JPS6316231A - 光学装置 - Google Patents
光学装置Info
- Publication number
- JPS6316231A JPS6316231A JP16250386A JP16250386A JPS6316231A JP S6316231 A JPS6316231 A JP S6316231A JP 16250386 A JP16250386 A JP 16250386A JP 16250386 A JP16250386 A JP 16250386A JP S6316231 A JPS6316231 A JP S6316231A
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- JP
- Japan
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- lens
- light
- collimating
- optical device
- mirror
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 17
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 101100379068 Caenorhabditis elegans apc-2 gene Proteins 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 102000052594 Anaphase-Promoting Complex-Cyclosome Apc2 Subunit Human genes 0.000 description 1
- 108091006464 SLC25A23 Proteins 0.000 description 1
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Landscapes
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
この発明は、半導体レーザにおける戻り光誘起雑音の測
定のための光学装置に関するものである。
定のための光学装置に関するものである。
[従来の技術]
第2図は従来の半導体レーザにおける戻り光雑音の測定
系を示す構成図である。図において、1は半導体レーザ
、2は半導体レーザ1の光出力をコントロールする自動
光出力制御回路(Aut。
系を示す構成図である。図において、1は半導体レーザ
、2は半導体レーザ1の光出力をコントロールする自動
光出力制御回路(Aut。
Power Control;APC)であり。
以下この自動光出力制御回路2をAPC2という。
23はレーザ光をミラー13に集光するレンズ、24は
戻り光量を変化させる透過フィルタ、25はレーザ光を
分割してフォトダイオード12に導くハーフミラ−12
6はフォトダイオード12への入射光量を調節するフィ
ルタである。
戻り光量を変化させる透過フィルタ、25はレーザ光を
分割してフォトダイオード12に導くハーフミラ−12
6はフォトダイオード12への入射光量を調節するフィ
ルタである。
次に、上記従来例の動作について説明する。APC2の
制御により安定に発振した半導体レーザ1からの光を集
光レンズ23を用いてミラー13上に手動で焦点を結ば
せる。半4体レーザ1は、ミラー13の反射光(以下、
この反射光を戻り光という)が最大量戻るとき、すなわ
ち、半導体レーザ1とミラー13とが集光レンズ23の
焦点位置にあるとき、光出力が極小値を示す特性がある
。
制御により安定に発振した半導体レーザ1からの光を集
光レンズ23を用いてミラー13上に手動で焦点を結ば
せる。半4体レーザ1は、ミラー13の反射光(以下、
この反射光を戻り光という)が最大量戻るとき、すなわ
ち、半導体レーザ1とミラー13とが集光レンズ23の
焦点位置にあるとき、光出力が極小値を示す特性がある
。
この光出力をモニタすることにより集光レンズ23およ
びミラー13の位置を調整する。次に透過フィルタ24
を戻り光路上に置くことにより戻り光量を変化させる。
びミラー13の位置を調整する。次に透過フィルタ24
を戻り光路上に置くことにより戻り光量を変化させる。
半導体レーザ1の准音出力はハーフミラ−25で光を分
割し、フィルタ26を透過した光をフォトダイオードで
検出して測定することができる。
割し、フィルタ26を透過した光をフォトダイオードで
検出して測定することができる。
[発明が解決しようとする問題点コ
しかしながら、このような従来の戻り光雑音測定系の光
学装置では、戻り光量を最大限に返すために半導体レー
ザ1.集光レンズ23およびハーフミラ−25などの位
置を手動で調整しなければならず、再現性が良くない上
に時間がかかるという問題点がある。また、戻り光量は
透過フィルタを交換して調整することが必要で、不連続
な戻り光量に対する測定しかできないという問題点もあ
る。
学装置では、戻り光量を最大限に返すために半導体レー
ザ1.集光レンズ23およびハーフミラ−25などの位
置を手動で調整しなければならず、再現性が良くない上
に時間がかかるという問題点がある。また、戻り光量は
透過フィルタを交換して調整することが必要で、不連続
な戻り光量に対する測定しかできないという問題点もあ
る。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、半導体レーザ光をミラー上に自動的に集光で
きるようにした光学装置を得ることを目的とする。
たもので、半導体レーザ光をミラー上に自動的に集光で
きるようにした光学装置を得ることを目的とする。
[問題点を解決するための手段]
この発明に係る装置は、半導体レーザの雑音を測定する
光学装置において、レーザ光を自動的にコリメートする
ためのコリメート機構と、コリメート光を光軸に合わせ
るための粗動・微動調整機構と、コリメート光をミラー
上に自動的に集光させる集光機構と、同集光機構によっ
て集光された位置を検出する集光位置検出機構と、戻り
光量を調節する戻り光量調節機構と、上記レーザ光を分
割し戻り光による雑音出力を検出する雑音出力検出機構
とを有するものとした。
光学装置において、レーザ光を自動的にコリメートする
ためのコリメート機構と、コリメート光を光軸に合わせ
るための粗動・微動調整機構と、コリメート光をミラー
上に自動的に集光させる集光機構と、同集光機構によっ
て集光された位置を検出する集光位置検出機構と、戻り
光量を調節する戻り光量調節機構と、上記レーザ光を分
割し戻り光による雑音出力を検出する雑音出力検出機構
とを有するものとした。
[作 用]
この発明における光学装置は、コリメート機構および粗
動・微動調整機構によって自動的にレーザ光は光軸上に
コリメートされ、集光位置検出機 構により、コリメー
ト光をミラー上に自動的に集光させることにより戻り光
量を最大量返すことが行なわれる。さらに、戻り光量は
戻り光量調節機構によって連続的に変化させることがで
きる。
動・微動調整機構によって自動的にレーザ光は光軸上に
コリメートされ、集光位置検出機 構により、コリメー
ト光をミラー上に自動的に集光させることにより戻り光
量を最大量返すことが行なわれる。さらに、戻り光量は
戻り光量調節機構によって連続的に変化させることがで
きる。
[発明の実施例コ
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図において、1は半導体レーザ、2は自動光出力制御回
路(APC)、Mlはレーザ光を自動的にコリメートす
るコリメート機構であって、この実施例では、半導体レ
ーザ光を自動的にコリメートするために、このコリメー
ト機IMIは焦点方向の調整用として、コリメートレン
ズ3a付きアクチュエータ3を有するとともに、焦点と
垂直な平面内の調整用として、可動ステージ4を有して
いる。そして、コリメートされた光はビームスプリッタ
5で分割され、偏光ビームスプリッタ6と174波長板
7を通る。M2はコリメート光を光軸に合わせるための
粗動・微動調整機構であって、この実施例では、粗動・
微動調整機構M2は、平凸レンズ8と、ビームスプリッ
タ9と、4分割光検知器10と、シリンドリカルレンズ
11と、4分割光検知器12とで構成される。また、1
4は上記コリメート光をミラー13に集光する集光機構
であって、この集光機構14として、この実施例では、
集光レンズ14a付きアクチュエータが使用されている
。そして、ミラー13からの戻り光は偏光ビームスプリ
ッタ15で半導体レーザ1側と焦点調整機構(集光位置
検出機構) M3側とに分割されるが、この焦点調整機
構M3は平凸レンズ16とシリンドリカルレンズ17と
4分割光検知器18とで構成される。さらに、戻り光量
を連続的に可変する機構として、この実施例では、偏光
ビームスプリッタ15と174波長板19を貼り付けた
174波長板回転軸20とベルト21を介してこれを回
すモータ22とが使用されている。
図において、1は半導体レーザ、2は自動光出力制御回
路(APC)、Mlはレーザ光を自動的にコリメートす
るコリメート機構であって、この実施例では、半導体レ
ーザ光を自動的にコリメートするために、このコリメー
ト機IMIは焦点方向の調整用として、コリメートレン
ズ3a付きアクチュエータ3を有するとともに、焦点と
垂直な平面内の調整用として、可動ステージ4を有して
いる。そして、コリメートされた光はビームスプリッタ
5で分割され、偏光ビームスプリッタ6と174波長板
7を通る。M2はコリメート光を光軸に合わせるための
粗動・微動調整機構であって、この実施例では、粗動・
微動調整機構M2は、平凸レンズ8と、ビームスプリッ
タ9と、4分割光検知器10と、シリンドリカルレンズ
11と、4分割光検知器12とで構成される。また、1
4は上記コリメート光をミラー13に集光する集光機構
であって、この集光機構14として、この実施例では、
集光レンズ14a付きアクチュエータが使用されている
。そして、ミラー13からの戻り光は偏光ビームスプリ
ッタ15で半導体レーザ1側と焦点調整機構(集光位置
検出機構) M3側とに分割されるが、この焦点調整機
構M3は平凸レンズ16とシリンドリカルレンズ17と
4分割光検知器18とで構成される。さらに、戻り光量
を連続的に可変する機構として、この実施例では、偏光
ビームスプリッタ15と174波長板19を貼り付けた
174波長板回転軸20とベルト21を介してこれを回
すモータ22とが使用されている。
次に、上記のように構成された光学装置の動作について
説明する。APC2の制御により、一定出力に発振した
半導体レーザ光はコリメートレンズ3aに入射されるが
、このときのコリメートレンズ3aの位置調整は、平凸
レンズ8、ビームスプリッタ9.4分割光検知器10に
よる粗調整機構で検出され、可動ステージ4により粗動
の位置調整が行なわれる。次に、平凸レンズ8、シリン
ドリカルレンズ11.4分割光検知器12による微調整
機構により1mm以下の位置調整と、焦点方向のずれが
検出され、可動ステージ4およびコリメートレンズ3a
付きアクチュエータ3で修正される。コリメートされた
レーザ光は集光レンズでミラー13上で集光するが、こ
のときの焦点調整はミラー13からの戻り光を偏光ビー
ムスプリッタ15で分割し、平凸レンズ16、シリンド
リカルレンズ17.4分割光検知器18で構成する焦点
調整機構M3で検出され、集光レンズ14a付きアクチ
ュエータ14で修正することにより行なわれる。戻り光
量は偏光ビームスプリッタ15と1/4波長板19とミ
ラー13の組み合わせによリレーザ光の偏光面を変えて
調整しており、実施例では1/4波長板19を174波
長板回転軸20、ベルト21、モータ22で回転させて
、174波長板19の回転角により透過偏光量を変えて
いる。
説明する。APC2の制御により、一定出力に発振した
半導体レーザ光はコリメートレンズ3aに入射されるが
、このときのコリメートレンズ3aの位置調整は、平凸
レンズ8、ビームスプリッタ9.4分割光検知器10に
よる粗調整機構で検出され、可動ステージ4により粗動
の位置調整が行なわれる。次に、平凸レンズ8、シリン
ドリカルレンズ11.4分割光検知器12による微調整
機構により1mm以下の位置調整と、焦点方向のずれが
検出され、可動ステージ4およびコリメートレンズ3a
付きアクチュエータ3で修正される。コリメートされた
レーザ光は集光レンズでミラー13上で集光するが、こ
のときの焦点調整はミラー13からの戻り光を偏光ビー
ムスプリッタ15で分割し、平凸レンズ16、シリンド
リカルレンズ17.4分割光検知器18で構成する焦点
調整機構M3で検出され、集光レンズ14a付きアクチ
ュエータ14で修正することにより行なわれる。戻り光
量は偏光ビームスプリッタ15と1/4波長板19とミ
ラー13の組み合わせによリレーザ光の偏光面を変えて
調整しており、実施例では1/4波長板19を174波
長板回転軸20、ベルト21、モータ22で回転させて
、174波長板19の回転角により透過偏光量を変えて
いる。
レーザ光の雑音出力の検出は微調整機構を兼ねた4分割
光検知器の全光入力として検知される。戻す光雑音を測
定する光学装置は上記機、LWで構成され、それぞれの
動作は外部機構においてコリメート機構および集光機構
をサーボ回路で自動的にコントロールすることができる
。
光検知器の全光入力として検知される。戻す光雑音を測
定する光学装置は上記機、LWで構成され、それぞれの
動作は外部機構においてコリメート機構および集光機構
をサーボ回路で自動的にコントロールすることができる
。
[発明の効果コ
以上のようにこの発明によれば、半導体レーザの戻り光
が最大量返るように光学装置の調整を自動で行なうこと
が可能となり、これにより測定の再現性が向上し、測定
時間が短縮する。また、戻り光量を連続的に変えて測定
することもできるので、雑音出力が連続的に測定でき、
精度の高い測定結果が得られる効果もある。
が最大量返るように光学装置の調整を自動で行なうこと
が可能となり、これにより測定の再現性が向上し、測定
時間が短縮する。また、戻り光量を連続的に変えて測定
することもできるので、雑音出力が連続的に測定でき、
精度の高い測定結果が得られる効果もある。
第1図はこの発明の一実施例による光学装置の構成図で
あり、第2図は従来の戻り光維音測定系の光学装置の構
成図である。 図において、1−半導体レーザ、3−・−コリメートレ
ンズ付きアクチュエータ、3a−・−コリメートレンズ
、4−可動ステージ、8−平凸レンズ、9−ビームスプ
リッタ、10−4分割光検知器、11−シリンドリカル
レンズ、12−4分割光検知器、13−ミラー、14−
集光機構としての集光レンズ付きアクチュエータ、14
a−集光レンズ、15−偏光ビームスプリッタ、16・
−・平凸レンズ、17−シリンドリカルレンズ、18−
・−4分割光検知器、19−1 / 4波長板、Ml−
コリメート機構、M2−粗動・微動調整機構、M 3−
集光位置検出機構としての焦点調整機構。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
あり、第2図は従来の戻り光維音測定系の光学装置の構
成図である。 図において、1−半導体レーザ、3−・−コリメートレ
ンズ付きアクチュエータ、3a−・−コリメートレンズ
、4−可動ステージ、8−平凸レンズ、9−ビームスプ
リッタ、10−4分割光検知器、11−シリンドリカル
レンズ、12−4分割光検知器、13−ミラー、14−
集光機構としての集光レンズ付きアクチュエータ、14
a−集光レンズ、15−偏光ビームスプリッタ、16・
−・平凸レンズ、17−シリンドリカルレンズ、18−
・−4分割光検知器、19−1 / 4波長板、Ml−
コリメート機構、M2−粗動・微動調整機構、M 3−
集光位置検出機構としての焦点調整機構。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (2)
- (1)半導体レーザの雑音を測定する光学装置において
、レーザ光を自動的にコリメートするためのコリメート
機構と、コリメート光を光軸に合わせるための粗動・微
動調整機構と、コリメート光をミラー上に自動的に集光
させる集光機構と、同集光機構によつて集光された位置
を検出する集光位置検出機構と、戻り光量を調節する戻
り光量調節機構と、上記レーザ光を分割し戻り光による
雑音出力を検出する雑音出力検出機構とを備えたことを
特徴とする光学装置。 - (2)上記戻り光量調節機構が上記戻り光量を自動で連
続的に変えうる機構として構成されたことを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の光学装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16250386A JPS6316231A (ja) | 1986-07-08 | 1986-07-08 | 光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16250386A JPS6316231A (ja) | 1986-07-08 | 1986-07-08 | 光学装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6316231A true JPS6316231A (ja) | 1988-01-23 |
Family
ID=15755856
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16250386A Pending JPS6316231A (ja) | 1986-07-08 | 1986-07-08 | 光学装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6316231A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106644389A (zh) * | 2015-11-04 | 2017-05-10 | 北京卫星环境工程研究所 | 应用于空间环境试验的高精度五自由度位姿调节机构 |
-
1986
- 1986-07-08 JP JP16250386A patent/JPS6316231A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106644389A (zh) * | 2015-11-04 | 2017-05-10 | 北京卫星环境工程研究所 | 应用于空间环境试验的高精度五自由度位姿调节机构 |
CN106644389B (zh) * | 2015-11-04 | 2019-05-28 | 北京卫星环境工程研究所 | 应用于空间环境试验的高精度五自由度位姿调节机构 |
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