない
紫外線吸収剤で、実施例3と同様の効果を持たせるには
、樹脂固形分の2.5wt%の添加で20μmの膜厚が
必要であった。
、樹脂固形分の3wt%迄が限界で、それ以上は表面へ
の析出により失われてしまう。反応性官能基を持たない
紫外線吸収剤で、実施例3と同様の効果を持たせるには
、樹脂固形分の2.5wt%の添加で20μmの膜厚が
必要であった。
(実施例4)
実施例2で合成した3−ベンゾトリアゾール−4−ヒド
ロキシスチレンオキサイドをビスフェノールA型エポキ
シ樹脂主剤(油化シェルエポキシ社製エピコー)−82
8)とアミン系硬化剤(油化シェルエポキシ社製エボメ
ートE3−002)を当量配合した中に0.1から10
wt%の範囲で添加し、脱泡処理後120℃で1時間硬
化させた。
ロキシスチレンオキサイドをビスフェノールA型エポキ
シ樹脂主剤(油化シェルエポキシ社製エピコー)−82
8)とアミン系硬化剤(油化シェルエポキシ社製エボメ
ートE3−002)を当量配合した中に0.1から10
wt%の範囲で添加し、脱泡処理後120℃で1時間硬
化させた。
これらのサンプルを、フェードメーターにより100時
間の耐候性試験を行った。試験前後に於て、いずれのサ
ンプルにも紫外線吸収剤の結晶化はみられず、色差(Δ
E−ab)は2以下であった。
間の耐候性試験を行った。試験前後に於て、いずれのサ
ンプルにも紫外線吸収剤の結晶化はみられず、色差(Δ
E−ab)は2以下であった。
同様に作製したサンプルを用いたトルエフによる抽出実
験(室温、24時間振とう)には、トルエン中に何も抽
出されなかった。
験(室温、24時間振とう)には、トルエン中に何も抽
出されなかった。
(比較例2)
実施例4に対する比較として、反応性基を持たない紫外
線吸収剤である2 −(2’−ヒドロキシ−5′−エチ
ルフェニル)ペンゾトリアゾールヲ用いて実施例4と同
様条件でサンプルを作製した。フェードメタ−100時
間の耐候性試験後、紫外線吸収剤添加濃度0.1から3
wt%までのサンプルは実施例4と同様の結果を示した
が、3wt%以上のサンプルは紫外線吸収剤の結晶化及
び表面への析出によって白濁化した。
線吸収剤である2 −(2’−ヒドロキシ−5′−エチ
ルフェニル)ペンゾトリアゾールヲ用いて実施例4と同
様条件でサンプルを作製した。フェードメタ−100時
間の耐候性試験後、紫外線吸収剤添加濃度0.1から3
wt%までのサンプルは実施例4と同様の結果を示した
が、3wt%以上のサンプルは紫外線吸収剤の結晶化及
び表面への析出によって白濁化した。
トルエンによる抽出実験(室温、24時間振とり)は、
全てのサンプルに於て添加した紫外線吸収剤の10〜9
0%がトルエン中に抽出された。
全てのサンプルに於て添加した紫外線吸収剤の10〜9
0%がトルエン中に抽出された。
本発明により、反応型の樹脂マトリックス中に紫外線吸
収分子を共有結合を介して固定化する事が可能となった
。また、本発明の紫外線吸収剤は低分子化合物であるた
め、樹脂との混合比が任意であり、必要最低限の添加で
最大の効果が発現する。
収分子を共有結合を介して固定化する事が可能となった
。また、本発明の紫外線吸収剤は低分子化合物であるた
め、樹脂との混合比が任意であり、必要最低限の添加で
最大の効果が発現する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1、R_2は水素もしくは塩素原子、炭素数
1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシル基を
表し、R_3は炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜
5のアルコキシル基を表し、Xはイソシアネート基、水
酸基、エポキシ基を表す。) で、表わされる反応性基を有するベンゾトリアゾール系
紫外線吸収剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8256887A JPS63248885A (ja) | 1987-04-03 | 1987-04-03 | 反応性基を有するベンゾトリアゾ−ル系紫外線吸収剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8256887A JPS63248885A (ja) | 1987-04-03 | 1987-04-03 | 反応性基を有するベンゾトリアゾ−ル系紫外線吸収剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63248885A true JPS63248885A (ja) | 1988-10-17 |
Family
ID=13778090
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8256887A Pending JPS63248885A (ja) | 1987-04-03 | 1987-04-03 | 反応性基を有するベンゾトリアゾ−ル系紫外線吸収剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63248885A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008007725A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Nippon Kayaku Co Ltd | エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 |
-
1987
- 1987-04-03 JP JP8256887A patent/JPS63248885A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008007725A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Nippon Kayaku Co Ltd | エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 |
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