JPS6321535A - 試料装置 - Google Patents

試料装置

Info

Publication number
JPS6321535A
JPS6321535A JP61166356A JP16635686A JPS6321535A JP S6321535 A JPS6321535 A JP S6321535A JP 61166356 A JP61166356 A JP 61166356A JP 16635686 A JP16635686 A JP 16635686A JP S6321535 A JPS6321535 A JP S6321535A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
cutting
cutter
moving
holder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61166356A
Other languages
English (en)
Inventor
Teruji Hirai
平居 暉士
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP61166356A priority Critical patent/JPS6321535A/ja
Publication of JPS6321535A publication Critical patent/JPS6321535A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は、電子線マイクロアナライザ(EPMA)等試
料を真空中に置いて分析する装置において、分析を行う
時の試料装置に関する。
口、従来の技術 EPMAで定量分析を行う場合には、標準試料を準備し
て、各々の目的元素について未知試料。
標準試料の特性X線強度を測定し、その比(−次測定@
)を用いてZAF法等の定量補正計算を行っている。
このような測定に用いられる試料は、通常表面をアルミ
ナの微粒子等でパフ研磨し、平滑化して測定を行ってい
たが、酸化しやすい試料等は大気中の雰囲気にさらした
だけで、表面層が酸化して変質する場合があり、このよ
うな試料を用いて、測定を行えば濃度の測定結果が実際
より低く現れる。この試料が標準試料である場合には、
未知試料の分析濃度が実際より高く評価されることにな
り、正確な分析ができない、このような表面層の変質の
対策として装置試料室内で再度イオンエツチング等によ
って試料表面層を除去する方法もあるが、装置が高価に
なりしかも選択エツチングが行われ、表面層を均一に除
去できない場合もあるハ、考案が解決しようとする問題
点 試料表面が変質した場合、試料室内で再度試料表面を分
析に適当な表面に再加工する簡単な方法を提供すること
を目的とする。
二0問題点解決のための手段 EPMA等の試料を真空中に置いて分析する装置におい
て、真空試料室内に試料表面切削用の刃物を、外部操作
により試料表面に出入自在に設けると共に試料面の切削
駆動装置として分析用試料移動装置を用いることができ
るようにした。
ホ1作用 本発明によれば、試料表面を切削するにための刃物を、
分析装置外からの操作により、切削時には試料上に刃物
を移動し、測定時には刃物を試料ホルダーの周囲より離
れた位置に退去させるように、試料表面上に出入自在に
設け、切削時には試料上に刃物を移動した後、試料表面
上に分析に適合する平滑度を有する切削溝を形成するも
のである。
上記の生業を全て真空試料室内で行うから、切削溝を設
けた試料は変質することはないから、たとえ大気中で変
質しやすい試料でも正確な分析ができる。
へ、実施例 第1図に本発明の一実施例を示す、第1図において、B
は電子ビーム、Sは試料、1は試料ホルダー、2はY移
動テーブルで上面に試料ホルダー1を載せ止めねじIA
で固定するようになっている。3はX移動テーブルでY
移動テーブル2が上面に設けられている。4はXY移動
テーブルベースでX移動テーブル3が上面に設けられて
いる。
5はXY移動テーブルベース4を上下に移動させる上下
移動ステージ、6はXY移動テーブルベース4にX及び
Y移動テーブルの側方において回転及び上下に摺動可能
に嵌合された支柱である。7は支柱6に支柱軸と直角に
接合されたバネ板、8は試料表面を切削する刃物でバネ
板7の端に取付けられている。なお、上記移動テーブル
2.3及び移動ステージ5の駆動は試料室外より駆MW
横(不図示)によって行われる。支柱6は不図示のばね
により下方に付勢され、不図示のカムを分析装置本体外
から操作して上下する。刃物を使わない時はカムにより
支柱6は上方に押上げられている。押上げられた位置で
、支柱6に嵌着された傘歯車が、分析装置本体外から回
転操作が可能な傘歯車と咬み合うようになっている。
上記の構成により、表面が変質している試料Sの表面層
を切削する場合、通常試料ホルダー1の周囲から離れた
場所に位置している刃物8を支柱6を外部から傘歯車を
操作して回転させ、試料ホルダーの上に臨ませる。刃物
8が切削したい試料Sの上に来るように移動テーブル2
.3を駆動させる。試料Sが刃物8の下に来たら、カム
を操作して支柱1を下げて試料Sに刃物8をバネ板7の
弾撥力で適度の切削圧を与える。この状態で移動テーブ
ル2.3により、Y方向またはχ方向に試料ホルダー1
を移動させれば、試料Sには第2図に示すような切削溝
9が形成される。EPMA等の定I分析において、試料
表面の平滑面の広さは数μmφ〜数十μmφあれば充分
測定可能であるから、試料表面に数μm〜数十μmの巾
の講を切削するには余り力を必要としないから、このよ
うな機構の切削器具で表面切削が可能となる。
試料Sを切削した後は刃物8は支柱6の上方移動により
、試料Sから離れ、支柱7の回転により試料ホルダー1
の周辺から離れた位置に移動される。
上記刃物を切削時に分析装置付属の光学顕微鏡もしくは
SEM@の視野の中にに入るようにすると、切削状況が
観察できるので、確実な切削を行うことができる。
ト、効果 本発明によれば、上述したように簡単な切削機構により
、試料室内で試料表面の再平滑加工が可能となったこと
により、大気中ではすぐに酸化する銅、鉛、すず及びそ
の合金等の金属の正確な分析が可能となり、また軟らか
くてもともと研磨のできないハンダ等の試料についても
、正確な分析が可能となり、非常に測定精度及び測定能
力が向上した。
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明の一実施例の斜視図、第2図は試料の切
削状況図である。 B・・・電子ビーム、S・・・試料、1・・・試料ホル
ダー。 2・・・Y移動テーブル、3・・・X移動テーブル、4
・・・XY移動テーブルベース、5・・・上下移動ステ
ージ、6・・・支柱、7・・・バネ板、8・・・刃物。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  試料を真空中に置いて分析する装置における試料室内
    に設置され、外部操作により、試料表面切削用の刃物を
    、試料表面に臨ませ及び退避させ得るように設けると共
    に分析用試料移動装置によって上記刃物により試料面を
    切削し得るようにしたことを特徴とする試料装置。
JP61166356A 1986-07-15 1986-07-15 試料装置 Pending JPS6321535A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61166356A JPS6321535A (ja) 1986-07-15 1986-07-15 試料装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61166356A JPS6321535A (ja) 1986-07-15 1986-07-15 試料装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6321535A true JPS6321535A (ja) 1988-01-29

Family

ID=15829867

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61166356A Pending JPS6321535A (ja) 1986-07-15 1986-07-15 試料装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6321535A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02106051A (ja) * 1988-10-14 1990-04-18 Tokyo Electron Ltd 電子分析方法
JP2002362921A (ja) * 2001-06-06 2002-12-18 Sakai Chem Ind Co Ltd ストロンチウム化合物又はバリウム化合物の固結防止方法及びその組成物
CN110501181A (zh) * 2018-05-18 2019-11-26 晟通科技集团有限公司 双刃铝箔划样器

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02106051A (ja) * 1988-10-14 1990-04-18 Tokyo Electron Ltd 電子分析方法
JP2002362921A (ja) * 2001-06-06 2002-12-18 Sakai Chem Ind Co Ltd ストロンチウム化合物又はバリウム化合物の固結防止方法及びその組成物
CN110501181A (zh) * 2018-05-18 2019-11-26 晟通科技集团有限公司 双刃铝箔划样器

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4664818B2 (ja) 基板検査装置と基板検査方法と回収治具
KR100708867B1 (ko) 그라인딩 마운트 홀더 어셈블리, 이를 구비한 시료제작장치 및 방법
JPS6321535A (ja) 試料装置
JPS59972B2 (ja) テスト装置
US10773420B2 (en) Device and method for cleaving a substrate
KR100840732B1 (ko) 시편 제조 장치 및 방법
JPH05126768A (ja) 蛍光x線の分析方法
JP4549654B2 (ja) 切削ブレードのセットアップ方法
JP2630249B2 (ja) 全反射蛍光x線分析装置
JP2001147208A (ja) 試料ホルダおよび分析装置
US11476120B2 (en) Method of sample preparation using dual ion beam trenching
CN111812139A (zh) 芯片内部结构分析方法及样品承载装置
JP3744408B2 (ja) 面取り部の分析方法並びに面取り部分析用保持治具及びホルダー
JP4630978B2 (ja) 多層薄膜の分析方法ならびに装置
JPS58178948A (ja) 電子線照射型分析装置の試料装置
JP3185295B2 (ja) マーキング装置
KR100758110B1 (ko) 반도체 테스트용 지그
KR100226506B1 (ko) 시편 제작방법
JP3412852B2 (ja) 単結晶インゴットのマーキング装置
JP4339997B2 (ja) 分析用標準試料のデータ取得方法、並びにこの標準試料を用いたx線分析方法および装置
KR200177253Y1 (ko) 반도체 솔더 플래팅 공정 중 도금 밀착성 검사장치
JP2520576Y2 (ja) 分析装置
JP2005109292A (ja) ウェーハ周辺部の被測定物を回収する方法および装置
JPH0338689Y2 (ja)
JP2008128925A (ja) 下面照射蛍光x線分析用の異形試料保持具およびそれを備えた下面照射型蛍光x線分析装置