JPS63222077A - SiCセラミツクスの接合方法 - Google Patents

SiCセラミツクスの接合方法

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JPS63222077A
JPS63222077A JP5392587A JP5392587A JPS63222077A JP S63222077 A JPS63222077 A JP S63222077A JP 5392587 A JP5392587 A JP 5392587A JP 5392587 A JP5392587 A JP 5392587A JP S63222077 A JPS63222077 A JP S63222077A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bonding
ceramics
sic ceramics
temperature
joining
Prior art date
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Pending
Application number
JP5392587A
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English (en)
Inventor
東畑 孝二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、セラミックスの接合方法に関するもので、特
に高温構造用SiCセラミックス同士の接合方法に関す
るものである。
(従来の技m) 炭化珪素(Sin) 、窒化珪素(si3N4) l窒
化アルミニウム(AIN) 、サイアロン、ジルコニア
(Zr02) 。
アルミナ(At2Oa)等で代表される高温構造用ファ
インセラミックスについては、高温強度特性、高温疲労
特性等の要求される性能が極めて高度なものであるため
、大型のものを作ることが非常に難しく、小型のものを
作って、それを接合(かん合あるいは接着を含む)して
用いている。
高温構造用ファインセラミックスの接合に当って、要求
される性能としては、接合部の耐熱性、高温接合強度等
が優れていることが挙げられる。
セラミックス同士の接合方法については、種々の方法が
検討されている。接合方法としては、その接合機構によ
りだいたい4つに分類でき、接着剤を用いた結合法、が
ん合を用いた機械的接合法、セラミックスの表面をなん
らかの方法で金属化して接合するメタライジング法、固
相あるいは溶融物を用いた直接接合法がある。
以下、これらの方法について概説する。
1)接着剤を用いた接合法 有機あるいは無機接着剤を用いた接合法は簡便な方法と
して広く利用されているが、使用できる上限温度が低く
、また接合強度も小さいという欠点がある。
2) セラミックス同士を直接かん合するものが考えら
れている。この場合、両者共セラミックスであるので耐
熱性に関しては問題となることはないが1機械的衝撃力
が作用した時や振動が加わったりした時のセラミックス
の破壊が危惧されるので、がん合部の最適形状やかん合
部における緩衝材の選択等の検討事項が多数人されてい
る。
3) メタライジング法 活性金属あるいは貴金属をセラミックス表面へ蒸着させ
るこの方法は、接合強度が比較的低く、また使用上限温
度も400〜600℃と低いため実用的でない。
4) 直接接合法 a)ブレージング接合法(溶融接合法)接合面にインサ
ート材をはさみ、その接合片を真空もしくは不活性ガス
中で加熱し、インサート材を溶融させてセラミックス同
士を直接接合させる方法で、接合強度は優れたものも得
られるが、使用上限温度が600〜800℃と低く、高
温下における使用には問題がある。
b)ホットプレス接合法(同相接合法)接合片の間に塑
性変形しやすい金属箔またはセラミックス粉末などをは
さみ、圧着しながら加熱していき、界面部に拡散層ある
いは反応層を形成させて接合する方法で、1000℃以
上の高温まで、高い接合強度を維持できるものもあるが
、同相接合の機構が複雑なため、外的パラメーターの影
響を受は易く、反応層の厚さ、材料間の熱膨張差から生
じる応力等により接合強度が変化しやすい欠点を有して
いる。
(発明が解決しようとする問題点) 以上述べた様に、今後さらに耐熱性の優れた高温構造用
のセラミックス製品を開発するために、接合部の耐熱性
の向上と接合強度の向上が切望されている。
本発明は上述の様な従来のセラミックス特にSiCセラ
ミックスの接合方法の問題点を解消するために提案さ九
たもので、その目的は耐熱性番こ極めて優れ、かつ、接
合強度が優れたSjCセラミツー3= クスの接合方法を提供することにある。
(問題点を解決するための手段とその作用)本発明のS
iCセラミックスの接合方法は、少なくとも1200℃
以上の温度で1 kg / rrm2以上の圧力を加え
て、SiCセラミックス同士の界面に57a以上の酸化
膜を生じさせて接合する方法である。
(実施例) 以下、本発明の一実施例を第1図、第1表および第2表
に基づいて具体的に説明する。
第1図のようにSiCセラミックス1,2を接合面がほ
ぼ中央に位置するように、1000〜1500℃の温度
でO〜4kg/nn+2 の圧力を加えて圧着して、縦
3 un X横4. rrtn X長さ40mnの試験
片を製作する。
SiCセラミックスは焼結助剤としてB、CかAINの
どちらかを添加するのが一般的で、接合の組合わせとし
てもB、C添加−B、C添加、B、C添加−AIN添加
、AIN添加−AIN添加のSiCセラミックスの3つ
の組合わせが考えられる。
この様にして構成された本実施例の接合強度の結果を第
1表に示す。
接合強度の評価はJIS R1601に準拠した高温(
]、3300℃の4点曲げ試験を行なった。
尚、圧力が加わらない(Okg/mm2)場合はどんな
に温度を上げてもSiCセラミックス同士は接着しなか
った。
第1表から明らかなように、ある条件(第1表において
口で囲った部分)において、すなわち1) B、C添加
−B、C添加:1200℃以上、Ikg/皿2以上2)
 B、C添加−AIN添加:1400℃以上、2kg/
画2以」−3) AIN添加−AIN添加:1500℃
以上、2 kg / rttn 2以上で接合強度が優
れたものが得られる。
また、このようにして得られた試験片の酸化膜の厚さを
測定した。その結果を第2表に示す。酸化膜の厚さは超
音波顕微鏡を用いて試験片の接合面を測定した。
第1表および第2表から明らかなように、SiCセラミ
ックス同士の界面に51以上の酸化膜が生じることによ
り接合強度の優れたものが得られる。
SiCセラミックス同士が接着するこの現象はSiCセ
ラミックス同士の接合面における急激な酸化反応によっ
て起こるもので、B、C添加のSiCセラミックスがA
IN添加のSiCセラミックスより比較的低温、低圧で
接着するのはこの酸化反応が起こりやすいためである。
SiCセラミックス同士の接合においてはその組合わせ
により優れた接合強度が得られる条件は異なるが、少な
くとも1200℃以上の温度で、1kg/rm2以上の
圧力のうちから任意の条件を選んで、SiCセラミック
ス同士の界面に57z+n以上の酸化膜を生じさせるこ
とにより、接合強度が優れたSiCセラミックス同士の
接合が行なえる。
(以下余白) 〔発明の効果〕 以上の通り、本発明によれば、SiCセラミックス同士
の接合において少なくとも1200℃以上の温度で1 
kg / rrm ”以上の圧力を加えてSiCセラミ
ックス同士の界面に5μm以上の酸化膜を生じさせるこ
とにより、耐熱性に極めて優れ、かつ、接合強度が優れ
たSiCセラミックスの接合方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のSiCセラミックスの接合方法の接合
強度を評価するための試験片の製作状況を示す図である
。 ■、2・・・SiCセラミックス 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同  三俣弘文 第1図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. SiCセラミックス同士の接合において、1200℃以
    上の温度で、かつ1kg/mm^2以上の圧力を加えて
    SiCセラミックス同士の界面に5μm以上の酸化膜を
    生じさせて接合することを特徴とするSiCセラミック
    スの接合方法。
JP5392587A 1987-03-11 1987-03-11 SiCセラミツクスの接合方法 Pending JPS63222077A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014138136A (ja) * 2013-01-18 2014-07-28 Tokyo Electron Ltd 接合方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び接合システム

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2014138136A (ja) * 2013-01-18 2014-07-28 Tokyo Electron Ltd 接合方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び接合システム

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