JPS63177982A - レ−ザマ−キング用光学系 - Google Patents
レ−ザマ−キング用光学系Info
- Publication number
- JPS63177982A JPS63177982A JP62009011A JP901187A JPS63177982A JP S63177982 A JPS63177982 A JP S63177982A JP 62009011 A JP62009011 A JP 62009011A JP 901187 A JP901187 A JP 901187A JP S63177982 A JPS63177982 A JP S63177982A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- marking
- mask
- laser
- optical axis
- laser beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 32
- 238000010330 laser marking Methods 0.000 title description 11
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/064—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
- B23K26/066—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms by using masks
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明はレーザ光によって被加工物にマークを付けるレ
ーザマーキング装置内で使用されているレーザマーキン
グ用光学系に関する。
ーザマーキング装置内で使用されているレーザマーキン
グ用光学系に関する。
（従来技術）
従来レーザマーキングには、レーザ光が被加工物上で所
定のマークを描くように走査させる方法と、被加工物上
にマスクを配置し、このマスクのパターンを透過するレ
ーザ光を上記被加工物に照射してパターンを印す方法と
があり、装置の構造を簡略化できかつ高速処理に適する
という利点が注目されて後者の方法が多く用いられてい
る。
定のマークを描くように走査させる方法と、被加工物上
にマスクを配置し、このマスクのパターンを透過するレ
ーザ光を上記被加工物に照射してパターンを印す方法と
があり、装置の構造を簡略化できかつ高速処理に適する
という利点が注目されて後者の方法が多く用いられてい
る。
マスクを用いるマーキング用光学系として従来は第５図
に示すものが用いられていた。同図中（１）はレーザ発
振器であり、これから出射されたレーザ光りはレンズ（
２）によって集束され、光ファイバ（３）に入射端（４
）より入射されたのち上記光ファイバ（３）の出射端（
５）より出射され、コリメートレンズ（６）により整形
されマスク（７）を透過する。このマスク（力を透過し
たレーザ光りは、結像レンズ（８）で集束されて被加工
物（９）に照射され、この被加工物（９）にパターンを
印すようになっている。
に示すものが用いられていた。同図中（１）はレーザ発
振器であり、これから出射されたレーザ光りはレンズ（
２）によって集束され、光ファイバ（３）に入射端（４
）より入射されたのち上記光ファイバ（３）の出射端（
５）より出射され、コリメートレンズ（６）により整形
されマスク（７）を透過する。このマスク（力を透過し
たレーザ光りは、結像レンズ（８）で集束されて被加工
物（９）に照射され、この被加工物（９）にパターンを
印すようになっている。
（発明が解決しようとする問題点）
第５図に示すようなマーキング用光学系を用いた場合に
おいて、第６図に示すように縦横比が大きいマスクエリ
アａＯ）を有するマスク（力を用いた場合、レーザ光断
面αυが円形のままであるとマーキングの際のレーザ光
のエネルギ利用率は低くなる。そこで第７図（ａ）に示
すようにシリンドリカル１ レンズ等によりマスクエ
リアａｏ）が内接するようなレーザ光断面（１つを整形
するとエネルギ利用率は高くなるが、シリンドリカルレ
ンズによる整形で得られるレーザ光の強度分布は、第７
図（ｂ）に示すようにガラス分布に近い形の強度分布面
＆！（Ｉ）となる。このためマスクエリアｔＩＣＪの中
心部は鮮明にマーキングされるが、周辺部の文字筒は欠
けや薄れが生じるという問題点があった。
おいて、第６図に示すように縦横比が大きいマスクエリ
アａＯ）を有するマスク（力を用いた場合、レーザ光断
面αυが円形のままであるとマーキングの際のレーザ光
のエネルギ利用率は低くなる。そこで第７図（ａ）に示
すようにシリンドリカル１ レンズ等によりマスクエ
リアａｏ）が内接するようなレーザ光断面（１つを整形
するとエネルギ利用率は高くなるが、シリンドリカルレ
ンズによる整形で得られるレーザ光の強度分布は、第７
図（ｂ）に示すようにガラス分布に近い形の強度分布面
＆！（Ｉ）となる。このためマスクエリアｔＩＣＪの中
心部は鮮明にマーキングされるが、周辺部の文字筒は欠
けや薄れが生じるという問題点があった。
（問題点を解決するための手段）
上記問題点を解決するために本発明は、レーザ発振器と
、所定のパターンが形成されたマーキング用マスクと、
上記レーザ発振器から出射されるレーザ光の光軸上に配
設される複数個の半透鏡、上記複数個の半透鏡による反
射光に相対する位置に設けられた複数個の集光レンズ、
上記複数個の集光レンズに相対する入射端を有する数本
の光ファイバ、上記複数本の光ファイバの出射端に相対
する複数個のコリメートレンズとを上記レーザ発振器と
上記マーキング用マスクとの間に上記レーザ発振器側か
ら順次同一光軸上に配投し、上記マーキング用マスクの
前方に結像レンズを有することを特徴とするレーザマー
キング用光学系を提供する。
、所定のパターンが形成されたマーキング用マスクと、
上記レーザ発振器から出射されるレーザ光の光軸上に配
設される複数個の半透鏡、上記複数個の半透鏡による反
射光に相対する位置に設けられた複数個の集光レンズ、
上記複数個の集光レンズに相対する入射端を有する数本
の光ファイバ、上記複数本の光ファイバの出射端に相対
する複数個のコリメートレンズとを上記レーザ発振器と
上記マーキング用マスクとの間に上記レーザ発振器側か
ら順次同一光軸上に配投し、上記マーキング用マスクの
前方に結像レンズを有することを特徴とするレーザマー
キング用光学系を提供する。
（作用）
上記のようなマーキング用光学系を構成すると、マーキ
ング用マスクに対してマーキング用マスクの文字エリア
とほぼ同形状でかつ均等な強度分布を有するレーザ光を
作り出すことができ、外部の制御装置によってあらかじ
め制御されて発振されたレーザ光のエネルギー利用率も
高くすることができるので、欠けや薄れのない高品質な
マーキングが可能となる。
ング用マスクに対してマーキング用マスクの文字エリア
とほぼ同形状でかつ均等な強度分布を有するレーザ光を
作り出すことができ、外部の制御装置によってあらかじ
め制御されて発振されたレーザ光のエネルギー利用率も
高くすることができるので、欠けや薄れのない高品質な
マーキングが可能となる。
（実施例）
以下、本発明の一実施声］を図面にもとづいて説明する
。
。
第１図に本発明の一実施例レーザマーキング用光学系の
構成を示す。このレーザマーキング用光学系は、ＹＡＧ
レーザ発振器Ｑ３と、被マーキング部材（Ｗ）に対向し
て定位置に位置決め配置され、上記ＹＡＧレーザ発振器
０謙から出射されたレーザ光りに照射される側が平行平
面に形成されたマーキング用マスクα力と、上記ＹＡＧ
レーザ発振発振器α上記マーキング用マスクｕ１１）間
に配設される光学系と、上記マーキング用マスクＩの前
方に設けられた結像レンズα■とからなる。
構成を示す。このレーザマーキング用光学系は、ＹＡＧ
レーザ発振器Ｑ３と、被マーキング部材（Ｗ）に対向し
て定位置に位置決め配置され、上記ＹＡＧレーザ発振器
０謙から出射されたレーザ光りに照射される側が平行平
面に形成されたマーキング用マスクα力と、上記ＹＡＧ
レーザ発振発振器α上記マーキング用マスクｕ１１）間
に配設される光学系と、上記マーキング用マスクＩの前
方に設けられた結像レンズα■とからなる。
上記光学系は、上記ＹＡＧレーザ発振器ａ階の前方同一
光軸上に離間して配設された複数個の半透鏡（１６ａ）
、 （１６ｂ）、 （１６Ｃ）、 （１６ｄ）と、上記
複数個の半透鏡（１６ａ）、 （１６ｂ）、 （１６Ｃ
）、 （１６ｄ）により出力が等分配されタレーザ光（
１７ａ）、 （１７ｂ）、 （１７Ｃ）、 （１７ｄ）
と同一光軸上に設けられた複数個の集光レンズ（１８ａ
）、 （１８ｂ）。
光軸上に離間して配設された複数個の半透鏡（１６ａ）
、 （１６ｂ）、 （１６Ｃ）、 （１６ｄ）と、上記
複数個の半透鏡（１６ａ）、 （１６ｂ）、 （１６Ｃ
）、 （１６ｄ）により出力が等分配されタレーザ光（
１７ａ）、 （１７ｂ）、 （１７Ｃ）、 （１７ｄ）
と同一光軸上に設けられた複数個の集光レンズ（１８ａ
）、 （１８ｂ）。
（１８Ｃ）、 （１８ｄ）と、上記複数個の集光レンズ
（１８ａ）。
（１８ａ）。
（１８ｂ）、 （１８Ｃ）、 （１８ｄ）により集光さ
れたレーザ光（１７ａ）、 （１７ｂ）、 （１７Ｃ）
、 （１７ｄ）と同一光軸上にビーム入射端（１９ａ）
、 （１９ｂ）、 （１９ｅ）、 （１９ｄ）を配設さ
れた複数本の光ファイバ（２０ａ）、 （２０ｂ）、
（２０Ｃ）、 （２０ｄ）と、上記複数本の光７アイバ
（２０ａ）、 （２０ｂ）、 （２０Ｃ）、 （２０ｄ
）のビーム出射端（２１ａ）、 （２１ｂ）、 （２１
Ｃ）、 （２１ｄ）の前方同一光軸上に配設されたコリ
メートレンズ（２２ａ）。
れたレーザ光（１７ａ）、 （１７ｂ）、 （１７Ｃ）
、 （１７ｄ）と同一光軸上にビーム入射端（１９ａ）
、 （１９ｂ）、 （１９ｅ）、 （１９ｄ）を配設さ
れた複数本の光ファイバ（２０ａ）、 （２０ｂ）、
（２０Ｃ）、 （２０ｄ）と、上記複数本の光７アイバ
（２０ａ）、 （２０ｂ）、 （２０Ｃ）、 （２０ｄ
）のビーム出射端（２１ａ）、 （２１ｂ）、 （２１
Ｃ）、 （２１ｄ）の前方同一光軸上に配設されたコリ
メートレンズ（２２ａ）。
（２２ｂ）、 （２２ｃ）、 （２２ｄ）とからなる。
上記のようにレーザマーキング用光学系を構成すると、
ＹＡＧレーザ発振器（１３１から出射されるレーザ光り
は複数個の半透鏡（１６ａ）、 （１６ｂ）、 （１６
Ｃ）、 （１６ｄ）によって等出力に分配され、複数個
の集光レンズ（１８ａ）、 （ｘｓｂ）、 （１８ｃ）
、 （１８ｄ）によっテそれぞれ集束されて複数本の光
ファイバ（２０ａ）、 （２０ｂ）、 （２０Ｃ）。
ＹＡＧレーザ発振器（１３１から出射されるレーザ光り
は複数個の半透鏡（１６ａ）、 （１６ｂ）、 （１６
Ｃ）、 （１６ｄ）によって等出力に分配され、複数個
の集光レンズ（１８ａ）、 （ｘｓｂ）、 （１８ｃ）
、 （１８ｄ）によっテそれぞれ集束されて複数本の光
ファイバ（２０ａ）、 （２０ｂ）、 （２０Ｃ）。
（２０ｄ）にビーム入射端（１９ａ）、 （１９ｂ）、
（１９Ｃ）、 （１９ｄ）から導かれる。そしてこの
複数本の光ファイバ（２０ａ）、 （２０ｂ）、 （２
０Ｇ）、 （２０ｄ）のビーム出射端（２１ａ）。
（１９Ｃ）、 （１９ｄ）から導かれる。そしてこの
複数本の光ファイバ（２０ａ）、 （２０ｂ）、 （２
０Ｇ）、 （２０ｄ）のビーム出射端（２１ａ）。
（２１ｂ）、 （２１Ｃ）、 （２１ｄ）から出射され
るレーザ光（１７ａ）。
るレーザ光（１７ａ）。
（１７ｂ）、 （１７Ｃ）、 （１７ｄ）は、複数個の
コリメートレンズ（２２ａ）、 （２２ｂ）、 （２２
Ｃ）、 （２２ｄ）によってそれぞれ平行に整形されて
マーキング用マスク（１４）のマスクエリア回内のマス
クパターンＣ４）を透過して結像レンズ霞に入射し、被
マーキング部材（Ｗ）上に上記マーキング用マスクＩの
マスクパターン（ハ）を結像してマーキングする。この
とき、上記複数本の光ファイバ（２０ａ）、 （２０ｂ
）、 （２０ｃ）、 （２０ｄ）と上記複数個のコリメ
ートレンズ（２２ａ）、 （２２ｂ）、 （２２Ｃ）、
（２２ｄ） Ｃ７）位置や傾きを調整することにより
第２図（ａ）に示すように上記マーキング用マスク１面
での上記レーザ光（１７ａ）、 （１７ｂ）、 （１７
Ｃ）、 （１７ｄ）の重ね合せ代（２５ａ）。
コリメートレンズ（２２ａ）、 （２２ｂ）、 （２２
Ｃ）、 （２２ｄ）によってそれぞれ平行に整形されて
マーキング用マスク（１４）のマスクエリア回内のマス
クパターンＣ４）を透過して結像レンズ霞に入射し、被
マーキング部材（Ｗ）上に上記マーキング用マスクＩの
マスクパターン（ハ）を結像してマーキングする。この
とき、上記複数本の光ファイバ（２０ａ）、 （２０ｂ
）、 （２０ｃ）、 （２０ｄ）と上記複数個のコリメ
ートレンズ（２２ａ）、 （２２ｂ）、 （２２Ｃ）、
（２２ｄ） Ｃ７）位置や傾きを調整することにより
第２図（ａ）に示すように上記マーキング用マスク１面
での上記レーザ光（１７ａ）、 （１７ｂ）、 （１７
Ｃ）、 （１７ｄ）の重ね合せ代（２５ａ）。
（２５ｂ）、 （２５Ｃ）を調整し、第２図（ｂ）に示
すようなほぼ均一な強度分布曲＆ （ＩＩ）を得ること
ができる。
すようなほぼ均一な強度分布曲＆ （ＩＩ）を得ること
ができる。
他の実施例として第３図（ａ）に、さらに多くの半透鏡
、集光レンズ、光ファイバ、コリメートレンズを用いて
マーキングエリア四を有するマ・−キング用マスク（５
）をレーザ光で照射したときのマーキング用マスク（５
）面でのレーザ光の重ね合せ代の状態を示す。この実施
例においても光７アイ、ｆとコリメートレンズの位置や
傾きを調整することによリレーザ光の上ね合せ代をｖ！
４整でき、第３図（ｂ）に示すようにほぼ均一な強度分
布曲線（ＩＩＩ）を得ることができる。
、集光レンズ、光ファイバ、コリメートレンズを用いて
マーキングエリア四を有するマ・−キング用マスク（５
）をレーザ光で照射したときのマーキング用マスク（５
）面でのレーザ光の重ね合せ代の状態を示す。この実施
例においても光７アイ、ｆとコリメートレンズの位置や
傾きを調整することによリレーザ光の上ね合せ代をｖ！
４整でき、第３図（ｂ）に示すようにほぼ均一な強度分
布曲線（ＩＩＩ）を得ることができる。
さらに他の実施例として第４図に示すように、マーキン
グ用マスク（ハ）のマスクエリア圏内で、マスクパター
ンがマスクエリア四内の左右両側に片よって配置されて
いる場合においても、光ファイバ（３０ａ）、 （３０
ｂ）とコリメートレンズ（３１ａ）、 （３１ｂ）の位
置や傾きを調整することによりレーザ光（３２ａ）。
グ用マスク（ハ）のマスクエリア圏内で、マスクパター
ンがマスクエリア四内の左右両側に片よって配置されて
いる場合においても、光ファイバ（３０ａ）、 （３０
ｂ）とコリメートレンズ（３１ａ）、 （３１ｂ）の位
置や傾きを調整することによりレーザ光（３２ａ）。
（３２ｂ）をマスクパターンの部分だけＫＭｔ’！射す
ることも可能で、レーザ光のエネルギーを有効に利用す
ることができる。
ることも可能で、レーザ光のエネルギーを有効に利用す
ることができる。
これら上記実施例のレーザマーキング用光学系をレーザ
マーカに搭載した場合、例えば讃送路に結像レンズｕ９
を対面して配置し、搬送手段により搬送されて米た被マ
ーキング部［（Ｗ）が所定位置に到達した時、制御部か
らＹＡＧレーザ発振器αＪに信号を送信することにより
、 。
マーカに搭載した場合、例えば讃送路に結像レンズｕ９
を対面して配置し、搬送手段により搬送されて米た被マ
ーキング部［（Ｗ）が所定位置に到達した時、制御部か
らＹＡＧレーザ発振器αＪに信号を送信することにより
、 。
−＋１中
＋ｔ−１−。
モ娑≠＃ミ目マスクＱ４）のパターンが被マーキング部
材■表面に印される。
材■表面に印される。
本発明によれば、マーキング用マスク面上でのレーザ光
の強度分布は大幅に改善されほぼ均一な強度分布が得ら
れるため被マーキング部材にマーキングを施こした場合
にも文字等に欠けや薄れのない高品質なマーキングをす
ることが可能となる。
の強度分布は大幅に改善されほぼ均一な強度分布が得ら
れるため被マーキング部材にマーキングを施こした場合
にも文字等に欠けや薄れのない高品質なマーキングをす
ることが可能となる。
また、本発明のように複数本の光ファイバによるレーザ
光の伝送は、マーキング用マスク面上でのレーザ光の強
度分布の改善策として有効なだけでなく、１本の光ファ
イバでの伝送が困難な高出力のレーザ光でも、複数本の
光ファイバにそのパワーを分散させることにより伝送可
能なパワーにまで低下させ伝送可能にすることができる
。
光の伝送は、マーキング用マスク面上でのレーザ光の強
度分布の改善策として有効なだけでなく、１本の光ファ
イバでの伝送が困難な高出力のレーザ光でも、複数本の
光ファイバにそのパワーを分散させることにより伝送可
能なパワーにまで低下させ伝送可能にすることができる
。
また、第４図に示すように、レーザ光のエネルギーをマ
ーキングに有効に費やすことができるので、低出力での
マーキングが可能であり、レーザのポンピング源である
フラッシ二ランプの長寿命化や、レーザ電源の小型化等
が可能となる。
ーキングに有効に費やすことができるので、低出力での
マーキングが可能であり、レーザのポンピング源である
フラッシ二ランプの長寿命化や、レーザ電源の小型化等
が可能となる。
さらに、光学系の一部に光ファイバと用いた恵め自由度
の商い光路が得られるようになるので、光学系配置の自
由度を大幅に増すことが可能となる。
の商い光路が得られるようになるので、光学系配置の自
由度を大幅に増すことが可能となる。
第１図ないし第４図は本発明の詳細な説明図で、第１図
はその一実施例であるレーザマーキング用光学系の構成
を示す図、ム″ｃ２図（ａ）はマーキング用マスクＱ４
１のマスクエリア（ハ）におけるレーザ光の１ね合せ状
態を示す図、第２区（ｂ）は第２図（ａ）の状態におけ
るレーザ光の強度分布を示す図、第３図（ａ）は他の実
施例におけるマーキング用マスク助のマスクエリア（至
）におけるレーザ光の重ね合せ状）法を示す図、Ｍ３図
（ｂ）は第３図（ａ）の状態にＳけるレーザ光の強度分
布を示す図、第４図は他の実施例に一部 オケルマーキング用マスク（至）のマスクエリホシ鐘に
おけるレーザ光の逼ね合せ状態を示す図、第５図は従来
例であるレーザマーキング用光学系の構成を示す図、第
６図は第５図のマーキング用マスク（力のマスクエリア
顛におけるレーザ光の状態を示す図、第７図（ａ）は第
６図におけるレーザ光断面を整形した図、第７図（ｂ）
は第７図（ａ）の状態におけるレーザ光の強度分布を示
す図である。 （１３・・・ＹＡＧレーザ発振器 α滲・・・マーキング用マスク （Ｌ５）・・・結像レンズ （１６ａ）、 （１６ｂ）、 （１６ｃ）、 （１６ｄ
）−・・半透鏡（１８ａ）、 （１８ｂ）、 （１８Ｃ
）、 （１８ｄ） −・・集光レンズ（２０ａ）、 （
２０ｂ）、 （２０Ｃ）、 （２０ｄ） ・・・光７フ
イパ（２２ａ）、 （２２ｂ）、 （２２Ｃ）、 （２
２ｄ）−：＝ｒリメートレンス（Ｗ）・・・被マーキン
グ部材 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男 第２図 し−サ゛光 ノ□ 第３図 １４図 第５１！！ マスク 第 ７ 図
はその一実施例であるレーザマーキング用光学系の構成
を示す図、ム″ｃ２図（ａ）はマーキング用マスクＱ４
１のマスクエリア（ハ）におけるレーザ光の１ね合せ状
態を示す図、第２区（ｂ）は第２図（ａ）の状態におけ
るレーザ光の強度分布を示す図、第３図（ａ）は他の実
施例におけるマーキング用マスク助のマスクエリア（至
）におけるレーザ光の重ね合せ状）法を示す図、Ｍ３図
（ｂ）は第３図（ａ）の状態にＳけるレーザ光の強度分
布を示す図、第４図は他の実施例に一部 オケルマーキング用マスク（至）のマスクエリホシ鐘に
おけるレーザ光の逼ね合せ状態を示す図、第５図は従来
例であるレーザマーキング用光学系の構成を示す図、第
６図は第５図のマーキング用マスク（力のマスクエリア
顛におけるレーザ光の状態を示す図、第７図（ａ）は第
６図におけるレーザ光断面を整形した図、第７図（ｂ）
は第７図（ａ）の状態におけるレーザ光の強度分布を示
す図である。 （１３・・・ＹＡＧレーザ発振器 α滲・・・マーキング用マスク （Ｌ５）・・・結像レンズ （１６ａ）、 （１６ｂ）、 （１６ｃ）、 （１６ｄ
）−・・半透鏡（１８ａ）、 （１８ｂ）、 （１８Ｃ
）、 （１８ｄ） −・・集光レンズ（２０ａ）、 （
２０ｂ）、 （２０Ｃ）、 （２０ｄ） ・・・光７フ
イパ（２２ａ）、 （２２ｂ）、 （２２Ｃ）、 （２
２ｄ）−：＝ｒリメートレンス（Ｗ）・・・被マーキン
グ部材 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男 第２図 し−サ゛光 ノ□ 第３図 １４図 第５１！！ マスク 第 ７ 図
Claims (1)
- レーザ発振器と、所定のパターンが形成されたマーキン
グ用マスクと、上記レーザ発振器から出射されるレーザ
光の光軸上に配設される複数個の半透鏡、上記複数個の
半透鏡による反射光に相対する位置に配置された複数個
の集光レンズ、上記複数個の集光レンズに相対する入射
端を有する複数本の光ファイバ、上記複数本の光ファイ
バの出射端に相対する複数個のコリメートレンズとを上
記レーザ発振器と上記マーキング用マスクとの間に上記
レーザ発振器側から順次同一光軸上に配設し、上記マー
キング用マスクの前方に結像レンズを設けたことを特徴
とするレーザマーキング用光学系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62009011A JPS63177982A (ja) | 1987-01-20 | 1987-01-20 | レ−ザマ−キング用光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62009011A JPS63177982A (ja) | 1987-01-20 | 1987-01-20 | レ−ザマ−キング用光学系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63177982A true JPS63177982A (ja) | 1988-07-22 |
Family
ID=11708709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62009011A Pending JPS63177982A (ja) | 1987-01-20 | 1987-01-20 | レ−ザマ−キング用光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63177982A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5365032A (en) * | 1992-01-27 | 1994-11-15 | Optec Gesellschaft Fur Optische Technik Mbh | Method of cutting by means of laser radiation |
| US5841101A (en) * | 1994-12-27 | 1998-11-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Method used in manufacturing a workpiece using a plurality of spaced apart mask patterns |
| US6114654A (en) * | 1996-06-07 | 2000-09-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Split-beam laser apparatus for making a nozzle member |
-
1987
- 1987-01-20 JP JP62009011A patent/JPS63177982A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5365032A (en) * | 1992-01-27 | 1994-11-15 | Optec Gesellschaft Fur Optische Technik Mbh | Method of cutting by means of laser radiation |
| US5841101A (en) * | 1994-12-27 | 1998-11-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Method used in manufacturing a workpiece using a plurality of spaced apart mask patterns |
| US6114654A (en) * | 1996-06-07 | 2000-09-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Split-beam laser apparatus for making a nozzle member |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6611382B2 (en) | Illuminating apparatus | |
| JPH1082971A (ja) | レーザ放射光の均質化および複数の照明フィールドの生成のための光学装置 | |
| US6421159B1 (en) | Multiple beam laser marking apparatus | |
| JPH08327942A (ja) | レーザビームから鮮鋭な照射線を生成する光学装置 | |
| JP3689490B2 (ja) | ノズル部材の製造方法及びそれを用いた加工装置 | |
| KR100404297B1 (ko) | 레이저빔을균질화하기위한광섬유장치 | |
| JP2000330050A5 (ja) | ||
| JPS63177982A (ja) | レ−ザマ−キング用光学系 | |
| JPS63142316A (ja) | 半導体レ−ザアレイ光源装置及び同光源装置を使用したレ−ザスキヤナ | |
| KR20160096695A (ko) | 파이버 어레이 라인 발생기 | |
| AU725154B2 (en) | Method and apparatus for laser imaging with multi-mode devices and optical diffusers | |
| JPH08338962A (ja) | ビームホモジナイザ及びレーザ加工装置 | |
| JP4191334B2 (ja) | 精密可変型長尺ビーム光学系 | |
| CA2169865C (en) | Optical reflection sensing arrangement for scanning devices | |
| JP2002244078A (ja) | レーザ光学系とレーザ加工装置 | |
| JP3530769B2 (ja) | 照明装置及びそれを用いた光加工機 | |
| JP3673255B2 (ja) | レーザ加工方法及びレーザ加工装置 | |
| JPH03184687A (ja) | レーザ加工装置 | |
| JP3406946B2 (ja) | 照明光学系およびこれを用いた光学装置ならびにその光学装置を用いたデバイス製造方法 | |
| JPS63192584A (ja) | レ−ザマ−キング用マスク | |
| JPH02297986A (ja) | ビームの均一化方法並びに均一化したビームの伝送装置および照射装置 | |
| WO2021125141A1 (ja) | レーザ照射装置 | |
| WO2023171837A1 (ko) | 레이저 빔의 균질도가 향상된 레이저 가공 시스템 | |
| JP4282103B2 (ja) | レーザマーキング装置 | |
| JP3213884B2 (ja) | レーザドリル装置 |