JPS63234141A - 洗浄効果の評価方法およびその装置 - Google Patents
洗浄効果の評価方法およびその装置Info
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- JPS63234141A JPS63234141A JP6853487A JP6853487A JPS63234141A JP S63234141 A JPS63234141 A JP S63234141A JP 6853487 A JP6853487 A JP 6853487A JP 6853487 A JP6853487 A JP 6853487A JP S63234141 A JPS63234141 A JP S63234141A
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 39
- 230000000694 effects Effects 0.000 title claims abstract description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims description 13
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 33
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract description 7
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 abstract description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000012800 visualization Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、鏡面状表面の洗浄状態を評価する方法に係り
、特に磁気ディスク用基板などの高清浄度が要求される
洗浄品の洗浄効果の評価方法およびその装置に関する。
、特に磁気ディスク用基板などの高清浄度が要求される
洗浄品の洗浄効果の評価方法およびその装置に関する。
従来、物品の清浄度を検査する場合、物品の表面をレー
ザ光線を用いて走査し、物品表面における散乱光を検知
して物品に付着している粒子などの異物をチェックする
方法がある。この方法は、主にシリコンウェハやガラス
マスクの異物の洗浄度をチェックするために用いられて
いる。
ザ光線を用いて走査し、物品表面における散乱光を検知
して物品に付着している粒子などの異物をチェックする
方法がある。この方法は、主にシリコンウェハやガラス
マスクの異物の洗浄度をチェックするために用いられて
いる。
しかし、上記の散乱光を検出する方法は、異物に当たっ
て散乱された光を検出するものであり、異物などの粒子
状の汚れとは異なる物品の表面に残った有機または無機
分子集合体などの汚染の検出に適用することができない
。これは、有機または無機分子集合体などは、付着量が
微量であるとともに、数ｌθ〜数１００人の薄膜状にな
っているため、薄膜状の汚れでは散乱が生じないことに
よる。
て散乱された光を検出するものであり、異物などの粒子
状の汚れとは異なる物品の表面に残った有機または無機
分子集合体などの汚染の検出に適用することができない
。これは、有機または無機分子集合体などは、付着量が
微量であるとともに、数ｌθ〜数１００人の薄膜状にな
っているため、薄膜状の汚れでは散乱が生じないことに
よる。
このため、これらの汚れを検出することは困難であり、
完全に汚れが除去できたか否かを確認する゛ことができ
なかった。ところが、磁気ディスク製造においては、こ
の種の汚れがＡ２基板などに付着していると、Ａｌｌ基
板上に塗布する磁性媒体の密着性が悪くなり、剥離やビ
ットエラーなどの原因となる。特に、近年普及してきて
いる磁性媒体層の厚さが従来の１／１０以下の薄い薄膜
ディスクにおいては、薄膜状の汚れが深刻な問題となっ
ている。このため、ｆ１１膜状の汚れを確実に検出でき
るとともに、製造工程においても容易に汚れを定量的に
チェックすることがきいる検査装置の開発が急がれてい
た。
完全に汚れが除去できたか否かを確認する゛ことができ
なかった。ところが、磁気ディスク製造においては、こ
の種の汚れがＡ２基板などに付着していると、Ａｌｌ基
板上に塗布する磁性媒体の密着性が悪くなり、剥離やビ
ットエラーなどの原因となる。特に、近年普及してきて
いる磁性媒体層の厚さが従来の１／１０以下の薄い薄膜
ディスクにおいては、薄膜状の汚れが深刻な問題となっ
ている。このため、ｆ１１膜状の汚れを確実に検出でき
るとともに、製造工程においても容易に汚れを定量的に
チェックすることがきいる検査装置の開発が急がれてい
た。
本発明は、上記要請に鑑みてなされたもので、鏡面状の
表面に付着した薄膜状の汚れを検出することができる洗
浄効果の評価方法と、この評価方法を容易、確実に実行
できる装置とを提供することを目的とする。
表面に付着した薄膜状の汚れを検出することができる洗
浄効果の評価方法と、この評価方法を容易、確実に実行
できる装置とを提供することを目的とする。
本発明は、有機または無機の分子集合体などの薄膜状の
汚れが光散乱などによって検出できないことを実験によ
り確認するとともに、物体の表面に凝縮した水滴の状態
が表面の汚れ具合によって異なる点に着目してなされた
もので、本発明の第１は、鏡面状表面を有する洗浄品の
表面に蒸気を接触させて凝縮せしめ、前記洗浄品に照射
した光の反射光強度を検出して洗浄度を検知することを
特徴とする洗浄効果の評価方法である。
汚れが光散乱などによって検出できないことを実験によ
り確認するとともに、物体の表面に凝縮した水滴の状態
が表面の汚れ具合によって異なる点に着目してなされた
もので、本発明の第１は、鏡面状表面を有する洗浄品の
表面に蒸気を接触させて凝縮せしめ、前記洗浄品に照射
した光の反射光強度を検出して洗浄度を検知することを
特徴とする洗浄効果の評価方法である。
また、第２の発明は、上記評価方法を実施するための装
置であって、鏡面状表面を有する洗浄品を搬送する搬送
機と、この搬送機が搬送する前記洗浄品を冷却する冷却
槽と、この冷却槽において冷却された前記洗浄品が通過
する蒸気槽と、この蒸気槽を通過した前記洗浄品に光を
照射する光源と、前記洗浄品からの反射光強度を検出す
る光検出器と、この光検出器の検出信号に基づき反射光
強度の分布を表示する表示器と、を有することを特徴と
する洗浄効果の評価装置である。
置であって、鏡面状表面を有する洗浄品を搬送する搬送
機と、この搬送機が搬送する前記洗浄品を冷却する冷却
槽と、この冷却槽において冷却された前記洗浄品が通過
する蒸気槽と、この蒸気槽を通過した前記洗浄品に光を
照射する光源と、前記洗浄品からの反射光強度を検出す
る光検出器と、この光検出器の検出信号に基づき反射光
強度の分布を表示する表示器と、を有することを特徴と
する洗浄効果の評価装置である。
近代編集株式会社の発行に係る季刊誌「洗浄設計」のＮ
ａ９ （１９８１）とＭａｉｌ（１９８１）とに記載さ
れている如（、清浄な表面に凝縮した水滴と汚染された
表面に凝縮した水滴とでは、水滴の接触角が異なってい
る。すなわち、第４図（Ａ）に示す如く表面１０が清浄
である場合、水滴１２の接触角θは、第４図ＣＢ）に示
した表面ｌＯに有機物などの薄膜状の汚れ１４が付着し
ている場合の接触角θより小さい、このため、第５図に
示すように、表面１０に向けて光１８が入射する場合、
清浄な表面ｌＯ上に凝縮している水滴１２を通過した光
１７と、汚れ１４上に凝縮している水滴１２を通過した
光１９とでは、光の散乱状態が異なる。そこで、表面１
０に光を照射する光源と反射光の検出位置を適当に選択
することにより、清浄な表面からの反射光強度と汚染さ
れた表面からの反射光強度との差を検出でき、表面の洗
浄効果を評価することができる。
ａ９ （１９８１）とＭａｉｌ（１９８１）とに記載さ
れている如（、清浄な表面に凝縮した水滴と汚染された
表面に凝縮した水滴とでは、水滴の接触角が異なってい
る。すなわち、第４図（Ａ）に示す如く表面１０が清浄
である場合、水滴１２の接触角θは、第４図ＣＢ）に示
した表面ｌＯに有機物などの薄膜状の汚れ１４が付着し
ている場合の接触角θより小さい、このため、第５図に
示すように、表面１０に向けて光１８が入射する場合、
清浄な表面ｌＯ上に凝縮している水滴１２を通過した光
１７と、汚れ１４上に凝縮している水滴１２を通過した
光１９とでは、光の散乱状態が異なる。そこで、表面１
０に光を照射する光源と反射光の検出位置を適当に選択
することにより、清浄な表面からの反射光強度と汚染さ
れた表面からの反射光強度との差を検出でき、表面の洗
浄効果を評価することができる。
本発明に係る洗浄効果の評価方法およびその装置の好ま
しい実施例を、添付図面に従って詳説する。
しい実施例を、添付図面に従って詳説する。
第１図は、本発明に係る洗浄効果の評価方法および装置
の実施例を示す説明図である。
の実施例を示す説明図である。
第１図において、鏡面状表面を有するディスク基板２０
は、図示しない保持装置を介して搬送機の搬送レール２
２に保持され、矢印に示すように搬送レール２２に沿っ
て移動、搬送される。搬送レール２２は、図示しない洗
浄機と冷却槽２４、蒸気槽２６とを通過するようになっ
ている。冷却槽２４には、冷却コイル２８が配設しであ
る。また、蒸気槽２６は、下部に超純水３０が貯溜して
あり、この超純水３０がヒータ３２により加熱される。
は、図示しない保持装置を介して搬送機の搬送レール２
２に保持され、矢印に示すように搬送レール２２に沿っ
て移動、搬送される。搬送レール２２は、図示しない洗
浄機と冷却槽２４、蒸気槽２６とを通過するようになっ
ている。冷却槽２４には、冷却コイル２８が配設しであ
る。また、蒸気槽２６は、下部に超純水３０が貯溜して
あり、この超純水３０がヒータ３２により加熱される。
そして、蒸気槽２６の上部には、可視光源３４とテレビ
カメラ３６とからなる観察部が設けである。テレビカメ
ラ３６は、光検出器としての役割をなし、画像処理装置
３８に電気的に接続しである。なお、発明者らの実験に
よると、第２図に示すようにディスク基板２０とテレビ
カメラ３６とのなす角αは、ディスク基板２０と可視光
？ａ３４とのなす角βより大きいことが望ましい。
カメラ３６とからなる観察部が設けである。テレビカメ
ラ３６は、光検出器としての役割をなし、画像処理装置
３８に電気的に接続しである。なお、発明者らの実験に
よると、第２図に示すようにディスク基板２０とテレビ
カメラ３６とのなす角αは、ディスク基板２０と可視光
？ａ３４とのなす角βより大きいことが望ましい。
上記の如く構成した実施例の作用は、次のとおりである
。
。
洗浄品であるディスク基板２０は、垂直状態に保持され
て搬入レール２２により搬入されながら図示しない洗浄
機に入り、有機洗浄された後、冷却槽２４に入る。冷却
槽２４内は、冷却コイル２８により所定の温度に冷却さ
れており、冷却槽２４に入ったディスク基板２０を冷却
する。冷却槽２４を出たディスク基板２０は、蒸気槽２
６に入る。なお、蒸気槽２６に入るディスク基板２０の
温度は、ディスク基板２０上に蒸気が凝縮できる温度で
あればよく、蒸気との温度差が２０〜３０℃程度あれば
よい。
て搬入レール２２により搬入されながら図示しない洗浄
機に入り、有機洗浄された後、冷却槽２４に入る。冷却
槽２４内は、冷却コイル２８により所定の温度に冷却さ
れており、冷却槽２４に入ったディスク基板２０を冷却
する。冷却槽２４を出たディスク基板２０は、蒸気槽２
６に入る。なお、蒸気槽２６に入るディスク基板２０の
温度は、ディスク基板２０上に蒸気が凝縮できる温度で
あればよく、蒸気との温度差が２０〜３０℃程度あれば
よい。
蒸気槽２６は、ヒータ３２により蒸発させられた超、純
水３０の蒸気が滞留しており、蒸気槽２６に入ったディ
スク基板２０が超純水３０の蒸気に接触しつつ蒸気槽２
６の上部に移動する。ディスク基板２０と蒸気との接触
時間は、ディスク基板２０と蒸気との温度差が２０℃以
上あれば数秒間で充分であり、また凝縮した水滴は数Ｌ
ｏａｍ大きさがあれば充分である。
水３０の蒸気が滞留しており、蒸気槽２６に入ったディ
スク基板２０が超純水３０の蒸気に接触しつつ蒸気槽２
６の上部に移動する。ディスク基板２０と蒸気との接触
時間は、ディスク基板２０と蒸気との温度差が２０℃以
上あれば数秒間で充分であり、また凝縮した水滴は数Ｌ
ｏａｍ大きさがあれば充分である。
蒸気層を通り抜けたディスク基板２０は、蒸気槽２６の
上部において可視光源３４により可視光線を照射される
。そして、ディスク基板２０の表面において反射した可
視光線は、テレビカメラ３６により捕捉され、電気信号
（映像信号）に変換されて画像処理装置３８に入力され
る０画像処理装置３８は、テレビカメラ３６からの映像
信号を光の強弱に電光変換し、表示器であるＣＲＴディ
スプレイに映像を表示して視覚化する。
上部において可視光源３４により可視光線を照射される
。そして、ディスク基板２０の表面において反射した可
視光線は、テレビカメラ３６により捕捉され、電気信号
（映像信号）に変換されて画像処理装置３８に入力され
る０画像処理装置３８は、テレビカメラ３６からの映像
信号を光の強弱に電光変換し、表示器であるＣＲＴディ
スプレイに映像を表示して視覚化する。
なお、テレビカメラ３６と可視光源３４とのディスク基
板面に対する角α、βが第２図に示すように、α〉βの
関係にあるとき、テレビカメラ３６が捕捉する反射光は
、発明者らの研究によると水滴の接触角θが太き（なる
ほど強度が大きくなっており、ディスク基板２０の汚染
状態に応じた反射光強を検出できる。また、可視光源３
４およびテレビカメラ３６のディスク基板２０からの距
離は、ディスク基板２０の温度雰囲気条件を損なわない
距離であればよく、１ｍ程度離れていても反射光強度の
検出を充分に行うことができる。
板面に対する角α、βが第２図に示すように、α〉βの
関係にあるとき、テレビカメラ３６が捕捉する反射光は
、発明者らの研究によると水滴の接触角θが太き（なる
ほど強度が大きくなっており、ディスク基板２０の汚染
状態に応じた反射光強を検出できる。また、可視光源３
４およびテレビカメラ３６のディスク基板２０からの距
離は、ディスク基板２０の温度雰囲気条件を損なわない
距離であればよく、１ｍ程度離れていても反射光強度の
検出を充分に行うことができる。
このように実施例によれば、ディスク基板２０上からの
反射光強度を検出することにより、ディスク基板２０の
洗浄効果、すなわち清浄度を検知することができる。し
かも、反射光の強度分布をテレビカメラで捕捉し、画像
処理装置２８のディスプレイ上に映像として映し出して
視覚化することにより°、製造工程においてディスク基
板２０の洗浄状態を容易にチェックすることができ、磁
気ディスクの信頼性を向上することが可能となる。また
、実施例においては、ディスク基板２０を垂直に保持し
たまま搬入し、反射光強度の検出を行っているため、落
下塵埃゛やその他の異物の付着を少なくすることができ
る。
反射光強度を検出することにより、ディスク基板２０の
洗浄効果、すなわち清浄度を検知することができる。し
かも、反射光の強度分布をテレビカメラで捕捉し、画像
処理装置２８のディスプレイ上に映像として映し出して
視覚化することにより°、製造工程においてディスク基
板２０の洗浄状態を容易にチェックすることができ、磁
気ディスクの信頼性を向上することが可能となる。また
、実施例においては、ディスク基板２０を垂直に保持し
たまま搬入し、反射光強度の検出を行っているため、落
下塵埃゛やその他の異物の付着を少なくすることができ
る。
第３図は、本発明に係る洗浄効果の評価装置の他の実施
例を示したものである０本実施例は、可視光源３４と、
テレビカメラ３６とからなる観察部を蒸気層２６の下部
に設けたものである０本実施例のようにすると、比重の
軽い溶剤を用いて蒸気層を形成した場合に、蒸気の観察
部への影響を少な（することができ、より正確な反射光
強度を検出することが可能となる。なお第１図と第３図
とに示した実施例に蒸気トラップを設け、観察部への蒸
気の影響をより少な（することができる、また、可視光
線以外の光線、例えば赤外光線を用いてもよい、さらに
、□ディスク基板２０以外の洗浄品にも適用できること
は、当然である。
例を示したものである０本実施例は、可視光源３４と、
テレビカメラ３６とからなる観察部を蒸気層２６の下部
に設けたものである０本実施例のようにすると、比重の
軽い溶剤を用いて蒸気層を形成した場合に、蒸気の観察
部への影響を少な（することができ、より正確な反射光
強度を検出することが可能となる。なお第１図と第３図
とに示した実施例に蒸気トラップを設け、観察部への蒸
気の影響をより少な（することができる、また、可視光
線以外の光線、例えば赤外光線を用いてもよい、さらに
、□ディスク基板２０以外の洗浄品にも適用できること
は、当然である。
以上に説明した如（、本発明によれば、清浄な表面と汚
れた表面とでは、検出される反射光強度が異なっており
、この反射光強度を検出することにより、洗浄品の洗浄
状態を評価することができる。
れた表面とでは、検出される反射光強度が異なっており
、この反射光強度を検出することにより、洗浄品の洗浄
状態を評価することができる。
第１図は本発明に係る洗浄効果の評価方法および評価装
置の実施例を示す説明図、第２図は前記実施例の可視光
源とテレビカメラとの関係を示す模式図、第３図は洗浄
効果の評価装置の他の実施例を示す説明図、第４図（Ａ
）は清浄表面に凝縮した水滴の接触角を示す図、第４図
（Ｂ）は汚れた面に凝縮した水滴の接触角を示す図、第
５図は清浄な面と汚れた面との水滴を通過して反射した
光の散乱状態を示す図である。 ２０−−一−ディスク基板（洗浄品） 、２２−搬送レ
ール、２４・・−・冷却槽、２６・・・−無気槽、３４
・・・・可視光源、３６・・・−テレビカメラ、３８−
・・・画像処理装置（表示器）。
置の実施例を示す説明図、第２図は前記実施例の可視光
源とテレビカメラとの関係を示す模式図、第３図は洗浄
効果の評価装置の他の実施例を示す説明図、第４図（Ａ
）は清浄表面に凝縮した水滴の接触角を示す図、第４図
（Ｂ）は汚れた面に凝縮した水滴の接触角を示す図、第
５図は清浄な面と汚れた面との水滴を通過して反射した
光の散乱状態を示す図である。 ２０−−一−ディスク基板（洗浄品） 、２２−搬送レ
ール、２４・・−・冷却槽、２６・・・−無気槽、３４
・・・・可視光源、３６・・・−テレビカメラ、３８−
・・・画像処理装置（表示器）。
Claims (4)
- （１）鏡面状表面を有する洗浄品の表面に蒸気を接触さ
せて凝縮せしめ、前記洗浄品に照射した光の反射光強度
を検出して洗浄度を検知することを特徴とする洗浄効果
の評価方法。 - （２）特許請求の範囲第１項に記載の評価方法において
、洗浄品と蒸気との接触は、洗浄品の冷却後に行うこと
を特徴とする洗浄効果の評価方法。 - （３）鏡面状表面を有する洗浄品を搬送する搬送機と、
この搬送機が搬送する前記洗浄品を冷却する冷却槽と、
この冷却槽において冷却された前記洗浄品が通過する蒸
気槽と、この蒸気槽を通過した前記洗浄品に光を照射す
る光源と、前記洗浄品からの反射光強度を検出する光検
出器と、この光検出器の検出信号に基づき反射光強度の
分布を表示する表示器と、を有することを特徴とする洗
浄効果の評価装置。 - （４）特許請求の範囲第３項に記載の評価装置において
、光検出は反射光強度に対応した電気信号を発生するテ
レビカメラであり、表示器はテレビカメラからの電気信
号を映像化するＣＲＴディスプレイであることを特徴と
する洗浄効果の評価装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6853487A JPS63234141A (ja) | 1987-03-23 | 1987-03-23 | 洗浄効果の評価方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6853487A JPS63234141A (ja) | 1987-03-23 | 1987-03-23 | 洗浄効果の評価方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63234141A true JPS63234141A (ja) | 1988-09-29 |
Family
ID=13376497
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6853487A Pending JPS63234141A (ja) | 1987-03-23 | 1987-03-23 | 洗浄効果の評価方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63234141A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6450939A (en) * | 1987-08-21 | 1989-02-27 | Hitachi Ltd | Evaluating apparatus of detergency |
| EP1635167A1 (de) * | 2004-09-10 | 2006-03-15 | Cognis IP Management GmbH | Verfahren zur quantitativen Messung von Ablagerung auf festen Oberflächen |
| JP2006189348A (ja) * | 2005-01-06 | 2006-07-20 | Ccs Inc | 表面検査方法および表面検査装置 |
| JP2016090271A (ja) * | 2014-10-30 | 2016-05-23 | 株式会社ディスコ | 保護膜検出装置及び保護膜検出方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS61198045A (ja) * | 1985-02-28 | 1986-09-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 表面汚染度観察方法 |
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1987
- 1987-03-23 JP JP6853487A patent/JPS63234141A/ja active Pending
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