JPS63192234A - 照明装置 - Google Patents
照明装置Info
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- JPS63192234A JPS63192234A JP62025262A JP2526287A JPS63192234A JP S63192234 A JPS63192234 A JP S63192234A JP 62025262 A JP62025262 A JP 62025262A JP 2526287 A JP2526287 A JP 2526287A JP S63192234 A JPS63192234 A JP S63192234A
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- Japan
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- scanning
- secondary light
- optical system
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70075—Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70583—Speckle reduction, e.g. coherence control or amplitude/wavefront splitting
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はレーザ等のコヒーレントな光束を放射する光源
からの光束を光学的な走査系により所望のコヒーレンジ
の照明光に変換して、被照射面を照明する照明装置に関
し、特に半導体製造における投影露光装置においてレチ
クルやマスク等を照明する際に好適な照明装置に関する
ものである。
からの光束を光学的な走査系により所望のコヒーレンジ
の照明光に変換して、被照射面を照明する照明装置に関
し、特に半導体製造における投影露光装置においてレチ
クルやマスク等を照明する際に好適な照明装置に関する
ものである。
(従来の技術)
従来よりレーザー特にエキシマレーザ−は遠紫外領域を
発振波長とし、高輝度でしかも単色性、指向性が良い為
半導体製造用の投影露光装置に大変有効な光源であるこ
とが指摘されている。
発振波長とし、高輝度でしかも単色性、指向性が良い為
半導体製造用の投影露光装置に大変有効な光源であるこ
とが指摘されている。
しかしながらエキシマレーザ−からの光束はコヒーレン
ジが良い為、従来の超高圧水銀灯を対象とした照明装置
を単に用いたのでは被照射面上にスペックルが生じ照明
ムラとなり光学性能を低下させる原因となってくる。
ジが良い為、従来の超高圧水銀灯を対象とした照明装置
を単に用いたのでは被照射面上にスペックルが生じ照明
ムラとなり光学性能を低下させる原因となってくる。
そこで従来よりレーザーのようなコヒーレンジの良い光
束を放射する光源を半導体製造用の照明装置として用い
る場合には、例えば第4図に示すように2枚のミラーを
有する走査系を利用し、所望のコヒーレンジの照明を得
るようにしている。
束を放射する光源を半導体製造用の照明装置として用い
る場合には、例えば第4図に示すように2枚のミラーを
有する走査系を利用し、所望のコヒーレンジの照明を得
るようにしている。
同図において41はレーザー、42はレーザー41から
の光束であり、該光束42を互いに直交する面内のX軸
とY軸に回転軸を有する2つの回転ミラー43.44よ
り成る走査系を介した後、集光レンズ45に導光し、所
定面46上に集光走査し2次光源面を形成している。
の光束であり、該光束42を互いに直交する面内のX軸
とY軸に回転軸を有する2つの回転ミラー43.44よ
り成る走査系を介した後、集光レンズ45に導光し、所
定面46上に集光走査し2次光源面を形成している。
そして所定面46を2次光源面とした照明光学、i47
によりレチクル又はマスク面等の被照射面48上を照明
している。
によりレチクル又はマスク面等の被照射面48上を照明
している。
同図における照明装置は2つの回転ミラー43.44を
X軸方向とY軸方向に各々一定の回転数で回転している
為2次光源面46上に右ける走査形状が例えば第5図に
示すような短形状となっている。
X軸方向とY軸方向に各々一定の回転数で回転している
為2次光源面46上に右ける走査形状が例えば第5図に
示すような短形状となっている。
この為回転対称な照明系を利用し、照明系の瞳面全体に
光束が入射するように構成すると、被照射面上でのコヒ
ーレンジを視野中心に対して同一にする為には、2次光
数面46上の走査光束のうち4角の光束は不必要となり
、照明効率が低下してくる欠点があった。
光束が入射するように構成すると、被照射面上でのコヒ
ーレンジを視野中心に対して同一にする為には、2次光
数面46上の走査光束のうち4角の光束は不必要となり
、照明効率が低下してくる欠点があった。
逆に2次光数面46からの走査光束を全て被照射面に指
向すると、視野中°心に対して方向によってコヒーレン
ジが変化することになり、例えばレチクル等のパターン
を結像光学系を介して結像する際の結像性能が劣化する
。
向すると、視野中°心に対して方向によってコヒーレン
ジが変化することになり、例えばレチクル等のパターン
を結像光学系を介して結像する際の結像性能が劣化する
。
又走査系として2つの回転ミラーを使用している為に走
査系全体として大型化してくる等の問題があった。
査系全体として大型化してくる等の問題があった。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明は光学的な走査系を利用し、コヒーレントな光束
から任意のコヒーレンジの照明光を得て被照射面上を照
明することができる照明装置の提供を特徴とする 特に本発明では特定形状の走査系を用いることにより所
望のコヒーレンジの光束を所定の走査形状で、主に円形
状となる様に所定面上を走査し2次光源面を形成した高
い照明効率と均一なコヒーレンジを有し、しかも装置全
体の小型化を図った照明装置の提供を目的とする。
から任意のコヒーレンジの照明光を得て被照射面上を照
明することができる照明装置の提供を特徴とする 特に本発明では特定形状の走査系を用いることにより所
望のコヒーレンジの光束を所定の走査形状で、主に円形
状となる様に所定面上を走査し2次光源面を形成した高
い照明効率と均一なコヒーレンジを有し、しかも装置全
体の小型化を図った照明装置の提供を目的とする。
(問題点を解決するための手段)
コヒーレント光束を走査光学系を介して被照射面に指向
する照明装置であって、前記被照射面上でコヒーレント
光束を走査することにより形成される照明領域が大略円
形になる様に、前記走査光学系によりコヒーレント光束
を偏向したことである。
する照明装置であって、前記被照射面上でコヒーレント
光束を走査することにより形成される照明領域が大略円
形になる様に、前記走査光学系によりコヒーレント光束
を偏向したことである。
(実施例)
第1図は本発明の照明装置を半導体製造用の投影露光装
置に適用したときの一実施例の概略図である。
置に適用したときの一実施例の概略図である。
同図において1はコヒーレントな光束を放射する、例え
ばエキシマレーザ−等の光源、2は光学的な走査手段と
集光レンズを有する走査系で、光[1からのコヒーレン
トな光束を受け、所定の形状の大きさの2次光源面3を
形成している。4は照明光学系で2次光源面3を光源面
としている。
ばエキシマレーザ−等の光源、2は光学的な走査手段と
集光レンズを有する走査系で、光[1からのコヒーレン
トな光束を受け、所定の形状の大きさの2次光源面3を
形成している。4は照明光学系で2次光源面3を光源面
としている。
5は被照射面で例えばレチクルやマスク面等である。6
は投影光学系であり被照射面5上のレチクル等のパター
ンをウェハ7面上に投影している。
は投影光学系であり被照射面5上のレチクル等のパター
ンをウェハ7面上に投影している。
本実施例における照明光学系4は2次光数面3を走査集
光し、その後発散してきた光束により被照射面5上を照
明すると共に2次光源面3を投影光学系6の入射瞳61
近傍に結像させるようにした所謂ケーラー照明系を構成
している。
光し、その後発散してきた光束により被照射面5上を照
明すると共に2次光源面3を投影光学系6の入射瞳61
近傍に結像させるようにした所謂ケーラー照明系を構成
している。
第2図は本実施例における走査系を含む一部の要素の説
明図である。同図において20は光源1からのコヒーレ
ントな光束、21.22は各々透過性の楔状の光学部材
、23は集光レンズである。
明図である。同図において20は光源1からのコヒーレ
ントな光束、21.22は各々透過性の楔状の光学部材
、23は集光レンズである。
2つの楔状の光学部材21.22は各々集光レンズ23
の光軸24を中心に互いに異った角速度W、、W2で不
図示の回転手段により回転させている。
の光軸24を中心に互いに異った角速度W、、W2で不
図示の回転手段により回転させている。
本実施例では光源1からのコヒーレントな光束20を走
査系2により走査し、2次光部面3上に順次集光するこ
とにより所定形状の特に円形状の2次光源面を形成して
いる。又楔形の光学部材の楔角を適切に設定することに
より走査範囲を所望の大きさ及び形状にしている。従っ
て所望のコヒーレンジの照明が行える。
査系2により走査し、2次光部面3上に順次集光するこ
とにより所定形状の特に円形状の2次光源面を形成して
いる。又楔形の光学部材の楔角を適切に設定することに
より走査範囲を所望の大きさ及び形状にしている。従っ
て所望のコヒーレンジの照明が行える。
第3図(A)は本実施例において2つの楔形の光学部材
21.22の回転数の比を3=7とした場合の第2次光
源面3上における走査形状の一実施例の説明図である。
21.22の回転数の比を3=7とした場合の第2次光
源面3上における走査形状の一実施例の説明図である。
同図において31は走査用の光束の集光点の走査軌跡で
ある。
ある。
本実施例では2つの楔形の光学部材の回転数の比を適切
に設定し、2次光源面3上における走査用光束による走
査軌跡を種々変化させた状態で走査している。
に設定し、2次光源面3上における走査用光束による走
査軌跡を種々変化させた状態で走査している。
例えば第3図(B) 、 (C)は各々2つの楔形の光
学部材21.22の回転数の比を3:8,5:11とし
た場合の2次光源面3上における走査用光束による走査
軌跡の説明図である。
学部材21.22の回転数の比を3:8,5:11とし
た場合の2次光源面3上における走査用光束による走査
軌跡の説明図である。
尚本実施例においては光源1からの光束を複数に分割し
、又は複数の光源を用い、複数の光束を種々の角度で走
査系に入射させることにより、例えば第3図(D)に示
すように7つの光束を種々の角度で入射させることによ
り2次光温血3上に複数の光束による走査軌跡が重複し
ないように形成させても良い。
、又は複数の光源を用い、複数の光束を種々の角度で走
査系に入射させることにより、例えば第3図(D)に示
すように7つの光束を種々の角度で入射させることによ
り2次光温血3上に複数の光束による走査軌跡が重複し
ないように形成させても良い。
これによれば所望のコヒーレンジの照明を極めて容易に
得ることができる。
得ることができる。
本実施例では2つの透過性の楔状の光学部材21.22
を互いに接近させて双方を回転させて走査している為に
従来のように2つの回転ミラーを用いて走査する場合に
比べて装置全体の小型化が容易となる。
を互いに接近させて双方を回転させて走査している為に
従来のように2つの回転ミラーを用いて走査する場合に
比べて装置全体の小型化が容易となる。
尚本実施例において楔状の光学部材を2つ以上用いて、
それらを互いに異った回転数で回転させても所定の走査
形状の第2次光源面を形成することができる。
それらを互いに異った回転数で回転させても所定の走査
形状の第2次光源面を形成することができる。
又2つの楔形の光学部材を異った材質より構成し、色収
差等の影響を考慮して構成しても良い。
差等の影響を考慮して構成しても良い。
上記実施例では空間的に形成された2次光源面からの光
を集光レンズを介してレチクル等の被照射面に指向して
いた。
を集光レンズを介してレチクル等の被照射面に指向して
いた。
一方、2次光源面からの光を一旦フライアイレンズ、フ
ァイバー束等の多光束発生系に入射させ、この多光束発
生系を介して被照射面にコヒーレント光束を指向しても
良い。この様な多光束発生系を有する照明系によれば、
極めて均一に被照射面の照明を行なえる。尚フライアイ
レンズ等の複眼光学系を光束方向に複数個並べて配置す
ることにより更に均一な照明が行なえる。
ァイバー束等の多光束発生系に入射させ、この多光束発
生系を介して被照射面にコヒーレント光束を指向しても
良い。この様な多光束発生系を有する照明系によれば、
極めて均一に被照射面の照明を行なえる。尚フライアイ
レンズ等の複眼光学系を光束方向に複数個並べて配置す
ることにより更に均一な照明が行なえる。
(発明の効果)
本発明によれば簡易な構成により、コヒーレントな光束
より所定の走査形状の2次光源面が容易に得られ、しか
も照明効率の良い、すなわち所望のコヒーレンスの照明
のできる装置全体の小型化を図った、特に半導体製造用
の投影露光装置に好適な照明装置を達成することができ
る。
より所定の走査形状の2次光源面が容易に得られ、しか
も照明効率の良い、すなわち所望のコヒーレンスの照明
のできる装置全体の小型化を図った、特に半導体製造用
の投影露光装置に好適な照明装置を達成することができ
る。
第1図は本発明を半導体製造用の投影露光装置に通用し
たときの一実施例の概略図、第2図は第1図の一部分の
説明図、第3図(A) 、 (B) 、 (C) 、
(D)は各々第1図に示す実施例における走査用光束に
よる走査軌跡の説明図、第4図は従来の照明装置の概略
図、第5図は第4図に示す照明装置における走査用光束
による走査軌跡の説明図である。図中1は光源、2は走
査系、3は2次光源面、4は照明光学系、5は被照射面
、6は投影光学系、7は被照射面、21.22は光学部
材、23は集光レンズである。 特許出願人 キャノン株式会社 第 1 口 り 見 2 図 第 3 図(へ) 第3図(B)
たときの一実施例の概略図、第2図は第1図の一部分の
説明図、第3図(A) 、 (B) 、 (C) 、
(D)は各々第1図に示す実施例における走査用光束に
よる走査軌跡の説明図、第4図は従来の照明装置の概略
図、第5図は第4図に示す照明装置における走査用光束
による走査軌跡の説明図である。図中1は光源、2は走
査系、3は2次光源面、4は照明光学系、5は被照射面
、6は投影光学系、7は被照射面、21.22は光学部
材、23は集光レンズである。 特許出願人 キャノン株式会社 第 1 口 り 見 2 図 第 3 図(へ) 第3図(B)
Claims (2)
- (1)コヒーレント光束を走査光学系を介して被照射面
に指向する照明装置であって、前記被照射面上でコヒー
レント光束を走査することにより形成される照明領域が
大略円形になる様に、前記走査光学系によりコヒーレン
ト光束を偏向したことを特徴とする照明装置。 - (2)前記走査光学系は集光レンズを有しており、複数
の楔形の光学部材を該集光レンズの光軸中心に回転させ
ることにより2次光源面をコヒーレントな光束で形成し
、該2次光源面を光源面とした照明光学系を設けたこと
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の照明装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62025262A JPS63192234A (ja) | 1987-02-05 | 1987-02-05 | 照明装置 |
EP87309574A EP0266203B1 (en) | 1986-10-30 | 1987-10-29 | An illumination device |
DE3750174T DE3750174T2 (de) | 1986-10-30 | 1987-10-29 | Belichtungseinrichtung. |
US07/384,908 US4974919A (en) | 1986-10-30 | 1989-07-25 | Illuminating device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62025262A JPS63192234A (ja) | 1987-02-05 | 1987-02-05 | 照明装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63192234A true JPS63192234A (ja) | 1988-08-09 |
Family
ID=12161107
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62025262A Pending JPS63192234A (ja) | 1986-10-30 | 1987-02-05 | 照明装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63192234A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4905041A (en) * | 1987-10-19 | 1990-02-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
WO2007138834A1 (ja) * | 2006-05-31 | 2007-12-06 | Nikon Corporation | 露光装置及び露光方法 |
-
1987
- 1987-02-05 JP JP62025262A patent/JPS63192234A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4905041A (en) * | 1987-10-19 | 1990-02-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
WO2007138834A1 (ja) * | 2006-05-31 | 2007-12-06 | Nikon Corporation | 露光装置及び露光方法 |
JP5218049B2 (ja) * | 2006-05-31 | 2013-06-26 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法 |
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