JPS63190242A - 質量分析装置用イオン源 - Google Patents

質量分析装置用イオン源

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JPS63190242A
JPS63190242A JP62020184A JP2018487A JPS63190242A JP S63190242 A JPS63190242 A JP S63190242A JP 62020184 A JP62020184 A JP 62020184A JP 2018487 A JP2018487 A JP 2018487A JP S63190242 A JPS63190242 A JP S63190242A
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JP
Japan
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sample liquid
porous member
ion source
enclosure
cap
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JP62020184A
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Tsutomu Kobayashi
勉 小林
Eiji Kubota
英二 久保田
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Jeol Ltd
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Jeol Ltd
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N30/00Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
    • G01N30/02Column chromatography
    • G01N30/04Preparation or injection of sample to be analysed
    • G01N30/06Preparation
    • G01N30/10Preparation using a splitter

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  • Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
  • Electron Tubes For Measurement (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、−次ビームを試料に照射し、その衝撃で試料
をイオン化する方式の質量分析装置用イオン源に関し、
特に液体クロマトグラフからの試料液をオンラインでイ
オン化室に直接導入してイオン化する場合に使用して好
適なイオン源に関するものである。
[従来の技術] 液体クロマトグラフで分離した試料液を11分析装置に
直接導入する方式のイオン源として、第6図にポリよう
な構造のものがある。
第6図において、1は質量分析装置の質量分析部、2は
イオン源、3はイオン化室、4はイオン化室内で生成さ
れたイオンの加速と集束を行うスリット群、5は一次粒
子ビーム発生器、6は液体クロマトグラフ、7は液体ク
ロマトグラフ6で分離された試料液をイオン化室3内へ
導入するための導入管である。この導入管としては例え
ばフユーズドシリ力管が用いられる。また、イオン化室
内に挿入された導入管7の先端部には、拡大断面図を第
7図に示づように、ステンレス管8が被せられ、さらに
その外側にガラス管(ステンレス等の金属管でも良い)
9が被せられている。そして、導入管の開口部を塞ぐよ
うに多孔性部材10が取付けられている。この多孔性部
材としては、例えばステンレスの粉末を焼結して作成し
たフィルタ(フリット)が使用される。なお、前記ステ
ンレス管8にはりベラ電源11から適宜な電圧が印加さ
れる。
かかる構成において、液体クロマトグラフ6で分離され
た試料液は導入管7を介して順次イオン化室3内に導入
され、導入管先端に数句けられている多孔性部4410
の中を通って表面へ滲出する。
表面に滲出した試料液は、粒子ビーム発生器5からの一
次ビームBの衝撃を受けてイオン化され、生成されたイ
オンは質量分析部1へ導入されて質伶分析される。
[発明が解決しようとする問題点] このようにして液体クロマトグラフからの試ね液をオン
ラインでイオン源に導入し、試料液を多孔性部材へ送っ
てイオン化する場合には、送られた試料液が順次全てイ
オン化され、先に送られた試料成分が長期間残留しない
ことが要求される。
そのためには、イオン源内への試料液の単位時間当りの
導入量と、イオン源内での中位時間当りの試料液の消費
最即ち、真空中での試料液(特に多聞に含まれる溶媒)
の単位時間当り蒸発ωと、−次ビームによる試料液のm
位時間当りイオン化及びスパッタmが相互にバランスし
ていなければイ【らない。
現在のイオン源の能力からみると、このようなバランス
のとれた尋人階は、1μ之/分以下である。ところが、
液体クロマトグラフからの流量は、1mQ/分〜100
μ込/分程度はあり、適当なスプリッタで子分の一〜百
分の一程度に流口を絞らなければならなかった。
ところが、現在あるスプリッタの性能では、このような
微小流槽を実現することは極めて困難であり、バランス
のとれる限度を超える流量になってしまうことは避けら
れない。そのため、多孔性部材表面にイオン化しきれな
い試料液がメモリSとして蓄積されて行き、このメモリ
部分にも一次ビームが照射されてイオン化されてしまう
。従って、先に分離された試料成分が後に分離された試
料成分と同時にイオン化されて質ω分析されることにな
るため、分析に悪影響が出ることは避けられなかった。
本発明は、多孔性部Hの部分にスプリッタとしての機能
を持たせることにより、上述した問題点を解決すること
のできるイオン源を提供することを目的としている。
[問題点を解決するための手段] この「1的を達成するため、本発明は、イオン化室と、
外部から該イオン化室内へ試料液を尋人するための導入
管と、該導入管の先端に取付けられる多孔性部材と、該
多孔性部材を通りその表面に滲出した試料液に照射する
一次ビームを発生する手段とを備えた質量分析装置用イ
オン源において、前記部材の一次ビーム照射面一ヒにお
ける試料液の滲出領域を規定する開口を有する包囲体を
該多孔性部材に被せ、該滲出領域に滲出した試料液を一
次ビーム照射によりイオン化すると共に、該多孔性部材
の上記滲出領域以外の面から滲出dる試料液を前記包囲
体内に取出寸ようにしたことを特徴としている。
[作用1 本発明においては、導入管の先端に取付けられる多孔性
部材の一次ビーム照射面上における試料液滲出領域を規
定゛りる開口を有する包囲体を該多孔性部材に被往、該
滲出領域に滲出した試料液を一次ビーム照射によりイオ
ン化Jると共に、該多孔性部材の上記滲出領域以外の面
から滲出する試料液を前記包囲体内に取出すようにした
ため、導入管を介して多重の試料液を多孔性部材に送っ
ても滲出yAtaに試料液が蓄積されることがない。
以下、図面を用いて本発明の一実施例を詳説する。
[実施例] 第1図は本発明を実施した質量分析装置用イオン源の一
例を示す要部拡大断面図であり、第6図及び第7図と同
一符号は同−格成要素を示している。
第1図において、12は有底筒状に形成された例えばス
テンレス製のキャップで、その底部に前記多孔性部材1
0が固定されると共に、その開放端12aは該多孔性部
材10及び導入管7を包囲すると共にイオン化室3の側
壁を貝通してイオン源2内に取出されている。更に、こ
のキャップの底部12bの中心部には一部ビーム通過穴
14が形成されている。15はキャップ内に詰められた
吸収部材で、例えば多孔質セラミックスやグラスウール
など液体を吸収する性質を持つ材料で形成されている。
一ト記4’lr成において、導入管7を介してイオン化
室3内に導かれた液体クロマトグラフからの試料液は、
多孔性部材10内へ注入され、その内部を移動して一部
はキャップ12に当接していない一部ビーム通過穴14
の部分(−次ビーム照射領域10a)に滲出する。この
ようにして−次ビーム照射領1al Oaに滲出した試
料液は、ビーム照射によってイオン化あるいはスパッタ
され順次消費されて行く。
一方、その他の試料液は、多孔性部材10の他の面(例
えば側面10b及び裏面10C)から滲出し、キャップ
12内にたまって行く。そして、キャップ12内にたま
った試料液は、順次吸収部材15に吸い取られる。
このように、本発明においては、導入管7を介して多孔
性部材10に注入された試料液が、−次ビーム照射領域
10aと他の面10b、IOCとに別れて滲出するため
、この多孔性部材がスプリッタとしての役割を果す。従
って、導入管7を介してバランスのとれる限度以上の流
量の試料液が送られて来ても、−次ビーム照射領域に余
分な試料液が蓄積されることがない。
尚、キャップ12内に吸収部材15を詰めることは必ず
しも必要ではないが、キャップ12内に取出された試料
液がキャップ内で然発しイオン源内へ拡散する際、吸収
部材がないと、例えば突沸のような現象により試料液の
ガスが急激且つ人聞に発生する可能性があり、そうする
とイオン源内の圧力は急激に変化し分析に悪影営を及ぼ
す。
その点、吸収部材が存在し試料液が吸収部材に吸収され
た状態で蒸発する場合には、蒸発表面積が大ぎいので突
沸などせずに定常的に蒸発するため、イオン源内の圧力
変化を小さくし得る。この吸収部材内部での蒸発を促進
し、吸収部材内部に試料液が蓄積されることを防ぐこと
が必要な場合には、キャップ12の内部を加熱するよう
にしても良い。
多孔性部材10を加熱することも、該部祠内での試料液
の流れを円滑にし、更に一部ビーム照射領vilOaか
らの溶媒成分の蒸発及びそれによる試料成分の濃縮を盛
んに1゛る面で好ましい。具体的には、通常高温に維持
されるイオン化室壁からの熱輻(ト)でキャップ先端を
加熱しても良いし、電熱部材をイオン化室壁とキャップ
先端部との間に介在させるようにし、熱伝導により加熱
しても良いし、専用の加熱手段をキャップ先端に取付け
るようにしても良い。加熱の程度は、多孔性部材10に
おいて溶媒成分のW発により奪われる熱を補充して一部
ビーム照射面が常温の範囲に維持される程度で良い。
また、スプリット比は、−次ビーム通過穴14の面積、
あるいは多孔性部材の径や厚さなどの寸法を適宜設定す
ることにより広い範囲で可変できる。
第2図は本発明の他の実施例を示し、本実施例では吸収
部材を多孔性部材10の裏面10C及び側面10bに密
接し、その面から滲出した試料液を素早く吸収部材に吸
い取るようにしている。
第3図は更に他の実施例を示し、本実施例では多孔性部
材10と吸収部材を同じ材料で一体的に作成しである。
第4図は更に他の実施例を示し、本実施例ではキャップ
12の開放端12aをイオン源外部の大気中まで延長し
ている。このように覆れば、キャップ内部で発生する試
料液の蒸発ガスは大気中に放出されるため、イオン源内
部の圧力変動の問題を除くことができる。
第5図は更に他の実施例を示し、本実施例ではキャップ
の内部を周囲と仕切り、真空ポンプ16によって強制的
に排気するようにしている。このような構成においても
、キャップ内部で発生する試料液の蒸発ガスがイオン源
内部に放出されないため、イオン源内部の圧力変動の問
題を除くことが可能である。また、真空ポンプ16とキ
ャップ12の間にバルブ17を配置し、このバルブ17
によりキャップ12内部の圧力を調節できるようにすれ
ば、多孔性部材10におけるスプリット比を可変できる
。即ち、導入管7から2〜3気圧の圧力で送られて来た
試料液は、略0気圧の一部ビーム照射面10aとそれら
の中間の圧力のキャップ内部に別れて滲出するので、4
ヤップ内部の圧力を適宜調節ずれば、多孔性部材10内
の試料液の流れが変わり、スプリット比を変化さUるこ
とができる。
尚、上記第4図及び第5図の実施例において、キャップ
内に吸収部材を配置しても良いことは言うまでもない。
[効果] 以上詳述した如く、本発明によれば、多孔性部材の一部
ビーム照射面上における試料液の滲出領域を規定する開
口を有するキャップ(包囲体)を該多孔性部材に被せる
ことにより、多孔性部材にスプリッタとしての機能を持
たせたため、多孔性部材の一部ビーム照射領域への試料
液の供給量を所定限度内に抑えることが容易になり、従
って、メモリによる影響を受けずに質量分析を行うこと
のできるイオン源が実現される。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第5図は夫々本発明の一実施例を示す概略図
、第6図及び第7図は従来例を説明するための図である
。 1:質量分析部 2:イオン源 3:イオン化室 4ニスリット群 5ニ一次粒子ビーム発生器 6:液体クロマトグラフ 7:導入管 10:多孔性部材 12:キャップ 14ニ一次ビーム通過穴 15:吸収部材 16:真空ポンプ 17:バルブ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)イオン化室と、外部から該イオン化室内へ試料液
    を導入するための導入管と、該導入管の先端に取付けら
    れる多孔性部材と、該多孔性部材を通りその表面に滲出
    した試料液に照射する一次ビームを発生する手段とを備
    えた質量分析装置用イオン源において、前記部材の一次
    ビーム照射面上における試料液の滲出領域を規定する開
    口を有する包囲体を該多孔性部材に被せ、該滲出領域に
    滲出した試料液を一次ビーム照射によりイオン化すると
    共に、該多孔性部材の上記滲出領域以外の面から滲出す
    る試料液を前記包囲体内に取出すようにしたことを特徴
    とするイオン源。
  2. (2)前記包囲体内に取出された試料液を吸収する吸収
    部材を該包囲体内に配置した特許請求の範囲第1項記載
    のイオン源。
  3. (3)前記包囲体の端部が前記イオン源内に開放される
    特許請求の範囲第1項又は第2項に記載のイオン源。
  4. (4)前記包囲体の端部はイオン源外に取出され、大気
    に開放される特許請求の範囲第1項又は第2項記載のイ
    オン源。
  5. (5)前記包囲体の内部は大気圧よりも低圧に維持され
    る特許請求の範囲第1項又は第2項に記載のイオン源。
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