JPS63241723A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は薄膜型磁気記録媒体の製造方法に関する。特に
本発ＦｉＡＦｉ装置的に簡便であシ、かつ生産性に優れ
た窒化鉄薄膜型磁気記録媒体の製造方法に関する。

〔従来の技術〕

磁気記録媒体としては強磁性粉末を結合剤中に分散した
磁性層を有するいわゆる塗布型の磁気記録媒体が広く用
いられているが、近年高密度化記録への要求の高まυと
共に真空蒸着、スパッタリング等によるＣｏ、Ｎｉ、Ｆ
ｅ等の合金の薄膜型磁性層を有する磁気記録媒体が注目
されはじめている。これらの薄膜型磁気記録媒体は、高
密度化のための超薄層化が可能と云う利点があるが、耐
蝕性が悪く、長時間保存、使用すると錆が生ずるという
欠点があった。

この欠点を除く１つの試みとして、最近、窒化鉄（Ｆｅ
ｘＮ：χは２〜．ｒ）磁性薄膜を形成した磁気記録媒体
が提案されている。

（例えば、特開昭６０−２３４／／Ｊ号公報）〔本発明
が解決しようとする問題点〕 上記の窒化鉄磁性膜を有する磁気記録媒体は良好な磁気
特性を有すると同時に耐蝕性にも優れ、高密度磁気記録
媒体として適している。

窒化鉄磁性膜の製造方法としては例えば特開昭ｔｏ−２
３４／／Ｊ、特開昭ＪＯ−２Ｊ弘りｔコ等に開示された
反応性イオンブレーティングの方法、特開昭４０−２１
０２を等に開示されたイオン銃を使用する方法、特開昭
Ａ／−ｊ弘０３２に開示された高周波放電イオン化とイ
オン銃を組合わせた方法、あるいはまた特開昭６７−！
≠０弘ＯＶｃ開示された中空陰極によるイオン化の方法
等が知られている。しかし、これらの方法は、あるもの
は成膜時の圧力が高く膜質が劣化し、あるいは、あるも
のは複雑な装置を必要とし、装置の安定運転といった面
からも不利である、といった種々の問題点を有していた
。

したがって、本発明は簡便で生産性にすぐれる。

磁気特性の良好な磁気記録媒体の製造方法を提供するこ
とにある。

〔問題点を解決するための手段〕

前記問題点は下記手段により解決される。

すなわち、本発明は非磁性基体上に鉄を主成分とする磁
性材料蒸気流と、窒素イオンを主成分とするイオンビー
ムとを差し向け、窒化鉄磁性薄膜を該非磁性基体上に作
成する磁気記録媒体の製造方法において、該磁性材料を
高周波誘導加熱法によシ加熱蒸発せしめることを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法、に関する。ここで特Ｋ、
上記窒素イオンを主成分とするイオンビームはイオン銃
により発生せしめることが好ましい。

以下本発明の詳細な説明する。

本発明で用いる基体の素材としては、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンλ、６−ナフタレートなどの
ポリエステル類；ポリエチレン、ポリプロピレンなどの
ポリオレフィン類、セルローストリアセテートなどのセ
ルロース誘導体、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリ
アミドイミドなどのプラスチック、等がある。

本発明で使用される真空蒸着装置は例えば第１図に示す
ごときものである。これは、λ室構成の巻取υ式真空蒸
着装置であシ、上室コと蒸着室３に分離されている。非
磁性基体！は送り出しロール≠より冷却ドラム１２の外
周に沿って搬送され、その表面に薄膜が形成された後１
巻き取シロールぶに巻き取られる。この間ルツボ１０内
に収納すれた純Ｆｅ、）’ｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉ、ｐｅ
Ｎｉ等の銃を主成分とする磁性材料は加熱蒸発せしめら
れ基体に差し向けられる。この際、防着マスク／／Ｉ／
Ｃより入射角が限定される。これと同時にこの装置の場
合真空槽外側に７ランジを介して取シ付けられたイオン
銃７に窒素を主成分とするガスを導入作動せしめ、窒素
イオンを主成分とするイオンビームを基体上に同時に差
し向け、窒化鉄磁性薄膜を形成する。

本発明において、上記磁性材料の加熱蒸発は高周波誘導
加熱法により行なわれる。高周波誘導加熱法は酸化マグ
ネシウム、酸化カルシウム、酸化アルミニウム等の耐火
物で作られたルツボｌＯ内に蒸発材料を収容し、このル
ツボ外周に巻かれた加熱コイルによシ蒸発材料を加熱溶
解せしめる。

加熱コイルへは高周波電源ｊより電力を供給する。

Ｈｚ これは周波数！０−２００．出力容量２０〜ＩＱＱＫＷ
程度が適している。

従来金化鉄系磁性薄膜の真空蒸着法による作成にはもっ
ばら電子ビーム加熱方式が用いられてきた。電子ビーム
加熱方式は普及した実績も多い手法であり種々の利点を
有するが、窒化鉄磁性薄膜の作成に関してはイオン銃作
動による干渉のため安定性が失われる結果蒸着原反の長
手方向安定性に欠けることがしばしばみられる。本発明
者らはよってこの電子ビーム加熱方式に代えて高周波誘
導加熱方式による磁性材料蒸着を試みたところ、上記安
定性の問題が解決するのみならず電子ビーム加熱方式の
場合に比べ窒化鉄薄膜がより生産性高く成膜されうる。

蒸着方法につき更に記せばイオン銃作動によυ成膜部分
へは窒素イオン、励起分子、原子、ラジカル等が到達す
るが同時に第１図にて示したようなガス導入口／３より
Ｎ２ガス、０２ガス、ＮＨ３ガスあるいは混合ガス等を
導入することができる。

窒化鉄は一般にＦｅｘＮ（χ：２〜ｒ）で表わされる種
々のものが存在し例えばε−Ｆ　ｅ　２〜３Ｎ、γ−Ｆ
ｅ４Ｎ、ＦｅｇＮ等が知られているが蒸着条件、イオン
銃作動条件等の制御により薄膜中の組成分布、構造等を
ある程度制御することができる。

つまり本発明中で窒化鉄と呼んでいるのはより正確には
窒化鉄あるいは部分窒化した鉄あるいは窒化鉄複合体と
も呼ぶべきものであるが簡便のために窒化鉄と呼んでい
るものである。更に例えば特開昭Ａ／−ｊ４ＬＯ２Ｊ号
等に開示されている酸化窒化鉄をも含むものである。こ
れはイオン銃７に０２ガスとＮ２ガスの混合ガスを導入
すること等により得られるものである。

蒸着中の真空度は１Ｏ−８Ｔｏｒｒ〜１０　　Ｔｏｒｒ
程度、更に窒化鉄薄膜の厚さはｔｏｏ−ｊｏｏ。

Ａ程度である。

〔実施例〕

第１図に示す真空蒸着装置を用いて窒化鉄薄膜を成膜し
た。円筒状ドラムは直径≠００ｔｘ、で非磁性基体は厚
さ１３μｍ、幅１１００ｔのポリエチレンテレフタレー
トである。入射角を７ｊ０としイオン銃はロ径ｊＯｆｉ
Ｏカウフマン型イオン銃であり窒素ガスを圧力が／、ｊ
ｘｌｏ−５Ｔｏｒｒとなるまで導入した。加速電圧０　
、　ｊ　ＫＶ、イオン電流ＪｊｍＡを作動条件とした。

更にガス導入口１３から窒素ガスを圧力がλ、！×１０
　　Ｔｏｒｒとなるまで追加導入した。以上の条件は一
定にした上でＪＮ（タタ、り％）　−Ｆｅを高周波誘導
加熱法によシ蒸着し、膜厚／！１００又となるように成
膜した。この時基体の搬送スピードを種々かえて（加熱
パワーもその都度変化させる）成膜したところ、３ｍ４
の搬送スピードでＨｃｙｚｏ□ｅ以上の膜が得られた。

また、テープ各所で測定したＨｃも±ｊ％以内の値を示
した。これに対し電子ビーム加熱法で同様の成膜を行な
ったところＯｌｌ　ｍ１０以下の搬送スピードでしかＨ
ｃ７ｊＯＯｅ以上の膜が得られ危かった。また、テープ
各所で測定したＨｃ値は士ｔｒ％程度のバラツキを示し
た。

〔発明の効果〕

以上のように本発明によれば簡便な装置にて生産性良く
安定かつ均一な窒化鉄薄膜磁気記録媒体を作成しうる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に用いられる蒸着装置の一例を示す。 ｌ：真空槽　　　　　　−二上室 ≠：送υ出しロール　　、ｔ：基体 ７：イオン銃　　　　　ｒ：高周波電源１０：高周波誘
導　　　／コニ冷却ドラム加熱ルツボ ／３：ガス導入口 特許出願人　富士写真フィルム株式会社第１図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基体上に鉄を主成分とする磁性材料蒸気流
   と、窒素イオンを主成分とするイオンビームを差し向け
   窒化鉄磁性薄膜を該非磁性基体上に作成する磁気記録媒
   体の製造方法において、該磁性材料を高周波誘導加熱法
   により加熱蒸発せしめることを特徴とする磁気記録媒体
   の製造方法。