JPS63222401A - Manufacture of chip type positive characteristic thermistor - Google Patents

Manufacture of chip type positive characteristic thermistor

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JPS63222401A
JPS63222401A JP5621087A JP5621087A JPS63222401A JP S63222401 A JPS63222401 A JP S63222401A JP 5621087 A JP5621087 A JP 5621087A JP 5621087 A JP5621087 A JP 5621087A JP S63222401 A JPS63222401 A JP S63222401A
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chip
type positive
continuum
contact electrode
continuous
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藤原 博人
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、角形チップ状の正特性サーミスタの製造方法
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to a method for manufacturing a square chip-shaped positive temperature coefficient thermistor.

〈従来の技術〉 従来、角形チップ状の正特性サーミスタは、第5図の断
面図に示すように、角形チップ状の素体1oの両端部の
一方の主表面(図において上面)にそれぞれ、ニッケル
等の銀を含まないオーム性材料により一接触電極2゜、
2oを形成し、各接触電極2゜+20の上から銀ペース
トにより素体1゜の両端部を覆う表面電極3゜、3oを
形成したもので、素体1゜の上記一方の主表面側におい
ては、表面電極3゜、3oどうしの対向縁か接触電極2
゜、2oどうしの対向縁より端部側へ後退している。
<Prior Art> Conventionally, a square chip-shaped positive temperature coefficient thermistor has a square chip-shaped positive temperature coefficient thermistor, as shown in the cross-sectional view of FIG. One contact electrode 2° made of ohmic material that does not contain silver such as nickel,
2o is formed, and surface electrodes 3° and 3o are formed from above each contact electrode 2°+20 using silver paste to cover both ends of the element body 1°, and on the one main surface side of the element body 1°. is the opposite edge of the surface electrodes 3° and 3o, or the contact electrode 2
゜, 2o are set back toward the end side from the opposing edges.

この従来のチップ型正特性サーミスタを製造するに当た
っては、通常、多数の素体の単体1゜、・・・が縦横に
連続する板状の索体連続体を用意し、この素体連続体の
一方の主表面において素体単体1゜の端部に相当する個
所に接触電極2゜、・・・を連続して形成したのち、素
体連続体を多数の素体単体1゜。
In manufacturing this conventional chip-type positive temperature coefficient thermistor, a plate-like cable continuum in which a large number of element elements 1°, . . . After forming contact electrodes 2°, .

・・・に分割することによって、両端部の一方の主表面
に接触電極2゜、2゜を有する素体単体1゜を得、この
のち、各素体単体1゜毎に、その両端部にそれぞれ表面
電極3゜、3oを形成する方法が採用されている。
By dividing it into ..., a 1° element body having contact electrodes 2°, 2° on one main surface of both ends is obtained, and after that, for each 1° element, on both ends thereof, A method of forming surface electrodes 3° and 3o, respectively, is adopted.

〈発明が解決しようとする問題点〉 上記の製造方法によれば、多数の素体単体1゜。<Problem that the invention seeks to solve> According to the above manufacturing method, a large number of single element bodies with an angle of 1°.

・・・に対して一挙に接触電極2゜、・・・が形成され
るので、生産効率がよいが、それにより得られるチップ
型正特性サーミスタには、次のような問題があった。
Since the contact electrodes 2°, . . . are formed all at once with respect to .

すなわち、接触電極2゜が素体1゜端部の各面のうち、
一方の主表面にのみ形成されていて接触電極2゜の面積
が小さいので、回路基板4゜等への半田付け5゜時に表
面電極3゜に半田くわれが生じた場合、接触電極2゜と
回路基板4゜のランド6゜との間の電気的接続が不良に
なることがあり、信頼性に乏しい。
That is, the contact electrode 2° is located on each surface of the 1° end of the element body.
Since it is formed only on one main surface and the area of the contact electrode 2° is small, if solder cracks occur on the surface electrode 3° when soldering 5° to a circuit board 4°, etc., the contact electrode 2° and The electrical connection between the circuit board 4° and the land 6° may become defective, resulting in poor reliability.

これに対しては、表面電極3゜の厚みを充分に厚くすれ
ばよいが、その場合は高価な電極材料の使用量が増大し
、コストアップを招来する。
To solve this problem, the thickness of the surface electrode 3° may be made sufficiently thick, but in that case, the amount of expensive electrode material used increases, leading to an increase in cost.

また、素体1゜の一方の主表面(図において上面)側に
おいては、表面電極3゜よりも突出している接触電極2
゜の対向縁に電荷が集中するので、′表面電極3゜、3
o間にマイグレーションが発生しないが、素体1゜の他
方の主表面(図において下面)側においては、表面電極
3゜の内側に接触電極がなく、表面電極3゜、3oどう
しが直接対向しているので、この対向縁間にはマイグレ
ーションが生じやすい。
In addition, on one main surface (upper surface in the figure) of the element body 1°, a contact electrode 2 protrudes beyond the surface electrode 3°.
Since the charges are concentrated on the opposite edges of the 'surface electrodes 3°, 3
However, on the other main surface (lower surface in the figure) of the element body 1°, there is no contact electrode inside the surface electrode 3°, and the surface electrodes 3° and 3o directly oppose each other. Therefore, migration is likely to occur between these opposing edges.

さらに、従来のチップ型正特性サーミスタでは、接触電
極2゜が存在する一方の主表面側が主たる発熱部位とな
るので、回路基板4゜等への実装の際、表裏を区別する
必要が・あり、取り扱いが面倒である。
Furthermore, in the conventional chip-type positive temperature coefficient thermistor, the main surface side where the contact electrode 2° is present is the main heat generation site, so when mounting it on a circuit board 4° etc., it is necessary to distinguish between the front and back sides. It is troublesome to handle.

これに対しては、素体単体毎に接触電極と表面電極とを
順次形成して、接触電極および表面電極の形状を、接続
不良やマイグレーションが発生しない形状にする方法が
考えられるが、それでは生産効率が低下する。
One possible solution to this problem is to sequentially form a contact electrode and a surface electrode for each element so that the shape of the contact electrode and surface electrode is shaped so that connection failures and migration do not occur. Efficiency decreases.

本発明は、上記の問題点に鑑み、半田付は時の接続不良
やマイグレーションが発生せず、しかも実装時の取り扱
いが容易なチップ型正特性サーミスタを効率よく製造し
うる方法を提供することを目的とする。
In view of the above-mentioned problems, it is an object of the present invention to provide a method for efficiently manufacturing a chip-type positive temperature coefficient thermistor that does not cause poor connection or migration when soldered, and is easy to handle during mounting. purpose.

〈問題点を解決するための手段〉 本発明は、上記の目的を達成するために、チップ型正特
性サーミスタの単体に対応する角形チップ状の素体単体
の多数が互いに幅方向に連続する素体連続体を用意する
工程と、この素体連続体の長手方向に沿って各素体単体
の両主表面の電極不要部に相当する個所にメッキレジス
ト膜を形成する工程と、メッキレジスト膜を有する素体
連続体に銀を含まないオーム性材料のメッキを施して各
素体単体における端部の両主表面および端面が接触電極
となるメッキ膜で被覆されている素体連続体を得る工程
と、メッキ膜を有する素体連続体において互いに連続す
る素体単体の両端部、もしくはこの素体連続体から分割
された素体単体の両端部に、前記接触電極よりも端面側
に退入した状態で銀を主成分とする材料により表面電極
を′形成する工程とにより、チップ型正特性サーミスタ
を製造することにした。
<Means for Solving the Problems> In order to achieve the above object, the present invention has a structure in which a large number of prismatic chip-like element bodies corresponding to a single chip-type positive temperature coefficient thermistor are connected to each other in the width direction. a step of preparing a body continuum; a step of forming a plating resist film along the longitudinal direction of the body continuum at locations corresponding to unnecessary electrode parts on both main surfaces of each element; A step of plating the element continuum with an ohmic material that does not contain silver to obtain an element continuum in which both main surfaces and end surfaces of the ends of each element are covered with a plating film that serves as a contact electrode. And, in the element continuum having the plating film, the element has entered both ends of the element continuum that are continuous with each other, or both ends of the element element divided from this element continuum, toward the end surface side than the contact electrode. We decided to manufacture a chip-type positive temperature coefficient thermistor by forming a surface electrode using a material containing silver as a main component.

く作用〉 上記製造方法によれば、角形チップ状の素体の両端部に
おいて接触電極と表面電極とが素体の両主表面と端面と
を覆い、かつ素体の両主表面で接触電極どうしの対向縁
の方が表面電極どうしの対向縁よりも突出しているチッ
プ型止特性サーミスダが得られる。
According to the above manufacturing method, the contact electrode and the surface electrode cover both main surfaces and end faces of the element body in the form of a square chip, and the contact electrodes cover both main surfaces and end faces of the element body in the form of a square chip. A chip-type static thermistor is obtained in which the opposing edges of the surface electrodes protrude more than the opposing edges of the surface electrodes.

このチップ型正特性サーミスタにおいては、両電極間に
電圧を印加した場合、素体の両主表面で電荷が接触電極
の対向縁に集中することになり、いずれの主表面でもマ
イグレーションが発生しない。また、接触電極の面積が
広いから、回路基板等への半田付けの際、表面電極に多
少半田くわれが生じても、回路基板のランドと接触電極
との接続が充分に確保され、接続不良を生じない。さら
に、接触電極および表面電極の形状が、素体の表裏、左
右に関して対称で、発熱部位が対称となる。
In this chip-type positive temperature coefficient thermistor, when a voltage is applied between both electrodes, charges on both main surfaces of the element body are concentrated on opposing edges of the contact electrodes, and no migration occurs on either main surface. In addition, since the contact electrode has a large area, even if some solder cracks occur on the surface electrode when soldering to a circuit board, etc., the connection between the land of the circuit board and the contact electrode is ensured sufficiently, and there is no possibility of a connection failure. does not occur. Further, the shapes of the contact electrode and the surface electrode are symmetrical with respect to the front and back sides and left and right sides of the element body, and the heat generating portions are symmetrical.

しかも、多数の素体単体に対して一挙に接触電極が形成
されることになり、生産効率が高い。
Moreover, contact electrodes are formed on a large number of element bodies at once, resulting in high production efficiency.

〈実施例〉 以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。
<Example> Hereinafter, the present invention will be described in detail based on an example shown in the drawings.

第1図および第2図はいずれも、本発明製造方法により
得られる角形のチップ型正特性サーミスタの斜視図であ
る。
1 and 2 are both perspective views of a square chip-type positive temperature coefficient thermistor obtained by the manufacturing method of the present invention.

第1図に示したチップ型正特性サーミスタは、後述する
本発明製造方法の第1実施例により得られるもので、角
形チップ状の素体lと、1対の接触電極2.2と、1対
の表面電極3.3とを備えている。
The chip-type positive temperature coefficient thermistor shown in FIG. 1 is obtained by the first embodiment of the manufacturing method of the present invention, which will be described later. and a pair of surface electrodes 3.3.

前記素体1は、たとえばチタン酸バリウム等の半導体セ
ラミックスで構成されている。接触電極2は、ニッケル
やアルミニウム等の銀を含まないオーム性材料で構成さ
れており、素体l端部の両主表面(図において上面およ
び下面)と端面とを側面視でコ字形状に覆っている。し
たがって、この接触電極2は、2つの主表面被覆部2 
a、 2 aと、端面被覆部2bとからなる。また、前
記表面電極3は、銀を主成分とするもので、素体Iの両
端において接触電極2の上から素体lの両主表面と端部
とを側面視でコ字形状に覆っている。したがって、この
表面電極3も、2つの主表面被覆部3a。
The element body 1 is made of semiconductor ceramics such as barium titanate. The contact electrode 2 is made of an ohmic material that does not contain silver, such as nickel or aluminum, and has a U-shape in side view with both main surfaces (top and bottom surfaces in the figure) of the end of the element body (upper and lower surfaces in the figure). covered. Therefore, this contact electrode 2 has two main surface covering parts 2
a, 2a, and an end face covering part 2b. The surface electrode 3 is mainly composed of silver, and covers both main surfaces and ends of the element I from above the contact electrode 2 at both ends of the element I in a U-shape when viewed from the side. There is. Therefore, this surface electrode 3 also has two main surface covering portions 3a.

3aと、端面被覆部3bとからなる。そして、素体の各
主表面において、表面電極3.3の主表面被覆部3 a
、 3 aどうしの対向縁は、接触電極2.2の主表面
被覆部2 a、 2 aどうしの対向縁よりも所定の寸
法Sだけ素体1の端部側に後退している。
3a, and an end face covering part 3b. Then, on each main surface of the element body, the main surface covering portion 3 a of the surface electrode 3.3
, 3a are set back toward the end of the element body 1 by a predetermined dimension S than the opposing edges between the main surface covering portions 2a, 2a of the contact electrode 2.2.

第2図に示したチップ型正特性サーミスタは、本発明製
造方法の第2実施例により得られるもので、このサーミ
スタでは、表ml電□極3が接触電極2の上から素体1
の端部全体を覆っている。したがって、この表面電極3
は、2つの主表面被覆部3 a、 3 aと、端面被覆
部3bと、2つの側面被覆部3 c、 3 cとからな
る。素体1の各主表面において、表面電極3.3の主表
面被覆部3a、3aどうし対向縁が接触電極2.2の主
表面被覆部2 a、 2 aどうしの対向縁よりも所定
の寸法Sだけ素体lの端部側に後退している点は、第1
図に図示のサーミスタと同様である。その他の部分の構
成も、第1図のものと同様であるので、対応する部分に
は同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
The chip-type positive temperature coefficient thermistor shown in FIG. 2 is obtained by the second embodiment of the manufacturing method of the present invention.
covers the entire edge. Therefore, this surface electrode 3
consists of two main surface covering parts 3a, 3a, an end face covering part 3b, and two side face covering parts 3c, 3c. On each main surface of the element body 1, the opposing edges of the main surface covering portions 3a, 3a of the surface electrode 3.3 have a predetermined dimension larger than the opposing edges of the main surface covering portions 2a, 2a of the contact electrode 2.2. The point where S is retreated toward the end of the element L is the first point.
It is similar to the thermistor shown in the figure. The configuration of other parts is also the same as that in FIG. 1, so corresponding parts are given the same reference numerals and detailed explanations will be omitted.

次に、上記構成のチップ型正特性サーミスタの製造方法
を工程順に説明する。
Next, a method for manufacturing the chip-type positive temperature coefficient thermistor having the above structure will be explained step by step.

第3図の(A)〜(F)は、本発明の第1実施例に係り
、第1図に示したチップ型正特性サーミスタの製造工程
の説明図である。このサーミスタの製造方法は、次の各
工程を含んでいる。
FIGS. 3A to 3F are explanatory diagrams of the manufacturing process of the chip type positive temperature coefficient thermistor shown in FIG. 1, according to the first embodiment of the present invention. This thermistor manufacturing method includes the following steps.

■第1工程; まず、第3図(A)に示すように、半導体セラミックス
製の素体連続体lOを用意する。この素体連続体IOは
、短面状で、チップ型正特性サーミスタの単体に対応す
る角形チップ状の素体単体lの多数が互いに素体1の幅
方向(第1図および第2図の矢印イの方向)に連続して
いるものである。
(1) First step: First, as shown in FIG. 3(A), an element body continuum IO made of semiconductor ceramics is prepared. This element continuum IO has a short surface shape, and a large number of rectangular chip-shaped element elements l corresponding to the chip-type positive temperature coefficient thermistor elements are mutually arranged in the width direction of the element element 1 (as shown in FIGS. 1 and 2). It is continuous in the direction of arrow A).

したがって、この素体連続体10において各素体単体l
は側面で他の素体単体lに連続している。
Therefore, in this elemental continuum 10, each elemental element l
is continuous to another elemental element l on the side.

■第2工程; 第3図(B)に示すように、前記素体連続体10の両主
表面の中央部分に、素体連続体10の長手方向に沿って
メッキレジスト液をスクリーン印刷により塗布したのち
、乾燥させ、素体連続体10の両主表面に、所定幅でか
つ素体連続体10の長手方向に連続したメッキレジスト
膜4を形成する。
■Second step; As shown in FIG. 3(B), a plating resist solution is applied by screen printing along the longitudinal direction of the continuous element body 10 at the center of both main surfaces of the continuous element body 10. Thereafter, it is dried, and a plating resist film 4 having a predetermined width and continuous in the longitudinal direction of the continuous element body 10 is formed on both main surfaces of the continuous element body 10.

このメッキレジスト膜4が形成される部分は、各素体単
体lの両主表面において接触電極2が形成されない部位
に相当する。
The portion where the plating resist film 4 is formed corresponds to the portion where the contact electrode 2 is not formed on both main surfaces of each element unit l.

■第3工程; 第3図(C)に示すように、所要個所にメッキレジスト
膜4が形成された素体連続体10に、ニッケル等の銀を
含まないオーム性材料の無電解メッキを施す。これによ
り、素体連続体lOの長手方向に沿った両縁部に接触電
極2となるメッキ膜20が連続して形成される。この素
体連続体lOにおいて各素体単体lの端部は、両主表面
と端面とが接触電極2に覆われることになる。
■Third step: As shown in FIG. 3(C), electroless plating with an ohmic material such as nickel that does not contain silver is applied to the element continuum 10 on which the plating resist film 4 has been formed at the required locations. . As a result, plating films 20, which will become contact electrodes 2, are continuously formed on both edges along the longitudinal direction of the element continuum lO. In this element continuum lO, both main surfaces and end faces of the ends of each element element l are covered with contact electrodes 2.

■第4工程; 無電解メッキが施された素体連続体10からメッキレジ
スト@4を除去する。この除去は、溶剤中でメッキレジ
スト膜4に超音波を当てる等の手段により行なう。これ
によって、第3図(D)に示すように、素体連続体10
の両縁部、すなわち各素体単体lにおける端部の両主表
面と端面とに相当する個所に、接触電極2となるメッキ
膜20が残存した素体連続体lOが得られる。
■Fourth step: The plating resist @4 is removed from the element body continuum 10 subjected to electroless plating. This removal is performed by applying ultrasonic waves to the plating resist film 4 in a solvent. As a result, as shown in FIG. 3(D), the element continuum 10
A continuous element body lO is obtained in which the plating film 20, which will become the contact electrode 2, remains at both edges, that is, at locations corresponding to both main surfaces and end faces of the end portions of each element element l.

■第5工程; 次に、第3図(E)に示すように、メッキ膜20を有す
る素体連続体10の各縁部を、一定深さの銀ペースト3
0L中に浸漬し、メッキ膜2の表面に銀ペースト30L
を付着させる。ここで、銀ペースト30Lの液深さUは
、メッキ膜2の形成幅Vより所定寸法Sだけ少なく設定
されている。
■Fifth step; Next, as shown in FIG.
0L, and apply 30L of silver paste on the surface of the plating film 2.
Attach. Here, the liquid depth U of the silver paste 30L is set to be smaller than the formation width V of the plating film 2 by a predetermined dimension S.

この付着した銀ペースト30Lを乾燥、焼成することに
よって、第3図(F)に示すように、メッキ膜20をほ
ぼ覆う状態で、素体連続体IOの両縁部に表面電極3と
なる導電膜30が形成される。
By drying and firing the adhered silver paste 30L, as shown in FIG. A membrane 30 is formed.

そして、この素体連続体IOの各素体単体lにおいては
、両主表面で接触電極2か表面電極3より所定寸法Sだ
け突出することになる。
Each element l of this element continuum IO protrudes by a predetermined dimension S from either the contact electrode 2 or the surface electrode 3 on both main surfaces.

■第6エ程: メッキ膜20と導電膜30とが形成された素体連続体l
Oを、各素体単体lの側面に相当する位置(第3図(F
)のtの位置)で分割する。これによって、第1図に示
したように、素体lの両端部にそれぞれコ字形に接触電
極2と表面電極3とが形成され、かつ両主表面で接触電
極2が表面電極3より所定寸法Sだけ突出しているチッ
プ型正特性サーミスタが得られる。
■Sixth step: An element continuum l on which the plating film 20 and the conductive film 30 are formed
O at the position corresponding to the side surface of each elemental unit l (Fig. 3 (F
) at position t). As a result, as shown in FIG. 1, a U-shaped contact electrode 2 and a surface electrode 3 are formed at both ends of the element body l, and the contact electrode 2 is smaller than the surface electrode 3 on both main surfaces by a predetermined dimension. A chip-type positive temperature coefficient thermistor in which only S is protruded can be obtained.

第4図の(A XB )は、本発明の第2実施例に係り
、第2図に示したチップ型正特性サーミスタの製造工程
の一部を示す説明図である。
FIG. 4 (A XB ) is an explanatory diagram showing a part of the manufacturing process of the chip type positive temperature coefficient thermistor shown in FIG. 2, according to the second embodiment of the present invention.

このサーミスタの製造方法の各工程のうち、素体連続体
lOに接触電極2となるメッキ膜20を形成するまでの
各工程は、第3図に示した各工程と同様で、メッキ膜2
0を形成したのちの工程が第3図に示した工程と異なっ
ている。
Among the steps of this thermistor manufacturing method, the steps up to forming the plating film 20 that becomes the contact electrode 2 on the element continuum lO are the same as the steps shown in FIG.
The process after forming 0 is different from the process shown in FIG.

すなわち、この第2の実施例の製造方法は、第1実施例
のように、■多数の素体単体lが幅方向に連続した素体
連続体IOを用意する第1工程と、■素体連続体lOに
メッキレジスト膜4を形成する第2工程と、■メッキレ
ジスト膜4を有する素体連続体10に無電解メッキを施
す第3工程と、■無電解メッキを施した素体連続体10
からメッキレジスト膜4を除去する第4工程とを経たの
ち、次の第5工程と第6エ程とを行なう。
That is, the manufacturing method of this second embodiment, as in the first embodiment, includes: (1) a first step of preparing an element continuum IO in which a large number of element elements L are continuous in the width direction; A second step of forming a plating resist film 4 on the continuum lO; ■ A third step of applying electroless plating to the element continuum 10 having the plating resist film 4; ■ A continuum of element bodies subjected to electroless plating. 10
After the fourth step of removing the plating resist film 4 from the substrate, the next fifth step and sixth step are performed.

■第5工程; メッキ膜20を有する素体連続体IOを、第4図(A)
に示すように、各素体単体lの側面に相当する位置(符
号tの位置)で分割して、各端部の両主表面および端面
に接触電極2が形成された素体単体1を得る。
■Fifth step: The element continuum IO having the plating film 20 is prepared as shown in FIG. 4(A).
As shown in the figure, each element unit 1 is divided at a position corresponding to the side surface (position of symbol t) to obtain an element unit 1 in which contact electrodes 2 are formed on both main surfaces and end faces of each end. .

■第6エ程; 次に、第4図(B)に示すように、接触電極2を有する
素体単体lの各端部を、一定深さの銀ペースト30L中
に浸漬し、接触型4fi2の表面に銀ペースト30Lを
付着さ仕る。ここで、銀ペースト30Lの液深さUは、
接触電極2の形成幅Vより所定寸法Sだけ少なく設定さ
れている。この付着した銀ペースト30Lを乾燥、焼成
することによって、接触電極2をほぼ覆う状態で素体単
体lの両端部の表面全体に表面電極3が形成される。こ
の素体単体lの両主表面においては、接触電極2が表面
電極3より所定寸法Sだけ突出することになる。
■Sixth step: Next, as shown in FIG. 4(B), each end of the element unit l having the contact electrode 2 is immersed in the silver paste 30L of a certain depth, and the contact type 4fi2 30L of silver paste was applied to the surface of the plate. Here, the liquid depth U of the silver paste 30L is
It is set smaller than the formation width V of the contact electrode 2 by a predetermined dimension S. By drying and firing the adhered silver paste 30L, surface electrodes 3 are formed on the entire surface of both ends of the element unit 1 in a state that substantially covers the contact electrodes 2. On both main surfaces of this single element 1, the contact electrode 2 protrudes from the surface electrode 3 by a predetermined distance S.

このようにして、第2図に示したように素体lの両端部
にそれぞれ接触電極2と表面電極3とが形成され、かつ
素体lの両主表面において接触電極2が表面電極3より
突出したチップ型正特性サーミスタが得られる。
In this way, as shown in FIG. 2, the contact electrode 2 and the surface electrode 3 are formed at both ends of the element body l, and the contact electrode 2 is closer to the surface electrode 3 on both main surfaces of the element body l. A prominent chip type positive temperature coefficient thermistor is obtained.

なお、この第2実施例により得られるチップ型正特性サ
ーミスタでは、表面電極3が素体lの両側面を被覆し、
この側面で表面電極3.3どうしが直接対向することに
なるが、マイグレーションの発生の懸念はない。
In the chip type positive temperature coefficient thermistor obtained by this second embodiment, the surface electrode 3 covers both sides of the element body l,
Although the surface electrodes 3.3 directly face each other on this side, there is no concern that migration will occur.

〈発明の効果〉 以上のように、本発明によれば、角形チップ状の素体の
両主表面で接触電極どうしの対向縁の方が表面ihiど
うしの対向縁よりも突出しているチップ型正特性サーミ
スタが得ちれ、このチップ型正特性サーミスタにおいて
は、索体のいずれの主表面においてもマイグレーション
が発生せず、マイグレーションの発生を確実に防止する
ことができる。
<Effects of the Invention> As described above, according to the present invention, a chip-shaped main body in which the opposing edges of the contact electrodes on both main surfaces of the square chip-shaped element body protrude more than the opposing edges of the surfaces ihi. A characteristic thermistor is obtained, and in this chip-type positive characteristic thermistor, migration does not occur on any of the main surfaces of the cable, and the occurrence of migration can be reliably prevented.

ちなみに、第1図に示した構成の本発明によるチップ型
正特性サーミスタと、第5図に示した従来例のものとに
ついて、マイグレーションの比較テスト(条件:試料数
各30個、温度40℃で湿度95%の雰囲気、印加電圧
3V、テスト時間3,000時間)を行なったところ、
従来品では3個にマイグレーションが発生したが、本発
明品では発生が皆無であった。
Incidentally, a migration comparison test (conditions: 30 samples each, temperature 40℃ When conducted in an atmosphere with 95% humidity, applied voltage of 3V, and test time of 3,000 hours,
In the conventional product, migration occurred in three pieces, but in the product of the present invention, no migration occurred.

また、本発明の方法により得られたチップ型正特性サー
ミスタにおいては、接触電極が素体端部の両主表面と端
面とに形成されており、従来のチップ型正特性サーミス
タに比べ、接触電極の面積が広いから、回路基板等への
半田付けの際、表面電極に多少半田くわれが生じても、
回路基板のランドと接触電極との接続が充分に確保され
、接続不良を生じない。さらに、接触電極および表面電
極の形状が素体の表裏や左右に関して対称で、発熱部位
も対称となるから、回路基板等への実装の際、表裏等の
向きを考慮する必要がなくなり、取り扱いが容易になる
In addition, in the chip-type positive temperature coefficient thermistor obtained by the method of the present invention, contact electrodes are formed on both main surfaces and the end face of the end of the element body, and compared to conventional chip-type positive temperature coefficient thermistors, the contact electrodes are Because the surface area is large, even if some solder cracks occur on the surface electrode when soldering to a circuit board, etc.,
The connection between the land of the circuit board and the contact electrode is sufficiently ensured, and no connection failure occurs. Furthermore, since the shapes of the contact electrodes and surface electrodes are symmetrical with respect to the front and back of the element, as well as the left and right sides, and the heat generating parts are also symmetrical, there is no need to consider the orientation of the front and back when mounting on a circuit board, etc., making handling easier. becomes easier.

しかも、本発明方法においては、多数の素体単体に対し
て一挙に接触電極が形成されるから、効率がよく、従来
のチップ型サーミスタの製造方法と変わらない効率で製
造することができる。
Moreover, in the method of the present invention, since contact electrodes are formed on a large number of single element bodies at once, it is efficient and can be manufactured with the same efficiency as conventional chip-type thermistor manufacturing methods.

さらに、接触電極どうし間の間隔は、スクリーン印刷に
より形成されるメツキレジス、ト膜の幅で決まるから、
該間隔を精度よく設定することができ、そのため特性が
安定したサーミスタが得られる。
Furthermore, since the spacing between contact electrodes is determined by the width of the plating resist and film formed by screen printing,
The interval can be set with high precision, and therefore a thermistor with stable characteristics can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図ないし第4図は本発明に係り、第1図および第2
図はいずれも本発明方法により得られるチップ型正特性
サーミスタの斜視図、第3図は本発明の第1実施例の各
工程を示す説明図、第4図は本発明の第2実施例の各工
程の一部を示す説明図である。第5図は従来のチップ型
正特性サーミスタの断面図である。 ゛ ■・・・素体(単体)、IO・・・素体連続体、2・・
・接触電極、20・・・メッキ膜、3・・・表面電極、
30・・・導電膜、4・・・メッキレジスト膜。
1 to 4 relate to the present invention, and FIGS.
Each figure is a perspective view of a chip-type positive temperature coefficient thermistor obtained by the method of the present invention, FIG. 3 is an explanatory diagram showing each step of the first embodiment of the present invention, and FIG. It is an explanatory diagram showing a part of each process. FIG. 5 is a sectional view of a conventional chip type positive temperature coefficient thermistor.゛■...Elementary body (single element), IO...Elementary body continuum, 2...
・Contact electrode, 20... Plating film, 3... Surface electrode,
30... Conductive film, 4... Plating resist film.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)チップ型正特性サーミスタの単体に対応する角形
チップ状の素体単体の多数が互いに幅方向に連続する素
体連続体を用意する工程と、 この素体連続体の長手方向に沿って各素体単体の両主表
面の電極不要部に相当する個所にメッキレジスト膜を形
成する工程と、 メッキレジスト膜を有する素体連続体に銀を含まないオ
ーム性材料のメッキを施して各素体単体における端部の
両主表面および端面が接触電極となるメッキ膜で被覆さ
れている素体連続体を得る工程と、 メッキ膜を有する素体連続体において互いに連続する素
体単体の両端部、もしくはこの素体連続体から分割され
た素体単体の両端部に、前記接触電極よりも端面側に退
入した状態で銀を主成分とする材料により表面電極を形
成する工程と、を含むことを特徴とするチップ型正特性
サーミスタの製造方法。
(1) A step of preparing an element continuum in which a large number of square chip-shaped element bodies corresponding to a single chip-type positive temperature coefficient thermistor are continuous in the width direction; A process of forming a plating resist film on the parts corresponding to unnecessary electrodes on both main surfaces of each element, and plating the continuous element body having the plating resist film with an ohmic material that does not contain silver. A step of obtaining a continuous element body in which both main surfaces and end faces of the end portion of the single body are covered with a plating film serving as a contact electrode, and both ends of the single element body continuous with each other in the continuous element body having the plating film. or a step of forming surface electrodes of a material containing silver as a main component on both ends of a single element divided from this element continuum in a state of recess toward the end face side than the contact electrode. A method for manufacturing a chip-type positive temperature coefficient thermistor, characterized in that:
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0645108A (en) * 1992-03-30 1994-02-18 Chichibu Cement Co Ltd Electronic element and manufacture thereof

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0645108A (en) * 1992-03-30 1994-02-18 Chichibu Cement Co Ltd Electronic element and manufacture thereof

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