JPS63219562A - セラミツクコ−ト積層板の製造方法 - Google Patents
セラミツクコ−ト積層板の製造方法Info
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- JPS63219562A JPS63219562A JP5478787A JP5478787A JPS63219562A JP S63219562 A JPS63219562 A JP S63219562A JP 5478787 A JP5478787 A JP 5478787A JP 5478787 A JP5478787 A JP 5478787A JP S63219562 A JPS63219562 A JP S63219562A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/18—After-treatment
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、プリント基板用の積層板の製造方法に関する
。
。
(従来の技術)
従来、プリント基板としては紙基材フェノール樹脂積層
板、ガラス布晶材エボキ7樹脂槓層板が多く用いられて
きた。しかし、R近、電子機器の高出力化、小型化に伴
い、高密度実装化が望まれ、プリント基板にも耐熱性、
熱伝導性、耐トラツキング性等の同上、あるいは寸法安
定性のため低熱膨張化など、従来の積Ha板にはない特
性が要求されるようになりてきた。
板、ガラス布晶材エボキ7樹脂槓層板が多く用いられて
きた。しかし、R近、電子機器の高出力化、小型化に伴
い、高密度実装化が望まれ、プリント基板にも耐熱性、
熱伝導性、耐トラツキング性等の同上、あるいは寸法安
定性のため低熱膨張化など、従来の積Ha板にはない特
性が要求されるようになりてきた。
従来のプラスチック系の積層aは熱伝導性が悪いため熱
放f&性に欠ける。また熱膨張係数が大きく、耐熱性に
乏しいなどのために高密度実装化は困難であった。これ
に対してはアルミナをはじめとするセラミック基板、あ
るいは金属板を芯材としてその表面を絶縁層で覆ったメ
タルコア基板などが注目され、果際に使われている。ま
た、耐熱性の点からも従来のフェノール樹脂、エポキシ
樹脂に代わり、高耐熱性のポリイミド樹脂、あるいはポ
リエーテルエーテルケトン、yNI)tル2オン、ポリ
フェニレンサル2アイドなどの耐熱性熱DJ塑性樹脂を
用いた基板の開発が盛んに行われている。
放f&性に欠ける。また熱膨張係数が大きく、耐熱性に
乏しいなどのために高密度実装化は困難であった。これ
に対してはアルミナをはじめとするセラミック基板、あ
るいは金属板を芯材としてその表面を絶縁層で覆ったメ
タルコア基板などが注目され、果際に使われている。ま
た、耐熱性の点からも従来のフェノール樹脂、エポキシ
樹脂に代わり、高耐熱性のポリイミド樹脂、あるいはポ
リエーテルエーテルケトン、yNI)tル2オン、ポリ
フェニレンサル2アイドなどの耐熱性熱DJ塑性樹脂を
用いた基板の開発が盛んに行われている。
(発明が解決しようとする問題点)
しかし、こ扛らの基板についてみると抛々の問題点があ
る。
る。
アルミナ、炭化クイ累、窒化アルミニウムなどのセラミ
ック基板は熱伝導性、耐熱性にすぐれているが、製造工
程が複雑で寸法積度も悪く、加工性も悪い。また、機械
的にもろ(、基板の大きさに制限があり、大型の基板が
得られない。
ック基板は熱伝導性、耐熱性にすぐれているが、製造工
程が複雑で寸法積度も悪く、加工性も悪い。また、機械
的にもろ(、基板の大きさに制限があり、大型の基板が
得られない。
また、コストも高価である。
金属板も芯材としたメタルコア基板は、回路となる導体
部と接しているのは低熱伝導性の樹脂からなる絶縁t*
”111′あるために金属芯の尚熱伝導性を十分に生か
しきれず、熱放散性は十分ではない。また、芯材が導電
性の金Jf481″Cあるため、スルーホールの形成が
容易ではな(、形成するためには複雑な製造工程を必要
とする。
部と接しているのは低熱伝導性の樹脂からなる絶縁t*
”111′あるために金属芯の尚熱伝導性を十分に生か
しきれず、熱放散性は十分ではない。また、芯材が導電
性の金Jf481″Cあるため、スルーホールの形成が
容易ではな(、形成するためには複雑な製造工程を必要
とする。
fた、耐熱性樹脂を用いた基板は耐熱性は同上している
ものの、樹脂の熱伝導率が低いために熱放散性の向上は
望めない。
ものの、樹脂の熱伝導率が低いために熱放散性の向上は
望めない。
本発明はこれらの欠点を改良し、従来のプラスチック系
積層板と同様な製造、加工方法がoJ能で、しかも熱伝
導性、耐熱性、耐トラツキング性にすぐn1低熱膨張亭
の基板を得る製造方法を提供するものである。
積層板と同様な製造、加工方法がoJ能で、しかも熱伝
導性、耐熱性、耐トラツキング性にすぐn1低熱膨張亭
の基板を得る製造方法を提供するものである。
(問題点を解決するための手段〕
すなわち本発明は、金属ゐの片面にアルミナと7リカの
混合物の粉末を浩射してアルミナ、シリカからなる溶射
層を形成し、該金属箔の浴剤層側と接するようにプリプ
レグを積層して熱圧成形して一体化し、金属箔とプラス
チック系積層板の間にアルミナとシリカの混合物からな
る!−を設ける仁と1r%徴とするものである。
混合物の粉末を浩射してアルミナ、シリカからなる溶射
層を形成し、該金属箔の浴剤層側と接するようにプリプ
レグを積層して熱圧成形して一体化し、金属箔とプラス
チック系積層板の間にアルミナとシリカの混合物からな
る!−を設ける仁と1r%徴とするものである。
本発明に用いる金属箔は遡常プリント基板に用いらnて
いる銅箔かコスト、性118面から最適であるが、この
他にアルミニウム吊、亜鉛箔、ステンレス箔、ニッケル
箔、銀箔、金箔、あるいはこnらのラミネート陥、曾金
箔を用いることができる。
いる銅箔かコスト、性118面から最適であるが、この
他にアルミニウム吊、亜鉛箔、ステンレス箔、ニッケル
箔、銀箔、金箔、あるいはこnらのラミネート陥、曾金
箔を用いることができる。
金属箔にfg射する材料をアルミナと7リカの混合物と
したのは、金IpAiへの密着性と生産性のためである
。
したのは、金IpAiへの密着性と生産性のためである
。
絶縁性、耐薬品性その他の性能から金属箔に溶射する材
料はアルミナかRidである。ところが、アルミナ単独
の揚台、その融点が2000〜2100℃と高いため、
こnを溶融さセるために高温が必要となる。したがって
厚さの薄い金属箔にこれを溶射すると熱による金属箔の
変質、あるいはアルミナと金属箔の熱膨張係数の差によ
り金属箔にしわが発生する。こtNヲ防止するには金属
箔を強制的に冷却するための治具が必要となり、設備が
複雑になってしまう。また、金属箔の変質、しわの発生
全防止するために溶射の温度金工げるとアルミナが十分
にfIj融しなくなり、溶剤層がポーラスになり、金属
箔への密着性、るる腟はアルミナ粒子間の結合が弱く、
特性が低下する。また、十分浴融しない粒子は金F4箔
に付看誓ず、はじくために溶射物の付層効率を低下させ
、歩留りか非常に悪くなる。
料はアルミナかRidである。ところが、アルミナ単独
の揚台、その融点が2000〜2100℃と高いため、
こnを溶融さセるために高温が必要となる。したがって
厚さの薄い金属箔にこれを溶射すると熱による金属箔の
変質、あるいはアルミナと金属箔の熱膨張係数の差によ
り金属箔にしわが発生する。こtNヲ防止するには金属
箔を強制的に冷却するための治具が必要となり、設備が
複雑になってしまう。また、金属箔の変質、しわの発生
全防止するために溶射の温度金工げるとアルミナが十分
にfIj融しなくなり、溶剤層がポーラスになり、金属
箔への密着性、るる腟はアルミナ粒子間の結合が弱く、
特性が低下する。また、十分浴融しない粒子は金F4箔
に付看誓ず、はじくために溶射物の付層効率を低下させ
、歩留りか非常に悪くなる。
ところが、アルミナに7リカを混合すると7リカの融点
は1700〜18oO℃とアルミナより低いため釦、シ
リカは低い浴剤温度で十分に溶融する。そのため、溶射
温度が低くてもシリカが金ll4W3との密着、アルミ
ナ粒子間の結合のバインダーとして作用し、金属箔との
密着性が向上する。また、沼射温度を低くできることく
よって金属箔の1@剰時の変質、しわの発生も防止する
ことができる。
は1700〜18oO℃とアルミナより低いため釦、シ
リカは低い浴剤温度で十分に溶融する。そのため、溶射
温度が低くてもシリカが金ll4W3との密着、アルミ
ナ粒子間の結合のバインダーとして作用し、金属箔との
密着性が向上する。また、沼射温度を低くできることく
よって金属箔の1@剰時の変質、しわの発生も防止する
ことができる。
シリカと同様な作用をもつセラミックにチタニアがある
が、チタニアは導電性を有するためKこれをアルミナに
混合すると絶縁性が低下し、プリント基板の絶縁層とし
ては使用し得なくなる。
が、チタニアは導電性を有するためKこれをアルミナに
混合すると絶縁性が低下し、プリント基板の絶縁層とし
ては使用し得なくなる。
なお、本発明においてアルミナとシリカの混合比を規定
したのは以下の理由による。アルミナが95重量%を超
え、シリカが5重i%未満であると7リカの作用が不十
分で金属箔との密着性等が低下する。また逆に7リカが
50重雪量を超えると、シリカは浴剤時に長繊維化して
上方へ飛散しやすいために浴剤環境か極めて悪くなり、
浴剤ができない。一般に゛シリカ単独ではこのような埃
象のために浴剤不可能とされている。
したのは以下の理由による。アルミナが95重量%を超
え、シリカが5重i%未満であると7リカの作用が不十
分で金属箔との密着性等が低下する。また逆に7リカが
50重雪量を超えると、シリカは浴剤時に長繊維化して
上方へ飛散しやすいために浴剤環境か極めて悪くなり、
浴剤ができない。一般に゛シリカ単独ではこのような埃
象のために浴剤不可能とされている。
アルミナ、シリカの混合物の浴剤方法はガス溶射法、プ
ラズマ浴剤法、水プラズマ溶射法、減圧プラズマ浴剤法
など一般にセラミックの浴剤に用いられる方法が通用で
きる。
ラズマ浴剤法、水プラズマ溶射法、減圧プラズマ浴剤法
など一般にセラミックの浴剤に用いられる方法が通用で
きる。
次にプリプレグの樹脂は電気特性、成形加工性の点から
エポキシ樹脂、ポリイミド@脂が好適であるが、その他
にフェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン
樹脂、ビニルエステル樹脂などの熱硬化性樹脂、あるい
はポリサルフオン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリ
エーテルサルフオン、ポリエーテルイミドなどの熱可塑
性樹脂を用いることができる。
エポキシ樹脂、ポリイミド@脂が好適であるが、その他
にフェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン
樹脂、ビニルエステル樹脂などの熱硬化性樹脂、あるい
はポリサルフオン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリ
エーテルサルフオン、ポリエーテルイミドなどの熱可塑
性樹脂を用いることができる。
また、繊維としては一般に用いらnているガラス繊維の
他にケブラー線維、紙、クォーツ繊維などを用いること
ができる。
他にケブラー線維、紙、クォーツ繊維などを用いること
ができる。
(作用)
本発明の方法により得られる積層板はプラスチック系基
板の表向にアルミナ/シリカよりなるセラミック層を有
し、さらにその土に導体回路を形成する金J!li箔を
有するものである。
板の表向にアルミナ/シリカよりなるセラミック層を有
し、さらにその土に導体回路を形成する金J!li箔を
有するものである。
回路の真下にセラミック層があるため、従来のプラスチ
ック糸基&に比べると%に@方向への熱放散性にすぐれ
る。筐た、耐熱性、耐トラツキング性、表1fi硬度も
大きく同上し、低熱膨張係数のアルミナ/シリカ膚會有
するため、基板の熱膨張係数も低くすることかできる。
ック糸基&に比べると%に@方向への熱放散性にすぐれ
る。筐た、耐熱性、耐トラツキング性、表1fi硬度も
大きく同上し、低熱膨張係数のアルミナ/シリカ膚會有
するため、基板の熱膨張係数も低くすることかできる。
なお、回路の形成は、従来の金橋張槓層板と同様に表向
の金H4箔にレジスト)fIkを形成してエツチング処
理を行うことによって容易に形成することができ、スル
ーホールの形成も従来のプラスチック系基板と四時にド
リル卯工等により行うことができる。
の金H4箔にレジスト)fIkを形成してエツチング処
理を行うことによって容易に形成することができ、スル
ーホールの形成も従来のプラスチック系基板と四時にド
リル卯工等により行うことができる。
さらに一般に無機物であるセラミックと有機物であるプ
ラスチックは親和性に之しいため、十分な密着性が得ら
れないといわnているか、本発明のようにアルミナ/シ
リカからなるセラミックの溶射層にプリプレグ倉載置し
て熱圧成形すると、溶射層の表向は粗面であるために接
着面積が大きく、密着性は大きなものになる。
ラスチックは親和性に之しいため、十分な密着性が得ら
れないといわnているか、本発明のようにアルミナ/シ
リカからなるセラミックの溶射層にプリプレグ倉載置し
て熱圧成形すると、溶射層の表向は粗面であるために接
着面積が大きく、密着性は大きなものになる。
以下、実施例を挙げて本発明を説明する。
(実施例〕
第1図はアルミナ/シリカ浴剤鋼箔とプリプレグの積層
構成図、第2図は得ろt″した積層板の断面模式図であ
る。
構成図、第2図は得ろt″した積層板の断面模式図であ
る。
厚さ55μの鋼箔10片面にプラズマ浴射装置を用いて
アルミナ80]i[量%、シリカ20!量%からなる混
合粉末をfI!1躬して厚さ約100μのアルミナ/シ
リカ沼躬/i!2に形成した・このアルミナ/シリカf
g剰銅陥とガラスa基材エボキ7樹脂グリプレグ5を第
1図の槓層栴底に積み重ね、熱圧成形して第2図に示す
構成の積層板を得た。
アルミナ80]i[量%、シリカ20!量%からなる混
合粉末をfI!1躬して厚さ約100μのアルミナ/シ
リカ沼躬/i!2に形成した・このアルミナ/シリカf
g剰銅陥とガラスa基材エボキ7樹脂グリプレグ5を第
1図の槓層栴底に積み重ね、熱圧成形して第2図に示す
構成の積層板を得た。
このようにして得た積層板は、カラス布基材エボキ7樹
脂40表面にアルミナ/シリカ層を有し、さらKその上
に銅箔を有するものである。
脂40表面にアルミナ/シリカ層を有し、さらKその上
に銅箔を有するものである。
鋼箔とアルミナ/シリカ層間、およびアルミナ/シリカ
層とエポキシ樹脂層間の密層性は良好であり、一般のガ
ラス布基材エポキシ佃脂鋼侵積層板と同様の方法でエツ
チングによる回路形成、ドリル加工、スルーホールめっ
きによるスルーホールの形成が可能でめった。
層とエポキシ樹脂層間の密層性は良好であり、一般のガ
ラス布基材エポキシ佃脂鋼侵積層板と同様の方法でエツ
チングによる回路形成、ドリル加工、スルーホールめっ
きによるスルーホールの形成が可能でめった。
また、アルミナ/シリカ層のない従来の極層板に比べて
熱放散性、耐熱性にすぐれ、熱1e1係数も低かった。
熱放散性、耐熱性にすぐれ、熱1e1係数も低かった。
ちなみに耐トラツキング特性はアルミナ/7リ力層のな
い従来の積層板では500■においてNH4C6水沼液
の鞠下叡6点でトラッキングを生じたか、本実施例″t
−得たものは、600Vの100鞠でも、トラッキング
の形成は認められなかった。
い従来の積層板では500■においてNH4C6水沼液
の鞠下叡6点でトラッキングを生じたか、本実施例″t
−得たものは、600Vの100鞠でも、トラッキング
の形成は認められなかった。
(発明の効果)
本発明の方法によりは、従来のプラスチック系基板をベ
ースにその表面にアルミナ/シリカよりなるセラミック
層を有する積層板を容易に製造することができる。この
ようにして得らnる積層板は、特性的にもすぐnたもの
で、(ロ)路形成、スルーホール形成などの後加工も従
来の積層板と同様の方法で行うことがでさ、従来のセラ
ミック基板、メタルコア基鈑などの問題点を尊決し得る
ものである。
ースにその表面にアルミナ/シリカよりなるセラミック
層を有する積層板を容易に製造することができる。この
ようにして得らnる積層板は、特性的にもすぐnたもの
で、(ロ)路形成、スルーホール形成などの後加工も従
来の積層板と同様の方法で行うことがでさ、従来のセラ
ミック基板、メタルコア基鈑などの問題点を尊決し得る
ものである。
第1図はアルミナ/シリカ浴剤鋼箔とプリプレグの積層
構成図、巣2図は本発明により得られた積層板の断面模
式図である。 符号の説明 1 鋼箔 2 アルミナ/シリカ溶射層6
プリプレグ 4 ガラス布基材エボ寄シ樹脂代理人弁
理士 IR拳 章1′丁 )第1 図 第2図
構成図、巣2図は本発明により得られた積層板の断面模
式図である。 符号の説明 1 鋼箔 2 アルミナ/シリカ溶射層6
プリプレグ 4 ガラス布基材エボ寄シ樹脂代理人弁
理士 IR拳 章1′丁 )第1 図 第2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、金属箔の片面にアルミナ50〜95重量%、シリカ
5〜50重量%の範囲からなるアルミナとシリカの混合
粉末を溶射してアルミナ/シリカの溶射層を形成し、該
金属箔の溶射層側と接するようにプリプレグを積層して
熱圧成形することを特徴とするセラミックコート積層板
の製造方法。 2、金属箔が銅箔である特許請求の範囲第1項記載のセ
ラミックコート積層板の製造方法。 3、プリプレグの樹脂がエポキシ樹脂である特許請求の
範囲第1項記載のセラミックコート積層板の製造方法。 4、プリプレグの樹脂がポリイミド樹脂である特許請求
の範囲第1項記載のセラミックコート積層板の製造方法
。 5、プリプレグの繊維がガラス繊維である特許請求の範
囲第1項記載のセラミックコート積層板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5478787A JPS63219562A (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | セラミツクコ−ト積層板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5478787A JPS63219562A (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | セラミツクコ−ト積層板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63219562A true JPS63219562A (ja) | 1988-09-13 |
Family
ID=12980469
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5478787A Pending JPS63219562A (ja) | 1987-03-10 | 1987-03-10 | セラミツクコ−ト積層板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63219562A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04137788A (ja) * | 1990-09-28 | 1992-05-12 | Hitachi Chem Co Ltd | セラミック複合銅張積層板とその製造方法 |
JPH1035164A (ja) * | 1996-04-25 | 1998-02-10 | Samsung Aerospace Ind Ltd | Icカード及びその製造方法 |
JP2010143177A (ja) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Ajinomoto Co Inc | 金属張積層板の製造方法 |
-
1987
- 1987-03-10 JP JP5478787A patent/JPS63219562A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04137788A (ja) * | 1990-09-28 | 1992-05-12 | Hitachi Chem Co Ltd | セラミック複合銅張積層板とその製造方法 |
JPH1035164A (ja) * | 1996-04-25 | 1998-02-10 | Samsung Aerospace Ind Ltd | Icカード及びその製造方法 |
JP2010143177A (ja) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Ajinomoto Co Inc | 金属張積層板の製造方法 |
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