JPS63233306A - 光走査型位置検出装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、所定のパターンを有する被検物体面上を光ビ
ームで走査して、このパターンからの散乱光や回折光等
の反射光を検出することによって該パターンの位置を検
出するための装置に関する。

〔従来の技術〕

この種の装置は、半導体ウェハ上に形成された微細パタ
ーンの測定や、半導体製造の工程において用いられる露
光装置におけるアライメントのために用いられている。

このための光走査機構は、小型な構成とするために反射
鏡と振動子、又はスリットと回転子とからなるのが一般
的である。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかし、振動子や回転子の駆動方法による非線形な動き
や、振動子固有の不安定な動きが、アライメントマーク
上での検出光の走査速度の変動をもたらし、位置検出即
ちアライメントのための誤差を生ずる恐れがあった。具
体的には、アライメントのために一般的に行われている
如き基準マーク位置からアライメントマーク位置までの
走査時間を計測して基準マーク位置からのズレ量を求め
る方法においては、アライメント光の走査速度の変動が
計測誤差を生じ、結果としてアライメント精度を低下さ
せることがあった。

また、走査光を等速で移動するように走査部材を構成す
ることは装置を複雑且つ大型化してしまうことになり、
等速度の精度の向上も困難である。

特に、振動鏡を振動させるための振動子を用いてその往
復運動により、光ビームの走査を行う場合には、振動子
の駆動信号としては正弦波を用い−るのが理想的である
ため、単位時間当たりの走査光移動距離と振動鏡の回転
角度とは１対１に対応しなくなり、結果としてアライメ
ント誤差を生じ易いという問題があった。

そこで、本発明の目的はこれらの固点を解消し、光走査
部材の速度の変動によらず１．安定して被検出物体の検
出を行うことのできる走査型光位置検出装置を提供する
ことにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、被検出物体面上に所定形状のビームを集光す
ると共に該被検出物体面からの反射光を受光するための
主光学系と、該ビームを前記被検出面上にて走査するた
めに該主光学系の光路中に配置されて光束の進行方向を
変更するための偏向反射鏡を有する走査部材と、該走査
部材の偏向反射鏡による前記被検出物体面上での走査ビ
ームの反射光により前記被検出物体の位置を検出する物
体位置検出手段とを有する光走査型位置検出装−を基本
とするものである。そして、前記走査部材の前記偏向反
射鏡上に前記ビームの光路とは別の光路にて第２の光ビ
ームを照射する照射光学系と、該照射光学系から供給さ
れて前記走査部材の偏向反射鏡によって反射された第２
光ビームを集光するための集光光学系と、該集光光学系
による第２光ビームの位置を検出することによって前記
走査部材の偏向反射鏡の位置を検出する偏向反射鏡位置
検出手段とを設け、前記物体位置検出手段は前記偏向反
射鏡位置検出手段からの出力信号にもとづいて前記被検
出物体の位置を検出するように構成したものである。

〔作　用〕

このような本発明の構成によれば、偏向反射鏡の位置検
出手段によりて、走査用の偏向反射鏡の位置が逐次検出
されているため、偏向反射鏡の振動や回転が等速でなく
とも物体位置検出手段の信号を偏向反射鏡の位置に応じ
て測定することができるため、被検出物体の位置を正確
に検出することが可能である。しかも、被検出物体上に
て検出光を走査するための偏向反射鏡自体に、別光路に
て光ビームを照射することによって該偏向反射鏡の位置
を検出する構成であるため、偏向反射鏡そのものに経時
変化や熱等による変形があったとしても測定精度を低下
させる恐れが少ない。

具体的には、偏向反射鏡の位置検出手段により偏向反射
鏡の角度位置に対応した反射光の移動量を検出すること
によって偏向反射鏡の角度位置を求め、この位置信号に
よりアライメント用主光学系からの光信号におけるアラ
イメントマーク検出の信号の計数のためのトリガーをか
けている。

〔実施例〕

以下本発明の実施例を示した第１図によって本発明の詳
細な説明する。

第１図は、本発明による光走査型位置検出装置を投影型
露光装置のアライメント系に採用した構成を示す概略構
成図である。

レチクルＲは照明用光源手段５０からの光束によりコン
デンサーレンズ５１を介して均一に照明され、レチクル
Ｒ上の所定のパターンが投影レンズＬによってウェハＷ
上に投影転写される。ここで、レチクルＲとウェハＷと
の位置を所定の関係に設定するために、両者の位置関係
を検出するアライメント用の光学系ｌＯ及び２０からな
る主光学系が設けられている。レーザー光源１から供給
されるレーザー光をレチクルＲ及びウェハＷ上で走査す
るための光走査部材２として、振動鏡２ａとこれを振動
させるための回転子２ｂとが設けられている。

レーザー光はビームエキスパンダー３によって所望の光
束幅に拡張され、シリンドリカルレンズ４を通うて矩形
ビームに整形され、振ｖＪ鏡２ａで反射された後、集光
レンズ５、半透過鏡ＨＭｔ−透過して対物レンズ６を通
り、ミラーＭで反射されてレチクルＲ上に達する。レチ
クルＲ上でレーザー光は矩形のビームスポットとして集
光され、レチクルＲを透過する光束は投影対物レンズＬ
を通ってウェハＷ上に達し、ウェハＷ上にも矩形のビー
ムスポットが形成される。ウェハＷで反射された光は再
び投影対物レンズＬを通り、元きた経路に沿って戻って
レチクルＲを透過し、半透過１１ＨＭで反射されてディ
テクター７に入射する。

ここで、光源ｌからシリンドリカルレンズ４までの光学
系１０と、集光レンズ５．ハーフミラ−ＨＭ、対物レン
ズ６及びミラーＭからなる光学系２０とによって、レチ
クルＲ及びウェハＷ面上に矩形のビームを集光すると共
に該被検出物体面からの反射光を受光するための主光学
系が形成されている。そして、光走査部材２を構成する
振動鏡２ａの反射面の振動中心は、主光学系のほぼ瞳位
置に合致するように配置されており、投影対物レンズＬ
がその像側（ウェハ側）でテレセンドリンクであるため
、ウェハＷ面上での走査光の主光線は常にウェハ面に対
して垂直に入射する。

振動鏡２ａとこれを振動させるための回転子２ｂとから
なる走査部材２によって、レーザー光の反射角が連続的
に変化し、これによってレチクルＲ及びウェハＷ上でレ
ーザー光の矩形ビームスポットが走査される。走査中に
、レチクルＲ上のアライメントマークＭ、ＩとウェハＷ
上のアライメントマークＭ。とから反射される光は、回
折光や散乱光を含めて元きた経路に沿って戻り、ディテ
クター７ではウェハＷ及びレチクルＲ上の各アライメン
トマークＭｗ　、Ｍ＊からの反射光毎に信号を発生する
。この信号はプリアンプ１６で増幅された後、Ａ／Ｄ変
換器１４でデジタル（３号に変喚され、メモリ回路１３
に記憶される。

メモリ回路１３の信号は、マイクロプロセッサ１１と演
算専用プロセッサ１２によって解析され、レチクルＲ上
のアライメントマークＭ糞とウェハＷ上のアライメント
マークＭ。とのアライメントの誤差量を求める。マイク
ロプロセッサ１１は求められた誤差量に基づいて、ステ
ージ駆動手段９に１８号を送り、ステージ駆動モータ８
によってステージを所定量だけ移動すると共に、干渉計
１７によってステージの位置を検出し、レチクルＲ上の
アライメントマークＭ１１とウェハＷ上のアライメント
マークＭ。とが所定の位置関係になるように制御する。

他方、偏向反射鏡としての振動鏡２ａの同一の反射面上
にアライメント用ビームの光路とは別の光路にて第２の
光ビームを照射するための照射光学系３０と、該照射光
学系３０から供給されて振動鏡２ａによって反射された
第２光ビームを集光するための集光光学系４０とが設け
られている。ここで、アライメント用ビームの反射位置
と第２光ピ−ムの反射位置とは偏向反射鏡の反射面上で
ほぼ一致するように構成されている。また、第２光ビー
ムの照射光学系の光軸と該第２光ビームを集光するため
の集光光学系との光軸を含む平面は、偏向反射鏡２ａ上
における前記主光学系の光ビームの入射面に一致して構
成され、この入射面は偏向反射鏡２ａの回転中心に垂直
に構成されている。このため、偏向反射鏡の位置検出の
精度が最も高くなっている。そして、この集光光学系に
より集光される第２光ビームの位置を検出するディテク
ター４４の出力によって、振動＆１１２ａの振動位置が
検出でき、この位置がアライメント用走査光のウェハＷ
面上での位置にｌ対ｌに対応する。具体的には、照射光
学系３０はアライメント用の主光学系に用いられるレー
ザー光とは別波長のレーザー光を発する第２のレーザー
光源３１と、この光束径を拡大するビームエキスパンダ
ー３２とを有し、集光光学系は振動鏡２ａからの反射光
を集光するレンズ４１とシリンドリカルレンズ４２、エ
ンコーダ用の格子４３及びディテクター４４を有してい
る。そして、アライメント用光ビームの波長と、偏向反
射鏡位置検出用の第２光ビームの波長とを異なる波長と
し、さらには一方の光学系に用いる波長光が他方の光学
系に用いるディテクターの感度の低い波長領域とするこ
とにより、双方のビームスポット位置検出のノイズを低
下させ、より高精度の検出を行うことが可能となる。

ここで、後述する如く、偏向反射鏡の位置検出手段のパ
ルス発生回路１８によって、第２光ビームの走査位置に
対応したアライメント用の一定間隔のトリガーパルスが
生成され、このトリガーパルスの計数によりレチクル上
のアライメントマークの位置とウェハ上のアライメント
マークとの位置関係を検出することが可能となる。

すなわち、レチクルＲ上のアライメントマークＭ、とウ
ェハＷ上のアライメントマークＭｗとの位置関係は、走
査光ビームが各アライメントマークを走査した時に発す
る検出光をディテクター７により電気信号に変換し、さ
らにＡ／Ｄ変換器１４を用いてカウンタ回路ｌＯが計数
するパルス発生回路からのパルス数に同期して、各アラ
イメントマークに対応して発する信号をデジタル信号に
変換し、メモリ回路１３に記憶する。換言すれば、走査
部材２によって走査される光が、レチクルＲ上のアライ
メントマークＭ１とウェハＷ上のアライメントマークＭ
。を走査開始位置から走査終了位置まで移動する間に、
一定間隔ごとに発生するパルス（位置パルス）信号によ
って両者の位置関係が検出記憶される。

走査部材としての偏向反射鏡の位置検出用受光光学系４
０のディテクター４４によって検出された位置信号を電
気信号に変換し、このアナログ信号に基づいてパルス発
生回路１８はディテクター４４上での一定距離ごとにト
リガーパルスを発生する。このトリガーパルスは回転子
２ｂの回転を制御するスキャナ駆動回路１９及びカウン
タ回路１０に入力される。カウンタ回路１０は、パルス
発生回路１８からの位置情報とステージ駆動回路９から
のステージ位置情報とから、振動鏡２ａの角度位置と走
査光の位置との相対関係を計算し、記憶すると共に、メ
モリ回路１３のアドレス信号及びＡ／Ｄ変換器１４のト
リガーパルスを発生する。

ところで、アライメント用の主光学系のうち、振動鏡２
ａからレチクルＲまでの光学系２０は、振動鏡２ａの位
置検出用集光光学系４０とは、互いに光学的に相位の関
係となるように構成されている。即ち、振動鏡２ａの反
射に関して走査光ビームがレチクル上で移動する距離と
、偏向反射鏡の位置検出用ディテクター４４の受光面上
で振動鏡２ａの位置検出用の第２光ビームが移動する距
離とが所定の倍率関係で比例関係に構成されている。具
体的には、第２ビームを集光するための集光光学系の歪
曲収差量が、主光学系の被検出物体面上での歪曲収差量
とほぼ等しい値になるように構成されている。

このため、アライメント用走査光ビームと振動鏡２ａの
位置検出用第２光ビームとの各々の移動量は１対１の対
応関係に維持される。従って、走査光ｌがレチクルＲ及
びウェハＷ上を一定速度で走査することが出来ない場合
においても、走査ビームの位置に応じたトリガパルスを
基準としてアライメントがなされるため、常に位置座標
上の正しいアライメント信号を得ることができる。

次に、偏向反射鏡位置検出手段のパルス発生回路１８に
よって、走査光ビームの走査位置に対応したアライメン
ト用の一定間隔のトリガーパルスを生成するための構成
について説明する。まず、第２図の光学断面図及び第３
図の概略斜視図に示す如く、偏向反射鏡位置検出用の集
光光学系４０では、図中破線で示した偏向反射鏡２ａの
位置検出用の第２光ビームが、偏向反射鏡２ａで反射さ
れた後集光するレンズ４１により集光され、シリンドリ
カルレンズ４２によって偏向反射鏡の入射面（図の紙面
）に垂直な方向に伸長したビーム形状として集光される
。ここで、第２図に示すように、集光光学系４０におい
ては集光レンズ４１の焦点が偏向反射鏡２ａの回転中心
に合致するように配置されているため、集光光学系はそ
の射出側（ディテクター４４側）でテレセンドリンクに
形成されている。このことは、位置検出用の主光学系中
の光学系２０における対物レンズ６がレチクルＲ側にて
テレセンドリンクになっていることに対応し、このよう
な構成によって、各ビームスポットがデフォーカスした
場合にも、主光学系の光ビームのレチクルＲ上での移動
距離と、偏向反射鏡の位置検出用の第２光ビームのディ
テクター４４上での移動距離とが１対１に対応し、安定
して高精度が維持される。

シリンドリカルレンズ４２によって伸長された第２光ビ
ームは、ディテクター４４の前に配置された格子板４３
に入射し、これを通過した光がディテクター４４に達す
る。格子板４３には互いに９０°だけ位相がずれた４つ
の透過型格子４３ａ、　４３ｂ、　４３ｃ、　４３ｄが
並列されている。このため各格子を通過する光ビームの
強度は互いに位相が９０°ずれた正弦波状に変化し、デ
ィテクター４４は第２光ビームの位置に対応した互いに
位相が９０°ずれた４つの正弦波信号を発生する。なお
、この正弦波の一周期が格子の一周期に対応する。

第４Ａ図、第４Ｂ図及び第４Ｃ図は、上述した偏向反射
鏡２ａの位置検出用格子板４３上の第２光ビームの走査
の様子と、これと同時に行われる被検出物体としてのレ
チクルＲ上での位置検出用光ビームの走査の様子とを示
し、第５図は第４Ｂ図の如き第２光ビームの格子板上で
の走査によって発する信号と、第４Ｃ図の如きレチクル
Ｒ上での光ビームの走査によって発する信号との関係を
示す波形図である。第４Ａ図の如く偏向反射鏡２ａの振
動によって、偏向反射鏡２ａの位置検出用第２光ビーム
Ｂ２のスポットＢｚｓが、第４Ｂ図の如く４つの格子４
３ａ、４３ｂ、４３ｃ、４３ｄ上を走査し、このときレ
チクルＲ上ではレチクル面上での位置検出用の光ビーム
Ｂ、のスポットｓｒｓがレチクルＲ上のアライメントマ
ークＭ＋１＋＋　　Ｍａｔ並びにレチクル面上に投影さ
れたウェハ上のアライメントマークの像Ｍいを走査する
。

第４Ｂ図に示した如く、第２光ビームＢ、の伸長光スポ
ラ）Ｂｚｓが格子板上を走査すると、４つの格子４３ａ
、　４３ｂ、　４３ｃ、　４３ｄを通過した光に対応す
るディテクターからの出力波形は、それぞれ、第５図中
のａ、ｂ、ｃ、ｄとなる。パルス発生回路１８はこれら
４つの信号に基づいて所謂エンコーダー回路の如く正弦
波−周期を複数のｍ個に分割して、第５図ｇの如き一定
周期の分割パルスを発生する。

他方、第４図ｇに示す如く、位置検出光ビームＢｌの伸
長光スポット＋３＋ｓがレチクル面上を走査すると、レ
チクル上のアライメントマークの一方のエツジＭ□と他
方のエツジＭｌ！とを走査したときに、ディテクター７
は各エツジがらの散乱光を受光して第５図中Ｏｆの如く
、一方のエツジＭ　Ｉ＋　１に対応する信号５ｌ１１と
他方のエツジＭＩｌｚに対応する信号Ｓ。とを生ずる。

また、レチクル面上に投影されるウェハアライメントマ
ークの像Ｍ、４を走査した時には、走査ビームは投影レ
ンズＬを介してウェハ上をも走査し、ウェハ上のアライ
メントマークからの散乱回折光がディテクター７に到達
して、第５図ｇに示す如き信号Ｓ。を発する。

これらの一連の信号系が第１図にて前述した如き各回路
の構成によって処理される。すなわち、第５図中ｆに示
したレチクルアライメントマークからの信号３１１１と
Ｓ□との間における、第５図ｇの如きウェハアライメン
トマークからの信号Ｓ。

の位置、Ｈｒ、Ｈｚを第５図ｅに示した如きパルス発生
回路１８からのパルス数によって検出することができる
。そして、このパルス数が第４図Ｃに示した如き、レチ
クル面上におけるレチクルアライメントマークＭ□１Ｍ
０とウェハアライメントマークの像Ｍｗとの位置関係に
対応する。従って、例えば２つのアライメントマークＭ
□、ＭＨの中間にウェハアライメントマークの像Ｍ＠が
位置するように、即ちＨｒ−Ｈｚとなるように、マイク
ロプロセッサ１１によりステージＳが駆動されてアライ
メントが完了する。

ここで、偏向反射鏡２ａの位置検出手段における格子板
の各格子は第２光ビームの走査領域においてｎ同期有す
るものであり、パルス発生回路における正弦波の分割数
をｍとし、レチクル面上での走査光ビームの走査幅をｌ
とすると、レチクル面上で計測できる最小単位Ｘは ｘ　−１７ｎ　ｍ で与えられ、ウェハ面上での計測最小単位ｙは、投影レ
ンズＬの縮小倍率をβとするとき、ｙ＝Ｉｌ／βｎｍ となる０例えば、ｌ　−４００μ＠１　、　　ｎ　−２
００、ｍ−２０、β−５とすると、ｙ−０，０２μ鴎と
なり、実用上十分な精度のアライメントが可能となる。

そして、格子板４３の格子間隔をより小さくして所定走
査幅における周期数ｎを多くし、また正弦波の分割数ｍ
を多くしてパルス数を増すことによってより精度を向上
させることが可能である。

尚、上記実施例において偏向反射鏡２ａの位置検出のた
めの集光光学系４０において、４つの格子を同時に走査
するためにシリンドリカルレンズ４２を用いて伸長した
光ビームスポット１３ｚｓを形成したが、第６図の斜視
図に示す如く、シリンドリカルレンズの代わりに回折格
子板４５を用いることもできる。この場合、回折格子板
４５の格子溝の方向は、偏向反射鏡の回転方向に一敗し
ており、１１次及び±２次の回折光を均等に発するよう
な回折格子であることが望ましく、４つの回折光をそれ
ぞれ４つの格子板に導くように構成すればよい。

また、上記の実施例においては、格子板４３の直後にデ
ィテクター４４を配置して格子板の通過光をそのまま受
光する構成としたが、格子板４３とディテクター４４と
の間に格子板４３の通過光を集光するためのシリンドリ
カルレンズを配置することによって、ディテクターを小
型に構成することが可能となる。第７図はこのような構
成の一例を示す斜視図であり、格子＠４３の後方に正屈
折力のシリンドリカルレンズ４６が配置されている。シ
リンドリカルレンズ４６の母線は、伸長された第２光ビ
ームの伸長方向、即ち４つの透過型格子４３ａ、４３ｂ
、４３ｃ。

４３ｄの配列方向に偏向に配列されている。そして、シ
リンドリカルレンズの焦点位置に、該シリンドリカルレ
ンズの母線に平行に、縦に配列された４個のディテクタ
ー４４ａ、　４４ｂ、　４４ｃ、　４４ｄを有するディ
テクタ一部４４°が配置されている。このような構成に
より、格子板４３上を走査する第２光ビームＢ■が第７
図中実線で示す位置から破線で示す位置まで移動するが
、ディテクタ一部４４°上での第２光ビームＢｔｙの位
置は変化せず、ディテクタ一部４４”を小さい形状とす
ることができるのである。

この場合、各ディテクター４４ａ、４４ｂ、４４ｃ、４
４ｄでの受光面積が小さくなることにより、ディテクタ
ーの応答が良くなり高速での走査に対応できると共に、
受光位置が走査ビームスポットの位置によらず常に一定
にできるため、ディテクターの受光面上の感度ムラを防
止することができ、より性能の向上が期待できる。

そして、上記の実施例においては、偏向反射鏡２ａの位
置検出手段からのパルス発生のために、互いに９０°位
相の異なる４つの格子を並列配置したが、これに限られ
るものではなく、２つまたは１つの格子による構成も可
能である。また、上記実施例では光ビームの走査のため
の偏向反射鏡として、振動鏡を用いたが、これに限らず
一定方向に回転するミラーや所謂ポリゴンミラーを用い
ることも可能であることはいうまでもない。

〔発明の効果〕

以上の如き本発明の構成においては、被検出物体面上に
おける走査光ビームの位置と、偏向反射鏡の位置検出用
の第２光ビームの位置とが、光学的に等価な位置である
ので、第２光ビームによる偏向反射鏡の位置情報に基づ
いて被検出物体面上の位置検出を行うことにより、位置
検出用光ビームの走査状態にかかわらず、また走査部材
の変動によって走査光ビームが所定の移動形態と異なる
状態になった場合においても、常に安定して高精度の物
体位置検出及び測定を行うことが可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例の全体構成を示す概略構成図、
第２図は偏向反射鏡による光ビーム走査の様子を示す光
学構成図、第３図は偏向反射鏡の位置検出のための集光
光学系の構成を示す光学斜視図、第４Ａ図は偏向反射鏡
による２つの光ビームの走査の様子を示す光路図、第４
Ｂ図は偏向反射鏡の位置検出用集光光学系における格子
板上での第２光ビームの走査の様子を示す平面図、第４
Ｃ図はレチクル面上における検出光ビームの走査の様子
を示す平面図、第５図は本発明の実施例における各種信
号の波形図、第６図は偏向反射鏡の位置検出のための集
光光学系において回折格子を用いた構成を示す斜視図、
第７図は偏向反射鏡の位置検出のための集光光学系にお
いて格子板の後方に正屈折力のシリンドリカルレンズを
配置した場合の構成を示す斜視図である。 〔主要部分の符号の説明〕 １０．２０・・・主光学系 ３０・・・照射光学系 ４０・・・集光光学系 出願人　　日本光学工業株式会社 代理人　弁理士　渡　辺　隆　男 第２図 ４３．１ 第５図

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）被検出物体面上に所定形状のビームを集光すると
   共に該被検出物体面からの反射光を受光するための主光
   学系と、該ビームを前記被検出面上にて走査するために
   該主光学系の光路中に配置されて光束の進行方向を変更
   するための偏向反射鏡を有する走査部材と、該偏向反射
   鏡による前記被検出物体面上での走査ビームの反射光に
   より前記被検出物体の位置を検出する物体位置検出手段
   とを有する光走査型位置検出装置において、前記走査部
   材の前記偏向反射鏡に前記主光学系の光路とは別の光路
   にて第２の光ビームを照射する照射光学系と、該照射光
   学系から供給されて前記走査部材の偏向反射鏡によって
   反射された第２光ビームを集光するための集光光学系と
   、該集光光学系による第２光ビームの位置を検出するこ
   とによって前記偏向反射鏡の位置を検出する偏向反射鏡
   位置検出手段とを有し、前記物体位置検出手段は前記偏
   向反射鏡位置検出手段からの出力信号にもとづいて前記
   被検出物体の位置を検出することを特徴とする光走査型
   位置検出装置。
2. （２）前記走査部材の偏向反射鏡において前記第２光ビ
   ームは、前記物体位置検出用の光ビームの反射面と同一
   反射面上のほぼ同一位置にて反射される構成であること
   を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光走査型位置
   検出装置。
3. （３）前記走査部材の偏向反射鏡上において、前記第２
   光ビームの照射光学系の光軸と該第２光ビームを集光す
   るための集光光学系との光軸を含む平面は、該偏向反射
   鏡上における前記主光学系の光ビームの入射面に一致し
   て構成されていることを特徴とする特許請求の範囲第２
   項記載の光走査型位置検出装置。
4. （４）前記第２光ビームは前記物体位置検出用の光ビー
   ムとは異なる波長の光であることを特徴とする特許請求
   の範囲第１項乃至第３項記載の光走査型位置検出装置。
5. （５）前記第２ビームを集光するための集光光学系の歪
   曲収差量は、前記主光学系の被検出物体面上での歪曲収
   差量とほぼ等しい値に構成されていることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項乃至第４項記載の光走査型位置検
   出装置。