JPS63226856A - 液体金属イオン源 - Google Patents
液体金属イオン源Info
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- JPS63226856A JPS63226856A JP6057987A JP6057987A JPS63226856A JP S63226856 A JPS63226856 A JP S63226856A JP 6057987 A JP6057987 A JP 6057987A JP 6057987 A JP6057987 A JP 6057987A JP S63226856 A JPS63226856 A JP S63226856A
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Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、液体金属イオン源に関するものであり、特
に加熱手段の構造の改良された抵抗加熱方式のイオン源
に関するものである。
に加熱手段の構造の改良された抵抗加熱方式のイオン源
に関するものである。
[従来の技術1
液体金属イオン源は、液体金属のイオンから由来するイ
オンビームを与えるものであり、イオン注入装置、イオ
ンビームエツチング装置、イオンマイクロアナライザ等
に利用されている。
オンビームを与えるものであり、イオン注入装置、イオ
ンビームエツチング装置、イオンマイクロアナライザ等
に利用されている。
第2図は第1の従来例である実開昭59−55848号
公報に記載されている液体金属イオン源の断面図である
。
公報に記載されている液体金属イオン源の断面図である
。
その底面が錐状の形をした円筒形状のるつぼ1の中に、
エミッタの働きをする針状チップ2が設置されている。
エミッタの働きをする針状チップ2が設置されている。
針状チップ2の先端は、るつぼ1の底面にある錐状の部
分1aの中心部に設けられた中心孔1a’ を貫通し、
外部に突出している。
分1aの中心部に設けられた中心孔1a’ を貫通し、
外部に突出している。
釘状チップ2の先端部2aの対向する位置に、引出電極
3が設けられている。るつぼ1の外部には、該るつぼ1
を加熱するエナメル線でできた通電加熱用ヒータ4がコ
イル状に轡付けられて設けられている。るつぼ1内には
、イオン化すべき金属、た°とえば、Ga、Au、In
、 △us+、Au5l 36 %のイオン源金属5
が入れられる。そして、るつぼ1の上部はるつぼ蓋6に
よって閉じられる。
3が設けられている。るつぼ1の外部には、該るつぼ1
を加熱するエナメル線でできた通電加熱用ヒータ4がコ
イル状に轡付けられて設けられている。るつぼ1内には
、イオン化すべき金属、た°とえば、Ga、Au、In
、 △us+、Au5l 36 %のイオン源金属5
が入れられる。そして、るつぼ1の上部はるつぼ蓋6に
よって閉じられる。
通電加熱用ヒータ4は加熱用電源7に接続されている。
エミッタである針状チップ2と引出電極3の間には引出
電圧用電源8が接続されており、通常数kVの電圧がか
けられる。加熱用電源7の一端には、イオンを加速する
ための加速電源9が接続されており、該加速電源9の他
方端は接地されている。
電圧用電源8が接続されており、通常数kVの電圧がか
けられる。加熱用電源7の一端には、イオンを加速する
ための加速電源9が接続されており、該加速電源9の他
方端は接地されている。
次に動作について説明する。
るつぼ1内にイオン源金属5を入れる。次いで、加熱用
電源7をONL、通電加熱用ヒータ4で、るつぼ1を加
熱する。するとその熱により、るつぼ1内に入れられた
イオン源金属は溶融する。イオン源金属5がたとえばG
a (29,7℃)等の金属である場合はおおよそ数
百度の温度で溶融する。液体化した金属は、該るつぼ1
の下方部に形成された錐状の部分1aの中心部に形成さ
れた中心孔18′を通って、針状チップ2の先端2aに
微滴となって留まる。金属の微滴が重力によって下方部
に落らてしまわないのは、その表面張力によるものであ
る。
電源7をONL、通電加熱用ヒータ4で、るつぼ1を加
熱する。するとその熱により、るつぼ1内に入れられた
イオン源金属は溶融する。イオン源金属5がたとえばG
a (29,7℃)等の金属である場合はおおよそ数
百度の温度で溶融する。液体化した金属は、該るつぼ1
の下方部に形成された錐状の部分1aの中心部に形成さ
れた中心孔18′を通って、針状チップ2の先端2aに
微滴となって留まる。金属の微滴が重力によって下方部
に落らてしまわないのは、その表面張力によるものであ
る。
次いで、釘状デツプ2と引出電極3の間に接続された引
出電圧用電源8をONし、数kVの電圧を印加する。す
ると、釘状チップ2の先端部2aに留まっていた液体金
属の微滴はイオン化して、引出電極3の方に向かってイ
オンビーム10として引出される。
出電圧用電源8をONし、数kVの電圧を印加する。す
ると、釘状チップ2の先端部2aに留まっていた液体金
属の微滴はイオン化して、引出電極3の方に向かってイ
オンビーム10として引出される。
また、るつぼ1内でイオン源金属5が液化した際に生じ
る該金属の飽和蒸気は、るつぼ蓋6があることにより外
部に逸散することなく、るつぼ1内に留まる。
る該金属の飽和蒸気は、るつぼ蓋6があることにより外
部に逸散することなく、るつぼ1内に留まる。
第3図は、第2の従来例である特開昭58−13794
0号公報に記載されている液体金属イオン源の断面図で
ある。
0号公報に記載されている液体金属イオン源の断面図で
ある。
説明を簡単にするために、第2図に示したものと同一ま
たは相当部分を示すものには、同一符号を付している。
たは相当部分を示すものには、同一符号を付している。
第2図と異なる点は、通電加熱用ヒータ4がるつぼ1の
上部に取付けられる電極1”+、ii’の上に、挾まれ
るようにして、設けられている点である。加熱用電源7
をONL、て電極11.11’間に電圧を印加して通電
加熱用ヒータ4を加熱し、その熱によりるつぼ1を加熱
するのである。
上部に取付けられる電極1”+、ii’の上に、挾まれ
るようにして、設けられている点である。加熱用電源7
をONL、て電極11.11’間に電圧を印加して通電
加熱用ヒータ4を加熱し、その熱によりるつぼ1を加熱
するのである。
その他の構成部分および動作については、第2図に示し
た第1の従来例と同じであるので、同一符号を付してそ
の説明を省略する。
た第1の従来例と同じであるので、同一符号を付してそ
の説明を省略する。
[発明が解決しようとする問題点]
従来の液体金属イオン源は以上のような構成になってお
り、るつぼ1を加熱する方式に工夫が凝らされている。
り、るつぼ1を加熱する方式に工夫が凝らされている。
しかしながら、第1の従来例においては、通電加熱用ヒ
ータ2がるつぼ1の外側にコイル状に巻付けられて設け
られているので、通主加熱用ヒータ4とるつぼ1との接
触面積が小さくなり、そのため熱が周囲に放散しやすく
なり、その結果、加熱効率が悪くなるという問題点があ
った。
ータ2がるつぼ1の外側にコイル状に巻付けられて設け
られているので、通主加熱用ヒータ4とるつぼ1との接
触面積が小さくなり、そのため熱が周囲に放散しやすく
なり、その結果、加熱効率が悪くなるという問題点があ
った。
また、第3図に示す第2の従来例においては、通電加熱
用ヒータ4が、液体金属イオン源を加熱するに真に必要
な部分(るつぼ1の下方部)から遠く離れて設けられて
いるので、加熱効率が悪くなり、その結果、多量の電力
を必要とするという問題点があった。
用ヒータ4が、液体金属イオン源を加熱するに真に必要
な部分(るつぼ1の下方部)から遠く離れて設けられて
いるので、加熱効率が悪くなり、その結果、多量の電力
を必要とするという問題点があった。
この発明は上記問題点を解決するためになされたもので
、加熱効率の高められた液体金属イオン源を提供するこ
とを目的とする。
、加熱効率の高められた液体金属イオン源を提供するこ
とを目的とする。
[問題点を解決するための手段]
この発明は、イオン化すべき金属を入れる絶縁材料製の
るつぼと、該るつぼ内の金属を加熱するための通電加熱
用ヒータと、前記るつぼの下方中心部に形成された中心
孔に先端部が位置するよう設けられ、イオンビームのエ
ミッタとして働く針状チップと、該針状チップの先端部
からイオンを引出すための引出電極と、を備える液体金
属イオン源にかかるものである。そして、前記通電加熱
用ヒータが、前記るつぼの外表面全体に被覆された導電
性材料の膜で、形成されていることを特徴とする。
るつぼと、該るつぼ内の金属を加熱するための通電加熱
用ヒータと、前記るつぼの下方中心部に形成された中心
孔に先端部が位置するよう設けられ、イオンビームのエ
ミッタとして働く針状チップと、該針状チップの先端部
からイオンを引出すための引出電極と、を備える液体金
属イオン源にかかるものである。そして、前記通電加熱
用ヒータが、前記るつぼの外表面全体に被覆された導電
性材料の膜で、形成されていることを特徴とする。
[作用]
この発明の液体金属イオン源において、通電加熱用ヒー
タは、前記るつぼの外表面全体に被覆された1、Iil
性材料の膜で、形成されているので、るつぼとの1!!
!着性が良く、接触面積を大きくする。
タは、前記るつぼの外表面全体に被覆された1、Iil
性材料の膜で、形成されているので、るつぼとの1!!
!着性が良く、接触面積を大きくする。
したがって、通電加熱用ヒータで発熱された熱の周囲へ
の放散が少なく、加熱効率が高められる。
の放散が少なく、加熱効率が高められる。
[実施例]
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第1図はこの発明の一実施例を示す部分切欠断面図であ
る。
る。
第1図において、るつぼ1の外側には、その外表面全体
に被覆された導電性材料の膜である、通電加熱用ヒータ
4が設けられている。導電性材料の膜は、導電性化合物
ペーストを焼付けて形成するか、あるいは導電性セラミ
ックから形成される。
に被覆された導電性材料の膜である、通電加熱用ヒータ
4が設けられている。導電性材料の膜は、導電性化合物
ペーストを焼付けて形成するか、あるいは導電性セラミ
ックから形成される。
該通電加熱用ヒータ4は、るつぼ1の下方中心部に設け
られた中心孔i a /の内側にまで達している。該中
心孔1a J に設けられた通電加熱用ヒータ4の終端
に先端部2aを接するようにして、針状チップ2がるつ
ぼ1内を貫通して設けられている。咳針状チップ2の先
端部2aには、溝2bが形成されており、咳溝2bを通
りるつぼ1内の金属が流出可能にされている。通電加熱
用ヒータ4は、るつぼ1の外表面全体に被覆されて設け
られており、るつぼ1上方に位置する通電加熱用ヒータ
4の部分には、電極11が接するようにして取付けられ
ている。るつぼ1の上には、るつぼ蓋6が取付けられて
おり、該るつぼ蓋6の上にはるつぼホルダ12が取付け
られている。
られた中心孔i a /の内側にまで達している。該中
心孔1a J に設けられた通電加熱用ヒータ4の終端
に先端部2aを接するようにして、針状チップ2がるつ
ぼ1内を貫通して設けられている。咳針状チップ2の先
端部2aには、溝2bが形成されており、咳溝2bを通
りるつぼ1内の金属が流出可能にされている。通電加熱
用ヒータ4は、るつぼ1の外表面全体に被覆されて設け
られており、るつぼ1上方に位置する通電加熱用ヒータ
4の部分には、電極11が接するようにして取付けられ
ている。るつぼ1の上には、るつぼ蓋6が取付けられて
おり、該るつぼ蓋6の上にはるつぼホルダ12が取付け
られている。
るつぼ1の下方には引出電極3が配置されており、該引
出電極3と電極11との間には、引出電源8が接続され
ている。また、イオンのエミッタとして働く針状チップ
2と電極11との間には、加熱用’ilt源7が接続さ
れている。加熱用電源7の一端には、イオンを加速する
ための加速電源9が接続されており、該加速電源9の他
方端は接地されている。
出電極3と電極11との間には、引出電源8が接続され
ている。また、イオンのエミッタとして働く針状チップ
2と電極11との間には、加熱用’ilt源7が接続さ
れている。加熱用電源7の一端には、イオンを加速する
ための加速電源9が接続されており、該加速電源9の他
方端は接地されている。
るつぼ1の材質としては、液体金属と反応しない材質が
好ましく、たとえばアルミナなどのセラミックが望まし
い。また、エミッタチップも、液体金属と反応しない材
質のものが好ましく、たとえばタングステンを用いる。
好ましく、たとえばアルミナなどのセラミックが望まし
い。また、エミッタチップも、液体金属と反応しない材
質のものが好ましく、たとえばタングステンを用いる。
通電加熱用ヒータとしては、たとえばモリブデンやタン
グステンなどの11性化合物のペーストを焼結したもの
、あるいは導電性セラミックを用いることができる。導
電性セラミックには81 C,St N、T+ C,T
INが好ましく用いられる。この場合の膜形成には、た
とえばプラズマCVD法が利用される。
グステンなどの11性化合物のペーストを焼結したもの
、あるいは導電性セラミックを用いることができる。導
電性セラミックには81 C,St N、T+ C,T
INが好ましく用いられる。この場合の膜形成には、た
とえばプラズマCVD法が利用される。
針状チップ2の先端部2aは、中心孔i a / にI
Gプられている通電加熱用ヒータ4の終端と接している
ため、加熱用電源7からの電流は、針状チップ2から通
電加熱用ヒータ4に流れる。通電加熱用ヒータ4の他の
端は電極11と接しているため、通電加熱用ヒータ4を
流れる電流は電極11を通り加熱用電源7に戻る。この
ようにして、通電加熱用ヒータ4に電流が流れ、るつぼ
1内のイオン源金属5が加熱される。加熱されたイオン
源金l1l15は、液体状となり針状チップ2の先端部
2aに形成された1!2bを通り流出してイオン化され
、引出電極3によってイオンビーム10として引出され
る。
Gプられている通電加熱用ヒータ4の終端と接している
ため、加熱用電源7からの電流は、針状チップ2から通
電加熱用ヒータ4に流れる。通電加熱用ヒータ4の他の
端は電極11と接しているため、通電加熱用ヒータ4を
流れる電流は電極11を通り加熱用電源7に戻る。この
ようにして、通電加熱用ヒータ4に電流が流れ、るつぼ
1内のイオン源金属5が加熱される。加熱されたイオン
源金l1l15は、液体状となり針状チップ2の先端部
2aに形成された1!2bを通り流出してイオン化され
、引出電極3によってイオンビーム10として引出され
る。
以上のようにして、この実施例のるつぼ内の金属はイオ
ン化されるが、通電加熱用ヒータ4を前記るつぼの外表
面全体に被覆された導電性材料の膜で形成しているので
、るつぼとの密着性が良い。
ン化されるが、通電加熱用ヒータ4を前記るつぼの外表
面全体に被覆された導電性材料の膜で形成しているので
、るつぼとの密着性が良い。
したがって、るつぼとの接触面積が大きく、通電加熱用
ヒータにより生じた熱は有効にるつぼ内に伝導され、周
囲への熱の放散が少ない。
ヒータにより生じた熱は有効にるつぼ内に伝導され、周
囲への熱の放散が少ない。
なおこの実施例では、るつぼI6が設けられているため
、高飽和蒸気圧のイオン源金属にもこの発明を応用する
ことができる。しかしながら、この発明では必ずしもる
つぼ蓋を取付ける必要はない。
、高飽和蒸気圧のイオン源金属にもこの発明を応用する
ことができる。しかしながら、この発明では必ずしもる
つぼ蓋を取付ける必要はない。
また、この実施例のように、るつぼおよび針状チップの
材質を金属と反応しにくいものとすることにより、反応
性のイオン源金属にも応用し得るイオン源とすることが
できる。
材質を金属と反応しにくいものとすることにより、反応
性のイオン源金属にも応用し得るイオン源とすることが
できる。
以上、具体的な実施例を挙げてこの発明の液体金属イオ
ン源を説明したが、この発明はこの実施例に限定される
ものではない。
ン源を説明したが、この発明はこの実施例に限定される
ものではない。
[発明の効果]
以上説明したように、この発明の液体金属イオン源では
、通電加熱用ヒータをるつぼの外表面全体に被覆された
導電性材料の膜で形成しているため、るつぼとの密着性
が良く、るつぼ内への熱伝導が改善される。したがって
、この発明の液体金属イオン源は、従来よりも加熱効率
が向上し、ひいては省電力化が達成される。また、加熱
効率が。
、通電加熱用ヒータをるつぼの外表面全体に被覆された
導電性材料の膜で形成しているため、るつぼとの密着性
が良く、るつぼ内への熱伝導が改善される。したがって
、この発明の液体金属イオン源は、従来よりも加熱効率
が向上し、ひいては省電力化が達成される。また、加熱
効率が。
良好なため、この充用の液体金属イオン源は、特に高融
点金属の加熱・溶解に有効に利用され得るものである。
点金属の加熱・溶解に有効に利用され得るものである。
第1図はこの発明の一実施例を示す部分切欠断面図、第
2図は第1の従来例である液体金属イオン源の断面図、
第3図は第2の従来例の液体金属イオン源の断面図であ
る。 図において、1はるつぼ、1a′は中心孔、2は針状チ
ップ、2aは針状チップの先端部、2bは溝、3は引出
電極、4は通電加熱用ヒータ、5はイオン源金属、10
はイオンビームである。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。 1:3つ(デ 2b:清 ′ 3; ヅ1士電極 10: イiンビ′−ム
2図は第1の従来例である液体金属イオン源の断面図、
第3図は第2の従来例の液体金属イオン源の断面図であ
る。 図において、1はるつぼ、1a′は中心孔、2は針状チ
ップ、2aは針状チップの先端部、2bは溝、3は引出
電極、4は通電加熱用ヒータ、5はイオン源金属、10
はイオンビームである。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。 1:3つ(デ 2b:清 ′ 3; ヅ1士電極 10: イiンビ′−ム
Claims (9)
- (1)イオン化すべき金属を入れる絶縁材料製のるつぼ
と、 該るつぼ内の金属を加熱するための通電加熱用ヒータと
、 前記るつぼの下方中心部に形成された中心孔に先端部が
位置するよう設けられ、イオンビームのエミッタとして
働く針状チップと、 該針状チップの先端部からイオンを引き出すための引出
電極と、 を備える液体金属イオン源において、 前記通電加熱用ヒータが、前記るつぼの外表面全体に被
覆された導電性材料の膜で、形成されていることを特徴
とする液体金属イオン源。 - (2)前記導電性材料が導電性化合物ペーストの焼結体
から形成されている特許請求の範囲第1項記載の液体金
属イオン源。 - (3)前記導電性化合物がモリブデンまたはタングステ
ンである特許請求の範囲第2項記載の液体金属イオン源
。 - (4)前記導電性材料が導電性セラミックから形成され
ている特許請求の範囲第1項記載の液体金属イオン源。 - (5)前記導電性セラミックがSiC、SiN、TiC
、TiNである特許請求の範囲第4項記載の液体金属イ
オン源。 - (6)前記るつぼがセラミックから形成されている特許
請求の範囲第1項ないし第5項のいずれかに記載の液体
金属イオン源。 - (7)前記セラミックがアルミナである特許請求の範囲
第6項記載の液体金属イオン源。 - (8)前記針状チップの先端部が、前記るつぼの中心孔
の内側に形成された通電加熱用ヒータに接するように設
けられている特許請求の範囲第1項ないし第7項のいず
れかに記載の液体金属イオン源。 - (9)前記針状チップの先端部に、溶融した金属が通る
ための溝が形成されている特許請求の範囲第1項ないし
第8項のいずれかに記載の液体金属イオン源。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6057987A JPS63226856A (ja) | 1987-03-16 | 1987-03-16 | 液体金属イオン源 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6057987A JPS63226856A (ja) | 1987-03-16 | 1987-03-16 | 液体金属イオン源 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63226856A true JPS63226856A (ja) | 1988-09-21 |
Family
ID=13146298
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6057987A Pending JPS63226856A (ja) | 1987-03-16 | 1987-03-16 | 液体金属イオン源 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63226856A (ja) |
-
1987
- 1987-03-16 JP JP6057987A patent/JPS63226856A/ja active Pending
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