JPS63222029A - 球状石英ガラス粉末の製造法 - Google Patents
球状石英ガラス粉末の製造法Info
- Publication number
- JPS63222029A JPS63222029A JP5297887A JP5297887A JPS63222029A JP S63222029 A JPS63222029 A JP S63222029A JP 5297887 A JP5297887 A JP 5297887A JP 5297887 A JP5297887 A JP 5297887A JP S63222029 A JPS63222029 A JP S63222029A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ethyl silicate
- quartz glass
- glass powder
- partial condensation
- silica gel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 84
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims abstract description 37
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 16
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 58
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 47
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 claims abstract description 26
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000003349 gelling agent Substances 0.000 claims abstract description 7
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 37
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 37
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims description 8
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 6
- 238000001354 calcination Methods 0.000 abstract description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- -1 silicon alkoxide Chemical class 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 6
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Natural products N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 4
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 2
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- FGHSTPNOXKDLKU-UHFFFAOYSA-N nitric acid;hydrate Chemical compound O.O[N+]([O-])=O FGHSTPNOXKDLKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N Ammonium bicarbonate Chemical compound [NH4+].OC([O-])=O ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000013 Ammonium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012538 ammonium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001099 ammonium carbonate Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 108010011222 cyclo(Arg-Pro) Proteins 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 235000015096 spirit Nutrition 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/10—Forming beads
- C03B19/1005—Forming solid beads
- C03B19/106—Forming solid beads by chemical vapour deposition; by liquid phase reaction
- C03B19/1065—Forming solid beads by chemical vapour deposition; by liquid phase reaction by liquid phase reactions, e.g. by means of a gel phase
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、シリコンアルコキシドを出発原料として半導
体集積回路の封止用充填物として必要な高純度かつ球状
の石英ガラス粉末の製造法に関するものである。
体集積回路の封止用充填物として必要な高純度かつ球状
の石英ガラス粉末の製造法に関するものである。
[従来の技術]
従来、純度の良い石英ガラス粉末は、良質の天然水晶を
粉砕することによって製造されていたが、原料純度、粉
砕工程での不純物の混入資源的制約から新規の製造方法
が試みられている。
粉砕することによって製造されていたが、原料純度、粉
砕工程での不純物の混入資源的制約から新規の製造方法
が試みられている。
その一つとして、水ガラスを出発原料として不純物濃度
の低い石英ガラス粉末を作る方法か提案されている。特
開昭59−54632では水ガラスと鉱酸の反応を特定
範囲の水素イオン濃度の条件で行なえば純度の高い石英
ガラス粉末ができると述べている。この方法では不純物
を取り除くために、多大な洗浄EU程を必要とすること
、乾燥後に粉末同士の凝集がおこり、適切な粒度の石英
ガラス粒子を作るにはほぐすなどの工程が必要なこと、
石英ガラス粉末とするのに1100°C以」−の温度を
必要とするなどの欠点を有している。
の低い石英ガラス粉末を作る方法か提案されている。特
開昭59−54632では水ガラスと鉱酸の反応を特定
範囲の水素イオン濃度の条件で行なえば純度の高い石英
ガラス粉末ができると述べている。この方法では不純物
を取り除くために、多大な洗浄EU程を必要とすること
、乾燥後に粉末同士の凝集がおこり、適切な粒度の石英
ガラス粒子を作るにはほぐすなどの工程が必要なこと、
石英ガラス粉末とするのに1100°C以」−の温度を
必要とするなどの欠点を有している。
更に、高純度な石英ガラスを作る方法として、S +
CI 4 を原材料として使用する方法が知られている
。光フィバー用シリカガラス母材の製造に用いるシリカ
ガラス微粒子はこの5i(Elaを出発原料として作ら
れているが、その粒子径は100〜2000人の範囲で
あり、一般には熱処理してlO〜100 p−mの大き
さにして使われている。しかし、この方法においては、
ガラス中にC1−が残りやすく、半導体集積回路の」さ
1止川充填物としては適切でない。
CI 4 を原材料として使用する方法が知られている
。光フィバー用シリカガラス母材の製造に用いるシリカ
ガラス微粒子はこの5i(Elaを出発原料として作ら
れているが、その粒子径は100〜2000人の範囲で
あり、一般には熱処理してlO〜100 p−mの大き
さにして使われている。しかし、この方法においては、
ガラス中にC1−が残りやすく、半導体集積回路の」さ
1止川充填物としては適切でない。
近年、高純度石英ガラスを作る方法としてアルコキシド
を原料とするゾルゲル法が注目されている。特開昭57
−205334 、58−2233にはアルキルシリケ
−1・を加水分解して得たゾル状溶液を噴霧してシリカ
粉末を作り、その後熱処理して石英ガラス粉末を作る方
法が提案されている。この方法ではゾル液の状態によっ
て噴霧時にできるシリカ粉末の大きさが異なり、所望の
粒径の石英カラス粉末を得ることが難しい。
を原料とするゾルゲル法が注目されている。特開昭57
−205334 、58−2233にはアルキルシリケ
−1・を加水分解して得たゾル状溶液を噴霧してシリカ
粉末を作り、その後熱処理して石英ガラス粉末を作る方
法が提案されている。この方法ではゾル液の状態によっ
て噴霧時にできるシリカ粉末の大きさが異なり、所望の
粒径の石英カラス粉末を得ることが難しい。
これまでにも、シリコンアルコキシドを塩基触媒の下、
水と加え水分解反応させて、シリカゲル粒子を沈澱させ
る方法が知られている。しかしこれらの方法で生成する
粒子は1次粒子ではサブミクロン以下の粒子であり、凝
集した2次粒子では分散性が悪く、球状ではなくなると
言った欠点を有していた。更に、かかるシリコンアルコ
キシドとして市販されているエチルシリケートの部分縮
重合体は5i02換算で40重昂%に相当する量の81
を含有する。か−るエチルシリケートの部分縮重合体を
原料に使用するとエチルシリケートの部分縮重合体に対
する石英ガラス粉末の収率が大IJに低下するという問
題があった。
水と加え水分解反応させて、シリカゲル粒子を沈澱させ
る方法が知られている。しかしこれらの方法で生成する
粒子は1次粒子ではサブミクロン以下の粒子であり、凝
集した2次粒子では分散性が悪く、球状ではなくなると
言った欠点を有していた。更に、かかるシリコンアルコ
キシドとして市販されているエチルシリケートの部分縮
重合体は5i02換算で40重昂%に相当する量の81
を含有する。か−るエチルシリケートの部分縮重合体を
原料に使用するとエチルシリケートの部分縮重合体に対
する石英ガラス粉末の収率が大IJに低下するという問
題があった。
[発明の解決しようとする問題点]
本発明は、前記難点を解決し、原料の高純度化容易であ
り、粉砕工程からの不純物の混入がなく、粒形状がほぼ
球状であること、粒子間の結合がなく分散性の優れた石
英ガラス粉末を1200°C以下の温度で製造できるこ
と、またエチルシリケートの部分縮重合体に対する石英
ガラス粉末の収率が極めて高いこと、粒径はサブミクロ
ンから数mmの範囲の粒サイズで、しかも粉砕工程を経
て製造した粉末より、粒度のそろった石英ガラス粉末を
得ることができる製造方法の提供を目的とする。
り、粉砕工程からの不純物の混入がなく、粒形状がほぼ
球状であること、粒子間の結合がなく分散性の優れた石
英ガラス粉末を1200°C以下の温度で製造できるこ
と、またエチルシリケートの部分縮重合体に対する石英
ガラス粉末の収率が極めて高いこと、粒径はサブミクロ
ンから数mmの範囲の粒サイズで、しかも粉砕工程を経
て製造した粉末より、粒度のそろった石英ガラス粉末を
得ることができる製造方法の提供を目的とする。
[問題点を解決するための手段]
本発明は、エチルシリケートの部分縮重合体を水の中で
乳化し、乳化した液にゲル化剤を添加して球状シリカゲ
ルを沈澱し次いでシリカゲルを焼成する球状石英ガラス
を製造法であって、該エチルシリケー]・の部分縮重合
体は、5iCh換算で44〜55重聞−%に相当する量
のSiを含有することを特徴とする球状石英ガラス粉末
の製造法を提供するものである。
乳化し、乳化した液にゲル化剤を添加して球状シリカゲ
ルを沈澱し次いでシリカゲルを焼成する球状石英ガラス
を製造法であって、該エチルシリケー]・の部分縮重合
体は、5iCh換算で44〜55重聞−%に相当する量
のSiを含有することを特徴とする球状石英ガラス粉末
の製造法を提供するものである。
本発明において使用するエチルシリケートの部分縮重合
体はS i02換算で44〜48重量%に相当するSi
を含有するが、その理由は次の通りである。
体はS i02換算で44〜48重量%に相当するSi
を含有するが、その理由は次の通りである。
Slの含有量が上記範囲より少ないエチルシリケートの
部分縮重合体を使用するとシリカゲルとして沈戯せずに
溶液中に残存するSiが多くなり5102の収率低下を
生ずるので好ましくない。
部分縮重合体を使用するとシリカゲルとして沈戯せずに
溶液中に残存するSiが多くなり5102の収率低下を
生ずるので好ましくない。
他方、Slの含有量が上記範囲より多いエチルシリケー
トの部分縮重合体を使用すると、比重、粘度が高くなる
ため球状化が困難となり、球状シリカゲルの収率が低下
するので好ましくない。一方、55重量%以」二のエチ
ルシリヶー)・の部分縮重合体を安定に製造することも
難しくなる、」−記範囲のエチルシリケートの部分縮重
合体の山吹の範囲のものは、特に分散性に優れた粉末が
得られるので好ましい。即ち、エチルシリケートの単量
体を5〜30重量%含有し5〜8量体の範囲に平均値が
あり、8量体以上のものを 1重量%以」−含有するエ
チルシリケートの部分縮重合体である。
トの部分縮重合体を使用すると、比重、粘度が高くなる
ため球状化が困難となり、球状シリカゲルの収率が低下
するので好ましくない。一方、55重量%以」二のエチ
ルシリヶー)・の部分縮重合体を安定に製造することも
難しくなる、」−記範囲のエチルシリケートの部分縮重
合体の山吹の範囲のものは、特に分散性に優れた粉末が
得られるので好ましい。即ち、エチルシリケートの単量
体を5〜30重量%含有し5〜8量体の範囲に平均値が
あり、8量体以上のものを 1重量%以」−含有するエ
チルシリケートの部分縮重合体である。
この内、エチルシリケートの単量体の含有量については
、上記範囲より少なくなると該シリカゲルを球状シリカ
ガラスに転換するのに要する温度が1200°C以」−
となり失透しやすくなり、また粒子間の凝集が強くなる
ので好ましくなく、上記範囲より多くなるとシリカゲル
として沈澱せず、溶液中に残存するSlが多くなるので
好ましくない。
、上記範囲より少なくなると該シリカゲルを球状シリカ
ガラスに転換するのに要する温度が1200°C以」−
となり失透しやすくなり、また粒子間の凝集が強くなる
ので好ましくなく、上記範囲より多くなるとシリカゲル
として沈澱せず、溶液中に残存するSlが多くなるので
好ましくない。
一方、平均値については、上記範囲より小さくなるとシ
リカゲルとして沈Vせず、溶液中に残存するSiが多ぐ
るので好ましくなく、」二記範囲より大きくなると比重
、粘度が高くなるため球状化が困難となり、球状シリカ
ゲルの収率が低下するので好ましくない。
リカゲルとして沈Vせず、溶液中に残存するSiが多ぐ
るので好ましくなく、」二記範囲より大きくなると比重
、粘度が高くなるため球状化が困難となり、球状シリカ
ゲルの収率が低下するので好ましくない。
更に、8量体以上のものの含有量については、1重喰%
未満では該シリカゲルを球状シリカガラスに転換するの
に要する温度が1200°C以−にとなり、失透しやす
くなり、才た粒子間の凝集が強くなるので好ましくない
。
未満では該シリカゲルを球状シリカガラスに転換するの
に要する温度が1200°C以−にとなり、失透しやす
くなり、才た粒子間の凝集が強くなるので好ましくない
。
また、か−るエチルシリケートの部分縮重合体に含有さ
れるエタノール等のアルコールは総量で1重量%未溝に
すると次のような点で望ましい。
れるエタノール等のアルコールは総量で1重量%未溝に
すると次のような点で望ましい。
アルコールと共に水に溶は込むエチルシリケートの部分
縮重合体の量がほとんどなく、石英ガラスとしての収率
が極めて高くなる。
縮重合体の量がほとんどなく、石英ガラスとしての収率
が極めて高くなる。
上記エチルシリケートの部分縮重合体の内、特に望まし
いものは25°Cにおいて比重が1.105〜1.20
0の範囲にあり粘度が8.5〜1.000センヂボイズ
の範囲にあるものである。この内比重については、」−
記範囲より小さいと、ゲル化剤添加後の溶液中に溶出す
るSi濃度が高くなるので好ましくなく、上記範囲より
大きいとエチルシリケートの部分縮重合体が分離しやす
くなり、球状シリカゲルとしての収率が低下するので好
ましくない。
いものは25°Cにおいて比重が1.105〜1.20
0の範囲にあり粘度が8.5〜1.000センヂボイズ
の範囲にあるものである。この内比重については、」−
記範囲より小さいと、ゲル化剤添加後の溶液中に溶出す
るSi濃度が高くなるので好ましくなく、上記範囲より
大きいとエチルシリケートの部分縮重合体が分離しやす
くなり、球状シリカゲルとしての収率が低下するので好
ましくない。
また、粘度については上記範囲より小さいと溶液中に溶
出するSi濃度が高くなるので好ましくなく、上記範囲
より大きいとエチルシリケートの部分縮重合体が分離し
やすくなり、球状シリカゲルとしての収率が低下するの
で好ましくない。
出するSi濃度が高くなるので好ましくなく、上記範囲
より大きいとエチルシリケートの部分縮重合体が分離し
やすくなり、球状シリカゲルとしての収率が低下するの
で好ましくない。
か−るエチルシリケートの部分縮重合体は例えば次のよ
うにして製造することができる。
うにして製造することができる。
エチルシリケート又は上記エチルシリケートの部分縮重
合体より重合度の低い部分重合体にアルコール、水、酎
を添加し、加水分解縮重合反応を行なうことにより得ら
れる。使用する酸としては、特に限定されず、塩酸、硝
酸、硫酸、その他の酸が広範囲に使用できる。かかる酸
の添加量としては、少な過ぎる場合、反応に長時間を要
し生産性が低下するので好ましくなく、多過ぎる場合は
石英ガラス粉末に残存し純度を低下する恐れがあるので
好ましくない。望ましい酸の添加量は、エチルシリケー
トの単量体1モルに対し10−3〜10−2モルの範囲
である。
合体より重合度の低い部分重合体にアルコール、水、酎
を添加し、加水分解縮重合反応を行なうことにより得ら
れる。使用する酸としては、特に限定されず、塩酸、硝
酸、硫酸、その他の酸が広範囲に使用できる。かかる酸
の添加量としては、少な過ぎる場合、反応に長時間を要
し生産性が低下するので好ましくなく、多過ぎる場合は
石英ガラス粉末に残存し純度を低下する恐れがあるので
好ましくない。望ましい酸の添加量は、エチルシリケー
トの単量体1モルに対し10−3〜10−2モルの範囲
である。
また、反応に当って添加する水の量は、エチルシリケー
トの単量体1モルに対し0.9〜1.2モルの範囲が望
ましい。水の量が」−記範囲より多い場合、目的のエチ
ルシリケートの部分縮重合体を製造する際アルコールの
蒸発過程でゾル液がゲル化し易くなったり、水に対し相
溶性がなく分散性に優れたエチルシリケートの部分縮重
合体を得られ難くなるので好ましくない。一方、水の量
が」−記範囲より少ない場合、水に分散後ゲル化剤、例
えばアンモニア水を加えた場合、エチルポリシリケート
の一部が水溶液中に溶は込んでしまい、石英ガラスの収
率が悪くなる。あるいは、得られた球状シリカゲルを石
英ガラスに転換するのに1200°C以」二の温度が必
要となるため粒子間の凝集が生じ易くなるので好ましく
ない。
トの単量体1モルに対し0.9〜1.2モルの範囲が望
ましい。水の量が」−記範囲より多い場合、目的のエチ
ルシリケートの部分縮重合体を製造する際アルコールの
蒸発過程でゾル液がゲル化し易くなったり、水に対し相
溶性がなく分散性に優れたエチルシリケートの部分縮重
合体を得られ難くなるので好ましくない。一方、水の量
が」−記範囲より少ない場合、水に分散後ゲル化剤、例
えばアンモニア水を加えた場合、エチルポリシリケート
の一部が水溶液中に溶は込んでしまい、石英ガラスの収
率が悪くなる。あるいは、得られた球状シリカゲルを石
英ガラスに転換するのに1200°C以」二の温度が必
要となるため粒子間の凝集が生じ易くなるので好ましく
ない。
反応に当って添加するアルコールとしては、エタノール
が好ましく、メタノール、プロパツール、ブタノール等
も併用することができる。その添加量としては多くなり
過ぎると溶液中に溶出するSi濃度が高くなるので10
重量%以下が好ましい。反応に当っては」−記混合物を
25°Cに48時間放置する。次いで、これを加熱蒸留
しアルコール濃度が1重量%以下にすることが好ましい
。加熱蒸留においては、一般的にアルコールの沸点と水
の沸点の間の温度範囲で行なわれることが望ましい。こ
の温度範囲より低い温度域であるとエチルシリケートの
部分縮重合体を水中に分散させた時、シリカポリマーの
一部が水に溶は込んで球状シリカゲルの沈澱を生成し難
い。一方、この温度範囲以−ヒであるメ一部の低沸点の
シリカポリマーが濃縮中に揮散してしまい、最終的な石
英ガラス粉末の収率が下がるので好ましくない。
が好ましく、メタノール、プロパツール、ブタノール等
も併用することができる。その添加量としては多くなり
過ぎると溶液中に溶出するSi濃度が高くなるので10
重量%以下が好ましい。反応に当っては」−記混合物を
25°Cに48時間放置する。次いで、これを加熱蒸留
しアルコール濃度が1重量%以下にすることが好ましい
。加熱蒸留においては、一般的にアルコールの沸点と水
の沸点の間の温度範囲で行なわれることが望ましい。こ
の温度範囲より低い温度域であるとエチルシリケートの
部分縮重合体を水中に分散させた時、シリカポリマーの
一部が水に溶は込んで球状シリカゲルの沈澱を生成し難
い。一方、この温度範囲以−ヒであるメ一部の低沸点の
シリカポリマーが濃縮中に揮散してしまい、最終的な石
英ガラス粉末の収率が下がるので好ましくない。
本発明において使用するエチルシリケートの部分縮重合
体はゲル化時間を制御する等のため、官能基の一部分な
エトキシ基以外のアルコキシ基で置換しても構わない。
体はゲル化時間を制御する等のため、官能基の一部分な
エトキシ基以外のアルコキシ基で置換しても構わない。
例えば、エトキシ基の3〜5%メトキシ基に置換したエ
チルシリケートの部分縮重合体を使うと、従来のものと
比較して、球状ゲル生成までの時間が半分以下になるこ
とがわかっている。このようにエトキシ基の一部分を他
のアルコキシドに置き換えるには、いくつかの方法が考
えられる。例えば、5iG14 とエタノールを反応さ
せて、エチルシリケートを合成する時に、エタノールに
所定量の他のアルコールを加えておくのも一つの方法で
ある。別の方法では、エチルシリケートに所定量の酸性
水溶液を加えて加水分解・縮重合反応させる時に、溶媒
としてエタノールとそれ以外のアルコールを加えて反応
させても良い。
チルシリケートの部分縮重合体を使うと、従来のものと
比較して、球状ゲル生成までの時間が半分以下になるこ
とがわかっている。このようにエトキシ基の一部分を他
のアルコキシドに置き換えるには、いくつかの方法が考
えられる。例えば、5iG14 とエタノールを反応さ
せて、エチルシリケートを合成する時に、エタノールに
所定量の他のアルコールを加えておくのも一つの方法で
ある。別の方法では、エチルシリケートに所定量の酸性
水溶液を加えて加水分解・縮重合反応させる時に、溶媒
としてエタノールとそれ以外のアルコールを加えて反応
させても良い。
以上の製造方法、及び諸物性を有するエチルシリケート
の部分縮重合体を水を分散媒として乳化させた後、ゲル
化剤(NH3水、アンモニアガス、重炭酸アンモニウム
etc、)を加えて球状ゲルを沈澱させる。これらを乾
燥して多孔性の球状シリカゲルとした後、1200°C
以下の温度で焼成することによって、球状石英ガラス粉
末と □する。
の部分縮重合体を水を分散媒として乳化させた後、ゲル
化剤(NH3水、アンモニアガス、重炭酸アンモニウム
etc、)を加えて球状ゲルを沈澱させる。これらを乾
燥して多孔性の球状シリカゲルとした後、1200°C
以下の温度で焼成することによって、球状石英ガラス粉
末と □する。
[実施例1]
エチルシリケート7880CC、エタノール3300c
cの混合液にH2O590ccにlNHNO3NHNO
3水加5ccった硝酸水溶液を加えてエチルシリケート
の部分縮重合体を生成した。製造方法は硝酸水溶液の半
分の量を 1.0cc/分の速度で滴下し、その後24
時間20℃で加水分解、縮重合反応を行なわせた。その
後、残り半分の硝酸水溶液を同様に 1.0cc/分の
速度で滴下し、さらに24時間20’Oで放置した。上
記ゾル液を80°Cから 100℃の温度で加熱し、蒸
発物がなくなるまでこの操作を続けた。その結果、得ら
れたエチルシリケートの部分縮重合体の25°Cの比重
は 1.123、粘度は15.0cpsであった。また
、5i02濃度は45.4重量%であり、単量体の割合
は12重量%で、平均値はエチルシリケートの単量体で
あった。ここで加えた水の量は、エチルシリケート1モ
ルに対して、等モル倍であった。得られたエチルシリケ
ートの部分縮重合体を2文秤量し、 8文のイオン交換
水とともにポリプロビレン製の容器に入れた。エチルシ
リケートの部分縮重合体と水とは相溶性がなく2液に分
離した状態にあり、そこへホモジナイザーを投入し、5
00rpmで5間回転し、乳化分散の状態を得た。
cの混合液にH2O590ccにlNHNO3NHNO
3水加5ccった硝酸水溶液を加えてエチルシリケート
の部分縮重合体を生成した。製造方法は硝酸水溶液の半
分の量を 1.0cc/分の速度で滴下し、その後24
時間20℃で加水分解、縮重合反応を行なわせた。その
後、残り半分の硝酸水溶液を同様に 1.0cc/分の
速度で滴下し、さらに24時間20’Oで放置した。上
記ゾル液を80°Cから 100℃の温度で加熱し、蒸
発物がなくなるまでこの操作を続けた。その結果、得ら
れたエチルシリケートの部分縮重合体の25°Cの比重
は 1.123、粘度は15.0cpsであった。また
、5i02濃度は45.4重量%であり、単量体の割合
は12重量%で、平均値はエチルシリケートの単量体で
あった。ここで加えた水の量は、エチルシリケート1モ
ルに対して、等モル倍であった。得られたエチルシリケ
ートの部分縮重合体を2文秤量し、 8文のイオン交換
水とともにポリプロビレン製の容器に入れた。エチルシ
リケートの部分縮重合体と水とは相溶性がなく2液に分
離した状態にあり、そこへホモジナイザーを投入し、5
00rpmで5間回転し、乳化分散の状態を得た。
次いで8文の水がINのアンモニア水になるように濃ア
ンモニア水を加え、5分間攪拌し続けながらゲル化操作
を行なった。その後攪拌をとめて液を15時間静置し、
ゲルを沈澱させた。
ンモニア水を加え、5分間攪拌し続けながらゲル化操作
を行なった。その後攪拌をとめて液を15時間静置し、
ゲルを沈澱させた。
」−澄液を別の容器に移し、イオン交換水2文を注いで
沈澱ゲルを洗浄し、再び15時間かけて、シリカゲルを
沈澱させた後、再び上澄液の大半を静かに別の容器に移
しとった。次に、同じ手順でINの硝酸水を2文注ぎ、
洗浄、沈降、固液分離をくりかえした後、60°Cで1
2時間乾燥した。この乾燥物をN2102 = 4/1
のガスを流した炉内で1180 ’Oで30分間焼成し
、比重2.2の球状石英ガラス粉末を得た。その石英ガ
ラス粉末の平均粒径は18pmであり、10%相当径で
8 gm 、 90%相当径で30gmの粒度分布を有
するものでった。球状石英ガラス粉末の収率は、エチル
シリケートの部分縮重合体中の8102濃度を基準とし
て98%であった。また石英ガラス粉末の不純物濃度を
分析したところ、アルカリ、アルカリ土類ならびに遷移
金属元素は、いずれも0.5ppm以下であり、U濃度
はO,1ppbであった。
沈澱ゲルを洗浄し、再び15時間かけて、シリカゲルを
沈澱させた後、再び上澄液の大半を静かに別の容器に移
しとった。次に、同じ手順でINの硝酸水を2文注ぎ、
洗浄、沈降、固液分離をくりかえした後、60°Cで1
2時間乾燥した。この乾燥物をN2102 = 4/1
のガスを流した炉内で1180 ’Oで30分間焼成し
、比重2.2の球状石英ガラス粉末を得た。その石英ガ
ラス粉末の平均粒径は18pmであり、10%相当径で
8 gm 、 90%相当径で30gmの粒度分布を有
するものでった。球状石英ガラス粉末の収率は、エチル
シリケートの部分縮重合体中の8102濃度を基準とし
て98%であった。また石英ガラス粉末の不純物濃度を
分析したところ、アルカリ、アルカリ土類ならびに遷移
金属元素は、いずれも0.5ppm以下であり、U濃度
はO,1ppbであった。
[実施例2]
実施例1で得たエチルシリケートの部分縮重合体2文と
ILQのイオン交換水なポリプロピレン容器に入れ、タ
ービン翼の攪拌機を使って150rpmの回転数で5分
間攪拌し、次いで0.15Nの濃度になるように濃アン
モニア水を加えた。
ILQのイオン交換水なポリプロピレン容器に入れ、タ
ービン翼の攪拌機を使って150rpmの回転数で5分
間攪拌し、次いで0.15Nの濃度になるように濃アン
モニア水を加えた。
アンモニアを添加後、 5分間は150rpmで攪拌し
、次いで2Orpmの回転数で30分間攪拌し、球状シ
リカゲルを得た。以降、実施例1と同様な操作を行ない
球状石英ガラス粉末を得た。
、次いで2Orpmの回転数で30分間攪拌し、球状シ
リカゲルを得た。以降、実施例1と同様な操作を行ない
球状石英ガラス粉末を得た。
得られた石英ガラス粉末の平均粒径は83pm、10%
径で37pm、90%径で 140ルmであった。また
、石英ガラス粉末の収率は95%であった。
径で37pm、90%径で 140ルmであった。また
、石英ガラス粉末の収率は95%であった。
[実施例3]
エチルシリケート335CC、エタノール140ccの
混合液を60°Cに加熱しておき、そこへ29.5cc
のイオン交換水とINの硝酸水1.5ccからなる硝酸
水溶液を0.]、cc/分の速度で滴下した。このエチ
ルシリケートの部分縮重合体の生成に当り加えた水の量
は、エチルシリグー11モルに対して1.15モル倍で
ある。このゾル液を実施例1と同様に加熱蒸留し、S】
02濃度47重量%、25°Cでの比重1.135 、
粘度17cpsのエチルシリケートの部分縮重合体を得
た。単量体の濃度は7重量%であり、 8〜15量体が
存在し平均値は重体であった。ゲルーパミエーションガ
スクロマトグラフィとガスクロマトグラフィで確認され
た。上記で得られたエチルシリケートの部分縮重合体1
00ccと 400ccのイオン交換水をポリプロピレ
ン容器に入れ、ホモジナイザーを使って8000rpm
の回転数で分散させ、実施例1と同様にゲル化、沈降、
洗浄、固液分離を繰り返し、シリカゲルを回収した。こ
れをスプレドライヤー(熱風温度150°C)によって
乾燥した。この乾燥したシリカゲルを1160°Cで3
0分間焼成し、石英ガラス粉末とした。得られた石英ガ
ラス粉末の平均粒径は6.57pmであり、10%径で
2 gm 、 90%径で13pmであった。また石英
ガラス粉末の収率は93%であった。
混合液を60°Cに加熱しておき、そこへ29.5cc
のイオン交換水とINの硝酸水1.5ccからなる硝酸
水溶液を0.]、cc/分の速度で滴下した。このエチ
ルシリケートの部分縮重合体の生成に当り加えた水の量
は、エチルシリグー11モルに対して1.15モル倍で
ある。このゾル液を実施例1と同様に加熱蒸留し、S】
02濃度47重量%、25°Cでの比重1.135 、
粘度17cpsのエチルシリケートの部分縮重合体を得
た。単量体の濃度は7重量%であり、 8〜15量体が
存在し平均値は重体であった。ゲルーパミエーションガ
スクロマトグラフィとガスクロマトグラフィで確認され
た。上記で得られたエチルシリケートの部分縮重合体1
00ccと 400ccのイオン交換水をポリプロピレ
ン容器に入れ、ホモジナイザーを使って8000rpm
の回転数で分散させ、実施例1と同様にゲル化、沈降、
洗浄、固液分離を繰り返し、シリカゲルを回収した。こ
れをスプレドライヤー(熱風温度150°C)によって
乾燥した。この乾燥したシリカゲルを1160°Cで3
0分間焼成し、石英ガラス粉末とした。得られた石英ガ
ラス粉末の平均粒径は6.57pmであり、10%径で
2 gm 、 90%径で13pmであった。また石英
ガラス粉末の収率は93%であった。
[比較例]
エチルシリケート1モルに対して、 0.8モルの水で
酸触媒下で反応させて合成させるエチルシリケートの部
分縮重合体は、5102濃度が40〜41重量%であり
、比重は25°Cで1.06、粘度は25°Cで3.8
センチボイズであった。またその分子量分布は99%以
」−が8量体以下のものであった。このエチルシリケー
トの部分縮重合体から作った球状石英ガラス粉末の収率
は80重量%であり、石英ガラス粒子に転換するのに必
要な温度は1250°Cであり、この条件では粒子同士
の凝集が生じ、分散性の良い粉末とならなかった。
酸触媒下で反応させて合成させるエチルシリケートの部
分縮重合体は、5102濃度が40〜41重量%であり
、比重は25°Cで1.06、粘度は25°Cで3.8
センチボイズであった。またその分子量分布は99%以
」−が8量体以下のものであった。このエチルシリケー
トの部分縮重合体から作った球状石英ガラス粉末の収率
は80重量%であり、石英ガラス粒子に転換するのに必
要な温度は1250°Cであり、この条件では粒子同士
の凝集が生じ、分散性の良い粉末とならなかった。
[発明の効果]
本発明によれば、粉砕工程を経ずに所望の粒サイズの石
英ガラス粉末を90%以上の収率で製造することが可能
である。本発明により得られる高純度石英ガラス粉末は
さらに分散性に優れていることから半導体集積回路封止
用高純度充填剤として使用可能である。さらに球状粒子
としての球状を使って、液晶表示素子のスペーサーや球
状光学部品あるいは球状多孔質シリカゲル並びに球状多
孔質シリカゲルガラスとして応用可能である。
英ガラス粉末を90%以上の収率で製造することが可能
である。本発明により得られる高純度石英ガラス粉末は
さらに分散性に優れていることから半導体集積回路封止
用高純度充填剤として使用可能である。さらに球状粒子
としての球状を使って、液晶表示素子のスペーサーや球
状光学部品あるいは球状多孔質シリカゲル並びに球状多
孔質シリカゲルガラスとして応用可能である。
Claims (4)
- (1)エチルシリケートの部分縮重合体を水の中で乳化
し、乳化した液にゲル化剤を添加して球状シリカゲルを
沈澱し次いでシリカゲルを焼成する球状石英ガラスを製
造法であって、該エチルシリケートの部分縮重合体は、
SiO_2換算で44〜55重量%に相当する量のSi
を含有することを特徴とする球状石英ガラス粉末の製造
法。 - (2)前記エチルシリケートの部分縮重合体は、エチル
シリケートの単量体を5〜30重量%含有し、5〜8量
体の範囲に平均値があり、8量体以上を少なくとも1重
量%含有する特許請求の範囲第1項記載の製造法。 - (3)前記エチルシリケートの部分縮重合体は、アルコ
ールの含有量が1重量%以下である 特許請求の範囲第1項又は第2項記載の製 造法。 - (4)前記エチルシリケートの部分縮重合体は、25℃
において、比重が1.105〜1.20、粘度が9.5
〜1,000pSの範囲にある特許請求の範囲第3項記
載の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5297887A JPS63222029A (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | 球状石英ガラス粉末の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5297887A JPS63222029A (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | 球状石英ガラス粉末の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63222029A true JPS63222029A (ja) | 1988-09-14 |
Family
ID=12929989
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5297887A Pending JPS63222029A (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | 球状石英ガラス粉末の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63222029A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140126293A (ko) * | 2013-03-25 | 2014-10-30 | 보에 테크놀로지 그룹 컴퍼니 리미티드 | 실란트와 그의 제조 방법 |
-
1987
- 1987-03-10 JP JP5297887A patent/JPS63222029A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20140126293A (ko) * | 2013-03-25 | 2014-10-30 | 보에 테크놀로지 그룹 컴퍼니 리미티드 | 실란트와 그의 제조 방법 |
JP2016519181A (ja) * | 2013-03-25 | 2016-06-30 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Boe Technology Group Co.,Ltd. | シール剤及びその製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Zawrah et al. | Facile and economic synthesis of silica nanoparticles | |
US4767433A (en) | Spherical silica glass powder particles and process for their production | |
JPS6374911A (ja) | 微細球状シリカの製造法 | |
CN108658451A (zh) | 用于石英玻璃应用的高纯度二氧化硅颗粒及制备所述颗粒的方法 | |
CN114956101B (zh) | 一种高分散微米尺寸二氧化硅微球及其制备方法 | |
WO2001053225A1 (en) | Sol-gel process for producing synthetic silica glass | |
CN102781839A (zh) | 制造高纯度金属氧化物颗粒的方法及由其制造的材料 | |
JP2001048520A (ja) | 細長い形状のシリカゾル及びその製造方法 | |
JP3584485B2 (ja) | シリカゾルの製造方法 | |
US4940571A (en) | Method of making large particle size, high purity dense silica | |
US9695111B2 (en) | Method of producing soluble silicates with organic cations | |
JPS62176928A (ja) | 石英ガラス粉末の製造方法 | |
JP3758391B2 (ja) | 高純度シリカ水性ゾル及びその製造方法 | |
US20130068139A1 (en) | Silica gel comprising guanidine carbonate | |
JPS63222029A (ja) | 球状石英ガラス粉末の製造法 | |
JPS63291807A (ja) | 高純度球状シリカの製造方法 | |
JP5905767B2 (ja) | 中性コロイダルシリカ分散液の分散安定化方法及び分散安定性に優れた中性コロイダルシリカ分散液 | |
JPH0687608A (ja) | 単分散球状シリカの製造方法 | |
US5021073A (en) | Method of manufacturing synthetic silica glass | |
JP2004530567A (ja) | 光学グレードのフッ化物結晶のレーザ用光学素子の製造方法 | |
JPS63225538A (ja) | 球状石英ガラス粉末、その製造法及びその使用法 | |
JP2009091218A (ja) | シリカ微粒子分散液の製造方法 | |
JPH10226511A (ja) | 超高純度球状シリカ微粒子の製造方法 | |
JPS6345113A (ja) | 低濁度および低粘度のシリカゾル | |
JP4923372B2 (ja) | 球状酸化物粒子の製造方法 |