JPS63231201A - 漏洩磁界型リニアポジシヨナ - Google Patents

漏洩磁界型リニアポジシヨナ

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JPS63231201A
JPS63231201A JP6498887A JP6498887A JPS63231201A JP S63231201 A JPS63231201 A JP S63231201A JP 6498887 A JP6498887 A JP 6498887A JP 6498887 A JP6498887 A JP 6498887A JP S63231201 A JPS63231201 A JP S63231201A
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magnetic field
magnetic sensor
leakage magnetic
internal
internal magnetization
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JP6498887A
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Yoshiaki Fujiwara
嘉朗 藤原
Michiko Endou
みち子 遠藤
Yuji Kojima
雄次 小島
Shigemi Kurashima
茂美 倉島
Shinkichi Shimizu
信吉 清水
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
  • Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 磁気センサを構成する磁気抵抗素子の初期磁化(内部磁
化)が外部磁界により減磁されるのを防止するため、漏
洩磁界のコークに平行な成分の向きと、磁気センサの内
部磁化の向きとが一致するように、磁気センサを配置す
る。
〔産業上の利用分野〕
従来、アナログ出力で絶対位置測定可能なポジショナと
して、スライド抵抗器が知られているが、摺動接触形な
ため、繰り返し回数の制限や摺動時の雑音が問題となっ
ていた。一方非接触形として、光スリットをカウントす
る光スケールや磁気スケールがあるが、移動量しか測定
できず、絶対位置の測定には特別の工夫を要した。
ところが近年、FA用制御機器、自動車用として、地対
位置が測定できる無摺動形アナログ出力ポジショナの要
望が高くなっている。これに応えるには、前記両者の長
所を兼ね備えた非接触型で、アナログ(リニア)式で、
かつ絶対位置を測定可能なリニアポジショナが必要とな
る。本発明は、このようなリニアポジショナのうち、漏
洩磁界を利用して絶対位置を測定する装置に関する。
〔従来の技術〕
漏洩磁界を利用して非接触で絶対位置を測定できるリニ
アポジショナとして、本発明の出願人から、特願昭60
−202832号により、第5図のような漏洩磁界型リ
ニアポジショナが提案されている。
すなわち互いに平行な2枚のヨーク(!!鉄)1.2の
両端間に磁石M g 1、Mg2が配設されている。
このとき、左側の磁石Mg1−上のヨーク1−右の磁石
Mg2−下のヨーク2−左の磁石Mglの閉磁路が形成
されるように、左右の磁石Mgl、Mg2は、異極同士
が対応している。このように閉磁路となっているため、
磁石Mgl、M g 2から発生する磁束は主にヨーク
1.2を通るが、Fl、F2のように、上下のヨークl
、2間の空間Aで漏洩磁束が発生する。この漏洩磁束の
うち左半分の漏洩磁束F1は、磁石Mglから近いほど
磁界が強く、丁度中間位置で最小となる。また右半分の
漏洩磁束F2は、磁石シMg2から近いほど磁界が強く
、丁度中間位置で最小となる。しかも左半分の漏洩磁束
F1と右半分の゛□漏洩磁束F2とでは、向きが逆にな
る。したがって、上下のヨーク1.2間の空間Aは、そ
の左右方向の位置によって磁界の強さと向きが異なるた
め、この空間に磁気センサSを可動式に配置すれば、そ
の左右方向の位置をアナログ式に、かつ非接触に検出で
きる。
磁気センサSとしては、第6図のようなパターンで第8
図のようなブリッジを構成したものが有効である。第6
図、第7図において、Siなどから成る基板3上に形成
されたSin、等の酸化膜から成る絶縁層4の上に、パ
ーマロイ等の磁性薄膜5を被着し、つづらおり状にバタ
ーニングされている。次いで磁性薄膜5の長手方向に一
軸磁気異方性を付与するために、磁界中で熱処理した後
、CrやTiなどから成る密着層6とAuやA1等の導
電性薄膜7を一定間隔で斜めに形成することで、いわゆ
るバーバーポール(barber pole)状のパタ
ーンが形成される。その際、外部との接続を行なうため
のリードパターン9も同時に作成される。8は保護膜で
ある。
このように構成された磁気センサSは、磁性薄膜5のつ
づら折りパターンと平行に付与された内部磁化Mの方向
と、導電性薄膜7を流れる電流iの成す角度θ1が、π
/4+nπ(または7/4π−n=)(n=o、1・・
・)であれば、磁気抵抗ρが同じ関係にあることに着目
し、出力を増大させることができる。そして第8図に示
すように、つづら折り状に形成された磁性薄膜5の往復
両方向に導電性薄膜7を斜めに配設した素子をブリッジ
に組み、両出力端子間の電位差を測定することで、高感
度の磁気センサが得られる。
このように予め内部磁化Mが付与された磁気センサSを
、第5図の上側ヨーク1の下に配置するが、各漏洩磁束
F1、F2は円弧状を描くため、水平方向成分Phと垂
直(ヨーク1.2と垂直)方向成分Fvに分けられる。
この漏洩磁束の水平方向成分Fhと磁気センサSの内部
磁化Mが平行になるように配置される。磁気センサSで
は、内部磁化Mと磁性薄膜5中を流れる電流iとの角度
により電気抵抗が変化する。ところが第9図に示すよう
に、漏洩磁束の中では、漏洩磁束から受ける外部磁界H
exと内部磁化Mとが合成され、内部磁化Mの回転が生
じ、内部磁化Mの方向が変化するため、電流iとの角度
も変化する。したがってこの角度変化によって増減する
電気抵抗値を測定することで、外部磁界すなわち漏洩磁
界の垂直成分Fv、つまり左右の磁石Mgl、Mg2か
らの距離を測定できる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
ところで、磁気センサSを第5図のように漏洩磁束空間
の上側に配置した場合と鎖線で示すように下側に配置し
た場合とでは、検出特性に狂G)が生じる。すなわち漏
洩磁束空間Aの下側においては、漏洩磁束の水平成分F
hは、内部磁化Mと向きが逆になるため、内部磁化Mよ
り水平成分が大きいと、内部磁化Mが減磁されて、内部
磁化Mと外部磁界Hexとの合成値が反転し、正確な測
定が不可能となる。
本発明の技術的課題は、従来の漏洩磁界型リニアポジシ
ョナにおけるこのような問題を解消し、常に正確に測定
可能とすることにある。
〔問題点を解決するための手段〕
第1図は本発明による漏洩磁界型リニアポジショナの基
本原理を説明する図である。1.2は漏洩磁束F1、F
2を発生させるためのヨークであり、互いに平行に配置
されている。そして両ヨーク1.2間の空間Aに、漏洩
磁界の強さを測定するために、強磁性金属膜磁気抵抗素
子から成る磁気センサSが配置される。このとき、漏洩
磁界のヨーク1.2と平行な成分FhO向きと、磁気セ
ンサSの初期磁化(内部磁化)Mの向きとが一致するよ
うに配置する。
〔作用〕
第5図に鎖線で示すように、磁気センサSを下側に配置
すると、第2図(b)に示すように、磁気センサSの内
部磁化Mに対し、漏洩磁界による外部磁界Hexが逆向
きになる。そのため、内部磁化Mが外部磁界Hexによ
って、H′のように減磁される。
内部磁化Mより外部磁界Hexが大きい場合は、内部磁
化Mは初期の方向から逆転する。その結果、磁気抵抗素
子の極性は逆になり、測定結果に狂いが生じる。
これに対し、本発明によれば、磁気センサSはその内部
磁化Mが常に外部磁界HexO向きと一致するように配
置される。そのため、第2図(a)のように、常に内部
磁化Mの向きと外部磁界HexO向きが一致することに
なり、内部磁化Mが外部磁界Hexによって減磁される
ことはない。その結果、外部磁界Hexによって、内部
磁化Mの回転に狂いが生じることはなく、常に正確な位
置測定が可能となる。
〔実施例〕
次に本発明による漏洩磁界型リニアポジショナが実際上
どのように具体化されるかを実施例で説明する。第3図
は本発明の第1実施例であり、第1図の構成に比べると
、左右の磁石Mgl、Mg2の極性が逆になっている。
そのため、外部磁界Hexすなわち漏洩磁界の水平成分
Fhが左向きになるが、これに合わせて磁気センサSの
内部磁化M力値−きになるように配置されている。この
磁気センサSを、漏洩磁束空間Aにおいて、鎖線で示す
ように下側に配置する場合は、漏洩磁束の水平成分Fh
は右向きとなるため、磁気センサSの内部磁化Mも右向
きとなるように配置される。
第4図は本発明の別の実施例であり、磁石が1つの磁気
回路になっている。この場合は、第1図 。
の左半分とほぼ同じ構成になり、磁石Mgに近い 1位
置はど漏洩磁界が強いので、これを利用して、磁石Mg
からの距離を測定できる。この実施例においても、漏洩
磁束空間Aにおいて、磁気センサSを上側に配置する場
合は、内部磁化Mの向きを右向きとし、鎖線で示すよう
に下側に置く場合は、内部磁化Mの向きを左向きとする
ことで、漏洩磁界の水平成分Fhと磁気抵抗素子の内部
磁化Mの向きを常に一致させる。
〔発明の効果〕
以上のように本発明によれば、常に磁気センサSの内部
磁化Mの向きが漏洩磁界の水平成分Fhと同じ向きとな
るように配置されるので、内部磁化Mと外部磁界Hex
とが常に同じ向きとなる。その結果、内部磁化Mの減磁
作用が防止され、漏洩磁界の水平成分Fhによる内部磁
化Mの回転角に狂いを生じ、測定に支障を来す問題が解
消され、信頼度の高い漏洩磁界型リニアポジショナが実
現される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による漏洩磁界型リニアポジショナの基
本原理を説明する側面図、第2図は本発明の作用(磁気
抵抗素子の内部磁化の変化)を説明する図、第3図は本
発明の第1実施例を示す側面図、第4図は本発明の第2
実施例を示す側面図、第5図は従来の漏洩磁界型リニア
ポジショナの側面図、第6図〜第8図は磁気センサの内
部構成を示す図、第9図は漏洩磁界の検出作用を示す図
である。 図において、Mgl、Mg2、Mgは磁石、1.2はヨ
ーク、Fl、F2は漏洩磁束、Fhは漏洩磁束の水平成
分、Fvは漏洩磁界の垂直成分、Sは磁気センサ、Mは
内部磁化をそれぞれ示す。 水毎日月の基本原美F。 第1図 (2)Mの変化なし           (し)r−
1の変化有磁丸低坑水子の内部慮化の変化 躬I実施例 第3区 鴇2実施例 上覧 ム M tfiの漏洩微罪型+に7ポジシヨナ 第5区 猛気拡坑素子のバターシ形状゛ 第6 図 断 面 図 第7図 磁気セシサの&風回路 第8図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 磁石によって発生した磁界を、2つの平行配置されたヨ
    ーク1、2間で漏洩させ、漏洩磁界のヨーク1、2と垂
    直方向の成分Fvの強さを、強磁性金属膜磁気抵抗素子
    から成る磁気センサSを用いて測定するリニアポジショ
    ナにおいて、 漏洩磁界のヨークに平行な成分の向きと、磁気センサS
    の初期磁化(内部磁化)Mの向きとが一致するように配
    置して成ることを特徴とする漏洩磁界型リニアポジショ
    ナ。
JP6498887A 1987-03-19 1987-03-19 漏洩磁界型リニアポジシヨナ Granted JPS63231201A (ja)

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JPH0561562B2 JPH0561562B2 (ja) 1993-09-06

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008286588A (ja) * 2007-05-16 2008-11-27 Alps Electric Co Ltd 位置検知装置
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JPH0561562B2 (ja) 1993-09-06

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