JPS63168033A - バイポ−ラメモリ - Google Patents
バイポ−ラメモリInfo
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- JPS63168033A JPS63168033A JP61313128A JP31312886A JPS63168033A JP S63168033 A JPS63168033 A JP S63168033A JP 61313128 A JP61313128 A JP 61313128A JP 31312886 A JP31312886 A JP 31312886A JP S63168033 A JPS63168033 A JP S63168033A
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- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims abstract description 18
- 230000003321 amplification Effects 0.000 abstract description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 abstract description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
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- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
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Landscapes
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、バイポーラメモリに係シ、特に冗長性を有す
るバイポーラメモリに関する。
るバイポーラメモリに関する。
従来の冗長性を有する半導体メモリの構成を第10図に
示す。行アドレス信号1001列アドレス信号104は
それぞれ行デコーダ1010列デコーダ105によって
デコードされ6本体メモリ103のなかのメモリセルを
1つ選択する。選択されたメモリセルからの読み出し信
号はセンス回路106で検出され、データ出力信号10
7が出力される。また1本体メモリ103に不良ビット
が発見された場合は、不良メモリセルが接続されている
ワード線、例えばワード線110をフェーズ102を切
断し、切9離す。次に不良メモリセルが選択されるアド
レス信号に対して、予備行109が選択されるように、
予備デコーダ108をプログラムする。この予備デコー
ダに関しては。
示す。行アドレス信号1001列アドレス信号104は
それぞれ行デコーダ1010列デコーダ105によって
デコードされ6本体メモリ103のなかのメモリセルを
1つ選択する。選択されたメモリセルからの読み出し信
号はセンス回路106で検出され、データ出力信号10
7が出力される。また1本体メモリ103に不良ビット
が発見された場合は、不良メモリセルが接続されている
ワード線、例えばワード線110をフェーズ102を切
断し、切9離す。次に不良メモリセルが選択されるアド
レス信号に対して、予備行109が選択されるように、
予備デコーダ108をプログラムする。この予備デコー
ダに関しては。
例えば特開昭57−198599公報に記載されている
。以上の操作により、不良ピットを含む行に代って、予
備行109が選択されるようになり、不良ピットを救済
することができる。なお第10図では予備行109のみ
を示しているが1列方向に対しても同様に予備列を設け
ることが可能である。
。以上の操作により、不良ピットを含む行に代って、予
備行109が選択されるようになり、不良ピットを救済
することができる。なお第10図では予備行109のみ
を示しているが1列方向に対しても同様に予備列を設け
ることが可能である。
〔発明が解決しようとする問題点3
以上のような冗長性を有する半導体メモリの構成は、主
としてMOSで構成されたメモリ用に考案されたもので
あり、この構成をそのままバイポーラRAMに適用する
と以下に述べる問題が生じる。
としてMOSで構成されたメモリ用に考案されたもので
あり、この構成をそのままバイポーラRAMに適用する
と以下に述べる問題が生じる。
第11図を用いてこの問題点を説明する。バイポーラメ
モリでは、メモリセルに記憶した情報を保持するために
保持電流をメモリセルに流す必要がある。このため、各
行ごとにトランジスタ112と抵抗113から成る定電
流源を設けている。今。
モリでは、メモリセルに記憶した情報を保持するために
保持電流をメモリセルに流す必要がある。このため、各
行ごとにトランジスタ112と抵抗113から成る定電
流源を設けている。今。
ワード線110に接続されているメモリセル、例えばメ
モリセル111が不良ビットで、フェーズ102を切断
したとする。この場合、ワード線110はフローティン
グ状態となるため、定電流源を構成するトランジスタ1
12のコレクタ電流は、どこからも供給されず、ワード
線110の電位が下がりトランジスタ112は飽和して
しまう。
モリセル111が不良ビットで、フェーズ102を切断
したとする。この場合、ワード線110はフローティン
グ状態となるため、定電流源を構成するトランジスタ1
12のコレクタ電流は、どこからも供給されず、ワード
線110の電位が下がりトランジスタ112は飽和して
しまう。
一般にバイポーラ業積回路内のトランジスタが飽和する
と、半導体基板に電流が流れるようにな9゜素子間の電
気的絶縁が保てなくなる等の問題が生じる。またバイポ
ーラメモリのワード線には、大きな電流(保持電流、読
み出し電流、ワード線放電寛流)が流れる。このため、
ワード線に直接フェーズを接続するには、大きなフェー
ズが必要となり、集積度の点、フェーズの切断しやすさ
の点から見て問題がある。
と、半導体基板に電流が流れるようにな9゜素子間の電
気的絶縁が保てなくなる等の問題が生じる。またバイポ
ーラメモリのワード線には、大きな電流(保持電流、読
み出し電流、ワード線放電寛流)が流れる。このため、
ワード線に直接フェーズを接続するには、大きなフェー
ズが必要となり、集積度の点、フェーズの切断しやすさ
の点から見て問題がある。
本発明の目的は、バイポーラメモリに適した冗長性を有
するメモリ回路を提供することにある。
するメモリ回路を提供することにある。
上記目的は1本体メモリの行(もしくは列)を選択駆動
する回路の出力エミッタホロワのベースにロー(Low
)クランプ回路と電気的接続を断つ手段0例えばフェー
ズを接続することにより達成される。
する回路の出力エミッタホロワのベースにロー(Low
)クランプ回路と電気的接続を断つ手段0例えばフェー
ズを接続することにより達成される。
本体メモリの行(列)’!i−選択駆動する回路の出力
エミッタホロワのベースにLOWクランプ回路金設ける
回路金工り、切シ離された不良行(列)の電位を正常な
非選択電位にクランプできるので。
エミッタホロワのベースにLOWクランプ回路金設ける
回路金工り、切シ離された不良行(列)の電位を正常な
非選択電位にクランプできるので。
前述のトランジスタの飽和の問題を解決することができ
る。また、上記出力エミッタホロワのベースにフェーズ
を設けることにより、フェーズに流れる電流を本体メモ
リの行(列)に流れる電流の1/(電流増幅率)に低減
でき、フェーズを小さくできる。
る。また、上記出力エミッタホロワのベースにフェーズ
を設けることにより、フェーズに流れる電流を本体メモ
リの行(列)に流れる電流の1/(電流増幅率)に低減
でき、フェーズを小さくできる。
以下0本発明を実施例によって詳細に説明する第1図は
1本発明の基本概念を説明するための実施例を示した図
である。行アドレス信号100゜列アドレス信号104
はそれぞれ行デコーダ101゜列デコーダ105によっ
てデコードされ1本体メモリ103のなかのメモリセル
を1つ選択する。
1本発明の基本概念を説明するための実施例を示した図
である。行アドレス信号100゜列アドレス信号104
はそれぞれ行デコーダ101゜列デコーダ105によっ
てデコードされ1本体メモリ103のなかのメモリセル
を1つ選択する。
選択されたメモリセルからの読み出し信号はセンス回路
106で検出され、データ出力信号107が出力される
。また本体メモリ103に不良ビットが発見された場合
は、まず不良ビットが選択されないように、不良ビット
が接続されているワード線1例えばワード線110を駆
動するエミッタホロワ11のベースに接続されているフ
ェーズ102を例えばレーザーによって切断する。次に
。
106で検出され、データ出力信号107が出力される
。また本体メモリ103に不良ビットが発見された場合
は、まず不良ビットが選択されないように、不良ビット
が接続されているワード線1例えばワード線110を駆
動するエミッタホロワ11のベースに接続されているフ
ェーズ102を例えばレーザーによって切断する。次に
。
不良メモリセルが選択されるアドレス信号に対して、予
備行109が選択されるように、予備デコーダ−108
をプログラムする。本発明では、ワード線を駆動するエ
ミッタホロワのベースにI、owクラ/ブ回路を設けて
いるので、切シ離されたワード線110はLOWクラン
プ回路12によって、正常な非選択電位になり、保持電
流用電流源のトランジスタが飽和することはない。
備行109が選択されるように、予備デコーダ−108
をプログラムする。本発明では、ワード線を駆動するエ
ミッタホロワのベースにI、owクラ/ブ回路を設けて
いるので、切シ離されたワード線110はLOWクラン
プ回路12によって、正常な非選択電位になり、保持電
流用電流源のトランジスタが飽和することはない。
第2図も本発明の実施例であり、ワイアードオア形デコ
ーダに通用した例である。ワイアードオア形テコーダ2
1は、負荷抵抗22.トランジスタ23,24.定電流
源25から構成される。トランジスp23のベースはデ
コード線に接続され。
ーダに通用した例である。ワイアードオア形テコーダ2
1は、負荷抵抗22.トランジスタ23,24.定電流
源25から構成される。トランジスp23のベースはデ
コード線に接続され。
デコード線の電位が参照電位V m mよシ低い時だけ
。
。
ワード線110は高電位とな9選択状態になる。
12はI、owクランプ回路でアシ、フェーズ102を
切断した時にワード線110の電位を正常に非選択電位
にり2ンプするためのものである。
切断した時にワード線110の電位を正常に非選択電位
にり2ンプするためのものである。
第3図も本発明の実施例であり、トランジスタゲート形
デコーダに適用した例である。トランジスタゲート形デ
コーダ31は負荷抵抗32とマルチェミッタトランジス
タ33から構成される。マルチエミッタトランジスタ3
3のエミッタはデコード線に接続され、エミッタが接続
されているデコード線がすべて高電位である時たけ、ワ
ード線110は高電位となり選択状態になる。トランジ
スタゲート形デコーダは前記ワイアードオア形デコーダ
よシも劇壇段数が少ないため、高速動作が可能である。
デコーダに適用した例である。トランジスタゲート形デ
コーダ31は負荷抵抗32とマルチェミッタトランジス
タ33から構成される。マルチエミッタトランジスタ3
3のエミッタはデコード線に接続され、エミッタが接続
されているデコード線がすべて高電位である時たけ、ワ
ード線110は高電位となり選択状態になる。トランジ
スタゲート形デコーダは前記ワイアードオア形デコーダ
よシも劇壇段数が少ないため、高速動作が可能である。
第4図も本発明の実施例であり、5BD(ショットキー
バリアダイオード: 3chottky Barrie
r])iode )形デコーダに適用した例である。S
BD形デコーダ41は前記トランジスタゲート形デコー
ダのマルチエミッタトランジスタ33ftSBD43で
置換えた構成となっており、wJJ作はトランジスタ形
デコーダと同じであシ、デコード線がすべて高電位であ
る時だけ、ワード線110は選択状態になる。SBD形
デコーダ41は5BD43を用いているので、負荷抵抗
42につながる寄生容量が小さく、トランジスタゲート
形デコーダよシ高速な動作が可能である。SBD形デコ
ーダに本発明を適用することで第3図の実施例よシもさ
らに高速化を・図ることができる。
バリアダイオード: 3chottky Barrie
r])iode )形デコーダに適用した例である。S
BD形デコーダ41は前記トランジスタゲート形デコー
ダのマルチエミッタトランジスタ33ftSBD43で
置換えた構成となっており、wJJ作はトランジスタ形
デコーダと同じであシ、デコード線がすべて高電位であ
る時だけ、ワード線110は選択状態になる。SBD形
デコーダ41は5BD43を用いているので、負荷抵抗
42につながる寄生容量が小さく、トランジスタゲート
形デコーダよシ高速な動作が可能である。SBD形デコ
ーダに本発明を適用することで第3図の実施例よシもさ
らに高速化を・図ることができる。
第5,6図も本発明の実施例であり、ダーリントン形ド
ライバに適用した例である。ダーリントン形ドライバは
2段のエミッタホロワ52.53と抵抗54から構成さ
れる。55はデコーダであり、嬉2図から第4図までの
デコーダのいずれでもよい。ダーリントン形ドライバは
第1図から第4図の実施例で用いたエミッタホロワ形ド
ライバよりも負荷駆動能力が大きいので、さらに高速化
が可能である。第5図は1段目のエミッタホロワ52の
ベースにフェーズ51を設けた例である。
ライバに適用した例である。ダーリントン形ドライバは
2段のエミッタホロワ52.53と抵抗54から構成さ
れる。55はデコーダであり、嬉2図から第4図までの
デコーダのいずれでもよい。ダーリントン形ドライバは
第1図から第4図の実施例で用いたエミッタホロワ形ド
ライバよりも負荷駆動能力が大きいので、さらに高速化
が可能である。第5図は1段目のエミッタホロワ52の
ベースにフェーズ51を設けた例である。
不良メモリセルを選択しないようにする方法は。
前述のエミッタホロワ形ドライバの場合と同じであシ、
フェーズ51を切断すればよい。第6図は2段目のエミ
ッタホロワ53のベースにフェーズ61を設けた例であ
る。なお56,62はLOWクランプ回路である。
フェーズ51を切断すればよい。第6図は2段目のエミ
ッタホロワ53のベースにフェーズ61を設けた例であ
る。なお56,62はLOWクランプ回路である。
以上述べてきた実施例は、メモリセルアレイの行を選択
駆動する回路に適用したものであるが。
駆動する回路に適用したものであるが。
本発明は列と選択駆動する回路にも適用可能である。第
7図にその一例を示す。デコーダ76の出力が高電位で
ある時、読み出し電流切換トランジスタ72.73のベ
ースが高電位となり、トランジスタ72.73を通って
読み出し電流が流れ。
7図にその一例を示す。デコーダ76の出力が高電位で
ある時、読み出し電流切換トランジスタ72.73のベ
ースが高電位となり、トランジスタ72.73を通って
読み出し電流が流れ。
列70が選択される。列70に含まれるメモリセル、例
えばメモリセルフ1に不良が発見された場合は、エミッ
タホロワ78のベースに接続されているフェーズ77を
切断し列70が選択されないようにする。なお79はL
OWクランプ回路でアシ。
えばメモリセルフ1に不良が発見された場合は、エミッ
タホロワ78のベースに接続されているフェーズ77を
切断し列70が選択されないようにする。なお79はL
OWクランプ回路でアシ。
フェーズ77を切断した時にエミッタホロワ78のベー
スを正常な非選択電位にクランプするためのものである
。
スを正常な非選択電位にクランプするためのものである
。
第8図は1本発明を実際の半導体上に実現した場合の一
例を示している。この例ではフェーズ82は多結晶シリ
コンで形成している。フェーズ82の一端はベース電極
83に接続され、もう一端はデコーダ出力81に接続さ
れる。なお84゜85はそれぞれエミッタ電極、コレク
タ電極である。またフェーズ82をコレクタ及びエミッ
タ上の多結晶シリコン86.87と同時に形成すれば。
例を示している。この例ではフェーズ82は多結晶シリ
コンで形成している。フェーズ82の一端はベース電極
83に接続され、もう一端はデコーダ出力81に接続さ
れる。なお84゜85はそれぞれエミッタ電極、コレク
タ電極である。またフェーズ82をコレクタ及びエミッ
タ上の多結晶シリコン86.87と同時に形成すれば。
新たに工程を追加する必要はない。もちろん、フェーズ
82をコレクタ及びエミッタ上の多結晶シリコン86.
87と別に形成することも可能である。
82をコレクタ及びエミッタ上の多結晶シリコン86.
87と別に形成することも可能である。
第9図は、フェーズを配線材料で形成した例を示してい
る。第9図では、フェーズ91を第1層目の配線で形成
しているが、多層配線を使用している場合は、第2IW
I目、第3層目の配線で形成してもよい。
る。第9図では、フェーズ91を第1層目の配線で形成
しているが、多層配線を使用している場合は、第2IW
I目、第3層目の配線で形成してもよい。
本発明によれば、切り離された不良行(列)の電位を正
常な非選択電位にクランプできる。さらにフェーズに大
きな電流が流れることがないので。
常な非選択電位にクランプできる。さらにフェーズに大
きな電流が流れることがないので。
バイポーラメモリに好適な冗長性を有するメモリ回路を
提供することができる。
提供することができる。
第1図は本発明の基本概念を説明するための実施例を示
した囚、第2図は本発明をワイアードオア形デコーダに
適用した実施例を示した図、第3図は本発明をトランジ
スタゲート形デコーダに適用した実施例を示した図、第
4図は本発明を8BD形デコーダに適用した実施例を示
した図、第5゜6図は本発明をダーリントン形ドライバ
に適用した実施例を示した図、第7図は本発明を列を選
択駆動する回路に適用した実施例を示した図、第8゜9
図は本発明を半導体上に実現した場合の一例を示した図
、第10.11図は従来構成の問題点を説明するための
図である。 102・・・フェーズ、11・・・エミッタホロワ、1
2・・・I、owクランプ回路、103・・・本体メモ
リ。 109・・・予備行、108・・・予備デコーダ。 どン
した囚、第2図は本発明をワイアードオア形デコーダに
適用した実施例を示した図、第3図は本発明をトランジ
スタゲート形デコーダに適用した実施例を示した図、第
4図は本発明を8BD形デコーダに適用した実施例を示
した図、第5゜6図は本発明をダーリントン形ドライバ
に適用した実施例を示した図、第7図は本発明を列を選
択駆動する回路に適用した実施例を示した図、第8゜9
図は本発明を半導体上に実現した場合の一例を示した図
、第10.11図は従来構成の問題点を説明するための
図である。 102・・・フェーズ、11・・・エミッタホロワ、1
2・・・I、owクランプ回路、103・・・本体メモ
リ。 109・・・予備行、108・・・予備デコーダ。 どン
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、情報を記憶する本体メモリと該本体メモリの不良ビ
ット救済用の予備メモリとを有するバイポーラメモリに
おいて、本体メモリの駆動回路の出力エミッタホロワの
ベースに電気的接続を断つ手段とクランプ回路を設けた
ことを特徴とするバイポーラメモリ。 2、上記電気的接続を断つ手段をフェーズにより実現し
たことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のバイポ
ーラメモリ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61313128A JPS63168033A (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 | バイポ−ラメモリ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61313128A JPS63168033A (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 | バイポ−ラメモリ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63168033A true JPS63168033A (ja) | 1988-07-12 |
Family
ID=18037448
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61313128A Pending JPS63168033A (ja) | 1986-12-29 | 1986-12-29 | バイポ−ラメモリ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63168033A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02105399A (ja) * | 1988-10-14 | 1990-04-17 | Nec Corp | メモリ回路 |
US5212393A (en) * | 1990-03-19 | 1993-05-18 | Horiba, Ltd. | Sample cell for diffraction-scattering measurement of particle size distributions |
-
1986
- 1986-12-29 JP JP61313128A patent/JPS63168033A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02105399A (ja) * | 1988-10-14 | 1990-04-17 | Nec Corp | メモリ回路 |
US5212393A (en) * | 1990-03-19 | 1993-05-18 | Horiba, Ltd. | Sample cell for diffraction-scattering measurement of particle size distributions |
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