JPS6318098A - 連続電気メツキ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は鋼帯の連続電気メツキ設備に関する。

〔従来の技術〕

第３図は従来使用されている縦型電気メツキラインの断
面図である。同図において、１＃′ｉ内部にメッキ液を
満たした電解槽である。該電解槽１には対面する一対の
電極２が二組メッキ液中に浸漬懸吊されている。また、
電解槽１内にはラバーロール５が設けられ、電解槽１の
上部にはコンダクタロール４が設けられている。そして
、メッキを施すべき鋼ストリップ５は、図示のようにコ
ンダクタロール４およびラバーロール３により対面する
一対の電極２の間を連続的に案内供給されるようになっ
ている。コンダクタロール４と電極２との間には電圧が
印加されており、この電圧によシミ極２を陽極とし鋼ス
トリップ１を陰極として電気メッキが行なわれ、メッキ
液中の金属イオンは鋼ストリップ５の表面に電着される
。

ところが、上記第３図の電気メツキラインでは、電極２
およびコンダクタロール４間の電圧を上けて電流密度を
上けていくと、鋼ストリップ５０表面への金属イオンの
供給が鋼ストリップ面上での電着速度に追いつかなくな
るため、メッキ面に所謂「やけ」という現象が発生して
品質の低下を生じるという問題があった。また、電流密
度を上ければ水素ガスの発生も増加するため、ガス除去
の問題も生じる。他方、電極２と鋼ストリップ５の接触
によるショートラ防止するために両者間の距離を２０〜
５０ｍ以上と大きく取っているから、メッキ液抵抗によ
る電圧分として高い電圧を必要とする。従って消費電力
が大きいためランニングコストが上がるという問題があ
った。

そのため、電極間距離を短くして消費電力を下けるため
に第４図の構成が提案されている。

第４図において、１は電解槽である。該電解槽１の中に
はメッキ液が満たされておシ、このメッキ液中に浸漬し
て相対面する電極２が配設されている。また、電解槽１
内部にはラバー目−ル３が設けられ、電解槽１の外部に
はコンダクタロール４が設けられている。この二つのロ
ール３．４により鋼ストリップ５が前記相対面する電極
２の間を案内されて連続的に供給されると共に、コンダ
クタロール４によシ鋼ストリップ５に通電されるように
なっている。そし゛ｃ１コンダクタロール４と前記電極
２との間には電圧が印加されておシ、鋼ストリップ５が
電極２の間を通る間にその表面に電気メッキが施される
。

さて、前記連続的に送給される鋼ストリップ５の両側に
配設されｆｃ１１極２の夫々には、その厚さ方向にスリ
ット６が形成されている。該スリット６は交互に逆の傾
斜をもって形成され、しかも鋼ストリップ５に関して対
称に形成されている。また、互いに逆の傾斜をもった二
つのスリット６を取シ囲むヘッダ７が設けられ、該ヘッ
ダ７内にはメッキｗＬヲ供給する配管８が設けられてい
る。そして、電解槽１内のメッキ液を昇圧してこの配ｔ
８に送給するポンプ９が設けられている。ポンプ９で昇
圧されたメッキ液は配管８を通ってヘッダ７内に供給さ
れ、スリット６から鋼ストリップ５の表面に噴射される
ことになる。即ち、スリット６はメッキ液を噴射するた
めのノズルとしての機能を有する。他方、前記電極２に
はヘッダ７で囲まれたスリット６の他に貫通孔１０が形
成されていて、スリット６から噴射されたメッキ液はこ
の貫通孔１０を通って電解槽１内に戻るようになってい
る。

上記構成からなる電気メツキラインでは、電極２と鋼ス
トリップ５との間に第５図に示すようなメッキ液の流れ
が生じることになる。即ち、前述のようにヘッダ７から
スリット６を通って噴射されたメッキ液は、鋼ストリッ
プ５上に噴射されたところで図中矢印方向に曲がり、電
極２と鋼ストリップ５との間１！ｌ”ｅ通って貫通孔１
０から電解槽１内に戻る。そして、このような角度をも
った一対の噴流によシ、二つのノズル（スリン））６．
６の中間部１１には圧力ポケットが発生する。これはホ
ーバークラフトに用いられている原理と同じである。こ
の圧力ポケットにより、伺らかの原因で鋼ストリップ５
が中央のパスラインからはずれても鋼ストリップ５を正
規の位置へ押し戻そうとする力が働くため、上記構成の
電気メツキラインでは電極２と鋼ストリップ５との間に
発生する圧力ポケットによシ両者の接触は完全に防止さ
れることになる。

第５図に示した構成のメツキラインでは、この電極２と
鋼ス）　ＩＪツブ５間の距離を最低２０■以上にとらな
いと両者の接触を避けられないのに対して、第４図に示
した構成の電気メツキラインでは、その距離を７簡に設
定しても両者の接触を完全に防止し得、何らトラブルを
生じることなく運転することが可能である。従って、こ
の場合の必要な電力は第３図の場合の電気メツキライン
の７／２ｏ即ち約１／３ですむことになり、ランニング
コストの低減を達成することができる。

鋼ストリップの表面への金属イオンの供給速度を増加し
て「やけ」の現象を生じさせずに電流密度を増大させる
ための構造として第６図の構成が提案されている。

第６図の構造は、電極２と鋼ストリップ５とで囲１れた
流路に、骸流路の片端に設けられたノズル１２から鋼ス
トリップ５と平行かつ逆向きにメッキ液を噴射し、骸流
路内で鋼ストリップ５表面におけるメッキ液相対速度を
大きくなし、かかる措置によって鋼ストリップ５表面で
の物質伝達率を向上させ、金属ラインの供給速度を増大
させるものである。ところが第７図に示すように、第４
図と第６図の構造と金組み合わせて電極間距離を短かく
シ、かつ電流密度を増大させようとすると次のような欠
点があった。

第７図に示した構造の電気メツキ設備では、一対のノズ
ル６．６′から噴射されたメッキ液は鋼ス）　ＩＪツブ
５上に噴射されたのちそれぞれ反対方向に流れの向きを
変える。一方、鋼ストリップ５および電極２との間にノ
ズル１２から噴射されたメッキ液流は一方向に流れるた
め、−対ノノズル６．６′の中間部１１の圧力ポケット
部を境にノズル１２からのメッキ液流とスリット６から
のメッキ液流とが同一方向に流れる領域と、逆方向に流
れようとして流れが滞留する領域とが生じてし筐う。

メッキ液が滞留すると、メッキ液のイオン供給が阻害さ
れやすくなる。このためこの部分でのメッキ付着量が減
少し、メッキむらの原因となることがあった。

不発８ＡＦｉ、この第７図に示し次連続メッキ装置の上
述したような欠点を解消しうる構成の連続メッキ装置を
提供しようとするものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は電解槽内に相対面する電極間に鋼ストリップを
連続的に供給すると共に、前記電極および鋼ストリップ
間に電圧を印加することにより鋼ストリップ表面に電気
メッキを施すメツキラインにおいて、電極および鋼スト
リップで囲まれた流路に鋼ストリップに平行にメッキ液
を噴射するノズルと、電極側から鋼ストリップ表面にメ
ッキ液を噴射するためのクッションノズルを設け、かつ
核クッションノズルの鋼ストリップに対して反対側にメ
ッキ液流のバイパス流路を設けてなることを特徴とする
連続電気メツキ設備である。

〔作　用〕

１対のノズルから噴射されたメッキ液は鋼ストリップに
衝突した後、それぞれ反応方向に向き金変えるが、電極
端から鋼ストリップと平行逆向きに噴射された液流と反
対向きになった液流は該ノズル裏側のバイパス流路を通
って、最終的に全ての液流は同一方向に流れる。このた
め液流は滞留しなくなる。

〔実施例〕

本発明の実施態様を第１図によって説明する。

第１図において、１は電解槽であり、該電解槽１の中に
はメッキ液が満たされておシ、このメッキ液中に浸漬し
て相対面する電極２が配設されている。１次、電解槽１
内部にはラバーロール３が設けられ、電解槽１の外部に
はコンダクタロール４が設けられている０この二つのロ
ール３．４に工す鋼ス）　ＩＪツブ５が前記相対面する
電極２の開音案内されて連続的に供給きれると共に、コ
ンダクタ目−ル４によｐ鋼ストリップ５に通電されるよ
うになっている。そして、コンダクタロール４と前記電
極２との間には電圧が印加されてお夛、鋼ス）ＩＪツブ
５が電極２０間を通る間にその表面に電気メッキが施さ
れるＯ 電極２の端部には、電極２と鋼ス）　リップ５とで囲ま
れた流路に、鋼ストリップと平行逆向きにメッキ液流を
噴射するためのノズル１２が設置されている。

さて、前記連続的に送給される鍋ストリップ５の両側に
配設された電極２の夫々にはその厚さ方向にスリット６
が形成されている。該スリット６は変互に逆の傾斜をも
って形成され、しかも鋼ストリップ５に関して対称に形
成されている。また、互いに逆の傾斜をもった二つのス
リット６を取シ囲むヘッダ７が設けられ、該ヘッダ７内
にはメッキ液を供給する配管８が設けられている。そし
て、電解槽１内のメッキ液を昇圧してこの配管８に送給
するポンプ９が設けられている。ポンプ？で昇圧された
メッキ液は配管８を通ってヘッダ７内に供給され、スリ
ット６から鋼ストリップ５の表面に噴射されることにな
る。即ち、スリット６はメッキ液を噴射するためのノズ
ルとしての機能を有する。他方、前記電極２にはヘッダ
７で囲まれたスリット６の１ｋｌＩＭにバイパス流路１
１が形成されていて、スリット６から噴射されたメッキ
液のうち、電極２端から鋼ストリップ５と平行逆向きに
噴射された液流と反対向きの液流はバイパス流路１１を
通って全ての液流が同一方向に流れるようになっている
。上記構成の電気メツキラインでは電極２と鋼ストリッ
プ５との間に発生する圧力ポケットにより従来と同様両
者の接触は完全に防止されることになる。しかも液流の
滞留が無くなるのでメッキむらが生じない。

また、第２図は本発明の他の実施態様金示すものである
が、第２図に示したように電解槽１内にメッキ液を満た
さないで、電極２間のみにメッキ液を充満させる構造で
も同様に有効である。第２図中第１図と同一部分には同
一符号を付けである。

なお、上記実施例では電極２に形成したスリット６′Ｉ
ｉ″メツキ液を噴射するためのノズルとして用いたが、
スリット６の代シに特別のノズルを設けてもよい。また
、ノズルの形態および該ノズルからメッキ液を噴射させ
るための態様はどのようなものを採用してもよい。又、
これまでの説明からも明らかなように、メツキセルが縦
型、横型（水平パス）のいずれであっても全く同様に有
効である。更に、電極には、可溶性、不溶性のいずれも
が、本ノズルの液噴射・液圧室形成可能な構造となすこ
とがわかる。

〔発明の効果〕

液流が滞留しなくなるため、メッキ液のイオン供給が順
調に行なわれ、メッキむらが生じなくなる。しかも従来
通シ、圧力ポケットの効果により鋼ストリップを所足の
位置に保持することができるため、電極間距離を短くし
て消費電力を低減することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は本発明の実施態様である縦型電気
メツキラインの断面図である。第３図、第４図、第６図
及び第７図は従来の縦型電気メツキラインの断面図であ
り、第５図は第４図の作用の説明図である。 復代理人　　内　１）　　明 復代理人　　萩　原　亮　− 復代理人　　安　西　篤　夫

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 電解槽内に相対面する電極間に鋼ストリップを連続的に
   供給すると共に、前記電極および鋼ストリップ間に電圧
   を印加することにより鋼ストリップ表面に電気メッキを
   施すメッキラインにおいて、電極および鋼ストリップで
   囲まれた流路に鋼ストリップに平行にメッキ液を噴射す
   るノズルと、電極側から鋼ストリップ表面にメッキ液を
   噴射するためのクッションノズルを設け、かつ該クッシ
   ョンノズルの鋼ストリップに対して反対側にメッキ液流
   のバイパス流路を設けてなることを特徴とする連続電気
   メッキ設備。