JPS63194381A - 薄膜ガラスレ−ザ−及びその製造方法 - Google Patents
薄膜ガラスレ−ザ−及びその製造方法Info
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- JPS63194381A JPS63194381A JP2780887A JP2780887A JPS63194381A JP S63194381 A JPS63194381 A JP S63194381A JP 2780887 A JP2780887 A JP 2780887A JP 2780887 A JP2780887 A JP 2780887A JP S63194381 A JPS63194381 A JP S63194381A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/17—Solid materials amorphous, e.g. glass
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は薄膜状のガラスレーザー及びその製造方法に関
する。
する。
従来のガラスレーザーは、リン酸塩系ガラスやシリカ系
ガラスに適当な方法で、Ｎｄ１Ｅｒ１Ｃｅ等のレーザー
発振源となる元素をドーピングしたものであり、形吠は
主に、ロッドＶやスラブ吠であった。
ガラスに適当な方法で、Ｎｄ１Ｅｒ１Ｃｅ等のレーザー
発振源となる元素をドーピングしたものであり、形吠は
主に、ロッドＶやスラブ吠であった。
（発明が解決しようとする問題点）
しかし、前述の従来技術では、レーザー発振パワーを大
きくするため大型のロッド状ガラスにしたものや、発振
°中の発熱を冷却するためスラブ伏のガラスにしたもの
ばかりで、小型、軽量で各種デバイスとの一体化を考え
た構造はなかった。
きくするため大型のロッド状ガラスにしたものや、発振
°中の発熱を冷却するためスラブ伏のガラスにしたもの
ばかりで、小型、軽量で各種デバイスとの一体化を考え
た構造はなかった。
そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、そ
の目的とするところは、小型軽量で各種デバイスとの一
体化の容易なガラスレーザを提供するところにある。
の目的とするところは、小型軽量で各種デバイスとの一
体化の容易なガラスレーザを提供するところにある。
本発明のＦ９膜ガラスレーザーは、適当な基板上に、レ
ープ−発振源となる元素を含むガラス層を形成してなる
ことを特徴きする。
ープ−発振源となる元素を含むガラス層を形成してなる
ことを特徴きする。
上記ガラス層は、発振光が膜内を４波するような光導波
層あるいは光導波路となっていると、効率よくレーザー
が発振することになる。
層あるいは光導波路となっていると、効率よくレーザー
が発振することになる。
一方、本発明の薄膜ガラスレーザーは、ＣＶＤやプラズ
マＣＶＤＷの手法により得られるガラスに発振源となる
元素をドープする方法によっても得られるが、アルキル
シリケートあるいは微粉末シリカ等を原料とするゾル−
ゲル法を用いると、均一に容易に発振源となる元素がド
ーピングできるのでを効である。このゾル−ゲル法によ
るＦｖｖ！、ガラスレーザーｐ製造方法は以下の工程に
よる。
マＣＶＤＷの手法により得られるガラスに発振源となる
元素をドープする方法によっても得られるが、アルキル
シリケートあるいは微粉末シリカ等を原料とするゾル−
ゲル法を用いると、均一に容易に発振源となる元素がド
ーピングできるのでを効である。このゾル−ゲル法によ
るＦｖｖ！、ガラスレーザーｐ製造方法は以下の工程に
よる。
ａ）アルキルシリケートあるいは微粉末シリカの少なく
とも一方を原料としてなるゾル−ゲル法のゾル溶液に、
発振源となる元素の化合物を添加し、ゾル溶液とする。
とも一方を原料としてなるゾル−ゲル法のゾル溶液に、
発振源となる元素の化合物を添加し、ゾル溶液とする。
ｂ）複当な材質の基板に上記ゾルをディプピングやスピ
ンコーティングやワイヤバー等の手法で塗布し、ＦＷ膜
ココ−ティングる。
ンコーティングやワイヤバー等の手法で塗布し、ＦＷ膜
ココ−ティングる。
Ｃ）適当な温度で熱処理し上記薄膜をガラス化し、薄膜
ガラスレーザーとする工程、 なお、レーザー発振源となる元素としては、Ｎｄ％Ｃｅ
ｓ ｌシ「、Ｃ「、Ｓｒ１等の元素が考えられる。また
、薄膜コーティングの材質はシリカ系ガラスやリン酸塩
系ガラスなどが考えられる。
ガラスレーザーとする工程、 なお、レーザー発振源となる元素としては、Ｎｄ％Ｃｅ
ｓ ｌシ「、Ｃ「、Ｓｒ１等の元素が考えられる。また
、薄膜コーティングの材質はシリカ系ガラスやリン酸塩
系ガラスなどが考えられる。
実施例１
エチルシリケート１モルに水を２モル、塩酸を触媒量、
エタノールを４モル、微粉末シリカを６０ｇ加え、更に
、硝酸セリウム０．０２モルを添加し、よ（撹拌しゾル
とした。このゾルに石英ガラス板をつけディッピングし
、石英ガラス板上にセリウムを添加したゾルをコーティ
ングした。ゲル化後、よく乾燥し、高温で熱処理すると
、ガラス化し、石英ガラス板上に、セリウム含をのシリ
カガラスの薄膜レーザーガラスが作製できた。
エタノールを４モル、微粉末シリカを６０ｇ加え、更に
、硝酸セリウム０．０２モルを添加し、よ（撹拌しゾル
とした。このゾルに石英ガラス板をつけディッピングし
、石英ガラス板上にセリウムを添加したゾルをコーティ
ングした。ゲル化後、よく乾燥し、高温で熱処理すると
、ガラス化し、石英ガラス板上に、セリウム含をのシリ
カガラスの薄膜レーザーガラスが作製できた。
実施例２
トリエトキシメチルシラ７１モルに水を３モル、エタノ
ール４モル、塩酸を触媒ｆｌｔ′ｔｋ加し加水分解した
。更にこれに、Ｓｒイオンを０．０２モル加え、よく撹
拌し、ゾルとした。
ール４モル、塩酸を触媒ｆｌｔ′ｔｋ加し加水分解した
。更にこれに、Ｓｒイオンを０．０２モル加え、よく撹
拌し、ゾルとした。
このゾルをガラス板に、スピンフートシ、ゲル化させ、
よく乾燥することで、ゲルコーティングのガラス板を作
製した。これを熱処理するとガラス化し、ストロンチウ
ム含有のシリカガラスのＦｇ膜レーザガラスが作製でき
た。
よく乾燥することで、ゲルコーティングのガラス板を作
製した。これを熱処理するとガラス化し、ストロンチウ
ム含有のシリカガラスのＦｇ膜レーザガラスが作製でき
た。
実施例３
エチルシリケート１モルに水を３モル、塩酸を触媒量、
エタノールを５モル加え、加水分解した。この溶液にト
リエトキンネオジムを加えよく撹拌した。このゾル溶液
を石英ガラス板の表面にワイヤーバーで塗布し、ゲル化
した。よく乾燥した後、熱処理によりガラス化し、石英
ガラス板上にネオジム含有のシリカガラスの薄膜レーザ
ーガラスが作製できた。
エタノールを５モル加え、加水分解した。この溶液にト
リエトキンネオジムを加えよく撹拌した。このゾル溶液
を石英ガラス板の表面にワイヤーバーで塗布し、ゲル化
した。よく乾燥した後、熱処理によりガラス化し、石英
ガラス板上にネオジム含有のシリカガラスの薄膜レーザ
ーガラスが作製できた。
実施例４
エチルシリケート１モルに水１０モル、塩酸を触媒量添
加し加水分解した。これに微粉末シリカ（Ａｅｒｏｓ：
１０Ｘ５０：デグサ社）を００ｇを加えよく分散した。
加し加水分解した。これに微粉末シリカ（Ａｅｒｏｓ：
１０Ｘ５０：デグサ社）を００ｇを加えよく分散した。
この溶液にトリプロポキシドエルビウムを添加しよ（撹
拌した。この溶液にアンモニア水を加えて、ｐＨを４，
０に：Ａ＊ｔ。
拌した。この溶液にアンモニア水を加えて、ｐＨを４，
０に：Ａ＊ｔ。
た、このゾルを石英ガラス板上にコーティングし、ゲル
化した。よ（乾燥後、熱処理によりガラス化し、石英ガ
ラス板上にネオジム含有のシリカガラスの薄膜レーザー
ガラスが作製できた。
化した。よ（乾燥後、熱処理によりガラス化し、石英ガ
ラス板上にネオジム含有のシリカガラスの薄膜レーザー
ガラスが作製できた。
以上述べたように、本発明によれば、薄膜状のガラスレ
ーザがコーティングにより作製できるので、小型軽量で
、各種デバイスとの一体化の容易なガラスレーザーが作
製できる。
ーザがコーティングにより作製できるので、小型軽量で
、各種デバイスとの一体化の容易なガラスレーザーが作
製できる。
このような薄膜ガラスは、各種デバイスと集積化され、
光通信や、光学素子へ太きく］′【献することになるで
あろう。
光通信や、光学素子へ太きく］′【献することになるで
あろう。
以 上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）適当な基板上に、レーザー発振源となる元素を含む
ガラス層を形成してなることを特徴とする薄膜ガラスレ
ーザー ２）上記ガラス層が光導波層あるいは光導波路となって
いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の薄膜
ガラスレーザー ３）レーザー発振源となる元素を含むガラス層を以下の
工程で作製することを特徴とする薄膜ガラスレーザーの
製造方法 ａ）アルキルシリケートあるいは微粉末シリカの少なく
とも一方を原料としてなるゾルーゲル法のゾル溶液に、
発振源となる元素の化合物を添加し、ゾル溶液とする。 ｂ）適当な材質の基板に上記ゾルをディッピングやスピ
ンコーティングやワイヤバー等の手法で塗布し、薄膜状
にコーティングする。 ｃ）適当な温度で熱処理し上記薄膜をガラス化し、薄膜
状ガラスレーザーとする工程。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2780887A JPS63194381A (ja) | 1987-02-09 | 1987-02-09 | 薄膜ガラスレ−ザ−及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2780887A JPS63194381A (ja) | 1987-02-09 | 1987-02-09 | 薄膜ガラスレ−ザ−及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63194381A true JPS63194381A (ja) | 1988-08-11 |
Family
ID=12231277
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2780887A Pending JPS63194381A (ja) | 1987-02-09 | 1987-02-09 | 薄膜ガラスレ−ザ−及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63194381A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0225083A (ja) * | 1988-07-14 | 1990-01-26 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | ガラス導波路レーザおよび増幅器の製造方法 |
| JPH0648765A (ja) * | 1992-06-01 | 1994-02-22 | General Electric Co <Ge> | 紫外線吸収性のガラス質材料およびランプ |
| US5569979A (en) * | 1992-02-28 | 1996-10-29 | General Electric Company | UV absorbing fused quartz and its use for lamp envelopes |
-
1987
- 1987-02-09 JP JP2780887A patent/JPS63194381A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0225083A (ja) * | 1988-07-14 | 1990-01-26 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | ガラス導波路レーザおよび増幅器の製造方法 |
| JP2708793B2 (ja) * | 1988-07-14 | 1998-02-04 | 日本電信電話株式会社 | ガラス導波路レーザおよび増幅器の製造方法 |
| US5569979A (en) * | 1992-02-28 | 1996-10-29 | General Electric Company | UV absorbing fused quartz and its use for lamp envelopes |
| JPH0648765A (ja) * | 1992-06-01 | 1994-02-22 | General Electric Co <Ge> | 紫外線吸収性のガラス質材料およびランプ |
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