JPS63193321A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS63193321A JPS63193321A JP2360287A JP2360287A JPS63193321A JP S63193321 A JPS63193321 A JP S63193321A JP 2360287 A JP2360287 A JP 2360287A JP 2360287 A JP2360287 A JP 2360287A JP S63193321 A JPS63193321 A JP S63193321A
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録媒体に係わり、さらに詳しくは耐食性
および走行特性を改善し、かつノイズの少ない信頼性の
高い磁気記録媒体に関する。
および走行特性を改善し、かつノイズの少ない信頼性の
高い磁気記録媒体に関する。
Fe、Co、Ni、またはそれらを主成分とする合金、
あるいは、それらの酸化物薄膜を真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンブレーティング法、あるいはメッキ法
などの方法で、ポリエステルフィルム、ポリイミドフィ
ルムなどの高分子フィルムや、非磁性金属薄板などより
なる基体上に形成した強磁性薄膜型磁気記録媒体は、従
来の塗布型磁気記録媒体に比べて記録密度を飛躍的に向
上せしめることが可能であるが、この高密度化のために
は、磁気ヘッドのギャップを小さくし、併せて磁気記録
媒体の表面を平滑化せしめてスペーシングロスを極力減
少せしめる必要がある。しかし。
あるいは、それらの酸化物薄膜を真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンブレーティング法、あるいはメッキ法
などの方法で、ポリエステルフィルム、ポリイミドフィ
ルムなどの高分子フィルムや、非磁性金属薄板などより
なる基体上に形成した強磁性薄膜型磁気記録媒体は、従
来の塗布型磁気記録媒体に比べて記録密度を飛躍的に向
上せしめることが可能であるが、この高密度化のために
は、磁気ヘッドのギャップを小さくし、併せて磁気記録
媒体の表面を平滑化せしめてスペーシングロスを極力減
少せしめる必要がある。しかし。
あまり表面を平坦化しすぎると、ベッドタッチならびに
走行性において支障をきたすため表面の微細形状を制御
する必要が生ずる。この問題を解決し安定した走行特性
を得るために1例えば基体上に、シリコン、カーボン、
金属などの微粒子などを用いて、基体上に所定の大きさ
および数を有する粒子状突起層を形成し、これを下地層
として。
走行性において支障をきたすため表面の微細形状を制御
する必要が生ずる。この問題を解決し安定した走行特性
を得るために1例えば基体上に、シリコン、カーボン、
金属などの微粒子などを用いて、基体上に所定の大きさ
および数を有する粒子状突起層を形成し、これを下地層
として。
その上に強磁性薄膜層を成膜することによって、強磁性
薄膜層の表面に微細形状の突起を形成させる手法がとら
れていた(特開昭59−48825号公報。
薄膜層の表面に微細形状の突起を形成させる手法がとら
れていた(特開昭59−48825号公報。
同59−48826号公報、同59−65928号公報
)、シかし、このような手法によって磁気記録媒体の走
行特性は安定するが、下地層の粒子状の突起により強磁
性薄膜層中に欠陥(空隙)が発生し、このため磁性層の
耐食性が劣化するという問題が生じた。
)、シかし、このような手法によって磁気記録媒体の走
行特性は安定するが、下地層の粒子状の突起により強磁
性薄膜層中に欠陥(空隙)が発生し、このため磁性層の
耐食性が劣化するという問題が生じた。
また、磁性層の表面にかなり大きな凹凸が形成されるた
めに、磁気記録媒体としてノイズが高くなるという欠点
があった。
めに、磁気記録媒体としてノイズが高くなるという欠点
があった。
本発明は上述した従来技術の問題点ならびに欠点を解消
し、もって走行性ならびに耐食性に優れ、かつノイズが
低く、高性能で信頼性の高い磁気記録媒体を提供するこ
とを目的とする。
し、もって走行性ならびに耐食性に優れ、かつノイズが
低く、高性能で信頼性の高い磁気記録媒体を提供するこ
とを目的とする。
上記本発明の目的は、基体の表面平均粗さくRa)を、
Ra≦0.Ol−とし、かつ表面最大粗さく Rlax
)を、Rmax≦0.05−とすることにより。
Ra≦0.Ol−とし、かつ表面最大粗さく Rlax
)を、Rmax≦0.05−とすることにより。
基体上に形成される強磁性薄膜層中の欠陥(空隙)を少
なくし、耐食性の向上をはかると共に、強磁性薄膜層と
磁気ヘッドとのスペーシングの変化を小さくすることに
より磁気記録媒体のノイズを低下し、さらに強磁性薄膜
層表面上に微粒子を核とする粒子状突起を形成し走行性
の向上をはかることにより、達成される。
なくし、耐食性の向上をはかると共に、強磁性薄膜層と
磁気ヘッドとのスペーシングの変化を小さくすることに
より磁気記録媒体のノイズを低下し、さらに強磁性薄膜
層表面上に微粒子を核とする粒子状突起を形成し走行性
の向上をはかることにより、達成される。
本発明の磁気記録媒体に用いられる基体としては、ポリ
エステル、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、
ポリカーボネートなどのプラスチックフィルム、またこ
れらのプラスチックフィルム中に炭素繊維、Cuなどを
混入した複合フィルム、Cu、Znなどの非磁性金属フ
ィルム、アルミニウム板およびガラス板など従来から使
用されているものがいずれも好適なものとして使用され
る。そして、これらの基体の表面平均粗さくRa)が0
.01−を超え、あるいは表面最大粗さく Rmax
)がO,OS、を超えると、強磁性薄膜層中の欠陥によ
る隙間腐食が著しく悪化するし、また強磁性薄膜層表面
の粗度が大きくなるためにノイズの増加の原因となる。
エステル、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、
ポリカーボネートなどのプラスチックフィルム、またこ
れらのプラスチックフィルム中に炭素繊維、Cuなどを
混入した複合フィルム、Cu、Znなどの非磁性金属フ
ィルム、アルミニウム板およびガラス板など従来から使
用されているものがいずれも好適なものとして使用され
る。そして、これらの基体の表面平均粗さくRa)が0
.01−を超え、あるいは表面最大粗さく Rmax
)がO,OS、を超えると、強磁性薄膜層中の欠陥によ
る隙間腐食が著しく悪化するし、また強磁性薄膜層表面
の粗度が大きくなるためにノイズの増加の原因となる。
本発明の磁気記録媒体において、強磁性薄膜層上に、微
粒子を核とする粒子状突起の形成に用いられる微粒子と
しては、 Fa、 Co、 Ni1Mg、Mn、u、C
rまたはTiなどの金属、もしくはそれらの酸化物、あ
るいはそれらの水酸化物の他、グラファイト、シリカ、
炭化ケイ素、二硫化モリブデン、炭酸バリウムまたは硫
酸バリウムなどからなる微粒子を挙げることができるが
、この他に磁気特性を低下させない無機化合物の微粒子
もしくは有機高分子化合物の微粒子なども好適に使用す
ることができる。そして、これらの微粒子を用いて強磁
性薄膜上に粒子状突起を形成させる手段は、上記微粒子
と結合剤である樹脂成分および有機溶剤を適量加えて塗
料を形成し、これを強磁性薄膜上に塗布することにより
行われる。そして、結合剤としては、塩化ビニル−酢酸
ビニル系共重合体、ポリビニルブチラール樹脂、繊維素
系樹脂、ポリウレタン系樹脂、イソシアネート化合物な
ど従来汎用されている結合剤樹脂が広く用いられ、有機
溶剤としては、メチルイソブチルケトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサノン、トルエン、酢酸エチル、テ
トラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドなど従来から
汎用されている有機溶剤を単独または2種以上混合して
用いることができる。
粒子を核とする粒子状突起の形成に用いられる微粒子と
しては、 Fa、 Co、 Ni1Mg、Mn、u、C
rまたはTiなどの金属、もしくはそれらの酸化物、あ
るいはそれらの水酸化物の他、グラファイト、シリカ、
炭化ケイ素、二硫化モリブデン、炭酸バリウムまたは硫
酸バリウムなどからなる微粒子を挙げることができるが
、この他に磁気特性を低下させない無機化合物の微粒子
もしくは有機高分子化合物の微粒子なども好適に使用す
ることができる。そして、これらの微粒子を用いて強磁
性薄膜上に粒子状突起を形成させる手段は、上記微粒子
と結合剤である樹脂成分および有機溶剤を適量加えて塗
料を形成し、これを強磁性薄膜上に塗布することにより
行われる。そして、結合剤としては、塩化ビニル−酢酸
ビニル系共重合体、ポリビニルブチラール樹脂、繊維素
系樹脂、ポリウレタン系樹脂、イソシアネート化合物な
ど従来汎用されている結合剤樹脂が広く用いられ、有機
溶剤としては、メチルイソブチルケトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサノン、トルエン、酢酸エチル、テ
トラヒドロフラン、ジメチルホルムアミドなど従来から
汎用されている有機溶剤を単独または2種以上混合して
用いることができる。
強磁性薄膜上に形成される微粒子を核とした粒子状突起
の高さは、30人未満であると走行性が安定せず、また
500人を超えるとスペーシングが大きくなり出力低下
の原因となるので、30〜500人の範囲が好ましい、
また1粒子状突起の数が、1000個/12未満である
と、磁気ヘッドによる再生時のノイズ発生の原因となる
と共に走行性の改善が見られず、その数が100万個/
鴎2を超えると走行性が低下するので1強磁性薄膜層上
に形成させる粒子状突起の数は、1000個/m”〜1
00万個/m”の範囲が好ましい。
の高さは、30人未満であると走行性が安定せず、また
500人を超えるとスペーシングが大きくなり出力低下
の原因となるので、30〜500人の範囲が好ましい、
また1粒子状突起の数が、1000個/12未満である
と、磁気ヘッドによる再生時のノイズ発生の原因となる
と共に走行性の改善が見られず、その数が100万個/
鴎2を超えると走行性が低下するので1強磁性薄膜層上
に形成させる粒子状突起の数は、1000個/m”〜1
00万個/m”の範囲が好ましい。
本発明の磁気記録媒体における強磁性薄膜層の形成材料
としては、Co、Fe、Niなどの単体金属、Co−N
i%Co−Cr、 Fa−Co、 Fe−Co −Cr
、Go−Pt、 co−Tiなとの合金、あるいはこれ
らの金属および合金の酸化物、およびCo−P、Co−
N1−P、Fa−Si、Fa−Rh、Fa−V、Fe−
Ti、Go−B、Co−8i、Co−V、Go−Y、
Co−8ea、 Co−Mn、 Co−N1−B。
としては、Co、Fe、Niなどの単体金属、Co−N
i%Co−Cr、 Fa−Co、 Fe−Co −Cr
、Go−Pt、 co−Tiなとの合金、あるいはこれ
らの金属および合金の酸化物、およびCo−P、Co−
N1−P、Fa−Si、Fa−Rh、Fa−V、Fe−
Ti、Go−B、Co−8i、Co−V、Go−Y、
Co−8ea、 Co−Mn、 Co−N1−B。
Co−Ni−Cr、Co−Ni−Ag、 Co−Ni−
Pd、Co−Ni−Zn、 Co−Cu、Co−Ni−
Cu、C。
Pd、Co−Ni−Zn、 Co−Cu、Co−Ni−
Cu、C。
−W、Go−Ni−W、 Co−Mn−P、 Co
−8m−Cu、Co−N1−Zn−P、Co−V−Cr
などの強磁性材料を用いることができ、これらの強磁性
材料からなる強磁性金肩薄膜暦は、真空蒸着法、スパッ
タリング法、イオンブレーティング法、イオンビームデ
ポジション法、化学気相メッキ法、電気メッキあるいは
無電解メッキ法などの手段によって基体上に被着形成さ
れる。
−8m−Cu、Co−N1−Zn−P、Co−V−Cr
などの強磁性材料を用いることができ、これらの強磁性
材料からなる強磁性金肩薄膜暦は、真空蒸着法、スパッ
タリング法、イオンブレーティング法、イオンビームデ
ポジション法、化学気相メッキ法、電気メッキあるいは
無電解メッキ法などの手段によって基体上に被着形成さ
れる。
以下に本発明の一実施例を挙げ、さらに詳細に説明する
。
。
(実施例 1)
市販のポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ9−
1表面粗度Ra=0.0034.Rmax=0.01.
)の上に、真空斜め入射蒸着法により酸素ガスを100
−〇/sinの割合で導入しなから8×10−’ To
rrの雰囲気中で、Co−20at%Niからなる厚さ
1500人の強磁性薄膜層を形成した。その後、ニッケ
ル微粒子を結合剤VAGH(米国U。
1表面粗度Ra=0.0034.Rmax=0.01.
)の上に、真空斜め入射蒸着法により酸素ガスを100
−〇/sinの割合で導入しなから8×10−’ To
rrの雰囲気中で、Co−20at%Niからなる厚さ
1500人の強磁性薄膜層を形成した。その後、ニッケ
ル微粒子を結合剤VAGH(米国U。
C,C,社製、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコ
ール共重合体)と溶剤であるメチルエチルケトンに混合
し、強磁性薄膜層上に連続塗布し乾燥させることにより
、ニッケル微粒子を核とした高さ50人の突起を約lO
万個/閣2形成した。その後、所定の幅に裁断して、第
1図に示す断面構造の磁気テープを作製した。
ール共重合体)と溶剤であるメチルエチルケトンに混合
し、強磁性薄膜層上に連続塗布し乾燥させることにより
、ニッケル微粒子を核とした高さ50人の突起を約lO
万個/閣2形成した。その後、所定の幅に裁断して、第
1図に示す断面構造の磁気テープを作製した。
(実施例 2)
実施例1におけるニッケル微粒子の代りに、酸化鉄微粒
子を用いた他は実施例1と同様にして、酸化鉄微粒子を
核とする高さ200人の粒子状突起を約50万個/mi
”形成した。その後、所定の幅に裁断し磁気テープを作
製した。
子を用いた他は実施例1と同様にして、酸化鉄微粒子を
核とする高さ200人の粒子状突起を約50万個/mi
”形成した。その後、所定の幅に裁断し磁気テープを作
製した。
(実施例 3)
実施例1におけるニッケル微粒子の代りに、シリカ微粒
子を用いた他は実施、例1と同様にして、シリカ微粒子
を核とする高さ150人の粒子状突起を約10万個7m
”形成した。その後、所定の幅に裁断して磁気テープを
作製した。
子を用いた他は実施、例1と同様にして、シリカ微粒子
を核とする高さ150人の粒子状突起を約10万個7m
”形成した。その後、所定の幅に裁断して磁気テープを
作製した。
(実施例 4)
実施例1におけるニッケル微粒子の代りに、グラファイ
ト微粒子を用いた他は実施例1と同様にして、グラファ
イト微粒子を核とする高さ350人の粒子状突起を約5
万個/m”形成した。その後、所定の幅に裁断して磁気
テープを作製した。
ト微粒子を用いた他は実施例1と同様にして、グラファ
イト微粒子を核とする高さ350人の粒子状突起を約5
万個/m”形成した。その後、所定の幅に裁断して磁気
テープを作製した。
(比較例 1)
実施例1と同様の手順により、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルム上にCo微粒子を核とした高さ50人の粒
子状突起を約lO万個7m”形成した後、その上に強磁
性薄膜層を形成した。その後所定の幅に裁断して磁気テ
ープを作製した。
ートフィルム上にCo微粒子を核とした高さ50人の粒
子状突起を約lO万個7m”形成した後、その上に強磁
性薄膜層を形成した。その後所定の幅に裁断して磁気テ
ープを作製した。
(比較例 2)
比較例1におけるCo微粒子の代りに、グラファイト微
粒子を核とした高さ350人の粒子状突起を約5万個/
m”形成した他は、比較例1と同様にして磁気テープを
作製した。
粒子を核とした高さ350人の粒子状突起を約5万個/
m”形成した他は、比較例1と同様にして磁気テープを
作製した。
(比較例 3)
実施例1における粒子状突起の形成を省いた他は、実施
例1と同様にして磁気テープを作製した。
例1と同様にして磁気テープを作製した。
(比較例 4)
実施例1における表面粗さのポリエチレンテレフタレー
トの代りに1表面粗さRa =0 、014゜Rmax
=0.IIImのポリエチレンテレフタレートフィルム
(厚さ9−)を用いた他は、実施例1と同様にして磁気
テープを作製した。
トの代りに1表面粗さRa =0 、014゜Rmax
=0.IIImのポリエチレンテレフタレートフィルム
(厚さ9−)を用いた他は、実施例1と同様にして磁気
テープを作製した。
上記の実施例および比較例において作製した各磁気テー
プについて、試作したVTRデツキを用い、40℃、8
0%RHの環境下で1回転ヘッドシリンダ部での鳴きの
状態とスチル寿命を測定し、5MHzの信号を記録再生
した時のノイズを測定し、比較例1で得られた磁気テー
プのノイズをOdBとし、これを基準とした比較値によ
って評価した。
プについて、試作したVTRデツキを用い、40℃、8
0%RHの環境下で1回転ヘッドシリンダ部での鳴きの
状態とスチル寿命を測定し、5MHzの信号を記録再生
した時のノイズを測定し、比較例1で得られた磁気テー
プのノイズをOdBとし、これを基準とした比較値によ
って評価した。
また、S O,=0.1pP量、35℃、75%RHの
環境下に、10 hr暴露した時の磁気テープ表面での
耐食点の観察を光学顕微鏡により行ない耐食性を評価し
た。その結果を第1表にまとめて示す。
環境下に、10 hr暴露した時の磁気テープ表面での
耐食点の観察を光学顕微鏡により行ない耐食性を評価し
た。その結果を第1表にまとめて示す。
以下余白
第 1 表
第1表から明らかなごとく1本発明の実施例において得
られた磁気テープは、いずれも走行性、耐食性が良好で
、さらにノイズを増加させないという優れた磁気特性を
有することを示している。
られた磁気テープは、いずれも走行性、耐食性が良好で
、さらにノイズを増加させないという優れた磁気特性を
有することを示している。
以上詳細に説明したごとく1本発明の平滑な表面粗さを
有する基体上に、強磁性薄膜層を形成し、さらに強磁性
薄膜層の上に粒子状突起層を設けた磁気記録媒体は、耐
食性ならびに走行性が良好で。
有する基体上に、強磁性薄膜層を形成し、さらに強磁性
薄膜層の上に粒子状突起層を設けた磁気記録媒体は、耐
食性ならびに走行性が良好で。
その上ノイズが低く、優れた耐久性と磁気特性を有する
信頼性の高い磁気記録媒体が得られる。
信頼性の高い磁気記録媒体が得られる。
第1図は本発明の実施例における磁気テープの断面構造
を示す模式図である。 1・・・基体 2・・・強磁性薄膜層3・
・・微粒子 4・・・結合剤5・・・粒子状
突起層
を示す模式図である。 1・・・基体 2・・・強磁性薄膜層3・
・・微粒子 4・・・結合剤5・・・粒子状
突起層
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、非磁性基体上に、強磁性薄膜よりなる磁気記録層を
形成し、該磁気記録層上に微粒子を核とする粒子状突起
層を設けたことを特徴とする磁気記録媒体。 2、粒子状突起層における粒子状突起の高さが30〜5
00Åであり、かつ粒子状突起の数が1000〜100
0000個/mm^2であることを特徴とする特許請求
の範囲第1項に記載の磁気記録媒体。 3、非磁性基体の表面粗さは、表面平均粗さRaが0.
01μm以下であり、表面最大粗さRmaxが0.05
μm以下であることを特徴とす特許請求の範囲第1項ま
たは第2項に記載の磁気記録媒体。 4、微粒子は、Fe、Co、Ni、Mg、Mn、Al、
CrまたはTi、もしくはそれらの酸化物、またはそれ
らの水酸化物、グラファイト、シリカ、炭化ケイ素、二
硫化モリブデン、炭酸バリウムのうちより選ばれる少な
くとも1種からなる微粒子であることを特徴とする特許
請求の範囲第1項ないし第3項のいずれか1項に記載の
磁気記録媒体。 5、粒子状突起層は、微粒子と樹脂を主成分とする結合
剤とによって構成されることを特徴とする特許請求の範
囲第1項ないし第4項のいずれか1項に記載の磁気記録
媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62023602A JPH0827932B2 (ja) | 1987-02-05 | 1987-02-05 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62023602A JPH0827932B2 (ja) | 1987-02-05 | 1987-02-05 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63193321A true JPS63193321A (ja) | 1988-08-10 |
JPH0827932B2 JPH0827932B2 (ja) | 1996-03-21 |
Family
ID=12115152
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62023602A Expired - Lifetime JPH0827932B2 (ja) | 1987-02-05 | 1987-02-05 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0827932B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56101650A (en) * | 1980-01-14 | 1981-08-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
JPS61242322A (ja) * | 1985-04-19 | 1986-10-28 | Tokico Ltd | 磁気デイスク |
JPS61287028A (ja) * | 1985-06-12 | 1986-12-17 | Tdk Corp | 垂直磁化リジツドデイスク |
JPS6226623A (ja) * | 1985-07-26 | 1987-02-04 | Hoya Corp | 磁気記録媒体 |
-
1987
- 1987-02-05 JP JP62023602A patent/JPH0827932B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56101650A (en) * | 1980-01-14 | 1981-08-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
JPS61242322A (ja) * | 1985-04-19 | 1986-10-28 | Tokico Ltd | 磁気デイスク |
JPS61287028A (ja) * | 1985-06-12 | 1986-12-17 | Tdk Corp | 垂直磁化リジツドデイスク |
JPS6226623A (ja) * | 1985-07-26 | 1987-02-04 | Hoya Corp | 磁気記録媒体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0827932B2 (ja) | 1996-03-21 |
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