JPS63169479A - セラミック材料を焼成するための窯 - Google Patents

セラミック材料を焼成するための窯

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JPS63169479A
JPS63169479A JP62327530A JP32753087A JPS63169479A JP S63169479 A JPS63169479 A JP S63169479A JP 62327530 A JP62327530 A JP 62327530A JP 32753087 A JP32753087 A JP 32753087A JP S63169479 A JPS63169479 A JP S63169479A
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radiation
ceramic material
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ポッピ・マウロ
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POTSUPI SpA
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    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はタイル等のセラミック材料を焼成する窯に関
する。
このような窯は、限定はされないが、特にセラミックタ
イルのようなセラミック材料の高速焼成工程に用いるこ
とを意図している。従来の高速焼成サイクルは、その中
で材料が端から端に移送される間に焼成される連続回転
窯を用いて行なわれていた。さらに詳細に言うと、その
窯は一定の速度で操作され、入口から出口に達する長袖
に沿って精密な温度分布が達成される。
この温度は、初期に上昇し、中間で一定になり、出口で
下がるという連続的な曲線を描く。窯を通過する間に、
材料は予備加熱領域において一貫して上昇する温度にさ
らされ、次いで最大の焼成温度にさらされ、次いで比較
的体々に冷却される。実際的な言葉で言うと、セラミッ
ク材料は窯の長さに沿って入口から出口まで連続的な領
域を通って移送される間に、いくつかの領域で熱エネル
ギーを与えられ、他の幾つかの領域で熱エネルギーを奪
われる０回転窯中てこのような熱交換を行なうために最
も広く採用されている方法は、連続的な対向する２つの
流路を創製することを特徴とする。対流に基づくもので
ある。すなわち、流路の一方はローラーによって焼成領
域に移送される、焼成すべき材料であり、他方は焼成領
域から煙路に入る熱ガスである。
°ある焼成曲線を得るために、ある空間における衝突の
途切れを生みだし、窯のある部分（焼成工程に対する化
学的及び物理的反応が行なわれる部分）における温度を
一定にするために、異なるレベルの熱エネルギーが与え
られる。
この加熱の基本的システムは、窯を通過する間に材料が
種々の温度、方向性及び速度を有する対流と遭遇し、せ
いぜい均一なものはガスとの接触だけであると考えられ
るという欠点を有する。
このような型の窯のさらなる欠点は１例えば特定の型の
制御された雰囲気を必要とする場合のような、焼成中に
特定の効果を生みだすように修飾することかできないと
いうことである。
従って、この発明の目的は、上記した従来技術における
窯の欠点を克服することである。
上記した目的は、ある焼成工程において予想される特徴
的な熱エネルギーレベルの数に対応する数の一連の処理
領域から成る回転窯を提供することにより達成される。
実施例では、これは連続する単一のモジュールてあって
、他のモジュールによって影響されないように機械的及
び熱的に独立したものにより達成される。
図面に基づいて説明すると、ｌはタイル８を高速で焼成
するのに適した窯である。窯は、連続して配置され、互
いに隣接するものと結合された一連の部分、すなわち処
理領域を含み、これらの処理領域は、軸が連続する床を
形成するように平行に並べられた、複数の駆動されるロ
ーラーから成るテーブル６から成るコンベアーシステム
６を介して配置される。それぞれのこのような領域は、
第２図のグラフに示されるような精密な温度レベルを特
徴とする。第２図において、Ｘ軸上のｒＬＪは窯の長さ
を示し、ｙ軸上のｒＴＪは温度レベルを示す。
単一の領域はこのように相対温度レベルから同定可能で
あり、第１図かられかるように、このような個々の領域
は、第３図に詳細に示される、少なくとも１つのモジュ
ール１２を有する。
２１は、タイル８が窯を介して、従って、車−の処理領
域、すなわちモジュール１２を介して移送される方向を
示す、モジュール１２内で、ローラー７上に位置するタ
イル８はテーブル６の上下から一定の相対距離に位置す
る表面から放射される熱エネルギーを受容する。放射表
面は、側面が連続的に懸架されたパネル１３によって具
体化され、パネル１３は、高い熱伝導性及び、低温にお
いてさえ高い熱放射係数を有することを特徴とする特 パネル１３はバーナー１７により加熱され。
バーナーからの熱ガスは室１４及び１５の中において、
逆側（ローラーと反対側）にも向かう、質１４及び１５
は、ローラーテーブル及びタイルによって占拠された、
焼成領域である室１６から遮断されている。従って、２
つの密閉されたバーナー室１４及び１５内の熱交換は一
部は放射により、一部はバーナー１７からの燃焼ガスに
よる対流によって行なわれるが、焼成領域１６内におい
ては、熱はパネル１３からタイル８への熱放射のみによ
って行なわれる。バーナー室１４及び１５内における、
ガスからパネル１３への熱の移動は、ガスと接触する表
面を高い熱交換係数を有するように変えることにより促
進することができる。
焼成領域１６における空気の循環は実質的にゼロであり
、対応するモジュールの前後における干渉は従って避け
られる。さらに詳細に言うと、特定のモジュール１２の
室１６は小さな透孔、すなわち吸引排気孔２８及び２９
によって両側のモジュール（矢印２１参照）から分離さ
れ、吸引孔２８及び２９はわずかに防圧に維持され、１
つのモジュールと次のモジュールとの間のローラーテー
ブル６に隣接する点から集まる。下部バルクヘッド４１
の位置が示すように、ローラー７の下では隣接するモジ
ュール間の完全な分離が達成されるか、ローラーの上て
は、タイル８の厚さを収容する寸法のギャップが設けら
れている。このギャップは、タイルの高速通過のための
空間を許容することによって隣接するモジュールの焼成
領域間の連絡を許すかのように見えるか、実際には排気
孔２８及び２９を介して創製される防圧によって実質的
に閉じられている。
隣接するモジュール１２の焼成室がこのようにして分離
されているので、干渉が避けられ、隣接するモジュール
間で数１００度の温度差を維持することができる。これ
により、材料か特定の数の鋭い温度上昇又は降下にさら
され、適当な場合にはその後安定期間が続く、高速焼成
サイクルを行なうことが可能になる。さらに、窯を構成
するｌ又は２以上のモジュール１２を、制御された雰囲
気中で焼成するために用いることもできる。
この発明の窯ては、冷却を、基本的な具体例である、焼
成のための窯と同一のものを用いて行なうことができる
。この場合、バーナー１７はなく、熱交換の方向は、熱
エネルギーが熱いタイル８から非常に低温に維持された
パネル１３に移動するように逆方向になる。
窯１のまた別の具体例では、単一のモジュールは遮断さ
れることなく連続的に配置される。すなわち、隣接する
モジュールと分離されることなく直接結合され自由に連
通ずることが許容される。
【図面の簡単な説明】 第１図はこの発明の窯の、垂直面を介した長手方向の断
面図、 第２図は第１図の窯において得られる焼成曲線の一例を
示す図、そして 第３図は窯の詳細を拡大して示す図である。 ｌ・・・窯、７・・・ローラー、８・・・タイル、１２
・・・モジュール、１３・・・パネル、１６・・・焼成
室、１７・・・バーナー、２８．２９・・・吸引排気孔
、４１・・・下部バルクヘッド 出願入代理入弁理土鈴江武彦

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）連続的に配置された複数の単一の処理領域であっ
    て、焼成すべきセラミック材料を１つの領域から他の領
    域に高速で移送するためのコンベアーシステムを介して
    隣接する処理領域と連結されているものから成り、熱エ
    ネルギーの伝達及び交換が処理領域の表面からセラミッ
    ク材料への熱の放射又はセラミック材料から処理領域の
    表面への熱の放射によって行なわれる、セラミック材料
    を焼成するための窯。
  2. （２）コンベアーシステムは、その軸が互いに平行に配
    置され、駆動力によって駆動される複数のローラー（７
    ）から成るローラーテーブル（６）を含み、放射による
    熱の移動が、ローラー（７）によって形成されるコンベ
    アーテーブルの上下に一定の距離をあけて配置された放
    射面を用いて行なわれる特許請求の範囲第１項記載の窯
    。
  3. （３）放射面は、その側面が懸架され、低温においてさ
    え高い熱伝導率と高い放射係数を有する連続するパネル
    （１３）から成る特許請求の範囲第２項記載の窯。
  4. （４）熱は、パネル（１３）を適当に配置することによ
    って窯（１）の処理領域（１６）と分離して形成される
    室（１４、１５）の内部で発生され、かつ熱はバーナー
    （１７）により加えられ、バーナーからの熱ガスは、ロ
    ーラーテーブル（６）を向く熱放射面と反対側のパネル
    の側に当たる特許請求の範囲第３項記載の窯。
  5. （５）単一の処理領域（１６）は、ローラーテーブル（
    ６）の移動方向に垂直に配置されたバルクヘッドによっ
    て隣接する処理領域と分離され、バルクヘッドとローラ
    ーとの間には焼成すべき材料が通過するのに十分な大き
    さの間隙が設けられ、２つの隣接する処理領域（１６）
    の間には、ローラーテーブル（６）の近傍に狭い、陰圧
    をかけられた吸入排気口（２８、２９）が設けられてい
    る特許請求の範囲第３項記載の窯。
  6. （６）単一の処理領域は、隣接する処理領域と遮断され
    ずに連続し、直接自由に連絡される特許請求の範囲第３
    項記載の窯。
JP62327530A 1986-12-30 1987-12-25 セラミック材料を焼成するための窯 Pending JPS63169479A (ja)

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IT40147/86A IT1205512B (it) 1986-12-30 1986-12-30 Forno per la cottura di materiali ceramici quali piastrelle e simili
IT40147A/86 1987-10-30

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JPS63169479A true JPS63169479A (ja) 1988-07-13

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