JPS63199868A - 真空蒸発装置内の溶融金属レベル制御装置 - Google Patents
真空蒸発装置内の溶融金属レベル制御装置Info
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- JPS63199868A JPS63199868A JP2975887A JP2975887A JPS63199868A JP S63199868 A JPS63199868 A JP S63199868A JP 2975887 A JP2975887 A JP 2975887A JP 2975887 A JP2975887 A JP 2975887A JP S63199868 A JPS63199868 A JP S63199868A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、真空蒸発装置の溶融金属レベル制御装置に関
する。また、本発明は、主として鉄鋼材料、特に銅帯に
亜鉛を連続的に真空蒸着する蒸発装置内の溶融亜鉛レベ
ル制御装置に関する。
する。また、本発明は、主として鉄鋼材料、特に銅帯に
亜鉛を連続的に真空蒸着する蒸発装置内の溶融亜鉛レベ
ル制御装置に関する。
〔従来の技術」
第３図に亜鉛を蒸着する例の従来の蒸着室の構造を横か
ら見た概略断面図を示す。この装置は蒸着室１の真空槽
９ｔ−真空ポンプ（図示せず）により排気する構造にな
っておシ、蒸着室１は溶融亜鉛２１ｉ大気中にある溶解
炉２２から導くスノーケル２０、溶融亜鉛２１′全メイ
ンヒータ１３によシ加熱蒸発させる蒸発槽１８、蒸発槽
１８からストリップ３の蒸着面まで亜鉛蒸気２３′ｔ−
導くダクト７から構成されており、蒸発槽１８とダクト
７の間にはストリップ５への付着量ｔ−制御するシャッ
タ１１が設けである。さらに溶解炉２２の下部には高さ
調節手段１５ｄＥ設けである。
ら見た概略断面図を示す。この装置は蒸着室１の真空槽
９ｔ−真空ポンプ（図示せず）により排気する構造にな
っておシ、蒸着室１は溶融亜鉛２１ｉ大気中にある溶解
炉２２から導くスノーケル２０、溶融亜鉛２１′全メイ
ンヒータ１３によシ加熱蒸発させる蒸発槽１８、蒸発槽
１８からストリップ３の蒸着面まで亜鉛蒸気２３′ｔ−
導くダクト７から構成されており、蒸発槽１８とダクト
７の間にはストリップ５への付着量ｔ−制御するシャッ
タ１１が設けである。さらに溶解炉２２の下部には高さ
調節手段１５ｄＥ設けである。
このような構造の蒸着室１で行う亜鉛の真空蒸溜めっき
では、亜鉛の供給は大気中の亜鉛溶解炉２２で溶解した
亜鉛２１ｔ−真空槽９内圧力との差圧でスノーケル２０
？１″介して行う。スノーケル２０は蒸発槽１８につな
がっておシ溶融亜鉛２１７５！凝固しないよう加熱し、
溶融亜鉛２１′は蒸発槽１８で加熱され蒸発する。スノ
ーケル２０を用いた亜鉛供給方式には、（１）真空槽９
の外で亜鉛供給ができる、（２）真空槽９と大気とのシ
ールを溶融亜鉛２１ｔ−供給しながら同時に行うことが
できる、（３）蒸発槽１８円の溶融亜鉛２１′のレベル
を溶解炉２２の溶融亜鉛２１のレベルで制御できる、等
の特徴がある。
では、亜鉛の供給は大気中の亜鉛溶解炉２２で溶解した
亜鉛２１ｔ−真空槽９内圧力との差圧でスノーケル２０
？１″介して行う。スノーケル２０は蒸発槽１８につな
がっておシ溶融亜鉛２１７５！凝固しないよう加熱し、
溶融亜鉛２１′は蒸発槽１８で加熱され蒸発する。スノ
ーケル２０を用いた亜鉛供給方式には、（１）真空槽９
の外で亜鉛供給ができる、（２）真空槽９と大気とのシ
ールを溶融亜鉛２１ｔ−供給しながら同時に行うことが
できる、（３）蒸発槽１８円の溶融亜鉛２１′のレベル
を溶解炉２２の溶融亜鉛２１のレベルで制御できる、等
の特徴がある。
しかし、従来の溶融亜鉛２１′のレベル制御は溶解炉２
２の溶融亜鉛２１０レベルを作業者がチェックしながら
インゴット（金属塊）投入したり、溶解炉２２の高さ調
節をして行っていた。
２の溶融亜鉛２１０レベルを作業者がチェックしながら
インゴット（金属塊）投入したり、溶解炉２２の高さ調
節をして行っていた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来技術において蒸発槽内の溶解亜鉛レベルを溶解炉高
さの変化、および溶解炉内にインゴット投入による溶解
炉レベル変化等をオペレータがチェックしながら保持す
ることは困難であった。さらに大気圧の影響もかなシ大
きいこともわがり、ましてや大気圧の変化は自然現象で
１！：Ｉ＃）、いつ気圧が変化するかの予測は困難であ
るので、定期的にチェックする必要かあるなどの問題が
あった。また、蒸発槽からの蒸発量を多くシようとメイ
ンヒーメのヒータノくワーを上げれば蒸発量が多くなる
か、溶融亜鉛レベルは急に下がることになり、その都度
溶解炉２２の高さを調節したり、インゴット投入をした
シして蒸発楕円の溶融亜鉛レベルを一定に保持すること
は大変でおるという問題があり九。
さの変化、および溶解炉内にインゴット投入による溶解
炉レベル変化等をオペレータがチェックしながら保持す
ることは困難であった。さらに大気圧の影響もかなシ大
きいこともわがり、ましてや大気圧の変化は自然現象で
１！：Ｉ＃）、いつ気圧が変化するかの予測は困難であ
るので、定期的にチェックする必要かあるなどの問題が
あった。また、蒸発槽からの蒸発量を多くシようとメイ
ンヒーメのヒータノくワーを上げれば蒸発量が多くなる
か、溶融亜鉛レベルは急に下がることになり、その都度
溶解炉２２の高さを調節したり、インゴット投入をした
シして蒸発楕円の溶融亜鉛レベルを一定に保持すること
は大変でおるという問題があり九。
本発明紘、溶融金属を真空中で蒸発させてめっきする蒸
着室内の蒸発槽とその下方に設けられた溶解炉とからな
る真空蒸発装置において、溶解炉内の溶融金属レベルを
検出するレベル検出器と溶解炉高さ位置音検出する位置
検出器と溶解炉近傍の気圧を計測する気圧針と前記レベ
ル検出器と位置検出器と気圧計とから蒸発槽内溶融金属
レベルを演算し、又蒸着室内でめっきされた金属の厚み
（付着量）信号とストリップ幅信号とストリップ走行速
度信号とから蒸発槽から蒸発している金属の量（蒸発量
）全演算し、さらに溶解炉に投入するインゴットの重量
から単位時間当りの蒸発量に見合うインゴットの投入時
間間隔を演算する演算装置と、この演算装置からの信号
によりインゴットの投入を制御するインゴット投入装置
とからなる真空蒸発装置内の溶融金属レベル制御装置で
ある。
着室内の蒸発槽とその下方に設けられた溶解炉とからな
る真空蒸発装置において、溶解炉内の溶融金属レベルを
検出するレベル検出器と溶解炉高さ位置音検出する位置
検出器と溶解炉近傍の気圧を計測する気圧針と前記レベ
ル検出器と位置検出器と気圧計とから蒸発槽内溶融金属
レベルを演算し、又蒸着室内でめっきされた金属の厚み
（付着量）信号とストリップ幅信号とストリップ走行速
度信号とから蒸発槽から蒸発している金属の量（蒸発量
）全演算し、さらに溶解炉に投入するインゴットの重量
から単位時間当りの蒸発量に見合うインゴットの投入時
間間隔を演算する演算装置と、この演算装置からの信号
によりインゴットの投入を制御するインゴット投入装置
とからなる真空蒸発装置内の溶融金属レベル制御装置で
ある。
すなわち、本発明は密封されて真空状態の蒸発槽内の溶
融金属レベルｔ−直接測定して、そのレベル全制御する
のではなく、装置外の比較的測定の容易な因子を測定し
、間接的に演算で蒸発槽内の溶融金属レベルを算出する
方法を用いると共に蒸発槽から蒸発している金属の量〔
蒸発量〕を別の容易に知９うる因子を使用して演質ｆ
？ Ｍ舊出１．Ｆガムのデータを押出１．イ蕉発槽内の
溶融金属レベルを一定に保つために溶解炉へのインゴッ
ト投入量上制御する手段を有する真空蒸発装置内の溶融
金属レベル制御装置である。
融金属レベルｔ−直接測定して、そのレベル全制御する
のではなく、装置外の比較的測定の容易な因子を測定し
、間接的に演算で蒸発槽内の溶融金属レベルを算出する
方法を用いると共に蒸発槽から蒸発している金属の量〔
蒸発量〕を別の容易に知９うる因子を使用して演質ｆ
？ Ｍ舊出１．Ｆガムのデータを押出１．イ蕉発槽内の
溶融金属レベルを一定に保つために溶解炉へのインゴッ
ト投入量上制御する手段を有する真空蒸発装置内の溶融
金属レベル制御装置である。
以下、本発明の一実施例を第１図および第２図によシ説
明する。第１図は本発明の実施例装置の概略図、第２図
は本発明の実施例装置による制御手段の説明図を示す。
明する。第１図は本発明の実施例装置の概略図、第２図
は本発明の実施例装置による制御手段の説明図を示す。
先ず、第２図によって蒸発槽内の溶融金属レベルの測定
方法を説明する。
方法を説明する。
第２図において、Ｈ二基単面から蒸発槽１８下面の距離
、ｈｌ：基準面から溶解炉２２下面の高さ位置、ｈ意：
溶解炉２２の溶融金属レベル、ｈ３：溶解炉２２の溶融
金属レベルから蒸発槽１８下面の距離、ｈ４ ｍ蒸発槽
１８の溶融金属レベル、Ｐａｔｍ ：大気圧、ｐｃｈ
：真空槽内圧でちる。
、ｈｌ：基準面から溶解炉２２下面の高さ位置、ｈ意：
溶解炉２２の溶融金属レベル、ｈ３：溶解炉２２の溶融
金属レベルから蒸発槽１８下面の距離、ｈ４ ｍ蒸発槽
１８の溶融金属レベル、Ｐａｔｍ ：大気圧、ｐｃｈ
：真空槽内圧でちる。
この場合、蒸発槽１Ｂ内の溶融金属レベルは、Ｐａｔｍ
−Ｂａｈ ＝ ７ （ｈ３ ＋ｈ４ ） ”・（１）
で表わされる。（ここで、ｒ：溶融金属の密度である。
−Ｂａｈ ＝ ７ （ｈ３ ＋ｈ４ ） ”・（１）
で表わされる。（ここで、ｒ：溶融金属の密度である。
）そして、Ｐａｔｍ ） Ｐｃｈ であるからＰａｔ
ｍ −ＰｃｈキＰａ ｔｍとすると（１）式はＰａｔｍ
＝ ７’ （ｈｓ＋ｈ４）”” ＜２）で表わされる
。この（２）式を変形すると、となる。ここで、ｈ、は
第２図から、 ｈ３ミＨ−ｈ、 −ｈ、 −＠−（４）であるから、
（３）式は Ｐａｔｍ ｈ、、ｗ −（Ｈ−ｈｌ −ｈｔ ）・・・・
・（５）γ となる。
ｍ −ＰｃｈキＰａ ｔｍとすると（１）式はＰａｔｍ
＝ ７’ （ｈｓ＋ｈ４）”” ＜２）で表わされる
。この（２）式を変形すると、となる。ここで、ｈ、は
第２図から、 ｈ３ミＨ−ｈ、 −ｈ、 −＠−（４）であるから、
（３）式は Ｐａｔｍ ｈ、、ｗ −（Ｈ−ｈｌ −ｈｔ ）・・・・
・（５）γ となる。
かくして（５）式のように、Ｐａｔｍ、 ｈｌ、ｈｌ
ｔ−測定すれば蒸発槽１８の溶融金属レベルｈ４が計算
で求めることかできる。
ｔ−測定すれば蒸発槽１８の溶融金属レベルｈ４が計算
で求めることかできる。
次に、蒸発槽１８から蒸発している金属の量（蒸発ｉｋ
）の測定方法を説明する。
）の測定方法を説明する。
ストＩＪッグに蒸着した金属の単位面積当ジの重量を２
、ストリップ幅ｔ’ｗｓストリップ走行速度ｔ−ｖとす
ると、蒸発槽１８から蒸発している金属の単位時間当り
の重量（蒸発量）Ｇは、Ｇ＝ｆＸｖＸｖ −−−−−
（６） で求めることができる。
、ストリップ幅ｔ’ｗｓストリップ走行速度ｔ−ｖとす
ると、蒸発槽１８から蒸発している金属の単位時間当り
の重量（蒸発量）Ｇは、Ｇ＝ｆＸｖＸｖ −−−−−
（６） で求めることができる。
次に、蒸発量Ｇに見合う溶解炉２２へのインゴット投入
量の計算方法を説明する。
量の計算方法を説明する。
投入するインゴットの重量をＭとすると、蒸発量Ｇに見
合う溶解炉２２へのインゴット投入時間間隔Ｔは、 Ｔ−−・・・・・（７） で表わされ、この（７）式Ｋ（６）式を代入すると、で
求めることかできる。
合う溶解炉２２へのインゴット投入時間間隔Ｔは、 Ｔ−−・・・・・（７） で表わされ、この（７）式Ｋ（６）式を代入すると、で
求めることかできる。
次に、（５）式で求まる蒸発槽１８の溶融金属レベルｈ
４を一定に保つための制御方法について説明する。ここ
では、蒸発槽１８の溶融金属レベルｈｎｔ”一定にする
九めの制御手段として、溶解炉２２高さ位置ｈ１は変化
させず、溶解炉２２内の溶融金属レベルｈ、を制御する
方法、すなわちこの実施例では溶解炉２２へのインゴッ
ト投入量を制御する方法について述べる。
４を一定に保つための制御方法について説明する。ここ
では、蒸発槽１８の溶融金属レベルｈｎｔ”一定にする
九めの制御手段として、溶解炉２２高さ位置ｈ１は変化
させず、溶解炉２２内の溶融金属レベルｈ、を制御する
方法、すなわちこの実施例では溶解炉２２へのインゴッ
ト投入量を制御する方法について述べる。
蒸発槽１８の溶融金属レベル目標値ｔ” ｈ、、該レベ
ル目標値ｈ４Ｇと現在の蒸発槽１８の溶融金属レベルｈ
４との偏差金Δｈ４、現在の蒸発槽１８の溶融金属レベ
ルｈ４をｈ４ｏにする九めに必要な溶解炉２２の溶融金
属レベル目標値ｋ ｈ２０、該レベル目標値ｈ２１１と
現在の溶解炉２２の溶解金属レベルｈ、との偏差をΔｈ
２とすると、前記（５２式より、Ｐａｔｍ １１４ｏＷ −（Ｈｈ２６ ｈｌ ） ”””
（８）γ が得られ、又 ｈｅす４＋△ｈ４””（９） ｈ加；ｈ！＋Δｈス ・・・・・αＯ であるから（８）式は Ｐａｔｍ ｈ４＋Δｈ４＝−−（Ｈ−（ｈ鵞＋△ｈ＝ ）−ｈｔ
）α〃とな夛、Ｃ１１式から（５）式を引くとΔｈ４＊
Δｈ冨・・・１１１１（２） となる。（２）式は、蒸発槽１８の溶融金属レベル目標
値からの偏差と同じレベルだけ溶解炉２２の溶融金属レ
ベルを変化させれば、蒸発槽の溶融金属レベルを一定に
保つことがでさることを意味している。
ル目標値ｈ４Ｇと現在の蒸発槽１８の溶融金属レベルｈ
４との偏差金Δｈ４、現在の蒸発槽１８の溶融金属レベ
ルｈ４をｈ４ｏにする九めに必要な溶解炉２２の溶融金
属レベル目標値ｋ ｈ２０、該レベル目標値ｈ２１１と
現在の溶解炉２２の溶解金属レベルｈ、との偏差をΔｈ
２とすると、前記（５２式より、Ｐａｔｍ １１４ｏＷ −（Ｈｈ２６ ｈｌ ） ”””
（８）γ が得られ、又 ｈｅす４＋△ｈ４””（９） ｈ加；ｈ！＋Δｈス ・・・・・αＯ であるから（８）式は Ｐａｔｍ ｈ４＋Δｈ４＝−−（Ｈ−（ｈ鵞＋△ｈ＝ ）−ｈｔ
）α〃とな夛、Ｃ１１式から（５）式を引くとΔｈ４＊
Δｈ冨・・・１１１１（２） となる。（２）式は、蒸発槽１８の溶融金属レベル目標
値からの偏差と同じレベルだけ溶解炉２２の溶融金属レ
ベルを変化させれば、蒸発槽の溶融金属レベルを一定に
保つことがでさることを意味している。
次に本発明の制御装置の一実施例を説明するが、第１図
に示すようにスノークル２０を介して蒸発槽１８と溶解
炉２２が上下に接続されている真空蒸発装置において、
溶解炉２２の溶融金属２１のレベルを検出するレベル検
出器２を設け、また溶解炉２２の高さ位ｅｘ検出する位
置検出器４が設けられている。更に、溶解炉２２付近に
気圧を測定する気圧計６が設けである。
に示すようにスノークル２０を介して蒸発槽１８と溶解
炉２２が上下に接続されている真空蒸発装置において、
溶解炉２２の溶融金属２１のレベルを検出するレベル検
出器２を設け、また溶解炉２２の高さ位ｅｘ検出する位
置検出器４が設けられている。更に、溶解炉２２付近に
気圧を測定する気圧計６が設けである。
前記レベル検出器２と位置検出器４と気圧計６は蒸発槽
１Ｂの溶融金属２１′のレベルを一定に保持するよう演
算する演算装置８に接続されている。
１Ｂの溶融金属２１′のレベルを一定に保持するよう演
算する演算装置８に接続されている。
更に、前記演算装＃８にはス） ＩＪツブへの金属の付
着ｉｔ倍信号６、ス） ＩＪツ１幅信号２７、ストリッ
プ走行速度２８及び投入インゴット重量信号２９が接続
されている。又、溶解炉２２内に金属インゴット２５を
投入するイ／ゴット投入装置２４が設けてあり、前記演
算装置８に接続されている。
着ｉｔ倍信号６、ス） ＩＪツ１幅信号２７、ストリッ
プ走行速度２８及び投入インゴット重量信号２９が接続
されている。又、溶解炉２２内に金属インゴット２５を
投入するイ／ゴット投入装置２４が設けてあり、前記演
算装置８に接続されている。
このような本発明の制御装置は、蒸発槽１８からの蒸発
量の変化や気圧の変化、溶解炉２２の高さ変化等により
蒸発槽１８の溶融金属２１′のレベルが変化した場合、
溶解炉２２の溶融金属２１のレベルと溶解炉２２の高さ
をそれぞれレベル検出器２と位置検出器４により検出し
、また気圧計６にて気圧を計測し、これらの検出信号及
び計測信号を演算装置８に送ると共に、演算装置８では
、更に付着量信号、ス） ＋３ツブ巾信号、ストリップ
走行速度から蒸発量を演算し、かつこの蒸発量に見合う
インゴットの投入時間間隔を演算し、その結果の信号を
インゴット投入装置２４に送り、溶解Ｐ２２の溶融金属
２１０レベルｔ″調節することによシ、スノーケル２０
を介して蒸発槽１８の溶融金属２１′のレベルを一定に
制御する。
量の変化や気圧の変化、溶解炉２２の高さ変化等により
蒸発槽１８の溶融金属２１′のレベルが変化した場合、
溶解炉２２の溶融金属２１のレベルと溶解炉２２の高さ
をそれぞれレベル検出器２と位置検出器４により検出し
、また気圧計６にて気圧を計測し、これらの検出信号及
び計測信号を演算装置８に送ると共に、演算装置８では
、更に付着量信号、ス） ＋３ツブ巾信号、ストリップ
走行速度から蒸発量を演算し、かつこの蒸発量に見合う
インゴットの投入時間間隔を演算し、その結果の信号を
インゴット投入装置２４に送り、溶解Ｐ２２の溶融金属
２１０レベルｔ″調節することによシ、スノーケル２０
を介して蒸発槽１８の溶融金属２１′のレベルを一定に
制御する。
なお第１図中、１０は油圧制御装置、１２は油圧ユニッ
ト、１４は油量調節弁、１６は油圧シリンダであシ、他
の符号は第３図に説明したものと同じものをあられす。
ト、１４は油量調節弁、１６は油圧シリンダであシ、他
の符号は第３図に説明したものと同じものをあられす。
本発明は、蒸発量の変化並びに溶解炉高さの変化による
蒸発槽の溶融金属レベルが変化しても、本発明の制御装
置を適用することにより常に蒸発槽内の溶融金属レベル
が一定に保持でき、ストリップに均一の付着量の金属め
っきができる効果が生ずるものである。
蒸発槽の溶融金属レベルが変化しても、本発明の制御装
置を適用することにより常に蒸発槽内の溶融金属レベル
が一定に保持でき、ストリップに均一の付着量の金属め
っきができる効果が生ずるものである。
第１図は本発明の一実施例である真空蒸発装置内の溶融
亜鉛レベル制御装置の概略図であり、第２同社本発明の
制御装置による制御手段を説明するための図である。第
３図は従来の蒸着室の構造の概略断面図である。
亜鉛レベル制御装置の概略図であり、第２同社本発明の
制御装置による制御手段を説明するための図である。第
３図は従来の蒸着室の構造の概略断面図である。
Claims (1)
- 溶融金属を真空中で蒸発させてめつきする蒸着室内の蒸
発槽とその下方に設けられた溶解炉とからなる真空蒸発
装置において、溶解炉内の溶融金属レベルを検出するレ
ベル検出器と、溶解炉高さ位置を検出する位置検出器と
溶解炉近傍の気圧を計測する気圧計と、前記レベル検出
器と位置検出器と気圧計とから蒸発槽内溶融金属レベル
を演算し、又、蒸着室内でめつきされた金属の厚み信号
とストリップ幅信号とストリップ走行速度信号とから蒸
発槽から蒸発している金属の量を演算し、さらに、演解
炉に投入するインゴットの重量から単位時間当りの蒸発
量に見合うインゴットの投入時間間隔を演算する演算装
置と、この演算装置からの信号によりインゴットの投入
量を制御するインゴット投入装置とからなることを特徴
とする真空蒸発装置内の溶融金属レベル制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2975887A JPS63199868A (ja) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | 真空蒸発装置内の溶融金属レベル制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2975887A JPS63199868A (ja) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | 真空蒸発装置内の溶融金属レベル制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63199868A true JPS63199868A (ja) | 1988-08-18 |
Family
ID=12284977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2975887A Pending JPS63199868A (ja) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | 真空蒸発装置内の溶融金属レベル制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63199868A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1182272A1 (fr) * | 2000-08-23 | 2002-02-27 | Cold Plasma Applications C.P.A. | Procédé et dispositif permettant le dépôt de couches métalliques en continu par plasma froid |
| WO2005116290A1 (en) * | 2004-05-27 | 2005-12-08 | Sidrabe, Inc. | Method and apparatus for vacuum deposition by vaporizing metals and metal alloys |
| EP1967604A1 (en) * | 2007-03-08 | 2008-09-10 | Applied Materials, Inc. | Evaporation crucible and evaporation apparatus with directional evaporation |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5330432A (en) * | 1976-09-02 | 1978-03-22 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Process and apparatus for vacuum deposition |
-
1987
- 1987-02-13 JP JP2975887A patent/JPS63199868A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5330432A (en) * | 1976-09-02 | 1978-03-22 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Process and apparatus for vacuum deposition |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1182272A1 (fr) * | 2000-08-23 | 2002-02-27 | Cold Plasma Applications C.P.A. | Procédé et dispositif permettant le dépôt de couches métalliques en continu par plasma froid |
| WO2002016664A1 (fr) * | 2000-08-23 | 2002-02-28 | Cold Plasma Applications, Cpa, Sprl | Procede et dispositif permettant le depot de couches metalliques en continu par plasma froid |
| WO2005116290A1 (en) * | 2004-05-27 | 2005-12-08 | Sidrabe, Inc. | Method and apparatus for vacuum deposition by vaporizing metals and metal alloys |
| EP1967604A1 (en) * | 2007-03-08 | 2008-09-10 | Applied Materials, Inc. | Evaporation crucible and evaporation apparatus with directional evaporation |
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