JPH0515718Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0515718Y2 JPH0515718Y2 JP13342086U JP13342086U JPH0515718Y2 JP H0515718 Y2 JPH0515718 Y2 JP H0515718Y2 JP 13342086 U JP13342086 U JP 13342086U JP 13342086 U JP13342086 U JP 13342086U JP H0515718 Y2 JPH0515718 Y2 JP H0515718Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- sample
- electron beam
- circuit
- difference
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 19
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 14
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 claims description 9
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 238000004125 X-ray microanalysis Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本考案は、X線マイクロアナライザーにより吸
収スペクトルを測定する技術に関する。
収スペクトルを測定する技術に関する。
(従来技術)
周知のようにX線マイクロアナライザーは、試
料に電子ビームを照射して試料から放射されてく
るX線、いわゆる発射スペクトルを測定するもの
で、その構造上、試料からの発射スペクトルしか
検出することができない。
料に電子ビームを照射して試料から放射されてく
るX線、いわゆる発射スペクトルを測定するもの
で、その構造上、試料からの発射スペクトルしか
検出することができない。
しかしながら、物質によつてはX線の吸収特性
を調べた方が性状の把握を容易に行なうことがで
きるものがある。
を調べた方が性状の把握を容易に行なうことがで
きるものがある。
このため、加速電圧による電子ビームの侵入深
さの相違を利用して、2種類の加速電圧による発
射スペクトルを検出し、これら発射スペクトルの
差分から吸収スペクトルを求めているが、ビーム
電流の制御や発射スペクトル同士の演算処理を人
手にたよつているため、分析作業に手間と時間が
かかるという問題があつた。
さの相違を利用して、2種類の加速電圧による発
射スペクトルを検出し、これら発射スペクトルの
差分から吸収スペクトルを求めているが、ビーム
電流の制御や発射スペクトル同士の演算処理を人
手にたよつているため、分析作業に手間と時間が
かかるという問題があつた。
(目的)
本考案はこのような問題に鑑みてなされたもの
であつて、その目的とするところは吸収スペクト
ルを自動的に測定することができるX線マイクロ
アナライザーを提供することにある。
であつて、その目的とするところは吸収スペクト
ルを自動的に測定することができるX線マイクロ
アナライザーを提供することにある。
(考案の概要)
すなわち、本考案が特徴とするところは加速電
圧が異なる複数種類の電子ビームを、その電流値
を一定に維持させながら放射スペクトルを検出す
るとともに、これら放射スペクトルの差分に基づ
いて吸収スペクトルを演算するようにした。
圧が異なる複数種類の電子ビームを、その電流値
を一定に維持させながら放射スペクトルを検出す
るとともに、これら放射スペクトルの差分に基づ
いて吸収スペクトルを演算するようにした。
(実施例)
そこで、以下に本考案の詳細を図示した実施例
に基づいて説明する。
に基づいて説明する。
第1図は、本考案の一実施例示すものであつ
て、図中符号1は、X線マイクロアナライザー本
体で、電子銃1aからの加速電子をコンデンサー
レンズ1bと対物レンズ1gにより集束させて試
料載置台1cに電子ビームとして照射するととも
に、試料載置台1cに対向するように分光器1d
を配設し、試料から発射されたX線を検出器1e
により受け、また試料載置台1cの近傍には電子
ビームの電流を検出するフアラデーケージ1fを
電子ビーム照射領域に移動可能に設けて構成され
ている。なお、図中符号2は、試料載置台1c、
及びフアラデーケージ1fを移動させる駆動機構
を、また3は分光器1dと検出器1eを回動させ
る駆動機構をそれぞれ示す。
て、図中符号1は、X線マイクロアナライザー本
体で、電子銃1aからの加速電子をコンデンサー
レンズ1bと対物レンズ1gにより集束させて試
料載置台1cに電子ビームとして照射するととも
に、試料載置台1cに対向するように分光器1d
を配設し、試料から発射されたX線を検出器1e
により受け、また試料載置台1cの近傍には電子
ビームの電流を検出するフアラデーケージ1fを
電子ビーム照射領域に移動可能に設けて構成され
ている。なお、図中符号2は、試料載置台1c、
及びフアラデーケージ1fを移動させる駆動機構
を、また3は分光器1dと検出器1eを回動させ
る駆動機構をそれぞれ示す。
4は、中央制御装置で、キイボード5により設
定された2種類の加速電圧により電子ビームを加
速させるように加速電圧調整回路6を制御すると
ともに、フアラデーケージ1fからの信号を受け
て加速電圧に関わりなくビーム電流を一定に維持
させるように電流調整回路7を制御するように構
成されている。8は、記憶回路で、X線検出器1
eからの信号を分光角θに対応させて記憶するも
のである。9は演算回路で、記憶回路8に記憶さ
れた2つの発射スペクトルを分光角に対応させて
読出し、両者の差分を演算して表示装置10に出
力する構成されている。
定された2種類の加速電圧により電子ビームを加
速させるように加速電圧調整回路6を制御すると
ともに、フアラデーケージ1fからの信号を受け
て加速電圧に関わりなくビーム電流を一定に維持
させるように電流調整回路7を制御するように構
成されている。8は、記憶回路で、X線検出器1
eからの信号を分光角θに対応させて記憶するも
のである。9は演算回路で、記憶回路8に記憶さ
れた2つの発射スペクトルを分光角に対応させて
読出し、両者の差分を演算して表示装置10に出
力する構成されている。
この実施例において、測定すべき試料Sを載置
台1cにセツトして、装置を作動させると、中央
制御装置4は、フアラデーケージ1fを電子ビー
ム照射領域に移動させて、第1の加速電圧V1に
より電子ビームを発生させ、このときのビーム電
流が設定値I0となるように電流調整回路7を制御
する。測定条件が設定された段階で、試料載置台
1cをビーム照射領域に移動させると、この加速
電圧V1に対応した深度l1まで電子ビームB1が侵
入して、ここでX線を発生する。このX線は深度
l1に対応した試料の厚みl1の吸収を受けて放射ス
ペクトルとして試料Sから放射する。このX線
X1は、分光器1dにより分光されつつ検出器1
eにより電気信号に変換されて記憶回路8に格納
される。
台1cにセツトして、装置を作動させると、中央
制御装置4は、フアラデーケージ1fを電子ビー
ム照射領域に移動させて、第1の加速電圧V1に
より電子ビームを発生させ、このときのビーム電
流が設定値I0となるように電流調整回路7を制御
する。測定条件が設定された段階で、試料載置台
1cをビーム照射領域に移動させると、この加速
電圧V1に対応した深度l1まで電子ビームB1が侵
入して、ここでX線を発生する。このX線は深度
l1に対応した試料の厚みl1の吸収を受けて放射ス
ペクトルとして試料Sから放射する。このX線
X1は、分光器1dにより分光されつつ検出器1
eにより電気信号に変換されて記憶回路8に格納
される。
第1の加速電圧V1による発射スペクトルP1の
測定が終了した段階で、中央制御装置4は、再び
フアラデーケージ1fをビーム照射領域に移動さ
せて第2の加速電圧V2でもつて電子ビームを発
生させ、その電流値をフアラデーケージにより検
出して設定値I0、つまり第1の加速電圧V1での電
子ビームの電流値となるように電流調整回路7を
制御する。この第2の測定条件が設定された段階
で、試料載置台1cをビーム照射領域に移動させ
ると、この加速電圧V1に対応した深度2まで電
子ビームl2が侵入して、ここでX線を発生する。
このX線は深度l2に対応した試料の厚みl2の吸収
を受けて放射スペクトルP2として試料Sから放
射する。このX線X2は、分光器1dにより分光
されつつ検出器1eにより電気信号に変換されて
記憶回路8の第2の領域に格納される。言うまで
もなく、各放射スペクトルP1,P2は、電子ビー
ムの電流値を同一にして検出したものであるか
ら、ビームの侵入深さの影響だけを受けたデータ
を表わすことになる。
測定が終了した段階で、中央制御装置4は、再び
フアラデーケージ1fをビーム照射領域に移動さ
せて第2の加速電圧V2でもつて電子ビームを発
生させ、その電流値をフアラデーケージにより検
出して設定値I0、つまり第1の加速電圧V1での電
子ビームの電流値となるように電流調整回路7を
制御する。この第2の測定条件が設定された段階
で、試料載置台1cをビーム照射領域に移動させ
ると、この加速電圧V1に対応した深度2まで電
子ビームl2が侵入して、ここでX線を発生する。
このX線は深度l2に対応した試料の厚みl2の吸収
を受けて放射スペクトルP2として試料Sから放
射する。このX線X2は、分光器1dにより分光
されつつ検出器1eにより電気信号に変換されて
記憶回路8の第2の領域に格納される。言うまで
もなく、各放射スペクトルP1,P2は、電子ビー
ムの電流値を同一にして検出したものであるか
ら、ビームの侵入深さの影響だけを受けたデータ
を表わすことになる。
第2の発射スペクトルP2の測定が終了すると、
演算回路9は記憶回路8に格納されている2つの
発射スペクトルP1,P2を分光角θを同一に保ち
ながら読出し、両者の差分を演算し、その結果を
表示装置X10に出力する。これにより、第1の
深さと第2の深さの差分、つまり厚さ△d=l2−
l1の試料のX線の波長毎の吸収スペクトルQが表
示されることになる(第3図)。
演算回路9は記憶回路8に格納されている2つの
発射スペクトルP1,P2を分光角θを同一に保ち
ながら読出し、両者の差分を演算し、その結果を
表示装置X10に出力する。これにより、第1の
深さと第2の深さの差分、つまり厚さ△d=l2−
l1の試料のX線の波長毎の吸収スペクトルQが表
示されることになる(第3図)。
第4図は、本考案の第2実施例を示すものであ
つて、図中符号11は、電流値記憶回路で、測定
開始に先立つて2種類の加速電圧V1,V2による
電流I1,I2を設定値I0に維持するパラメータを記
憶し、加速電圧の切変え時に電子ビーム電流を設
定値に維持するように電流調整回路7を制御する
ものである。13は演算回路で、X線検出器1e
からの出力の内、一方を保持して第2の信号が入
力した時点で、両者の差分を演算して表示装置1
3に出力するものである。
つて、図中符号11は、電流値記憶回路で、測定
開始に先立つて2種類の加速電圧V1,V2による
電流I1,I2を設定値I0に維持するパラメータを記
憶し、加速電圧の切変え時に電子ビーム電流を設
定値に維持するように電流調整回路7を制御する
ものである。13は演算回路で、X線検出器1e
からの出力の内、一方を保持して第2の信号が入
力した時点で、両者の差分を演算して表示装置1
3に出力するものである。
この実施例において、フアラデーケージ1fを
ビーム照射領域に移動させて、第1、第2の加速
電圧V1,V2により電子ビームを発生させ、各加
速電圧V1,V2による電流値が設定値I0となるパ
ラメータを電流記憶回路11に記憶させる。
ビーム照射領域に移動させて、第1、第2の加速
電圧V1,V2により電子ビームを発生させ、各加
速電圧V1,V2による電流値が設定値I0となるパ
ラメータを電流記憶回路11に記憶させる。
このような準備を終えた段階で、載置台1cを
ビーム照射領域に移動させて測定を開始すると、
中央制御装置4は、第1の加速電圧V1によりビ
ームを発生させ、このときのX線強度を演算回路
12にホールドさせる。ホールドが終了した時点
で、中央制御装置4は、第2の加速電圧V2によ
るビームを発生させ、これによるX線検出器1e
からの信号とホールドされている値との差分を演
算させて表示装置13に出力させる。言うまでも
なく、この加速電圧の切換え時には電流値記憶回
路11が作動して、各加速電圧V1,V2に対応す
るパラメータを選択して電流調整回路7を制御す
るため、電子ビームの電流値に変化を来たすこと
はない。
ビーム照射領域に移動させて測定を開始すると、
中央制御装置4は、第1の加速電圧V1によりビ
ームを発生させ、このときのX線強度を演算回路
12にホールドさせる。ホールドが終了した時点
で、中央制御装置4は、第2の加速電圧V2によ
るビームを発生させ、これによるX線検出器1e
からの信号とホールドされている値との差分を演
算させて表示装置13に出力させる。言うまでも
なく、この加速電圧の切換え時には電流値記憶回
路11が作動して、各加速電圧V1,V2に対応す
るパラメータを選択して電流調整回路7を制御す
るため、電子ビームの電流値に変化を来たすこと
はない。
1つの波長θ1についての測定が終了すると、中
央制御装置4は、分光器1dを次ぎの波長θ2に対
応する位置まで移動させ、再び上述の過程を繰返
す。
央制御装置4は、分光器1dを次ぎの波長θ2に対
応する位置まで移動させ、再び上述の過程を繰返
す。
以下、このように波長、つまり分光角θを順次
変更しながら2種類の加速電圧V1,V2によるX
線強度の差分を演算して表示させる(第5図)。
これにより、波長毎の吸収強度が順次表示装置1
3に表示されることになる。
変更しながら2種類の加速電圧V1,V2によるX
線強度の差分を演算して表示させる(第5図)。
これにより、波長毎の吸収強度が順次表示装置1
3に表示されることになる。
この実施例によれば、吸収スペクトルを殆どリ
アルタイムで表示することができるばかりでな
く、記憶回路8を不要とすることができる。
アルタイムで表示することができるばかりでな
く、記憶回路8を不要とすることができる。
(効果)
以上説明したように本考案においては、電子銃
からの電子ビームを照射して試料から発生するX
線を分光しつつX線強度を検出するマイクロアナ
ライザーにおいて、電流を一定に維持させて複数
種類の加速電圧で電子ビームを発生させる制御回
路と、加速電圧毎のX線強度の差分を演算して吸
収スペクトルを求める回路とを備えたので、試料
の吸収スペクトルを自動的に求めることができ、
X線マイクロアナリシスによる分析作業の簡素化
と自動化を図ることができる。
からの電子ビームを照射して試料から発生するX
線を分光しつつX線強度を検出するマイクロアナ
ライザーにおいて、電流を一定に維持させて複数
種類の加速電圧で電子ビームを発生させる制御回
路と、加速電圧毎のX線強度の差分を演算して吸
収スペクトルを求める回路とを備えたので、試料
の吸収スペクトルを自動的に求めることができ、
X線マイクロアナリシスによる分析作業の簡素化
と自動化を図ることができる。
第1図は本考案の位置実施例を示す装置の構成
図、第2、3図は、それぞれ同上装置の動作を示
す説明図、第4図は本考案の第2の実施例を示す
装置の構成図、及び第5図は第4図装置の動作を
示す説明図である。 1……X線マイクロアナライザー本体、1a…
…電子銃、1b……コンデンサーレンズ、1c…
…試料載置台、1d……分光器、1……X線検出
器、5……キイボード。
図、第2、3図は、それぞれ同上装置の動作を示
す説明図、第4図は本考案の第2の実施例を示す
装置の構成図、及び第5図は第4図装置の動作を
示す説明図である。 1……X線マイクロアナライザー本体、1a…
…電子銃、1b……コンデンサーレンズ、1c…
…試料載置台、1d……分光器、1……X線検出
器、5……キイボード。
Claims (1)
- 電子銃からの電子ビームを照射して試料から発
生するX線を分光しつつX線強度を検出するマイ
クロアナライザーにおいて、電流を一定に維持さ
せて複数種類の加速電圧で電子ビームを発生させ
る制御回路と、前記加速電圧毎のX線強度の差分
を演算して吸収スペクトルを求める回路とを備え
たことを特徴とするX線マイクロアナライザー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13342086U JPH0515718Y2 (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13342086U JPH0515718Y2 (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6339855U JPS6339855U (ja) | 1988-03-15 |
JPH0515718Y2 true JPH0515718Y2 (ja) | 1993-04-26 |
Family
ID=31033721
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13342086U Expired - Lifetime JPH0515718Y2 (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0515718Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5293001A (en) * | 1992-04-14 | 1994-03-08 | Belden Wire & Cable Company | Flexible shielded cable |
JP7191902B2 (ja) * | 2020-07-27 | 2022-12-19 | 日本電子株式会社 | 試料分析装置及び方法 |
-
1986
- 1986-08-29 JP JP13342086U patent/JPH0515718Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6339855U (ja) | 1988-03-15 |
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