JPS63175659A - 消毒液噴霧システム - Google Patents

消毒液噴霧システム

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JPS63175659A
JPS63175659A JP523687A JP523687A JPS63175659A JP S63175659 A JPS63175659 A JP S63175659A JP 523687 A JP523687 A JP 523687A JP 523687 A JP523687 A JP 523687A JP S63175659 A JPS63175659 A JP S63175659A
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JP
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gas
disinfectant
tank
nozzles
nozzle
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Toshio Yamamoto
山本 利雄
Ryuzo Ueno
隆三 上野
Yatsuka Fujita
藤田 八束
Tomoo Fujigami
藤上 朝生
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Ueno Fine Chemicals Industry Ltd
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Ueno Fine Chemicals Industry Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、一般に消毒液噴霧システムに関し、特に食品
工場や厨房室等、衛生管理か厳しく要求されるルームの
滅菌消毒をするための消毒液噴霧システムに関し、殊に
、夜間無人となったこの種のルーム全体を自動的に消毒
作業を行う消毒液噴霧システムに関する。
従来技術 この種の噴霧システムは従来より知られている。
従来公知のシステムによれば、消毒すべきルーム内に二
流体ノズルを適宜分散配置すると共に、各ノズルにガス
ボンベ並びに消毒液タンクを接続ラインで接続し、自動
制御手段により、その設定プログラムに従って、各ノズ
ルから自動的に消毒液を噴霧するようになっている。
ところが、上記従来システムには次の2つの問題がある
第1の問題は消毒液供給システムであり、第2の問題は
各ノズル使用システムである。
第1の問題に関して従来システムを詳述すれば、従来の
システムにおいては、ルーム内所定位置に汚ノズルに対
応して複数個の消毒液タンクが分散配置されるようにな
っている。つまり、各ノズルに対する消毒液の供給は分
散供給方式となっている。一方、ガスについては1ケ所
に集中的に設置されたガスボンベから各ノズルにライン
接続するようになっている。そして、消毒液のノズルに
対する供給方式は、いわゆる液吸い上げ方式になってお
り、消毒液はノズルに対して強制圧送はされていない。
ところが、このような消毒液供給システムであると、複
数個の消毒液タンクがルーム内に分散しているため、ル
ーム内の複数個の位置にタンク設置場所を確保する必要
があり、これはスペース的に非常に不利である。また、
各消毒液タンクに対する液補給は各タンク毎に行わねば
ならず、従って手数がかかるという不具合がある。
前記の第2の問題は、各ノズルを同時的に噴霧するとこ
ろにある。すなわち、ルーム内に分散配置された全ての
ノズルを同時噴霧させると、当然、ノズル本数に従って
ガスボンベに対する負荷が大きくなるため、谷ノズルに
ガスを安定供給するためには、ボンベ自体を大型化せざ
るを得ない。一般的には、できるだけ相対的に小型のガ
スボンベが使用できることが好ましい。尚、さらに、液
吸い上げ方式の場合には、ガス圧が高ずぎると、噴霧が
安定しないことにもなる。
本発明の技術的課題 従って、本発明の解決すべき技術的課題は、各消毒液噴
霧ノズルに対するガス供給を1ケ所に集中配置されたガ
スボンベから行うことは勿論のこと、これと同時に、消
毒液についても1つの消毒液タンクから各ノズルにライ
ン供給するようにし、つまり、消毒液の集中供給方式と
することにより、複数個の分散消毒液タンクを不要なら
しめると共に、複数個のノズルの消毒液噴霧を時間帯的
に分割した噴霧方式として、ガスボンベの負荷を小なら
しめ、これにより相対的に小型のガスボンベの使用を可
能にすることである。
発明の開示(発明の構成・作用・効果)上記技術的課題
を解決するために本発明は以下のように構成した。
すなわち、1ケ所に集中配置される複数個のガスボンベ
と、各ガスボンベのガス排出口に接続されるガス供給口
を上部にfTする一方液排出口を所定部位、一般的には
下部、に何する消毒液タンクと、消毒すべきルームにユ
ニット毎に分散配置され、かっ、夫々、各ガスボンベの
ガス供給口に接続されるガス流路と夫々消毒液タンクの
液排出口に接続される液流路とを有する複数個の二流体
式消毒液噴霧ノズルと、各噴霧ノズルへガス供給するガ
スボンへを所定時間毎に1個づつ順次切り換えていくと
ともに、消毒液を噴霧する噴霧ノズルをユニット毎にか
つ所定時間毎に切り換えていく自動制御手段とを備えた
ことを特徴としている。
上記構成によれば、1つの消毒液タンクから各ユニット
の各消毒液噴霧ノズルに消毒液を供給するように構成し
ているため、消毒液タンクは基本的には1つ亭備すれば
よい。従って、前記した従来例に比較すれば、消毒液タ
ンクの設置に関してスペース的に有利であり、かつ消毒
液タンクを1ケ所で管理できて、消毒液の補給が容易で
ある。
また、消毒液噴霧ノズルは、各ユニット毎に切換運転を
するようにシステム構成しているため、ガスボンベは、
」−記従来例と比較すれば相対的に小型化できる。
寒資脛 以下に、第1図に示した実施例について詳細に説明する
本実施例に係る消毒液噴霧システムの基本構成は次のよ
うになっている。すなわち、このシステムは、1ケ所に
集中配置される複数個のガスボンベB、、B、、B、と
、各ガスボンベB、、B2.B、のガス排出口に接続さ
れるガス供給口を上部に何する一方液排出口を下部に有
する消毒液タンク5と、消毒すべきルームにユニット毎
に分散配置され、かつ、夫々、各ガスボンベB 0. 
B t 、 B3のガス供給口に接続されるガス流路と
夫々消毒液タンク5の液排出口に接続される液流路とを
有する複数個の二流体式消毒液噴霧ノズル9a、 9b
; 10a、 10b;l la、I Ib;12a、
l 2bと、各噴霧ノズル9a。
9b;I Oa、I Ob;l Ia、l Ib;I 
2a、I 2bヘガス供給するガスボンベI3 l、 
B t 、 B 3を1個づつ所定時間毎に順次切り換
えていくとともに、消毒液を噴霧する噴霧ノズル9a、
9b;10a、10b;11a、 11b; I 2a
、 I 2bをユニット毎にかつ所定時間毎に切り換え
ていく自動制御手段とを備えている。
次に、さらに詳細な構成を以下に説明する。
先ず、ガスボンベB 1. H2、I33については、
その本数は消毒液の噴霧運転時間に応じて設定される。
ここで使用されるガスは不燃性ガス例えば炭酸ガスや窒
素ガス等が好ましく、そのガス圧は、通常、l0kg/
cm3程度以上に設定される。
各ガスボンベB 2. B t 、 B sのガス排出
口はガス導出ライン14a、14b、14c並びにメイ
ンガスライン!4−1により加熱タンク2に接続される
そして、メインガスライン14−1は加熱タンク2を経
て分岐点Oにおいて2つの分岐ライン14−2.14−
3に分岐される。そして、一方の分岐ガスライン14−
2は各噴霧ノズル9a、9b〜12a、12bに導かれ
る。一方、今1つの分岐ライン14−3は消毒液タンク
5の上部ガス供給口に導かれる。
上記した、各ガス導出ライン14a、14b、14Cに
は電磁バルブV、−V3が接続されており、またこれら
の谷電磁バルブv1〜V3は圧カスイッヂlに接続され
ている。各ガスボンベB、、13..[33は同時的に
ガス供給されるのではなく1個ずつ使用され、圧力スイ
ッチ1並びに図示しない制御手段により、一方のガスボ
ンベB、から順に所定時間毎に切り換えられて使用され
る。つまり、1つのガスボンベB1の圧力が所定圧まで
低下した時点で次のガスボンベB2に切り換えられる。
尚、各ガス導出ラインI 4a、 14b、 14cに
は、各ガスボンベB、、132.B3の圧力を表示する
ための圧力ゲージ13が備えられている。
加熱タンク2は水槽型タンクであって、図示するように
、メインライン14a−1はこの加熱タンク2内を蛇行
するように配置している。この加熱タンク2にはヒータ
3や温度センサー4が備えられている。そして、ヒータ
3により加熱された水が所定温度になったとき、温度セ
ンサー4より、加熱停止信号がヒータ3に対して送られ
る一方、第1ガスボンベBIに対応する電磁バルブ■1
を開弁するためのスタート信号を送るように構成されて
いる。
さらに、この加熱タンク2には液面レベルセンサー7が
備えられており、このセンサー7は給水ライン14dに
装着された電磁バルブV4に接続されている。従って、
加熱タンク2内の水または温水が基準レベル以下になっ
た場合には、この液面レベルセンサー7により給水信号
か電磁バルブV4に送られ、この電磁バルブV4は開弁
する。従って、給水ラインより自動的に水が加熱タンク
2内に供給される。そして、タンク2内の水か所定レベ
ルまで上昇したときには、センサー7より給水停止信号
が電磁バルブv4に送られ、この電磁バルブV、は閉じ
られる。
メインガスライン14−1の、タンク2と分岐点Oとの
間には、上流側より、圧力ゲージ13を存する圧力調整
弁(又は圧力調整器)V2゜、開閉弁V 30.安全圧
力スイッチ15およびヂヱック弁V4oを接続している
。メインライン14−■の圧力か異常に上昇した場合に
は、これが安全圧力スイツチ15に検知され、システム
全体が停止されるようになっている。
消毒液タンク5は、例えば、ガスボンベB。
[3t 、 B 3と同じ場所に設置される。この消毒
液タンク5内に供給される消毒液は揮発性消毒液、例え
ばアルコール、である。この消毒液タンク5に至る分岐
ガスライン14−3には、圧力ゲージ付き圧力調整弁2
1が装着されており、この圧力調整弁により、消毒液タ
ンク5内の圧力を調整するようになっている。図中8は
液面レベル計であって、その上部は分岐ガスライン14
−3に接続される一方、その下部は、消毒液タンク5の
排・出口に接続される送液ライン14−4に接続されて
おり、常時消毒液タンク5内の液面レベルを可視的に表
示している。図中6は消毒液補給トレーであって、この
トレー6を介して消毒液がタンク5内に補給される。こ
の消毒液タンク5には、圧力ゲージ13並びに安全弁■
、。が装着されている。この安全弁’V’soにより、
タンク5内の圧力の異常上昇が防止される。尚、本実施
例では、トレー6に消毒液を手動で供給するようにして
いるが、別の消毒液タンクから上記タンク5にポンプに
より自動的に定量供給するように構成してもよい。
上記した複数個の二流体式消毒液噴霧ノズル9a、9b
=l 2a、I 2bは、適当な支持装置により、消毒
すべきルームの分割ゾーンに対応してユニット[、[1
,III、IV毎に配置される。そして各ユニットは一
対のノズルより構成されている。
分岐ガスライン14−2と各ノズルとの接続は次のよう
になっている。すなわち、分岐ガスライン14−2は各
ユニットI〜Inにサプライン14−2a、14−2b
、14−2c、14−2dに分岐しており、これらの6
ザブラインは、さらに、末端ラインCとDとに分岐して
いる。そして、各ユニットにおいて、末端ラインCは一
方のノズル9b、 I Ob、 l lb、 I 2b
、のガス流路に接続されている。一方、末端ラインDは
、各ユニットにおける今1−)のノズル9a、 I O
a、 I I a、 l 2a、のガス流路に接続され
ている。
一方、消訂液タンク5の排出口からチェック弁V4Gお
よび定量供給弁VaOを介して導かれる送液ライン14
−4と各ノズルとの接続は次のようになっている。
すなわら、送液ライン14−4は各ユニットに対応して
サプライン14−4a、[4−4b、14−4c、14
−4dに分岐しており、さらに、これらの各サプライン
は末端ラインA、Hに夫々分岐している。そして、各そ
の末端ラインAは各ユニットの一方のノズル9b、10
b、1 lb、12bの液流路に接続しており、一方、
今1つの末端ラインBは各ユニットの他方のノズル9a
、10a、I la、12a、のガス流路に接続してい
る。
ここに使用される各ノズルは10ミクロン以下の超@粒
子を発生せしめることのできる超微粒子噴霧用ノズルを
使用することが好ましい。
上記した、ガス用サプライン14−2a〜14−2dお
よび成用サプライン14−4a−14−4dのいずれに
も各電磁バルブV、〜V12が接続されている。また、
各ガス用サプラインには圧力ゲージ付各圧力調整弁V、
。〜V25が接続されている。
さらに、ガス用および成用の各末端ラインには夫々各開
閉弁V3o、定量供給弁VSOが接続されている。ここ
で、成用の開閉弁は、各対応ノズルに対する液の供給量
を微調整するためにニードル弁を使用することか好まし
い。
尚、図中V3(1はすべて開閉弁を示し、適宜所定のラ
インに接続される。
本実施例に係る消毒液噴霧システムの構成は上記の通り
であるが、この構成のシステムの操作要領並びに制御態
様を以下に詳述する。
先ず、制御手段に含まれる24時間タイマー(図示せず
)をオンとする。これによりヒータ3がオンにされる。
これにより、ヒータ3が発熱して加熱タイマー2内の水
の温度が上昇せしめられる。
加熱タンク2内の水が所定温度になったとき、温度セン
サー4によりこれが検知され、この温度センサー4より
ヒータ3に加熱停止信号が送られろ一方、第1ガスボン
ベB1に対応する電磁バルブv1に対してスタート信号
つまり開弁信号が送られる。第1ガスボンベB、より供
給されるガスは加熱タンク2内に導かれて十分加熱され
、つまり十分蒸気化された上で、消毒液タンク5並びに
各ノズルに供給されることになる。
次いで、第1ルームの第1ゾーンに配置されている第1
ユニツトlの各ノズル9 a、 9 bに対応する電磁
バルブV s 、 V 11が開弁される。これら一対
の電磁弁V s 、 V aは殆ど同時的に開かれるが
、厳密に言えば、ガス供給用の電磁弁V、の方が液供給
用電磁弁V、より1秒程度遅れて開かれる。これは、液
をガスより早く各ノズルに供給しておく方が各ノズルの
噴霧初期時の噴霧が良好となるからである。このように
して、先ず、自動制御手段に含まれるタイマーにプログ
ラムされた所定の時間帯の間、第1ユニツトIの一対の
ノズル9a、9bによりルームの第1ゾーンの消毒が行
われる。
ここで、仮に、第1ガスボンベB1のガス消費が進行し
た結果として所定圧以下に圧力降下した際には、これを
圧力スイッチlが検知して、電磁バルブ■1を閉じる一
方次のガスボンベV、の電磁弁V、を開弁する。このよ
うにして、順次1つずつガスボンベが開弁されていく。
第1ユニツト■による噴霧が所定のプログラム時間噴霧
されれば、この自動制御手段に含まれるタイマーにより
、次の第2ユニツトHの一対のノズル10a、lObに
対応する電磁バルブV、、Vllが開弁される一方、第
1ユニツトの電磁バルブVs。
v6が閉じられる。このようにして、次のプログラム時
間帯の間第2ユニツトの一対のノズル10a、10bよ
り消毒液が噴霧されることになるのである。このように
して、順次第3ユニット■、第4ユニツト■の各ノズル
が順次消毒液噴霧を行うように制御される。
以上説明したように、本実施例によれば、消毒液タンク
は1つでよく、従って、消毒液タンクの液hli給や管
理が極めて容易である上、また複数個のガスボンベは同
時的に使用されるのでなく、順次切り換えて使用されて
いくため、1本のガスボンベを相対的に小型化すること
ができる利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例にかかる消毒液噴霧システム
を示す線図である。 1・・・圧力スイッチ、2・・・加熱タンク、3・・ヒ
ータ、4・・・温度センサー、5・・・消毒液タンク、
6・・・消毒液補給トレー、7・・・液面レベルセンサ
ー、8・・・液面レベル計、9a、9b= l 2a、
 I 2b・・・ノズル、+3・・・圧力ゲージ、14
−1・・・メインガスライン、+4−2.14−3−・
・分岐ガスライン、14−2a〜14−2d・・・サプ
ライン、14−4・・・送液ライン、14−4a〜14
−4d−サプライン、14a。 14b、14c・・・ガス導出ライン、14r・・・給
液ライン、B1〜B、・・・ガスボンベ、■、〜Vl!
・・電磁弁、■、。〜VH・・・圧力調整弁、Vso・
・・開閉弁、V46・・・チェック弁、■、。・・・安
全弁、VB。・・・定量供給弁、A 、 B 、 C、
D・・・末端ライン。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、1ケ所に集中配置される複数個のガスボンベ(B_
    1、B_2、B_3)と、 各ガスボンベ(B_1、B_2、B_3)のガス排出口
    に接続されるガス供給口を上部に有する一方、液排出口
    を所定部位に有する消毒液タンク(5)と、消毒すべき
    ルームにユニット毎に分散配置され、かつ、夫々、各ガ
    スボンベ(B_1、B_2、B_3)のガス供給口に接
    続されるガス流路と夫々消毒液タンク(5)の液排出口
    に接続される液流路とを有する複数個の二流体式消毒液
    噴霧ノズル(9a、9b;10a、10b;11a、1
    1b;12a、12b)と、各噴霧ノズル(9a、9b
    ;10a、10b;11a、11b;12a、12b)
    へガス供給するガスボンベ(B_1、B_2、B_3)
    を所定時間毎に1個づつ順次切り換えていくとともに、
    消毒液を噴霧する噴霧ノズル(9a、9b;10a、1
    0b;11a、11b;12a、12b)をユニット毎
    にかつ所定時間毎に切り換えていく自動制御手段とを備
    えたことを特徴とする消毒液噴霧システム。
JP523687A 1987-01-13 1987-01-13 消毒液噴霧システム Granted JPS63175659A (ja)

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JPH0586267B2 JPH0586267B2 (ja) 1993-12-10

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