JPS63175684A - 回転式洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 く技術分野〉 本発明は、切断機等に装備される回転式洗浄装置に関す
る。

く背景技術及びその問題点〉 周知の如く、光学的又は磁気的記憶媒体として、円環状
板形状の所謂光又は磁気ディスクが広く実用に供されて
いる。かかる光又は磁気ディスクの基板は、近似におい
ては、ガラスから形成することが提案され実用に供され
るようになってきた。

そして、基板を形成するための切断機として、本出願人
は、例えば特願昭６１−１３２６５５号公報に開示され
ているものを提案した。かかる切断機は、複数個のチャ
ック手段を備え、各チャック手段が材料搬入域、切断作
業域、材料搬出域及びチャック洗浄域に順次に位置付け
られる。材料搬入域において、板状材料がチャック手段
上に載置される。次いで、切断作業域において、チャッ
ク手段に載置された板状材料が切断ブレード装置の作用
によって所要の通り切断される。次に、材料搬出域にお
いて、切断された板状材料がチャック手段から搬出され
る。しかる後に、チャック洗浄域において、洗浄装置の
作用によってチャック手段の表面が所要の通り洗浄され
る。

しかし、かくの通りの切断機においては、各チャック手
段が間欠的に移動されることに起因して、洗浄装置とし
て例えば通常の回転ブラシ機構を用いたのではチャック
手段の表面を所要の通り洗浄することができないおそれ
がある。即ち、回転ブラシ機構として、所定の回転軸を
中心として回転されるブラシ部材を用いた場合には、ブ
ラシ部材の上記回転軸から離れた部位においては、ブラ
シ部材とチャック手段の表面の両者間の相対的速度差が
大きく、それ故にかかる部位はチャック手段の表面に充
分に作用するが、一方ブラシ部材の上記回転軸近傍の部
位においては、ブラシ部材とチャック手段の表面の両者
間の相対的速度差が小さく、それ故にこの部位はチャッ
ク手段の表面にあまり作用せず、従って、チャック手段
の上記回転軸近傍に対応する部位において洗浄不良が発
生するおそれがある。

〈発明の目的〉 本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主
目的は、静止している被洗浄物の表面をも所要の通り洗
浄することができる、例えば上述した形態の切断機に好
適に装備される優れた回転式洗浄装置を提供することで
ある。

〈発明の要約〉 本発明によれば、回転主軸と、該回転主軸を回転駆動す
るだめの回転駆動源と、該回転主軸に固定された支持部
材と、該支持部材に回転自在に装着され、該回転主軸に
対して間隔を置いて実質上平行に延びる回転支持軸と該
回転主軸の回転に起因する該回転支持軸の公転に応じて
該回転支持軸を自転せしめるための遊星運動機構と、該
回転支持軸に固定された洗浄手段とを具備する、ことを
特徴とする回転式洗浄装置が提供される。

〈発明の好適具体例〉 以下、添付図面を参照して、本発明に従って構成された
回転式洗浄装置の一具体例について説明する。尚、添付
図面においては、本発明に従う回転式洗浄装置を切断機
に適用している。

切断機の概要 第１図を参照して説明すると、図示の切断機は、実質上
鉛直に延びる（第１図において紙面に対して実質上垂直
に延びる）中心軸線３を中心として回転自在に装置本体
ｌ　（第２図においてその一部のみを示す）に装着され
た円盤から成る支持基台２を含んでいる。この支持基台
２上には、９０度の角度間隔を置いて４個の円形の材料
保持チャック手段４が配設されている。チャック手段４
の各々は、多孔性材料から形成れ、或いは表面に開口し
た複数個の孔が穿孔された中実材料から形成されており
、図示していないが、切換弁を含む連通ラインによって
真空源及び水供給源に接続されていて、上記切換弁によ
って真空源及び水供給源に選択的に連通せしめられる。

上記支持基台２は、適宜の伝動機構（図示していない）
を介して電動モータでよい間けつ移動手段６に駆動連結
されている。かかる間けつ移動手段６は、支持基台２を
矢印８で示す方向に９０度毎間けつ的に回転せしめる。

上記支持基台２上には、９０度の角度間隔を置いて、支
持基台２の矢印８で示す回転方向に見て順次に、材料搬
入域１０、切断作業域１２、材料搬出域１４及びチャッ
ク洗浄域１６が規定されている。第１図を参照すること
によって容易に理解される如く、上記移動手段６によっ
て支持基台２が９０度毎間けつ的に回転せしめられるこ
とにより、チャック手段４の各々は、材料搬入域１０、
切断作業域１２、材料搬出域１４及びチャック洗浄域１
６に順次に位置付けられる。

上記材料搬入域１０に関連せしめて、全体を番号１８で
示す材料搬入手段が設けられている。この材料搬入手段
１８は、鉛直方向に間隔を置いて複数枚の板状材料２０
を収納することができる収納カセットがｆ２置されるカ
セットＲ置台２２と、板状材料受台２４と、上記カセッ
ト載置台２２上に載置されている収納カセフトから板状
材料２゜を１枚毎受台２４上に供給する供給機構２６と
を含んでいる。カセットａ置台２２、その上に載置され
る収納カセフト、及び供給機構２６は、半導体ウェーハ
の裏面研削機等において一般に使用されている周知の構
成と実質上同一のものでよく、それ故に、これらの構成
及び作用についての説明は省略する。材料搬入手段１８
は、更に、支持アーム２８を含んでいる。この支持アー
ム２８は、実質上鉛直に延びる（第１図において紙面に
対して実質上垂直に延びる）旋回軸線３ｏを中心として
、実線で示す吸着位置と２点鎖線で示す離脱位置との間
を往復旋回動自在に、そしてまた実質上鉛直な方向に昇
降動自在に装着されている。支持アーム２８の自由端に
は、適宜の形態でよい真空吸着器３２が設けられている
。かかる真空吸着器３２は、図示していないが切換弁を
含む連通ラインを介して真空源に接続されており、上記
切換弁によって真空源に選択的に連通せしめられる。支
持アーム２８が実線で示す吸着位置に位置付けられると
、真空吸着器３２は上記受台２４上の板状材料２０の直
上に位置する。かがる状態において真空吸着器３２が真
空源に連通せしめられ、かくして真空吸着器３：が受台
２４上の板状材料２゜を真空吸着する。次いで、支持ア
ーム２８が所定距離上昇され、しかる後に２点鎖線で示
す離脱位置に旋回動され、次いで所定距離下降される。

かくすると、真空吸着器３２は上記材料搬入域１０に位
置付けられているチャック手段４の直上に位置する。か
かる状態において真空吸着器３２が真空源から切離され
、従って板状材料２０が真空吸着器３２から離脱されて
チャック手段４上に載置される。かくして、板状材料２
０が材料搬入域１０においてチャック手段４上に搬入さ
れる。しかる後に、支持アーム２８は、次の板状材料２
０の搬入のために、所定距離上昇され、次いで実線で示
す吸着位置に旋回動され、そして所定距離下降される。

上記切断作業域１２に関連せしめて、全体を番号３４で
示す切断ブレード’Ａ’ＩＩが配設されている。

かかる切断ブレード装置として、例えば本出願人の出願
に係る特願昭６１−１３２６５５号（名称：切断機）の
明細書及び図面に開示されているものを好適に用いるこ
とができる。

上記材料搬出域１４に関連せしめて、全体を番号３６で
示す材料搬出手段が設けられている。この材料搬出手段
３６は、上記材料搬入手段１８と実質上同一の構成でよ
く、鉛直方向に間隔を置いて複数枚の板状材料２０　（
後の説明から明ａ）かになる如く、かかる板状材料２０
は既に所要通りに切断されている）を収納することがで
きる収納カセットが載置されるカセット載置台３８と、
板状材料受台４０と、この板状材料受台４０から板状材
料２０を上記カセット載置台３８上に載置されている収
納カセフトに供給する供給機構４２を含んでいる。かか
るカセット載置台３８、その上に載置される収納カセッ
ト、及び供給機構４２も、半導体ウェーハの裏面研削機
等において一般に使用されている周知の構成と実質上同
一のものでよく、それ故に、これらの構成及び作用につ
いての説明は省略する。材料搬出手段３６は、更に支持
アーム４４を含んでいる。この支持アーム４４は、実質
上鉛直に延びる（第１図において紙面に対して実質上垂
直に延びる）旋回軸線４６を中心として、実線で示す吸
着位置と２点鎖線で示す離脱位置との間を往復旋回動自
在に、そしてまた実質上鉛直な方向に昇降動自在に装着
されている。支持アーム４４の自由端には、適宜の形態
でよい真空吸着器４８が設けられている。かかる真空吸
着器４８は、図示していないが切換弁を含む連通ライン
を介して真空源に接続されており、上記切換弁によって
真空源に選択的に連通せしめられる。支持アーム４４が
実線で示す吸着位置に位置付けられると、真空吸着器４
８は上記材料搬出域１４に位置付けられているチャック
手段４の直上に位置する。かかる状態において真空吸着
器４８が真空源に連通せしめられ、かくして真空吸着器
４８がチャック手段４上の板状材料２０（後の説明から
明らかになる如（、かかる板状材料２０は既に所要通り
に切断されている）を真空吸着する。次いで、支持アー
ム４４が所定距離上昇され、しかる後に２点鎖線で示す
離脱位置に旋回動され、次いで所定距離下降される。か
くすると、真空吸着器４８は上記受台４０の直上に位置
する。かかる状態において真空吸着器４８が真空源から
切離され、従って板状材料２０が真空吸着器４８から離
脱されて受台４０上に載置される。かくして、材料搬出
域１４におけるチャック手段４から板状材料２０が受台
４０上に搬出される。しかる後に、支持アーム４４は、
次の板状材料２０の搬出のために、所定距離上昇され、
次いで実線で示す吸着位置に旋回動され、そして所定路
１掘下降される。

更に、チャック洗浄行域６に関連せしめて、本発明に従
って構成された回転式洗浄装置５０が配設されている。

この回転式洗浄装置５０については、後述する。

かくの通りの切断機においては、支持基台２が矢印８で
示す方向に９０度毎間けつ的に回転せしめられることに
よって、チャック手段４の各々は、材料搬入域１０、切
断作業域１２、材料搬出域１４及びチャック洗浄域１６
に順次に位置付けられる。

材料搬入域１０においては、材料搬入手段１８の上述し
た通りの作用によって、図示していないが例えば゛ガラ
ス板を上方にテープを下方にせしめた状態で切断すべき
板状材料２０がチャック手段４上にＲ置される。しかる
後に、チャック手段４が真空源（図示していない）に連
通せしめられ、かくしてチャック手段４はその上に！！
２置された板状材料２０を充分強固に真空吸着する。

次いで、支持基台２が矢印８で示す方向に９０度回転せ
しめられることによって、板状材料２０を吸着したチャ
ック手段４が切断作業域１２に位置付けられる。切断作
業域１２においては、切断ブレード装置３４が下降して
テープに貼着されたガラス板に作用し、かくして、テー
プは完全に切断することなく非切断状態に維持し、これ
によって板状材料２０の一体性を維持するが、ガラス板
は下部に非切断部を残留せしめることなく完全に切断さ
れる。上記の通りにして板状材料２０の切断が終了する
と、切断ブレード装置３４が上昇せしめられて板状材料
２０から離隔せしめられる。

しかる後に、支持基台２が矢印８で示す方向に９０度回
転せしめられ、切断された板状材料２０を吸着している
チャック手段４は材料搬出域１４に位置付けられる。材
料搬出域１４に位置付けられると、チャック手段４が真
空′ａ（図示していない〉から離隔され、かくして板状
材料２０の　真空吸着が解除される。次いで、チャック
手段４が水供給ａ＜図示していない）に連通せしめられ
て、チャック手段４の表面に水が流出せしめられ、これ
によって板状材料２０が浮上せしめられる。しかる後に
、材料搬出手段３６の上述した通りの作用によって、切
断された板状材料２０がチャック手段４から段山される
。

次いで、支持基台２が矢印８で示す方向に９０度回転せ
しめられ、既に板状材料２０が除去されたチャック手段
４はチャック洗浄域１６に位置付けられる。そして、こ
のチャック洗浄域１６においては、後述する洗浄装置５
０の作用によってチャツク手段４自体から切屑等が除去
されてチャック手段４が洗浄される。また、この時点で
、チャック手段４は水供給源（図示していない）から切
離される。

しかる後に、支持基台２が矢印８で示す方向に９０度回
転せしめられ、洗浄されたチャック手段４は再び材料搬
入域１０に位置付けられる。そして、上述した通りの作
用が繰返される。

かかる切断機は、例えば、特願昭６１−１３２６５５号
（名称：切断機）の明細書及び図面に開示されているも
のと実質上同一であり、そ、Ｖｌ、故にその詳細につい
ては特願昭６１　１３２６５５号の明細書及び図面を参
照されたい。

回転式洗浄装置 次に、主として第２図及び第３図を参照°７て、チャッ
ク洗浄域１６に配設された洗浄装置う０について説明す
る。

図示の回転式洗浄装置５０は、洗浄手段として作用する
ブラシ手段５２を備え、このブラシ手段５２が遊星運動
機構５４の作用によって移動せしめられるようになって
いる。更に説明すると、装異本体１の一部には中空スリ
ーブ状の支持体５６が装着されており、この支持体５６
に主軸部材５８（回転主軸を構成し、その中心軸線を第
３図に番号６０で示す）が軸受６２を介して回転自在に
装着されている。上下方向に延びる主軸部材５８の一端
部（具体例において上端部）は支持体５６の上端壁６４
ａを貫通して上方に延び、その一端は回転駆動源を構成
する電動モータ６６に駆動連結されている。また、主軸
部材５Ｂの他端部（具体例において下端部）は支持体５
６の下端壁６４ｂを貫通して下方に延び、その突出する
他端部に支持部材６８が固定されている。支持部材６８
は半径方向外方に延びており、その外端部には上下方向
に延びる支持軸部材７０　（回転主軸に対して実質上平
行に延びる回転支持軸を構成し、その中心軸線を第３図
に番号７２で示す）が軸受７４を介して回転自在に装着
されている。支持軸部材７０の下端部は支持基１台２、
従ってチャック手段４に向けて延び、その下端には洗浄
手段を構成するブラシ手段５２が装着されている。具体
例におけるブラシ手段５２は、例えば合成樹脂材料から
形成することができる毛が植毛されたブラシ部材７６か
ら構成されており、図示の具体例では支持軸部材７０に
対して実質上垂直な方向に延在する一対のブラシ部材７
６を含み、一対のブラシ部材７６が相互に実質上垂直に
直線状に延びている。

かかるブラシ手段５２に関連して、次の通りに構成する
のが好ましい。即ち、第３図に示す如く、主軸部材５８
は、チャック洗浄域１６に位置するチャック手段４の略
中心にて上下方向に延び、支持軸部材７０は、チャック
手段４の中心と周縁との略中間にて上下方向に延び、一
対のブラシ部材７Ｇの各々は、夫々、支持軸部材７０　
（詳しくはその中心軸線７２）からその一端までの長さ
ｌがこの支持軸部材７０　（詳しくはその中心軸線７２
）と主軸部材５８（詳しくはその中心軸１１６０）との
間隔りよりも大きくなる（ＮＩＬ）ように構成するのが
好ましい。かく構成することにより、第３図から容易に
理解される如く、各ブラシ部材７６は後述する如く矢印
７８で示す方向に自転せしめられることによってチャッ
ク手段４の中心から周縁までの領域（第３図において一
点鎖線８０で囲まれた領域）に作用し、後述する如く矢
印８２で示す方向に公転せしめられることによってチャ
ック手段４の表面の全域に作用する。

図示の遊星運動機構５４は、静止歯車８４と可動歯車８
６の組合せから成る遊星歯車機構から構成されている。

尚、これに代えて、静止摩擦車と可動摩擦車の組合せか
ら成る遊星運動機構を用いることもできる。図示の具体
例において、静止歯車８４は支持体５６の下端部に固定
されている。

一方、可動歯車８６は支持軸部材７０の上端部に固定さ
れ、この可動歯車８６と静止歯車８４が噛合されている
。従って、主軸部材５８が矢印８２（第３図）で示す方
向に回転されると、支持部材６８及び支持軸部材７０を
介して、ブラシ手段５２が主軸部材５８を中心として矢
印８２で示す方向に公転される（従って、支持軸部材７
０　（詳しくはその中心軸線７２）は第３図に一点鎖線
８７で示す円形の軌跡を描きながら移動する）と共に、
かかる公転に起因して支持軸部材７０を中心として矢印
７８　（第３図）で示す方向に自転される。

具体例においては、更に、ブラシ手段５２に関連して、
カバー手段８８及び洗浄液供給手段９０が付設されてい
る。再び第２図を参照して、図示のカバー手段８８は、
チャック手段４よりも幾分大きい円形の支持取付部材９
２と中空筒環状のカバー部材９４を備えている。支持取
付部材９２は支持体５６の下端部（詳しくは、静止歯車
８４の装着部位より幾分上方の部位）に装着され、また
カバー部材９４は支持取付部材９２の外周縁に固定され
た上端からブラシ手段５２を包囲するように下方に延び
ている。また、洗浄液供給手段９０はカバー手段８８の
支持取付部材９２に設けられている。図示の洗浄液供給
手段９０は、支持取付部材９２に形成された環状の洗浄
液流路９６　（支持取付部材９２の上壁９８ａ及び下壁
９８ｂ間に規定されている）を備え、かかる洗浄液流路
９６が洗浄液供給源１００に連通されている。また、支
持取付部材９２の下壁９８ｂにはこれを貫通する複数個
の噴出開口１０２“が形成されている。かくの通りであ
るので、洗浄液供給源１００から洗浄液流路９６に供給
された水の如き洗浄液は、複数個の噴出開口１０２を通
してチャック洗浄域１６に位置するチャック手段４の表
面に供給される。

尚、洗浄’ｔＦｌ供給手段９０を、カバー手段８８に代
えて、各チャック手段４に設けるようにしてもよく、か
かる場合には、水の如き洗浄液はチャック手段４を通し
てその表面に供給される。

かかる構成の回転式洗浄装置５０の作用効果は次の通り
である。第２図及び第３図を参照して、電動モータ６６
が付勢されると、この電動モークロロの作用によって主
軸部材５８が矢印８２で示す方向に回転される。かくす
ると、上述した如く、ブラシ手段５２が主軸部材５８を
中心として矢印８２で示す方向に公転すると共に支持軸
部材７０を中心として矢印７８で示す方向に自転し、チ
ャック洗浄域１６に位置するチャック手段４の表面の全
域に作用し、かくしてチャック手段４の表面がブラシ手
段５２の作用によって所要の通り洗浄される（尚、この
洗浄時には、洗浄液が下壁９８ｂに形成された噴出開口
１０２を通してチャック手段４の表面に供給される）。

かかる洗浄時においては、支持軸部材７０、従ってブラ
シ手段５２の回転中心軸線が一点鎖線８７で示す通りの
円形の軌跡を描いて移動する故に、チャック手段４の表
面の実質上全域においてブラシ手段５２のブラシ部材７
６と十分な相対的速度差が得られ、これによってチャッ
ク手段４の表面を洗浄むらなく所要の通り洗浄すること
ができる。

以上、本発明に従って構成された回転式洗浄装置の一具
体例を添付図面を参照して説明したが、本発明はかかる
具体例に限定されるものではな（、本発明の範囲を逸脱
することなく種々の変形乃至修正が可能である。

例えば、具体例においては、ブラシ手段５２を全体とし
て十字状の一対のブラシ部材７６から構成しているが、
これに代えて、例えば直線状に延びる単一のブラシ部材
から構成することもでき、またＳ字状に延在するブラシ
部材から構成することもでき、Ｓ字状のブラシ部材を採
用した場合には、チャック手段４の表面の洗浄液等は、
その回転によって外側に効果的に排出されるようになる
。

また、例えば、具体例においては、支持基台２が実質上
静止している状態において洗浄装置５０がチャック手段
４の表面に作用する構成であるが、これに限定されるこ
となく、支持基台２が常時所定方向に移動する形態の切
断機、更にはその他の装置にも同様に適用することがで
きる。更に千とチャック手段の洗浄のみでなく、例えば
液加に物等の洗浄にも適用することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に従って構成された回転式洗浄装置の
一具体例を装備した切ＩＩｒ機の一例を示す前略平面図
。 第２図は、第１図の切断機における回転式洗浄装置を示
す切断図。 第３図は、第２図の回転式洗浄装置のブラシ手段の移動
を説明するための簡略説明図。 ２・・・・・・支持基台 ５０・・・・・・回転式洗浄装置 ５２・・・・・・ブラシ手段 ５４・・・・・・遊星運動機構 ５８・・・・・・主軸部材 ６０・・・・・・回転主軸 ６６・・・・・・電動モータ ６８・・・・・・支持部材 ７０・・・・・・支持軸部材 ７２・・・・・・回転支持軸 ７６・・・・・・ブラシ部材 ８８・・・・・・カバー手段 ９０・・・・・・洗浄液供給手段 第２図 手続補正書（自制 昭和６２年２月１３日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、回転主軸と、該回転主軸を回転駆動するための回転
   駆動源と、該回転主軸に固定された支持部材と、該支持
   部材に回転自在に装着され、該回転主軸に対して間隔を
   置いて実質上平行に延びる回転支持軸と、該回転主軸の
   回転に起因する該回転支持軸の公転に応じて該回転支持
   軸を自転せしめるための遊星運動機構と、該回転支持軸
   に固定された洗浄手段とを具備する、ことを特徴とする
   回転式洗浄装置。 ２、該洗浄手段は、ブラシ手段から構成されている特許
   請求の範囲第１項記載の回転式洗浄装置。 ３、該ブラシ手段は、該回転支持軸に対して実質上垂直
   な方向に延在するブラシ部材を含んでいる特許請求の範
   囲第２項記載の回転式洗浄装置。 ４、該ブラシ手段は、該回転支持軸に対して実質上垂直
   な方向に延在する一対のブラシ部材を含み、該一対のブ
   ラシ部材が相互に実質上垂直に直線状に延びている特許
   請求の範囲第３項記載の回転式洗浄装置。 ５、該ブラシ手段は、該回転支持軸に対して実質上垂直
   な方向に全体としてＳ字状に延在するブラシ部材を含ん
   でいる特許請求の範囲第３項記載の回転式洗浄装置。 ６、該ブラシ部材は、該回転支持軸からその一端までの
   長さが該回転支持軸と該回転主軸との間隔よりも大きく
   なるように構成されている特許請求の範囲第３項乃至第
   ５項のいずれかに記載の回転式洗浄装置。 ７、該洗浄手段に関連してカバー手段が付設され、該カ
   バー手段には更に洗浄液供給手段が設けられている特許
   請求の範囲第１項から第６項までのいずれかに記載の回
   転式洗浄装置。 ８、該カバー手段は、支持取付部材と該支持取付部材か
   ら該洗浄手段を包囲するように筒環状に延びるカバー部
   材とを有し、該洗浄液供給手段は、該支持取付部材に形
   成され且つ洗浄液供給源に連通された洗浄液流路と該洗
   浄液流路内の洗浄液を該洗浄手段に向けて噴出する噴出
   開口から構成されている特許請求の範囲第７項記載の回
   転式洗浄装置。 ９、該遊星運動機構は、静止歯車と該回転支持軸に固定
   され且つ該静止歯車に噛合された可動歯車から成る遊星
   歯車機構から構成されている特許請求の範囲第１項から
   第８項までのいずれかに記載の回転式洗浄装置。