JPS6316231A - 光学装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ この発明は、半導体レーザにおける戻り光誘起雑音の測
定のための光学装置に関するものである。

［従来の技術］ 第２図は従来の半導体レーザにおける戻り光雑音の測定
系を示す構成図である。図において、１は半導体レーザ
、２は半導体レーザ１の光出力をコントロールする自動
光出力制御回路（Ａｕｔ。

Ｐｏｗｅｒ　　Ｃｏｎｔｒｏｌ；ＡＰＣ）であり。

以下この自動光出力制御回路２をＡＰＣ２という。

２３はレーザ光をミラー１３に集光するレンズ、２４は
戻り光量を変化させる透過フィルタ、２５はレーザ光を
分割してフォトダイオード１２に導くハーフミラ−１２
６はフォトダイオード１２への入射光量を調節するフィ
ルタである。

次に、上記従来例の動作について説明する。ＡＰＣ２の
制御により安定に発振した半導体レーザ１からの光を集
光レンズ２３を用いてミラー１３上に手動で焦点を結ば
せる。半４体レーザ１は、ミラー１３の反射光（以下、
この反射光を戻り光という）が最大量戻るとき、すなわ
ち、半導体レーザ１とミラー１３とが集光レンズ２３の
焦点位置にあるとき、光出力が極小値を示す特性がある
。

この光出力をモニタすることにより集光レンズ２３およ
びミラー１３の位置を調整する。次に透過フィルタ２４
を戻り光路上に置くことにより戻り光量を変化させる。

半導体レーザ１の准音出力はハーフミラ−２５で光を分
割し、フィルタ２６を透過した光をフォトダイオードで
検出して測定することができる。

［発明が解決しようとする問題点コ しかしながら、このような従来の戻り光雑音測定系の光
学装置では、戻り光量を最大限に返すために半導体レー
ザ１．集光レンズ２３およびハーフミラ−２５などの位
置を手動で調整しなければならず、再現性が良くない上
に時間がかかるという問題点がある。また、戻り光量は
透過フィルタを交換して調整することが必要で、不連続
な戻り光量に対する測定しかできないという問題点もあ
る。

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、半導体レーザ光をミラー上に自動的に集光で
きるようにした光学装置を得ることを目的とする。

［問題点を解決するための手段］ この発明に係る装置は、半導体レーザの雑音を測定する
光学装置において、レーザ光を自動的にコリメートする
ためのコリメート機構と、コリメート光を光軸に合わせ
るための粗動・微動調整機構と、コリメート光をミラー
上に自動的に集光させる集光機構と、同集光機構によっ
て集光された位置を検出する集光位置検出機構と、戻り
光量を調節する戻り光量調節機構と、上記レーザ光を分
割し戻り光による雑音出力を検出する雑音出力検出機構
とを有するものとした。

［作　用］ この発明における光学装置は、コリメート機構および粗
動・微動調整機構によって自動的にレーザ光は光軸上に
コリメートされ、集光位置検出機　構により、コリメー
ト光をミラー上に自動的に集光させることにより戻り光
量を最大量返すことが行なわれる。さらに、戻り光量は
戻り光量調節機構によって連続的に変化させることがで
きる。

［発明の実施例コ 以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図において、１は半導体レーザ、２は自動光出力制御回
路（ＡＰＣ）、Ｍｌはレーザ光を自動的にコリメートす
るコリメート機構であって、この実施例では、半導体レ
ーザ光を自動的にコリメートするために、このコリメー
ト機ＩＭＩは焦点方向の調整用として、コリメートレン
ズ３ａ付きアクチュエータ３を有するとともに、焦点と
垂直な平面内の調整用として、可動ステージ４を有して
いる。そして、コリメートされた光はビームスプリッタ
５で分割され、偏光ビームスプリッタ６と１７４波長板
７を通る。Ｍ２はコリメート光を光軸に合わせるための
粗動・微動調整機構であって、この実施例では、粗動・
微動調整機構Ｍ２は、平凸レンズ８と、ビームスプリッ
タ９と、４分割光検知器１０と、シリンドリカルレンズ
１１と、４分割光検知器１２とで構成される。また、１
４は上記コリメート光をミラー１３に集光する集光機構
であって、この集光機構１４として、この実施例では、
集光レンズ１４ａ付きアクチュエータが使用されている
。そして、ミラー１３からの戻り光は偏光ビームスプリ
ッタ１５で半導体レーザ１側と焦点調整機構（集光位置
検出機構）　Ｍ３側とに分割されるが、この焦点調整機
構Ｍ３は平凸レンズ１６とシリンドリカルレンズ１７と
４分割光検知器１８とで構成される。さらに、戻り光量
を連続的に可変する機構として、この実施例では、偏光
ビームスプリッタ１５と１７４波長板１９を貼り付けた
１７４波長板回転軸２０とベルト２１を介してこれを回
すモータ２２とが使用されている。

次に、上記のように構成された光学装置の動作について
説明する。ＡＰＣ２の制御により、一定出力に発振した
半導体レーザ光はコリメートレンズ３ａに入射されるが
、このときのコリメートレンズ３ａの位置調整は、平凸
レンズ８、ビームスプリッタ９．４分割光検知器１０に
よる粗調整機構で検出され、可動ステージ４により粗動
の位置調整が行なわれる。次に、平凸レンズ８、シリン
ドリカルレンズ１１．４分割光検知器１２による微調整
機構により１ｍｍ以下の位置調整と、焦点方向のずれが
検出され、可動ステージ４およびコリメートレンズ３ａ
付きアクチュエータ３で修正される。コリメートされた
レーザ光は集光レンズでミラー１３上で集光するが、こ
のときの焦点調整はミラー１３からの戻り光を偏光ビー
ムスプリッタ１５で分割し、平凸レンズ１６、シリンド
リカルレンズ１７．４分割光検知器１８で構成する焦点
調整機構Ｍ３で検出され、集光レンズ１４ａ付きアクチ
ュエータ１４で修正することにより行なわれる。戻り光
量は偏光ビームスプリッタ１５と１／４波長板１９とミ
ラー１３の組み合わせによリレーザ光の偏光面を変えて
調整しており、実施例では１／４波長板１９を１７４波
長板回転軸２０、ベルト２１、モータ２２で回転させて
、１７４波長板１９の回転角により透過偏光量を変えて
いる。

レーザ光の雑音出力の検出は微調整機構を兼ねた４分割
光検知器の全光入力として検知される。戻す光雑音を測
定する光学装置は上記機、ＬＷで構成され、それぞれの
動作は外部機構においてコリメート機構および集光機構
をサーボ回路で自動的にコントロールすることができる
。

［発明の効果コ 以上のようにこの発明によれば、半導体レーザの戻り光
が最大量返るように光学装置の調整を自動で行なうこと
が可能となり、これにより測定の再現性が向上し、測定
時間が短縮する。また、戻り光量を連続的に変えて測定
することもできるので、雑音出力が連続的に測定でき、
精度の高い測定結果が得られる効果もある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例による光学装置の構成図で
あり、第２図は従来の戻り光維音測定系の光学装置の構
成図である。 図において、１−半導体レーザ、３−・−コリメートレ
ンズ付きアクチュエータ、３ａ−・−コリメートレンズ
、４−可動ステージ、８−平凸レンズ、９−ビームスプ
リッタ、１０−４分割光検知器、１１−シリンドリカル
レンズ、１２−４分割光検知器、１３−ミラー、１４−
集光機構としての集光レンズ付きアクチュエータ、１４
ａ−集光レンズ、１５−偏光ビームスプリッタ、１６・
−・平凸レンズ、１７−シリンドリカルレンズ、１８−
・−４分割光検知器、１９−１　／　４波長板、Ｍｌ−
コリメート機構、Ｍ２−粗動・微動調整機構、Ｍ　３−
集光位置検出機構としての焦点調整機構。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）半導体レーザの雑音を測定する光学装置において
   、レーザ光を自動的にコリメートするためのコリメート
   機構と、コリメート光を光軸に合わせるための粗動・微
   動調整機構と、コリメート光をミラー上に自動的に集光
   させる集光機構と、同集光機構によつて集光された位置
   を検出する集光位置検出機構と、戻り光量を調節する戻
   り光量調節機構と、上記レーザ光を分割し戻り光による
   雑音出力を検出する雑音出力検出機構とを備えたことを
   特徴とする光学装置。
2. （２）上記戻り光量調節機構が上記戻り光量を自動で連
   続的に変えうる機構として構成されたことを特徴とする
   特許請求の範囲第１項記載の光学装置。