JPS6320583B2 - - Google Patents
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- JPS6320583B2 JPS6320583B2 JP54025749A JP2574979A JPS6320583B2 JP S6320583 B2 JPS6320583 B2 JP S6320583B2 JP 54025749 A JP54025749 A JP 54025749A JP 2574979 A JP2574979 A JP 2574979A JP S6320583 B2 JPS6320583 B2 JP S6320583B2
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Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、写真用フイルム、写真用印画紙、イ
ンスタントフイルムユニツト、磁気テープ、接着
テープ、感圧記録紙、オフセツト版、等の製造に
おいて連続して走行する可撓性帯状支持体(以
下、「ウエブ」と称する。)にその用途に応じた塗
工液を塗布する方法に関するものである。
ンスタントフイルムユニツト、磁気テープ、接着
テープ、感圧記録紙、オフセツト版、等の製造に
おいて連続して走行する可撓性帯状支持体(以
下、「ウエブ」と称する。)にその用途に応じた塗
工液を塗布する方法に関するものである。
本発明で言う「ウエブ」とは、例えば、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−
ナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレ
ン等のポリオレフイン類、セルローストリアセテ
ート、セルロースダイアセテート等のセルロース
誘導体、ポリカーボネート等のプラスチツクフイ
ルム;Cu,Al,Zn等の金属シート;ガラス、磁
器等のセラミツク;バライタ紙、合成紙、等から
成り、かつ用途に応じ塗工液塗着用下塗層やバツ
ク層、等が予め層設されたものも含まれ、それら
の全厚さは通常、2〜300μ程度のものである。
チレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−
ナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレ
ン等のポリオレフイン類、セルローストリアセテ
ート、セルロースダイアセテート等のセルロース
誘導体、ポリカーボネート等のプラスチツクフイ
ルム;Cu,Al,Zn等の金属シート;ガラス、磁
器等のセラミツク;バライタ紙、合成紙、等から
成り、かつ用途に応じ塗工液塗着用下塗層やバツ
ク層、等が予め層設されたものも含まれ、それら
の全厚さは通常、2〜300μ程度のものである。
従来、各種塗工液をウエブに塗布する場合、第
1図に示したように、塗工液2が矢印Xの方向に
連続して搬送されるウエブ1の表面に接触し始め
ると、その接触点を結ぶ線(以下、「塗布開始個
所」と称する。)は塗工液の物性、塗工手段の型
式、塗工手段の作動条件、等により前記ウエブ1
の幅方向にわたり通常V字状、W字状、直線状、
(第1図A〜C)のパターンを呈し、更に、矢印
Xと反対方向に50〜500%程度の塗布量が増加し
た厚塗り部3が若干の幅を有して前記ウエブ1を
横切り、前記厚塗り部3に引き続いて所望の厚さ
を有した前記塗工液2の塗膜が層設されることが
知られていた。(第2図) 前記厚塗り部3の発生をおさえるための解決策
は未だ殆んどなく、已むを得ず前記塗工液2の塗
布開始時に次の如き装置条件を変更するという応
急策によつて前記厚塗り部3の乾燥負荷を低減さ
せたり、充分な乾燥時間をとる等して、未乾燥に
伴う前記塗工液2の塗膜が搬送ガイド手段に付着
し、剥離面荒れ、等のトラブルが発生することを
抑制していた。
1図に示したように、塗工液2が矢印Xの方向に
連続して搬送されるウエブ1の表面に接触し始め
ると、その接触点を結ぶ線(以下、「塗布開始個
所」と称する。)は塗工液の物性、塗工手段の型
式、塗工手段の作動条件、等により前記ウエブ1
の幅方向にわたり通常V字状、W字状、直線状、
(第1図A〜C)のパターンを呈し、更に、矢印
Xと反対方向に50〜500%程度の塗布量が増加し
た厚塗り部3が若干の幅を有して前記ウエブ1を
横切り、前記厚塗り部3に引き続いて所望の厚さ
を有した前記塗工液2の塗膜が層設されることが
知られていた。(第2図) 前記厚塗り部3の発生をおさえるための解決策
は未だ殆んどなく、已むを得ず前記塗工液2の塗
布開始時に次の如き装置条件を変更するという応
急策によつて前記厚塗り部3の乾燥負荷を低減さ
せたり、充分な乾燥時間をとる等して、未乾燥に
伴う前記塗工液2の塗膜が搬送ガイド手段に付着
し、剥離面荒れ、等のトラブルが発生することを
抑制していた。
1 前記塗工液2の塗工手段に対する供給液量を
絞り、前記厚塗り部3の塗布量を減小させる。
絞り、前記厚塗り部3の塗布量を減小させる。
2 更に前記ウエブ1の走行速度を可成り低く設
定して塗布を始め、徐々に所望速度まで増速さ
せる。
定して塗布を始め、徐々に所望速度まで増速さ
せる。
3 乾燥装置の温度、風量あるいは風速、等の条
件を前記厚塗り部3が完全に乾燥して乾燥ゾー
ンから送り出される程度に一定時間変更させ
る。
件を前記厚塗り部3が完全に乾燥して乾燥ゾー
ンから送り出される程度に一定時間変更させ
る。
しかしながら、前述した各操作方法は、何れも
所望の厚さと膜質を有した塗工膜を得るまでに
は、相当量のロスが発生してしまう欠点があつ
た。
所望の厚さと膜質を有した塗工膜を得るまでに
は、相当量のロスが発生してしまう欠点があつ
た。
この欠点を除去するため、特開昭50−92328号
公報明細書に、前記ウエブ1の表面の塗布を開始
すべき部分に予めローレツト等により粗面化処理
を施して前記厚塗りを防止する塗布方法が開示さ
れている。
公報明細書に、前記ウエブ1の表面の塗布を開始
すべき部分に予めローレツト等により粗面化処理
を施して前記厚塗りを防止する塗布方法が開示さ
れている。
この塗布方法によつて、前記厚塗り部3の厚塗
り率を約11%に抑えることが可能になり、従つて
前記乾燥装置の乾燥能力は通常能力を11%程度増
強せしめれば足ることになり、製品ロスの大巾な
低減が可能になつた。
り率を約11%に抑えることが可能になり、従つて
前記乾燥装置の乾燥能力は通常能力を11%程度増
強せしめれば足ることになり、製品ロスの大巾な
低減が可能になつた。
しかしながら、この塗布方法は、オンラインで
予め粗面化した前記ウエブ1を使用する場合、何
等かの理由により塗布が中断され、再スタートす
るとき、前記ウエブ1の任意の表面から塗布を再
開始することができず、通常、次の新しいウエブ
ロールを送り込んで、新しい粗面化領域から塗布
する必要があつた。
予め粗面化した前記ウエブ1を使用する場合、何
等かの理由により塗布が中断され、再スタートす
るとき、前記ウエブ1の任意の表面から塗布を再
開始することができず、通常、次の新しいウエブ
ロールを送り込んで、新しい粗面化領域から塗布
する必要があつた。
一方、オンラインで粗面化する場合、前述した
オンラインでの欠点は解消され、任意に再スター
トが可能であるが、粗面化により生ずる前記ウエ
ブ1の微細な粉塵を前記塗工手段まで同伴せしめ
ることなく前記ウエブ1を送り込まないと、前記
粉塵によつて前記塗工膜の面質が著しく阻害され
製品ロスが増加するので、前記ウエブ1の走行速
度を可成り低く設定し、慎重に前記粗面化領域の
除塵を行うか、あるいは、極めて高性能の除塵装
置を付加する必要があつた。
オンラインでの欠点は解消され、任意に再スター
トが可能であるが、粗面化により生ずる前記ウエ
ブ1の微細な粉塵を前記塗工手段まで同伴せしめ
ることなく前記ウエブ1を送り込まないと、前記
粉塵によつて前記塗工膜の面質が著しく阻害され
製品ロスが増加するので、前記ウエブ1の走行速
度を可成り低く設定し、慎重に前記粗面化領域の
除塵を行うか、あるいは、極めて高性能の除塵装
置を付加する必要があつた。
本発明は前述した従来方法の欠点を解消し、比
較的操作が簡便でかつ安全な塗布方法を提供する
ことを目的とするものである。
較的操作が簡便でかつ安全な塗布方法を提供する
ことを目的とするものである。
本発明のかかる目的は、連続走行しているウエ
ブに塗工液を塗布する方法において、前記ウエブ
の長手方向塗工液塗布開始個所及びその近傍領域
表面に水及び又は有機溶媒から成る低粘度前処理
液を薄層塗布しながら、前記ウエブを前記塗工液
の塗工部に送り込み、前記塗工部を通過中の前記
前処理液薄膜上に前記塗工液による塗布を開始
し、前記前処理液薄膜の拡張濡れ効果により前記
塗工液の塗布開始個所における厚塗りを防止する
ことを特徴とする塗布方法によつて達成される。
ブに塗工液を塗布する方法において、前記ウエブ
の長手方向塗工液塗布開始個所及びその近傍領域
表面に水及び又は有機溶媒から成る低粘度前処理
液を薄層塗布しながら、前記ウエブを前記塗工液
の塗工部に送り込み、前記塗工部を通過中の前記
前処理液薄膜上に前記塗工液による塗布を開始
し、前記前処理液薄膜の拡張濡れ効果により前記
塗工液の塗布開始個所における厚塗りを防止する
ことを特徴とする塗布方法によつて達成される。
以下、添付した第3図〜第6図に基づき、本発
明方法の一実施態様について詳述する。
明方法の一実施態様について詳述する。
第3図は本発明方法を実施するための装置を示
したものである。ウエブ接合手段を含むウエブ送
出部(何れも図示せず。)から矢印X′の方向に連
続して繰り出されたウエブ1は、適宜配設された
ガイドローラ30群に案内、支持されて塗布バツ
キングローラ31に到達した後、該塗布バツキン
グローラ31によつて矢印Xの方向に反転され、
再びガイドローラ30群を内包し、外気を遮断す
るケース32を具備して成る縦長の乾燥装置33
を通過した後、ウエブ巻取部(図示せず。)で巻
き取られる。
したものである。ウエブ接合手段を含むウエブ送
出部(何れも図示せず。)から矢印X′の方向に連
続して繰り出されたウエブ1は、適宜配設された
ガイドローラ30群に案内、支持されて塗布バツ
キングローラ31に到達した後、該塗布バツキン
グローラ31によつて矢印Xの方向に反転され、
再びガイドローラ30群を内包し、外気を遮断す
るケース32を具備して成る縦長の乾燥装置33
を通過した後、ウエブ巻取部(図示せず。)で巻
き取られる。
前記塗布バツキングローラ31に対設される塗
工部34は、特公昭45−12390号あるいは特開昭
50−142643号公報明細書によつて開示されたよう
なエクストルージヨン型ホツパー35を具備して
成り、前記エクストルージヨン型ホツパー35
(以下、「ホツパー」と称する。)は定量送液ポン
プ36を介してそのポケツト37内にパイプ輸送
された塗工液2を、前記ウエブ1を横切るように
延在せしめたスリツト38により圧力分布が均一
な液流として前記塗布バツキングローラ31上で
反転する前記ウエブ1の表面に向け押し出し、前
記ホツパー35の支持台39のアクチユエータ4
0を作動させて前記スリツト38の先端部を画成
するエツジ41,41と前記ウエブ1表面との間
隙を所定値まで狭め、前記塗工液2の液流を前記
間隙に架橋せしめて前記ウエブ1の表面に付着さ
せるとともに、減圧ブロア42を作動させて吸引
チヤンバー43で画成される前記架橋部下方空間
を減圧化し、前記架橋部の塗工液ビードの安定化
を図る。
工部34は、特公昭45−12390号あるいは特開昭
50−142643号公報明細書によつて開示されたよう
なエクストルージヨン型ホツパー35を具備して
成り、前記エクストルージヨン型ホツパー35
(以下、「ホツパー」と称する。)は定量送液ポン
プ36を介してそのポケツト37内にパイプ輸送
された塗工液2を、前記ウエブ1を横切るように
延在せしめたスリツト38により圧力分布が均一
な液流として前記塗布バツキングローラ31上で
反転する前記ウエブ1の表面に向け押し出し、前
記ホツパー35の支持台39のアクチユエータ4
0を作動させて前記スリツト38の先端部を画成
するエツジ41,41と前記ウエブ1表面との間
隙を所定値まで狭め、前記塗工液2の液流を前記
間隙に架橋せしめて前記ウエブ1の表面に付着さ
せるとともに、減圧ブロア42を作動させて吸引
チヤンバー43で画成される前記架橋部下方空間
を減圧化し、前記架橋部の塗工液ビードの安定化
を図る。
前記塗工液のビードは、前記ウエブ1の移動に
伴つて前記ビードを形成する塗工液2が薄層状態
で持ち去られる一方、前記定量ポンプ36によつ
て逐次補給されるものであるが、本発明方法にお
いては、前述した如き塗工部34の塗布操作に先
立ち、前記塗工部34の上流側即ち前記ウエブ送
出部(図示せず)側に配設した前処理部49によ
つて、前記塗工液2を塗布すべきウエブ1の表面
に、前処理液45を薄層塗布することを特徴とす
るものである。
伴つて前記ビードを形成する塗工液2が薄層状態
で持ち去られる一方、前記定量ポンプ36によつ
て逐次補給されるものであるが、本発明方法にお
いては、前述した如き塗工部34の塗布操作に先
立ち、前記塗工部34の上流側即ち前記ウエブ送
出部(図示せず)側に配設した前処理部49によ
つて、前記塗工液2を塗布すべきウエブ1の表面
に、前処理液45を薄層塗布することを特徴とす
るものである。
前記前処理液45は、使用されるウエブ1の材
質、塗工液2の特性、ウエブ1の走行速度、等の
関係からその最適な液組成が決定されるが、最も
重要なことは前記塗工部34における塗工液2が
前記ウエブ1表面に対し拡張濡れ部C(第6図)
をもつて塗着するような性質を有し、かつ次工程
の乾燥装置33の負荷を著しく増加させないもの
であることにある。
質、塗工液2の特性、ウエブ1の走行速度、等の
関係からその最適な液組成が決定されるが、最も
重要なことは前記塗工部34における塗工液2が
前記ウエブ1表面に対し拡張濡れ部C(第6図)
をもつて塗着するような性質を有し、かつ次工程
の乾燥装置33の負荷を著しく増加させないもの
であることにある。
従つて、一般に前記前処理液45は、水及び又
は有機溶媒、更に必要に応じて界面活性剤、等を
添加して成り、その塗布量を3〜20c.c./m2程度に
極力抑えて薄層塗布し、その湿潤性が蒸発により
消失する前に前記塗工液2と接触するような前記
塗工部34と前処理部49の相対位置及び雰囲気
を維持することが好ましい。
は有機溶媒、更に必要に応じて界面活性剤、等を
添加して成り、その塗布量を3〜20c.c./m2程度に
極力抑えて薄層塗布し、その湿潤性が蒸発により
消失する前に前記塗工液2と接触するような前記
塗工部34と前処理部49の相対位置及び雰囲気
を維持することが好ましい。
前記前処理部49は、通常、ワイヤー径が0.1
〜0.5mmφの回転自在に軸支されたバー46、前
記バー46の大部分が受液部44中に浸漬されか
つ前記受液部44から溢出した前記前処理液45
を一時的に集液して受液タンク50に還流する集
液部48から成る塗布皿47、前記受液タンク5
0から前記前処理液45を供給する送液ポンプ5
1、を具備して成つている。
〜0.5mmφの回転自在に軸支されたバー46、前
記バー46の大部分が受液部44中に浸漬されか
つ前記受液部44から溢出した前記前処理液45
を一時的に集液して受液タンク50に還流する集
液部48から成る塗布皿47、前記受液タンク5
0から前記前処理液45を供給する送液ポンプ5
1、を具備して成つている。
なお、前記バー46は、その作動時において、
上流側に配設した揺動変位自在なダンサーローラ
52が点線で示した位置から実線で示した位置に
下降して来ることにより、前記ウエブ1に対し塗
布操作に必要な接触角が与えられ、バー46自体
が前記ウエブ1の走行方向に順転駆動される。
上流側に配設した揺動変位自在なダンサーローラ
52が点線で示した位置から実線で示した位置に
下降して来ることにより、前記ウエブ1に対し塗
布操作に必要な接触角が与えられ、バー46自体
が前記ウエブ1の走行方向に順転駆動される。
以上記述した如く構成される前処理部49の作
用について説明する。
用について説明する。
前記ウエブ1の任意の位置に塗布を開始する場
合に前記塗工部34のアクチユエータ40が規定
量変位して、前記スリツト38の先端部を画成す
るエツジ41,41と前記ウエブ1表面との間隙
を所定値まで狭め、前記塗工液2を前記間隙に架
橋せしめる過程において先ず、アクチユエータ4
0の変位開始操作信号、例えばプツシユボタン等
により点線で示したウエブパスを形成していた前
記ダンサーローラ52が自動的に揺動変位して実
線位置に設定される。
合に前記塗工部34のアクチユエータ40が規定
量変位して、前記スリツト38の先端部を画成す
るエツジ41,41と前記ウエブ1表面との間隙
を所定値まで狭め、前記塗工液2を前記間隙に架
橋せしめる過程において先ず、アクチユエータ4
0の変位開始操作信号、例えばプツシユボタン等
により点線で示したウエブパスを形成していた前
記ダンサーローラ52が自動的に揺動変位して実
線位置に設定される。
一方、予め前記受液タンク50に供給され、更
に前記送液ポンプ51により前記塗布皿47と受
液タンク50間を循環されていた前記前処理液4
5は、前記アクチユエータの変位開始信号によつ
て自動的に順転駆動を開始した前記バー46の外
周面により前記塗布皿47内の溢出液レベル以上
に持ち上げられて、前記バー46と所定の接触角
をもつて接触している前記ウエブ1の進入側の表
面に塗着し、その一部は前記バー46の外周面に
巻き付けられている前記ワイヤーと前記ウエブ1
の表面により画成される僅かな間隙を通過して前
記ウエブ1とともに前記塗工部34に向け搬走さ
れる。
に前記送液ポンプ51により前記塗布皿47と受
液タンク50間を循環されていた前記前処理液4
5は、前記アクチユエータの変位開始信号によつ
て自動的に順転駆動を開始した前記バー46の外
周面により前記塗布皿47内の溢出液レベル以上
に持ち上げられて、前記バー46と所定の接触角
をもつて接触している前記ウエブ1の進入側の表
面に塗着し、その一部は前記バー46の外周面に
巻き付けられている前記ワイヤーと前記ウエブ1
の表面により画成される僅かな間隙を通過して前
記ウエブ1とともに前記塗工部34に向け搬走さ
れる。
前記バー46を通した前記前処理液45は、そ
の主成分が前述した如く、水及び又は有機溶媒か
ら成るので、その粘度は著しく低く、従つて、第
4図に示した如く前記バー46の進入側のウエブ
表面に塗着した過剰の前処理液45の通過を阻止
し、かき落した前記ワイヤーによる塗布面のレコ
ード盤状の細かい筋目模様は、ほぼ瞬間時に前記
バー46を通過して前記ウエブ1の表面に塗着し
ている前処理液45によつて平担化され、均一か
つ薄層の前処理液塗膜45′が所定時間連続して
形成される(第5図)。第5図においてこの前処
理液塗膜45′は〓長手方向塗布開始個所及びそ
の近傍領域〓すなわち塗布開始点の前方10cmから
塗布開始点の後方(例えば)500cmの範囲に及ぶ。
の主成分が前述した如く、水及び又は有機溶媒か
ら成るので、その粘度は著しく低く、従つて、第
4図に示した如く前記バー46の進入側のウエブ
表面に塗着した過剰の前処理液45の通過を阻止
し、かき落した前記ワイヤーによる塗布面のレコ
ード盤状の細かい筋目模様は、ほぼ瞬間時に前記
バー46を通過して前記ウエブ1の表面に塗着し
ている前処理液45によつて平担化され、均一か
つ薄層の前処理液塗膜45′が所定時間連続して
形成される(第5図)。第5図においてこの前処
理液塗膜45′は〓長手方向塗布開始個所及びそ
の近傍領域〓すなわち塗布開始点の前方10cmから
塗布開始点の後方(例えば)500cmの範囲に及ぶ。
前記アクチユエータ40の動作開始信号により
前記アクチユエータ40が変位し、前述した如く
前記エツジ41の先端部が前記塗膜45′の表面
に所定距離近接する時には、前記アクチユエータ
40の変位開始信号によりすでに前記前処理液塗
膜45′が形成され、更に該塗膜45′の先端aが
前記塗工部34を通過し終つているようプログラ
ムしておくことにより、前記塗工液2が前記前処
理液45の薄層塗膜45′上にビードを架橋形成
して重層塗布される。
前記アクチユエータ40が変位し、前述した如く
前記エツジ41の先端部が前記塗膜45′の表面
に所定距離近接する時には、前記アクチユエータ
40の変位開始信号によりすでに前記前処理液塗
膜45′が形成され、更に該塗膜45′の先端aが
前記塗工部34を通過し終つているようプログラ
ムしておくことにより、前記塗工液2が前記前処
理液45の薄層塗膜45′上にビードを架橋形成
して重層塗布される。
前記前処理液2に使用する「前記有機溶媒」と
しては、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
系;メタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール等のアルコール系;酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコール
モノエチルエーテル等のエステル系;エーテル、
グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエ
チルエーテル、ジオキサン等のグリコールエーテ
ル系;ベンゼン、トルエン、キシレン等のタール
系(芳香族炭化水素);メチレンクロライド、エ
チレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、
エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の
塩素化炭化水素等のものがある。
しては、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
系;メタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール等のアルコール系;酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコール
モノエチルエーテル等のエステル系;エーテル、
グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエ
チルエーテル、ジオキサン等のグリコールエーテ
ル系;ベンゼン、トルエン、キシレン等のタール
系(芳香族炭化水素);メチレンクロライド、エ
チレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、
エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の
塩素化炭化水素等のものがある。
前記塗工液2の薄膜が連続的に形成され、前記
塗工液2のビードも前記吸引チヤンバー43の減
圧作用により安定した時点で、自動的に前記ダン
サーローラ52が作動して原点に復帰すべく揺動
変位し、前記バー46から前記ウエブ1が離脱し
て前記前処理部49による前処理液45の塗布が
終了する。以後、前記塗工部34のみによる塗工
作業が継続される。
塗工液2のビードも前記吸引チヤンバー43の減
圧作用により安定した時点で、自動的に前記ダン
サーローラ52が作動して原点に復帰すべく揺動
変位し、前記バー46から前記ウエブ1が離脱し
て前記前処理部49による前処理液45の塗布が
終了する。以後、前記塗工部34のみによる塗工
作業が継続される。
なお、前記前処理液45の塗膜45′上に塗着
された前記塗工液2の薄膜は、第6図に示した如
く、その塗布開始個所bから漸次その膜厚が減少
する前記拡張濡れ部Cに拡張する一方前記塗布開
始始点b以後、その最大値が所定厚の最高50%増
程度3′まで達した後、所定厚に形成される。
された前記塗工液2の薄膜は、第6図に示した如
く、その塗布開始個所bから漸次その膜厚が減少
する前記拡張濡れ部Cに拡張する一方前記塗布開
始始点b以後、その最大値が所定厚の最高50%増
程度3′まで達した後、所定厚に形成される。
前述した拡張濡れ部Cは、前記前処理液45の
塗膜45′の粘度及び表面張力がほぼ瞬間的に作
用して、前記厚塗り部3あるいは3′に集中する
前記塗布開始個所bの塗工液2を拡張せしめるも
のと推察される。
塗膜45′の粘度及び表面張力がほぼ瞬間的に作
用して、前記厚塗り部3あるいは3′に集中する
前記塗布開始個所bの塗工液2を拡張せしめるも
のと推察される。
以上記述した本発明方法は、前記バー46に代
わり、前記エクストルージヨン型ホツパー35、
フアンテンアプリケーター、グラビヤコーター、
スポンジロールコーター等を使用することも可能
である。
わり、前記エクストルージヨン型ホツパー35、
フアンテンアプリケーター、グラビヤコーター、
スポンジロールコーター等を使用することも可能
である。
又、前記塗工部34は、前記エクストルージヨ
ン型ホツパー35に限らず、スライド型ホツパー
等適宜選択使用される。
ン型ホツパー35に限らず、スライド型ホツパー
等適宜選択使用される。
更に、前記アクチユエータ40の変位操作によ
り一連の自動塗布操作を行うことなく、前記ウエ
ブの表面に予め記したところの塗布開始点を示す
マーク例えばアルミ蒸着テープ、黒色インク等が
マーク検出手段53、53例えば無接点近接セン
サ、光学センサにより一連の塗布操作を全自動で
行うこともできる。
り一連の自動塗布操作を行うことなく、前記ウエ
ブの表面に予め記したところの塗布開始点を示す
マーク例えばアルミ蒸着テープ、黒色インク等が
マーク検出手段53、53例えば無接点近接セン
サ、光学センサにより一連の塗布操作を全自動で
行うこともできる。
更に前述した自動塗布操作をすべて手動で行つ
てもよい。
てもよい。
以上、記述した本発明方法は、比較的低粘度
の、水及び又は有機溶媒を主成分とする前処理液
45を予め薄層塗布した後、前記塗工液2を重層
塗布するので、前記塗工液2の厚塗り部3あるい
は3′が前記前処理液45の塗膜の低い粘度及び
表面張力の作用を受けて拡張し、前記乾燥装置3
3の乾燥負荷を極端に増加せしめない程度に前記
厚塗り部3あるいは3′の膜厚を抑制することが
可能になつた。
の、水及び又は有機溶媒を主成分とする前処理液
45を予め薄層塗布した後、前記塗工液2を重層
塗布するので、前記塗工液2の厚塗り部3あるい
は3′が前記前処理液45の塗膜の低い粘度及び
表面張力の作用を受けて拡張し、前記乾燥装置3
3の乾燥負荷を極端に増加せしめない程度に前記
厚塗り部3あるいは3′の膜厚を抑制することが
可能になつた。
次に、実施例によつて本発明方法の効果を一層
明確にする。
明確にする。
実施例 1
厚さが100μのポリエチレンテレフタレート、
フイルムの支持体を30m/分の速度で走行せし
め、第3図に示した如き前処理部49と塗工部3
4により、下記液組成の前処理液と塗工液を
0.5mの間隔(第3図41と46との距離、以下
同じ)をおいて塗着し、重層塗布した。
フイルムの支持体を30m/分の速度で走行せし
め、第3図に示した如き前処理部49と塗工部3
4により、下記液組成の前処理液と塗工液を
0.5mの間隔(第3図41と46との距離、以下
同じ)をおいて塗着し、重層塗布した。
前処理液組成
アセトンのみ
塗布液量:17c.c./m2
塗工液組成 重量部
アクリル酸系共重合ポリマー 19部
アセトン 54部
水 27部
液粘度:580cp
塗布量:130g/m2
一方、前記前処理液による塗布を行わず、直接
前記塗工部による前記塗工液の単層塗布を行つ
た。
前記塗工部による前記塗工液の単層塗布を行つ
た。
そのときの、塗布条件は前述した重層塗布時と
同じであつた。
同じであつた。
その結果、前述した重層塗布の厚塗り部は20%
程度の厚塗りに止まつたが、前述の単層塗布は
190%の厚塗り率となつた。
程度の厚塗りに止まつたが、前述の単層塗布は
190%の厚塗り率となつた。
実施例 2
厚さが100μのポリエチレンテレフタレート、
フイルムの支持体を30m/分の速度で走行せし
め、前記前処理部及び塗工部として夫々エクスト
ルージヨン型ホツパーを使用し、下記液組成の前
処理液と塗工液を0.5mの間隔をおいて塗着し、
重層塗布した。
フイルムの支持体を30m/分の速度で走行せし
め、前記前処理部及び塗工部として夫々エクスト
ルージヨン型ホツパーを使用し、下記液組成の前
処理液と塗工液を0.5mの間隔をおいて塗着し、
重層塗布した。
前処理液組成(重量部)
水 95部
界面活性剤(5wt%溶液) 5部
塗布量:15c.c./m2
塗工液組成 重量部
アクリル酸ポリマー 7部
水 93部
液粘度:1500cp
塗布量:143g/m2
一方、前記前処理液による塗布を行わず、直接
前記塗工部による前記塗工液の単層塗布を行つ
た。
前記塗工部による前記塗工液の単層塗布を行つ
た。
そのときの、塗布条件は前述した重層塗布時と
同じであつた。
同じであつた。
その結果、重層塗布の厚塗り率は50%、単層塗
布の厚塗り率は200%であつた。
布の厚塗り率は200%であつた。
実施例 3
厚さが100μのポリエチレンテレフタレート、
フイルムの支持体を30m/分の速度で走行せし
め、前記前処理部としてポリウレタンから成るス
ポンジローラを使用し、前記塗工部としてエクス
トルージヨン型ホツパーを使用し、下記液組成の
前処理液と塗工液を0.5mの間隔をおいて塗着、
重層塗布した。
フイルムの支持体を30m/分の速度で走行せし
め、前記前処理部としてポリウレタンから成るス
ポンジローラを使用し、前記塗工部としてエクス
トルージヨン型ホツパーを使用し、下記液組成の
前処理液と塗工液を0.5mの間隔をおいて塗着、
重層塗布した。
前処理液組成(重量部)
水 95部
界面活性剤(5wt%水溶液) 5部
塗布量:約10c.c./m2
塗工液組成 重量部
ポリビニール系ポリマー 8部
水 92部
液粘度:250cp
塗布量:100g/m2
一方、前記前処理液による塗布を行わず、直接
前記塗工部による前記塗工液の単層塗布を行つ
た。
前記塗工部による前記塗工液の単層塗布を行つ
た。
そのときの塗布条件は前述した重層塗布時と同
じであつた。
じであつた。
その結果、重層塗布の厚塗り率は21%で、単層
塗布の厚塗り率は260%であつた。
塗布の厚塗り率は260%であつた。
実施例 4
厚さが127μのポリエチレンテレフタレート、
フイルムの支持体を30m/分の速度で走行せし
め、前記前処理部及び塗工部は夫々実施例1と同
じ装置を用い、下記液組成の前処理液と塗工液を
0.5mの間隔をおいて塗着、重層塗布した。
フイルムの支持体を30m/分の速度で走行せし
め、前記前処理部及び塗工部は夫々実施例1と同
じ装置を用い、下記液組成の前処理液と塗工液を
0.5mの間隔をおいて塗着、重層塗布した。
前処理液組成
水のみ
塗布量:約10c.c./m2
塗工液組成
第1層 写真感光性ハロゲン化銀乳剤
(ゼラチン濃度 5wt%)
液粘度:40cp
塗布量:80g/m2
第2層 ゼラチン保護層
(ゼラチン濃度 5wt%)
液粘度:20cp
塗布量:20g/m2
方式:1層、2層 同時重層塗布
一方、前記処理液による塗布を行なわず、直接
前記塗工液のみの塗布を行なつた。
前記塗工液のみの塗布を行なつた。
その時の塗布条件は前記処理液による塗布を行
い前記塗工液を塗布した時と同じであつた。
い前記塗工液を塗布した時と同じであつた。
その結果、前記処理液による塗布を行つた後、
前記塗工液を塗布した時の厚塗り率は50%程度の
厚塗り率に止つたが、前記処理液による塗布を行
なわずに、前記塗工液を塗布した時の厚塗り率は
110%であつた。
前記塗工液を塗布した時の厚塗り率は50%程度の
厚塗り率に止つたが、前記処理液による塗布を行
なわずに、前記塗工液を塗布した時の厚塗り率は
110%であつた。
実施例 5
厚さが100μのポリエチレンテレフタレートフ
イルムの支持体を30m/分の速度で走行せしめ、
前記処理部49と塗工部34により下記液組成の
前処理液と塗工液を0.5mの間隔をおいて塗着し、
重層塗布した。
イルムの支持体を30m/分の速度で走行せしめ、
前記処理部49と塗工部34により下記液組成の
前処理液と塗工液を0.5mの間隔をおいて塗着し、
重層塗布した。
前処理液組成(重量部)
アセトン 10部
エタノール 24部
水 43部
塗布液量:15c.c./m2
塗工液組成(重量部)
含Nカチオン性ポリマー 4部
アセトン 12部
エタノール 30部
水 54部
液粘度:24cp
塗布量:80c.c./m2
一方、前記処理液による塗布を行わず、直接前
記塗工液による単層塗布を行つた。
記塗工液による単層塗布を行つた。
その時の塗布条件は前述した重層塗布時と同じ
であつた。
であつた。
その結果、前述した重層塗布の厚塗り部は45%
適度の厚塗りに止つたが前述の単層塗布は400%
の厚塗り率となつた。
適度の厚塗りに止つたが前述の単層塗布は400%
の厚塗り率となつた。
実施例 6
厚さが100μのポリエチレンテレフタレートフ
イルムの支持体を30m/分の速度で走行せしめ前
記処理部49と塗工部34により下記液組成の前
処理液と塗工液を0.5mの間隔をおいて塗着し、
重層塗布した。
イルムの支持体を30m/分の速度で走行せしめ前
記処理部49と塗工部34により下記液組成の前
処理液と塗工液を0.5mの間隔をおいて塗着し、
重層塗布した。
前処理液組成
アセトンのみ
塗布量:12c.c./m2
塗工液(重量部)
アセチルセルロース 10部
アセトン 60部
シクロヘキサノン 30部
液粘度:600cp
塗布量:124c.c./m2
一方、前記処理液による塗布を行わず直接前記
塗工液による単層塗布を行つた。
塗工液による単層塗布を行つた。
その時の塗布条件は前述した重層塗布時と同じ
であつた。
であつた。
その結果、前述した重層塗布の厚塗り部は40%
程度の厚塗りに止つたが前述の単層塗布は350%
の厚塗り率となつた。
程度の厚塗りに止つたが前述の単層塗布は350%
の厚塗り率となつた。
なお、実施例1〜6における塗布条件は次の範
囲で塗工面状が最適になる値を設定した。
囲で塗工面状が最適になる値を設定した。
1 間隙:100〜300μ
2 減圧度:−10〜−150mmAq
また、厚塗り率は次の定義とした。
厚塗り率=(厚塗り部Wet膜厚/定常部Wet膜厚−1)×
100
100
第1図A〜Cは従来方法による塗布開始個所の
各厚塗り部のパターンを示す説明図、第2図は第
1図Cの−線に沿つて切断した断面図、第3
図は本発明方法を実施するための装置全体を示す
側面図、第4図及び第5図は、第3図の各要部構
造を拡大して示した断面図、第6図は本発明方法
によつて得られた厚塗り部の断面図である。 1はウエブ、2は塗工液、45は前処理液、4
5′は前処理液、45′は前処理液の塗膜である。
各厚塗り部のパターンを示す説明図、第2図は第
1図Cの−線に沿つて切断した断面図、第3
図は本発明方法を実施するための装置全体を示す
側面図、第4図及び第5図は、第3図の各要部構
造を拡大して示した断面図、第6図は本発明方法
によつて得られた厚塗り部の断面図である。 1はウエブ、2は塗工液、45は前処理液、4
5′は前処理液、45′は前処理液の塗膜である。
Claims (1)
- 1 連続走行しているウエブに塗工液を塗布する
方法において、前記ウエブの長手方向塗工液塗布
開始個所及びその近傍領域表面に水及び又は有機
溶媒から成る低粘度前処理液を予め薄層塗布して
から、前記ウエブを前記塗工液の塗工部に送り込
み、前記塗工部を通過中の前記前処理液薄膜上に
前記塗工液による塗布を開始し、前記前処理液薄
膜の拡張濡れ効果により前記塗布開始個所におけ
る厚塗りを防止することを特徴とする塗布方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2574979A JPS55119470A (en) | 1979-03-06 | 1979-03-06 | Coating method |
US06/125,054 US4340621A (en) | 1979-03-06 | 1980-02-27 | Method for preventing formation of a heavy liquid layer on a web at a coating start position |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2574979A JPS55119470A (en) | 1979-03-06 | 1979-03-06 | Coating method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS55119470A JPS55119470A (en) | 1980-09-13 |
JPS6320583B2 true JPS6320583B2 (ja) | 1988-04-28 |
Family
ID=12174470
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2574979A Granted JPS55119470A (en) | 1979-03-06 | 1979-03-06 | Coating method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS55119470A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010046647A (ja) * | 2008-08-25 | 2010-03-04 | Fujifilm Corp | 塗布装置及び塗布方法 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE8006296U1 (de) * | 1980-03-07 | 1980-07-31 | Heinrich Brandt, Maschinenbaugesellschaft Mbh, 4920 Lemgo | Vorrichtung zum schmelzen und auftragen von schmelzkleber |
JPS58137475U (ja) * | 1982-03-12 | 1983-09-16 | 三菱製紙株式会社 | 塗布装置 |
JPS59189967A (ja) * | 1983-04-14 | 1984-10-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布方法 |
JPH0661518B2 (ja) * | 1986-09-22 | 1994-08-17 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法及び装置 |
TW286346B (ja) * | 1993-04-05 | 1996-09-21 | Toto Ltd | |
US5924449A (en) * | 1993-04-23 | 1999-07-20 | Toto Ltd. | Hot and cold water mixing device |
JP4914673B2 (ja) * | 2006-08-10 | 2012-04-11 | Jmエナジー株式会社 | 電池またはキャパシタ電極用帯状体の塗工方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5584577A (en) * | 1978-12-19 | 1980-06-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Coating method |
-
1979
- 1979-03-06 JP JP2574979A patent/JPS55119470A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5584577A (en) * | 1978-12-19 | 1980-06-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Coating method |
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JP2010046647A (ja) * | 2008-08-25 | 2010-03-04 | Fujifilm Corp | 塗布装置及び塗布方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS55119470A (en) | 1980-09-13 |
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