JPS63192998A - 流体揚水装置 - Google Patents

流体揚水装置

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JPS63192998A
JPS63192998A JP2455987A JP2455987A JPS63192998A JP S63192998 A JPS63192998 A JP S63192998A JP 2455987 A JP2455987 A JP 2455987A JP 2455987 A JP2455987 A JP 2455987A JP S63192998 A JPS63192998 A JP S63192998A
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JP
Japan
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gas piston
fluid
pumping device
pumping
liquid level
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Pending
Application number
JP2455987A
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English (en)
Inventor
Seiji Miura
三浦 誠二
Takeo Takagi
高木 武夫
Yasuyoshi Kato
恭義 加藤
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は流体ダイオードで構成される流体揚水装置に係
り、特に一定の流量を供給、揚水するに好適な制御装置
を有する流体揚水装置に関する。
〔従来の技術〕
従来、流体ダイオードで構成される流体揚水装置は可動
部分を含まないので、保守点検の必要度が他の形式と流
体揚水装置より低く、核燃料再処理プラントや化学プラ
ントにおいて、放射性溶液とか高危険度溶液の揚水に採
用されてきた。これらに関しては、ニュークリアエネル
ギ、23.第4号(1984年3月)第227頁から第
235頁(NucQ 、Energy、 23 、81
4 (1984August)PP227−235)や
、日本機械学会パワーフルイディクス分科会成果報告書
(昭59年3月)第104頁から第105頁において論
じられている。
流体ダイオードで構成される流体揚水装置は流)体ダイ
オードの正流と逆流に対する大きな抵抗の違いを利用し
ている。そして、それは主に制御器。
ガスピストン、ダイオードから構成される。制御器はさ
らに、ガスピストン内を2系統の圧縮空気によって加圧
減圧する役目をもつ主にジェットポンプから成る一次制
御器と前記した2系統の圧縮空気を通気あるいは遮断す
る弁装置及びその弁装置に開閉の指示を与える中央制御
部とから成る二次制御器とで構成される。上記した揚水
装置はガスピストンを中心にしてみた以下の3行程を繰
返してポンプ作用を行う、ここでは給液タンクとガスピ
ストン間に給液タンクからガスピストン方向への流れを
正流とするダイオードD1を含み、ガスピストンと吐出
管の間に吐出管方向への流れを正流とするダイオードD
2を含む代表的揚水装置を例に挙げて説明する。(1)
吸入行程:吐出行程用弁Aを閉じたまま吸入行程用弁B
を開け、吸入行程用すなわち減圧用ジェットポンプを作
用させる。ガスピストン内部は減圧されるので給液タン
クの溶液及び吐出管内に残留していた溶液がガスピスト
ン内に引き込まれる。その結果、ガスピストン液位は上
昇する。このときダイオードD1を通過する流れ、すな
わち、給液タンクからの流れは正流であり、流れ易い、
一方、ダイオードDaを通過する流れ、すなわち、吐出
管からの流れは逆流で流れにくい、(2)吐出行程:吸
入行程用弁Bを閉じ、吐出行程用弁Aを開け、吐出行程
用すなわち加圧用ジェットポンプを作用させる。
ガスピストン内部は加圧されるのでガスピストン内の溶
液は強制的に吐出管、給液タンクへ押し出される。その
結果、ガスピストン内の液位は低下する。このとき、ダ
イオードD1を通過する流れ、すなわち、給液タンクへ
の流れは逆流であり、流れにくい、逆に、ダイオードD
2を通過する流れ、すなわち、吐出管への流れは正流で
流れ易い。
(3)膨張行程:ガスピストン内液位が所定の最低液位
に達した後、吐出行程用弁Aを閉じる。管路は大気圧状
態となり各所の液位は大気圧下での平衡状態に戻る動き
をする。すなわち、吐出管内の溶液はガスピストンや給
液タンク方向に微量ながら流れる0本行程は吐出行程と
吸入行程の中間にあって、急減圧によるガスピストン内
溶液の蒸発や飛沫の発生を防止している。また、ガスピ
ストン液位の変化方向を基準にしてみれば吸入行程の一
部ともみなせる0以上、説明したように1本揚水装置は
一種の往復動ポンプである。
従来、各行程は運転前に間隔一定のタイマーでセットさ
れたり、一定のガスビストンストローク、すなわち、一
定のガスピストンの押し込み量にセットされ、運転途中
でこれらのセツティングは変更されることはなかった。
なお、この種の装置として関連する特許は、例えば特開
昭60−228800号、特開昭59−229097号
米国特許4021146号(英国特許1480484号
と同じ)。
英国特許2122262A号等が挙げられる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記従来技術は時間と共に変化する運転条件への配慮は
なされていなかった。すなわち、ここで述べる運転条件
とは給液タンクの液位変化である。
外部から給液タンクへの液の供給が無い場合、流体揚水
装置の起動時と任意時間経過時では明らかに揚水された
分だけ給液タンクの液位は低下している。したがって、
吐出管高さは一定であるので、吐出管高さと給液タンク
液位との差、すなわち、揚程が時々刻々上昇しているこ
とになる。流体ダイオードを用いた揚水装置の揚程−揚
水量特性は一般に揚程が増加するに従い、ガスピストン
の押し込み量を一定にして運転した場合には単位時間当
りの平均揚水量は減少するという問題を生じる。
本発明の目的は吐出側への揚水量を一定に保持すること
にある。
〔問題点を解決するための手段〕
上記目的は、揚程Hの増減に従い、前述したようにガス
ピストンの押込み量を増減、例えば吸入行程あるいは吐
出行程時間を増減することにより達成される。
〔作用〕
上記した各行程時間のガスピストンの押し込み量の制御
(増減)は実質的にガスピストン液位の最大と最小の差
、すなわち、ガスピストンのストロークの増減によって
行なわれる。この点について第2図及び第3図により説
明する。第2図及び第3図は各ガスビストンストローク
ごとの揚水特性模式図である。ガスビストンストローク
を増加させると特性は大H2大Q側へ移行する特性を示
す、また、第3図は流量Q=q同一時、すなわち第2図
のa、b、c、dにおける吸込行程あるいは吐出行程所
用時間であり、ガスビストンストロークの増大に伴い各
所要時間が増加していることがわかる。そこで、所定の
流量qを得るには第2図及び第3図に示す特性に基づい
てガスピストン駆動制御装置に給液タンク液位の初期値
及び時系列の各行程所要時間を予めセットしておき、そ
の制御装置の指示によって運転を行えばよい。又は、各
行程所要時間の代りにガスピストンの時系列のストロー
クをセットしておいてもよい。
給液タンクの溶液は揚水装置の運転に伴い移送されるの
で、その液位は起動直前の初期値から除徐に低下してく
る6本発明によるガスピストンは中央制御部からの信号
によって、運転時間経過と共にそのストロークを増加し
ていくように動作する。それによって揚水量Qは一定に
保たれるので、時間経過と共に揚水量Qが減少すること
がなく、−電場水量の運転が可能となる。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。ただ
し、流体ダイオード15a、15bとしては第4図にそ
の詳細を示す渦流形ダイオードを用いている。渦流形ダ
イオードにおける流れは第4図に示すように正流の場合
には旋回流は発生せずダイオードの抵抗は小さい、一方
、逆流の場合には旋回流を発生させ抵抗大として作用す
る。流体ダイオード15aは給液タンク1とガスピスト
ン2との間の管路に、また、流体ダイオード15bはガ
スピストン2と吐出管3との間の管路に設置されている
。ガスピストン2は空気連通管4と連結している。運転
は一次制御器8と二次制御器11とからなる複式制御装
置によって制御される。−次制御器8は2ジェット示ン
プ即ち加圧用ジェットポンプ8a、減圧用ジェットポン
プ8bから成っている。また、保射能レベルの高い溶液
を移送するので、−次制御器8は給液タンク1やガスピ
ストン2.流体ダイオード15などと共に、遮蔽壁16
によって外部と隔離されている。
電磁弁11a、llbを有する二次制御器は遮蔽壁16
の外側に置かれている。流体ダイオードで構成される揚
水装置での揚水方法については前述したが、本実施例に
ついての揚水方法の概略について述べると、ガスピスト
ン駆動制御装置11cからの信号で電磁弁11aを閉じ
た状態で電磁弁11bを開き、圧縮空気を管14.管1
3.電磁弁11b、管9を介して吸入行程用、すなわち
、減圧用ジェットポンプ8bに導入し、吸引作用を行な
わせ、ガスピストン内に給液タンク1内の溶液及び吐出
管3内の溶液を引き込む、減圧用ジェットポンプ8bか
らの排出空気は管5を経て工場排気管7へと流出する。
排気管7はまた。給液タンク1の空気抜き管6と連通し
ている6次に、ガスピストン駆動制御装置11cからの
信号で電磁弁11bを閉じ、電磁弁11aを開き、圧縮
空気を管14.管13.電磁弁11a、管10を介して
吐出行程用すなわち加圧用ジェットポンプ8aに導入す
る。加圧空気は更に管4を経てガスピストン2に至り、
ガスピストン内を加圧する。ガスピストン内の溶液の大
部分は吐出管3へ、また、一部は給液タンクへ押し出さ
れる。その結果ガスピストンの液位は低下する。さらに
、ガスピストン駆動制御装置11cからの信号で電磁弁
11aを閉じ、管路圧を大気圧の平衡状態に戻す。これ
を繰り返して移送作用を行う。以上述べた電磁弁の開閉
順序や開閉時間すなわちガスピストンの加圧、減圧時間
はガスピストン駆動制御装置1!llcによって制御さ
れるが、その加圧、減圧の制御状態を第1図(b)に示
す。これはガスピストンの加圧、減圧状態を時系列で示
したものであり、加圧、減圧時間を徐々に長くする制御
を行っている。
本実施例によれば上記のように時間経過と共に加圧、減
圧時間を長くしている。すなわち、ガスビストンストロ
ークを時間と共に大きく、つまり、ガスピストンの押し
込み量を大きくしているので。
揚程が変化しても揚水量が一定の揚水特性を得ることが
できる。
第5図は他の実施例を示すもので、吐出揚程10m、給
液タンク液位6mの初期状態の下に。
次の運転条件にて揚水を実施した。
運転条件 ガスピストン径 :0.16m 配管径     :0.025m 流体ダイオード比:30 ガスピストン圧カニ 加圧時 9.8 X 10’pa 減圧時−4,9X L 08pa 尚、比較のために、ストロークを変更しないデータを破
線で示した。揚水量Qは同一ストロークのもとでは時間
経過と共に低下するが1本実施例は規定揚水量、すなわ
ち初期揚水量より0.5  %の低下量でストロークを
変えることにより立ち直らせている。0.5 %の変化
量は微小であり、はぼ一定とみなせる。
第6図(a)は本発明の他の実施例であり、揚程Hの初
期値に対して予め電磁弁開閉時間をセットする第1図に
示す実施例とは異なり、給液タンク1の液位検出器20
によって逐次変位を検出し、ガスピストン駆動制御装置
11cにて揚程Hを算出し、それに見合ったガスビスト
ンストロークを決定、指示する機構を有する例である。
さらに、ガスピストン2の液位検出器21を併設し、電
磁弁11a、llbの開閉を時間主導形の制御からガス
ピストン液位主導形の制御としている。すなわち、ガス
ピストン駆動制御装置11cは液位検出器21からの信
号を受けて電磁弁11 a 、 llbの開閉を行い、
ガスビストンストロークを決定シている。本実施例では
揚水量よりも過多の外部からの給液タンクへの液の供給
があった場合5.すなわち、給液タンク液位が上昇する
場合でも、給液タンクの液位を検出器20にて検出して
おり、それにて揚程Hを算出し、それに見合ったストロ
ークを指示できるので揚水量が一定の運転が可能である
。さらに、本例では溶液の噴き出しなどを防止するため
に異常液位検出器22,23.24を設置し、二次制御
器11に接続しである。ここで述べた液位検出器は静電
容量形、電磁流量計形。
超音波流量計形、圧力変換器形などの中から最適な機種
を選択すればよい、また、上記したガスピストン液位検
出器の設置は安全運転の監視上非常に有効である。すな
わち、電磁弁11a、llbの開閉を時間主導形で実施
した場合に確実に液位が所定の液位となっているかを確
認できる。ガスピストンの制御特性を一例として第6図
(b)に示す。
〔発明の効果〕
本発明によれば流体ダイオードによって構成される流体
揚水装置において、揚水量を一定に保持できるので、吐
出側以下下流のプラントプロセスフローを平準化できる
。また、安定流量を得るために必要とされる一時貯留槽
などの流量安定化のための構成要素が不要となる効果が
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例になる揚水装置を示す揚水装
置を示すもので、(a)は流体揚水装置の概略構成を、
(b)はその制御特性を示す図、第2図及び第8図はガ
スビストンストロークと流体揚水特性の関係を示す図、
第4図(a)及び(b)は渦流形ダイオードの斜視図、
第5図は本発明の他の実施例になる流体揚水装置の制御
及び揚水特性を示す図、第6図(a)は本発明の他の実
施例になる流体揚水装置の概略構成図及び第6図(b)
はその制御を示す模式図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、揚水すべき流体を貯蔵する給液タンクと、前記給液
    タンクに接続された流体移送管、前記流体移送管に設け
    られ、かつ流れ特性が同一となるように設けられた2個
    の流体ダイオード、前記2個の流体ダイオード間の流体
    移送管に接続された揚水用ガスピストン、前記ガスピス
    トンの後段側の流体ダイオードの吐出側に接続された吐
    出管とを含む流体揚水装置において、前記給液タンクの
    液位の変化による揚程の変化量に追随して前記ガスピス
    トンの押し込み量を加減して揚水量を一定にするための
    ガスピストン駆動制御装置を設けたことを特徴とする流
    体揚水装置。 2、給液タンク内液位の低下に応じて、前記ガスピスト
    ンのストロークを増加する制御機構を有することを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載の流体揚水装置。 3、前記流体ダイオードが渦流形ダイオードであること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項記載の流
    体揚水装置。 4、前記ガスピストン駆動制御装置は液位計によって揚
    程の変化量を検出するように構成したことを特徴とする
    特許請求の範囲第1項、第2項又は第3項記載の流体揚
    水装置。 5、前記ガスピストン駆動制御装置は揚程の変化量が既
    知の場合にコンピュータに予め組み込まれたプログラム
    に従つて制御するように構成したことを特徴とする特許
    請求の範囲第1項、第2項又は第3項記載の流体揚水装
    置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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