JPS63198855A - 荷電ビ−ム分析装置 - Google Patents
荷電ビ−ム分析装置Info
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- JPS63198855A JPS63198855A JP62032146A JP3214687A JPS63198855A JP S63198855 A JPS63198855 A JP S63198855A JP 62032146 A JP62032146 A JP 62032146A JP 3214687 A JP3214687 A JP 3214687A JP S63198855 A JPS63198855 A JP S63198855A
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- Japan
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- analysis mode
- analysis
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- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims abstract description 58
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 39
- 238000004453 electron probe microanalysis Methods 0.000 abstract description 7
- 230000005260 alpha ray Effects 0.000 description 8
- 230000005250 beta ray Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 5
- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
本発明は、例えば、ＥＰＭＡのように試料に荷電ビーム
を照射し、該試料から発生する信号を検出して分析を行
なう荷電ビーム分析装置に関する。
を照射し、該試料から発生する信号を検出して分析を行
なう荷電ビーム分析装置に関する。
（ロ）従来技術とその問題点
近年、ＥＰＭＡのように荷電ビーム分析装置においては
、コンピュータの活用によって自動化か図られ、操作性
および分析効率が向上している。
、コンピュータの活用によって自動化か図られ、操作性
および分析効率が向上している。
しかしながら、これらの装置においても、稼動時間の中
には、測定時間以外の待ち時間があり、特に、或る測定
波長から次の測定波長への分光器の移動の期間は、他の
すべての制御か停止して待つことになり、非能率的であ
る。
には、測定時間以外の待ち時間があり、特に、或る測定
波長から次の測定波長への分光器の移動の期間は、他の
すべての制御か停止して待つことになり、非能率的であ
る。
例えば、ＥＰＭＡにおいて、試料の表面観察、２種類の
元素Ａ、Ｈについての定量分析、面分針および状態分析
を行なう場合を考えると、従来は、第４図に示されるよ
うに各分析モード毎に順次測定が行なわれている。
元素Ａ、Ｈについての定量分析、面分針および状態分析
を行なう場合を考えると、従来は、第４図に示されるよ
うに各分析モード毎に順次測定が行なわれている。
すなわち、先ず、定量分析においては、分光器を元素Ａ
のにα線（ＡＫα）のピーク波長へ移動して元素Ａのピ
ーク強度を測定し、さらに、分光器を元素Ａのにα線の
バックグラウンド（１３Ｇ）波長へ移動して元素Ａのバ
ックグラウンド強度を測定し、次に、分光器を元素Ｂの
にα線（ＢＫα）のピーク波長へ移動して元素Ｂのピー
ク強度を測定し、次に、分光器を元素Ｂのにα線のバッ
クグラウンド波長へ移動して元素Ｂのバックグラウンド
強度を測定する。面分析においては、分光器を元素Ａの
にα線のピーク波長へ移動して元素ＡについてのＸ線像
を作像し、次に、分光器を元素Ｂのにα線のピーク波長
へ移動して元素ＢについてのＸ線像を作像する。また、
状態分析においては、分光器を元素Ａのにβ線（ＡＫβ
）のピーク波長の周辺を移動させてＡＫβのプロファイ
ル（波形）を求めることによって元素Ａについての状態
分析を行ない、次に、分光器を元素Ｂのにβ線のピーク
波長の周辺を移動させて同様に元素Ｂについての状態分
析を行なう。さらに、表面観察においては、ビーム条件
を変更してＳＥ像を、倍率を変えて作像し、次に、ＢＳ
Ｅ像を、倍率を変えて作像する。
のにα線（ＡＫα）のピーク波長へ移動して元素Ａのピ
ーク強度を測定し、さらに、分光器を元素Ａのにα線の
バックグラウンド（１３Ｇ）波長へ移動して元素Ａのバ
ックグラウンド強度を測定し、次に、分光器を元素Ｂの
にα線（ＢＫα）のピーク波長へ移動して元素Ｂのピー
ク強度を測定し、次に、分光器を元素Ｂのにα線のバッ
クグラウンド波長へ移動して元素Ｂのバックグラウンド
強度を測定する。面分析においては、分光器を元素Ａの
にα線のピーク波長へ移動して元素ＡについてのＸ線像
を作像し、次に、分光器を元素Ｂのにα線のピーク波長
へ移動して元素ＢについてのＸ線像を作像する。また、
状態分析においては、分光器を元素Ａのにβ線（ＡＫβ
）のピーク波長の周辺を移動させてＡＫβのプロファイ
ル（波形）を求めることによって元素Ａについての状態
分析を行ない、次に、分光器を元素Ｂのにβ線のピーク
波長の周辺を移動させて同様に元素Ｂについての状態分
析を行なう。さらに、表面観察においては、ビーム条件
を変更してＳＥ像を、倍率を変えて作像し、次に、ＢＳ
Ｅ像を、倍率を変えて作像する。
この第４図に示されるように、或る測定波長から次の測
定波長への分光器の移動期間中には、他のすべての制御
は、停止して待つことになり、非能率的である。
定波長への分光器の移動期間中には、他のすべての制御
は、停止して待つことになり、非能率的である。
本発明は、上述の点に鑑みて為されたものであって、分
光器の移動期間を有効に利用して分析効率を高めた荷電
ビーム分析装置を提供することを目的とする。
光器の移動期間を有効に利用して分析効率を高めた荷電
ビーム分析装置を提供することを目的とする。
（ハ）問題点を解決するための手段
本発明では、上述の目的を達成するために、試料に荷電
ビームを照射し、該試料から発生する信号を検出して分
析を行なう荷電ビーム分析装置において、分析モードお
よび分析対象が設定される入力部と、前記設定された分
析モードの内の分光器を使用しない分析モードにおける
測定を、分光器が或る測定波長から別の測定波長へ移動
する期間中に行なう分析モード制御手段とを備えている
。
ビームを照射し、該試料から発生する信号を検出して分
析を行なう荷電ビーム分析装置において、分析モードお
よび分析対象が設定される入力部と、前記設定された分
析モードの内の分光器を使用しない分析モードにおける
測定を、分光器が或る測定波長から別の測定波長へ移動
する期間中に行なう分析モード制御手段とを備えている
。
（ニ）実施例
以下、図面によって本発明の実施例について詳細に説明
する。第１図は本発明の一実施例の要部のブロック図で
ある。この実施例の荷電ビーム分析装置は、ＥＰＭＡで
あり、このＥＰＭＡは、基本的には、キーボード等の入
力部Ｉと、この入力部ｌから入力される分析モードおよ
び分析対象元素に応じて測定波長を設定する測定波長設
定手段２と、入力部Ｉからの分析モード等の人力に基づ
いて、分析モードに応じて測定動作の順序を制御する分
析モード制御手段３と、分光器等を制御するＸ線信号制
御部４と、電子線制御部５と、分析装置本体６とから或
る。
する。第１図は本発明の一実施例の要部のブロック図で
ある。この実施例の荷電ビーム分析装置は、ＥＰＭＡで
あり、このＥＰＭＡは、基本的には、キーボード等の入
力部Ｉと、この入力部ｌから入力される分析モードおよ
び分析対象元素に応じて測定波長を設定する測定波長設
定手段２と、入力部Ｉからの分析モード等の人力に基づ
いて、分析モードに応じて測定動作の順序を制御する分
析モード制御手段３と、分光器等を制御するＸ線信号制
御部４と、電子線制御部５と、分析装置本体６とから或
る。
入力部ｌからは、定量分析、面分析、状態分析および表
面観察などの分析モードおよび分析対象元素等が設定入
力される。
面観察などの分析モードおよび分析対象元素等が設定入
力される。
測定波長設定手段は、分析モードおよび分析対象元素に
基づいて、予め、記憶部に格納されたデータに従って対
応する測定波長を設定し、分析モード制御手段に与える
。
基づいて、予め、記憶部に格納されたデータに従って対
応する測定波長を設定し、分析モード制御手段に与える
。
分析モード制御手段では、入力部より設定された分析モ
ードの内、分光器を使用しない分析モードにおける測定
を、分光器が或る測定波長から別の測定波長へ移動する
期間中に行なうように各部を制御する。
ードの内、分光器を使用しない分析モードにおける測定
を、分光器が或る測定波長から別の測定波長へ移動する
期間中に行なうように各部を制御する。
この実施例の測定波長設定手段２および分析モード制御
手段３は、ＣＰＵおよびメモリによって実現される。
手段３は、ＣＰＵおよびメモリによって実現される。
次に、上記構成を有するＥＰＭＡの動作を説明する。以
下の説明においては、例えば、分析モードとして表面観
察、定量分析、面分析および状態分析が、分析対象元素
として元素Ａ、Ｈの２種類が入力部１より設定人力され
たとする。
下の説明においては、例えば、分析モードとして表面観
察、定量分析、面分析および状態分析が、分析対象元素
として元素Ａ、Ｈの２種類が入力部１より設定人力され
たとする。
これによって、測定波長設定手段２は、測定すべき波長
を設定して分析モード制御手段３に与える。この場合に
は、例えば、元素Ａのにα線（ＡＫα）のピーク波長お
よびバックグラウンド波長、元素Ｂのにα線（ＢＫα）
のピーク波長およびバックグラウンド波長、元素Ａのに
β線（ＡＫβ）のピーク波長の周辺、元素Ｂのにβ線（
ＢＫβ）のピーク波長の周辺か測定波長となる。
を設定して分析モード制御手段３に与える。この場合に
は、例えば、元素Ａのにα線（ＡＫα）のピーク波長お
よびバックグラウンド波長、元素Ｂのにα線（ＢＫα）
のピーク波長およびバックグラウンド波長、元素Ａのに
β線（ＡＫβ）のピーク波長の周辺、元素Ｂのにβ線（
ＢＫβ）のピーク波長の周辺か測定波長となる。
分析モード制御手段３では、入力部からの分析モードの
内、分光器を使用しない分析モード、すなわち、表面観
察における測定を、他の分析モードにおける分光器の移
動期間中に行なうように各部を制御する。
内、分光器を使用しない分析モード、すなわち、表面観
察における測定を、他の分析モードにおける分光器の移
動期間中に行なうように各部を制御する。
この実施例では、分析モード制御手段３によって、第２
図に示される順序で各測定動作が行なわれる。すなわち
、先ず、分光器を元素Ａのにα線（ＡＫα）のピーク波
長へ移動して元素Ａのピーク強度を測定する。次に、分
光器が元素Ａのにα線のバックグラウンド（ＢＧ）波長
へ移動する期間中に、ビーム条件を変更して分光器を使
用しない分析モードである表面観察におけるＳＥＲの作
像を倍率を変えて行なう。その後、ビーム条件を変更し
て元素Ａのバックグラウンド強度を測定する。
図に示される順序で各測定動作が行なわれる。すなわち
、先ず、分光器を元素Ａのにα線（ＡＫα）のピーク波
長へ移動して元素Ａのピーク強度を測定する。次に、分
光器が元素Ａのにα線のバックグラウンド（ＢＧ）波長
へ移動する期間中に、ビーム条件を変更して分光器を使
用しない分析モードである表面観察におけるＳＥＲの作
像を倍率を変えて行なう。その後、ビーム条件を変更し
て元素Ａのバックグラウンド強度を測定する。
次に、分光器が元素Ｂのにα線（ＢＫα）のピーク波長
へ移動する期間中に、ビーム条件を変更して分光器を使
用しない分析モードである表面観察におけるＢＳＥ像の
作像を倍率を変えて行なう。その後、ビーム条件を変更
して元素Ｂのピーク強度を測定し、次に、分光器を元素
Ｂのにα線のバックグラウンド波長へ移動して元素Ｂの
バックグラウンド強度を測定する。
へ移動する期間中に、ビーム条件を変更して分光器を使
用しない分析モードである表面観察におけるＢＳＥ像の
作像を倍率を変えて行なう。その後、ビーム条件を変更
して元素Ｂのピーク強度を測定し、次に、分光器を元素
Ｂのにα線のバックグラウンド波長へ移動して元素Ｂの
バックグラウンド強度を測定する。
面分析においては、分光器を元素Ａのにα線のピーク波
長へ移動して元素ＡについてのＸ線像を作像し、次に、
分光器を元素Ｂのにα線のピーク波長へ移動して元素Ｂ
についてのＸ線像を作像する。
長へ移動して元素ＡについてのＸ線像を作像し、次に、
分光器を元素Ｂのにα線のピーク波長へ移動して元素Ｂ
についてのＸ線像を作像する。
また、状態分析においては、分光器を元素Ａのにβ線（
ＡＫβ）のピーク波長の周辺を移動させて元素Ａについ
ての状態分析を行ない、次に、分光器を元素Ｂのにβ線
のピーク波長の周辺を移動させて元素Ｂについての状態
分析を行ない終了する。
ＡＫβ）のピーク波長の周辺を移動させて元素Ａについ
ての状態分析を行ない、次に、分光器を元素Ｂのにβ線
のピーク波長の周辺を移動させて元素Ｂについての状態
分析を行ない終了する。
このように分光器を使用しない表面観察における測定を
、分光器を使用する定量分析におけろ分光器の移動期間
中に行なうようにしているので、第４図の従来例に比べ
て分光器の移動期間が何効に測定に利用されることにな
り、分析効率が大幅に向上する。
、分光器を使用する定量分析におけろ分光器の移動期間
中に行なうようにしているので、第４図の従来例に比べ
て分光器の移動期間が何効に測定に利用されることにな
り、分析効率が大幅に向上する。
上述の実施例では、分光器の移動は、各分析モードの各
測定動作に対応して行なわれたけれども、本考案の他の
実施例として、測定波長の大きさに従って、長波長側か
ら短波長側へ、あるいは、短波長側から長波長側へ一方
向に移動させるようにし、この移動に沿って各測定動作
を行なうよう制御してもよい。すなわち、上述の実施例
において、測定波長の大きさが、例えば、元素人のにα
線のバックグラウンド波長〉元素Ａのにα線のピーク波
長〉元素Ａのにβ線のピーク波長〉元素Ｂのにα線のバ
ックグラウンド波長〉元素Ｂのにα線のピーク波長〉元
素Ｂのにβ線のピーク波長であるとすると、上述の実施
例では、分光器は、第２図の測定動作に対応して、短波
長から長波長に移動し、さらに、短波長に移動し、再び
、長波長に移動するといったように、移動方向が繰り返
し変わるために移動量が増加し、したがって、分光器の
移動時間長くなり、その分待ち時間も長くなることにな
る。
測定動作に対応して行なわれたけれども、本考案の他の
実施例として、測定波長の大きさに従って、長波長側か
ら短波長側へ、あるいは、短波長側から長波長側へ一方
向に移動させるようにし、この移動に沿って各測定動作
を行なうよう制御してもよい。すなわち、上述の実施例
において、測定波長の大きさが、例えば、元素人のにα
線のバックグラウンド波長〉元素Ａのにα線のピーク波
長〉元素Ａのにβ線のピーク波長〉元素Ｂのにα線のバ
ックグラウンド波長〉元素Ｂのにα線のピーク波長〉元
素Ｂのにβ線のピーク波長であるとすると、上述の実施
例では、分光器は、第２図の測定動作に対応して、短波
長から長波長に移動し、さらに、短波長に移動し、再び
、長波長に移動するといったように、移動方向が繰り返
し変わるために移動量が増加し、したがって、分光器の
移動時間長くなり、その分待ち時間も長くなることにな
る。
そこで、本発明の他の実施例として、第３図に示される
ように、分光器を使用しない表面観察は、分光器の移動
期間中に上述の実施例と同様に行なうとともに、さらに
、分光器の移動を長波長側から短波長側へ一方向に行な
うようにし、それに応じて各測定動作を行なう。
ように、分光器を使用しない表面観察は、分光器の移動
期間中に上述の実施例と同様に行なうとともに、さらに
、分光器の移動を長波長側から短波長側へ一方向に行な
うようにし、それに応じて各測定動作を行なう。
ずなわら、先ず、元素Ａのバックグラウンド強度の測定
を行ない、次に分光器の移動期間中にＳＥ像を作像し、
その後元素Ａのピーク強度を測定し、さらに、元素Ａの
Ｘ線像を作像し、分光器の移動期間中にｌ１ＳＥ像を作
像し、次いで元素Ａの状態分析を行なう。さらに、元素
Ｂのバックグラウンド強度を測定し、次に、元素Ｂのピ
ーク強度を測定し、Ｘ線像を作像し、最後に元素Ｂの状
態分析を行なう。
を行ない、次に分光器の移動期間中にＳＥ像を作像し、
その後元素Ａのピーク強度を測定し、さらに、元素Ａの
Ｘ線像を作像し、分光器の移動期間中にｌ１ＳＥ像を作
像し、次いで元素Ａの状態分析を行なう。さらに、元素
Ｂのバックグラウンド強度を測定し、次に、元素Ｂのピ
ーク強度を測定し、Ｘ線像を作像し、最後に元素Ｂの状
態分析を行なう。
この実施例においても、表面観察を分光器の移動期間中
に行なうので、上述の実施例と同様に分析効率が向上し
、さらに、この実施例では、分光器は、長波長側から短
波長側へ一方向に移動することになるので、移動方向を
繰り返し変える場合に比べて分光器の移動量、したがっ
て、移動時間が低減されることになり、その分待ち時間
が減少して分析効率が更に向上する。
に行なうので、上述の実施例と同様に分析効率が向上し
、さらに、この実施例では、分光器は、長波長側から短
波長側へ一方向に移動することになるので、移動方向を
繰り返し変える場合に比べて分光器の移動量、したがっ
て、移動時間が低減されることになり、その分待ち時間
が減少して分析効率が更に向上する。
（ホ）効果
以上のように本発明によれば、分光器を使用しない分析
モードにおける測定を、分光器が或る測定波長から別の
測定波長へ移動する期間中に行なうようにしたので、従
来待ち時間であった分光器の移動時間が存効に利用され
ることになり、分析効率が大幅に向上する。
モードにおける測定を、分光器が或る測定波長から別の
測定波長へ移動する期間中に行なうようにしたので、従
来待ち時間であった分光器の移動時間が存効に利用され
ることになり、分析効率が大幅に向上する。
第１図は本発明の一実施例の要部のブロック図、第２図
は第１図の実施例の各測定動作の順序を説明するための
図、第３図は本発明の他の実施例の各測定動作の順序を
説明するための図、第４図は従来例の各測定動作の順序
を説明するための図である。 ■・・入力部、３・・・分析モード制御手段。
は第１図の実施例の各測定動作の順序を説明するための
図、第３図は本発明の他の実施例の各測定動作の順序を
説明するための図、第４図は従来例の各測定動作の順序
を説明するための図である。 ■・・入力部、３・・・分析モード制御手段。
Claims (1)
- （１）試料に荷電ビームを照射し、該試料から発生する
信号を検出して分析を行なう荷電ビーム分析装置におい
て、 分析モードおよび分析対象が設定される入力部と、 前記設定された分析モードの内の分光器を使用しない分
析モードにおける測定を、分光器が或る測定波長から別
の測定波長へ移動する期間中に行なう分析モード制御手
段とを備えることを特徴とする荷電ビーム分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62032146A JPH07104300B2 (ja) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | 荷電ビ−ム分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62032146A JPH07104300B2 (ja) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | 荷電ビ−ム分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63198855A true JPS63198855A (ja) | 1988-08-17 |
| JPH07104300B2 JPH07104300B2 (ja) | 1995-11-13 |
Family
ID=12350759
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62032146A Expired - Lifetime JPH07104300B2 (ja) | 1987-02-13 | 1987-02-13 | 荷電ビ−ム分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07104300B2 (ja) |
-
1987
- 1987-02-13 JP JP62032146A patent/JPH07104300B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07104300B2 (ja) | 1995-11-13 |
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