JPS63161616A - 位置ずれ検出装置 - Google Patents

位置ずれ検出装置

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JPS63161616A
JPS63161616A JP61307924A JP30792486A JPS63161616A JP S63161616 A JPS63161616 A JP S63161616A JP 61307924 A JP61307924 A JP 61307924A JP 30792486 A JP30792486 A JP 30792486A JP S63161616 A JPS63161616 A JP S63161616A
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    • GPHYSICS
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [a業上の利用分野] 本発明は、位置検出装置にかかるものであり、特に露光
装置の投影光学系の焦点位置検出に好適な位置検出装置
に関するものである。
[従来の技術] 従来の焦点位置検出に使用される位置検出装置としては
、例えば、特開昭56−42205号公報に開示された
ものがある。
以下、添付図面を参照しながら、かかる従来装置につい
て説明する。第2図には、前記公報に開示された装置の
光学系の概略が示されている。
この第2図(A)において、光源10から出力された焦
点位置検圧用の照明光は、集光レンズ12で集光された
後、スリット14を照明する。
このスリット14を透過した照明光は、結像レンズ16
によってウェハW上に結像光束として照射され、スリッ
ト14の像141がウェハW上に形成される。
次に、このウェハW面上で散乱、反射された光は、他の
結像レンズ18を介して、受光側スリット20に結像し
、この受光側スリット20上に像20Iが形成される。
上述した受光側スリット20を入射光軸方向から見ると
、第2図(B)に示すような形状となる。
受光側スリット20を通過したウェハWからの反射光は
、光電変換素子22によって電気信号に変換され、焦点
位置検出信号どして図示しない信号処理回路に出力され
る。
このときのウェハWのZ方向の変位ないし位置変化と、
光電変換素子22からの出力信号Iとの関係は、例えば
第3図に示すようになる。この図に示すように、焦点位
2(Z=O)は、出力信号!のピーク点に対応する。従
フて、このピーク点を検出することにより、焦点位置の
検出を行うことができる。
実際の信号処理に際しては、Z方向の方向性が考慮され
、ウェハWのZ方向の位置に対してクローズドサーボコ
ントロールが行なわねる。このため、上述した受光側ス
リット2oとその像201とを、検出方向に相対的に変
調する手段、例えば振動ミラーを、結像レンズ18と受
光側スリット20との間に挿入する。
そして、かかる手段によって変調された位置検出信号を
得、その変調周波数に対する同期位相検波を行うことに
よって、位置検出を行うようにする。この場合の検出信
号は、例えば第4図に示すようなSカーブとなる。
このような方法によると、ウェハWの位置が、焦点位置
すなわちZ=0の位置に対してわずかにずれたとしても
、z=0となる位置づれ方向をそのSカーブから知るこ
とができる。すなわち、ウェハWをいづれの方向に移動
させると焦点位置となるかという方向を、簡易に知るこ
とができる。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、以上のような位置検出の範囲は、変調さ
れた像201が、受光側スリット20をわずかでも通過
できる範囲に限られ、第4図に図示した±ZAの範囲(
いわゆるダイナミックレンジに相当)となる。
例えば、第2図(A)に破線で示すように、ウェハWの
表面位置がZ=Oの合焦位置から大きくずれた場合には
、像20Iは、受光側スリット20の位置から大きく離
れた位置に形成されることとなる。
このような破線位置は、第4図において、位置zBに対
応する。この場合は、全く検出信号を得ることができな
い。このため、焦点位置ずなわちz=0のウェハ移動方
向がどちらにあるかを全く認識することができない。
従って、ウェハWを適当に上下方向に移動させて、検出
信号を得ることができる位置を求めるというサーチ動作
が必要になる。
このような方法では、ウェハWが±ZAの範囲にあって
直ちに焦点位置方向を認識できる場合と比較して、位置
検出に多大の時間を要し、スルーブツトの点で著しく劣
るという不都合がある。
この発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、広
いダイナミックレンジで速やかに位置検出を行って、位
置補正を良好に高スルーブツトで行うことかできる位置
検出装置を提供することを、その目的とするものである
[問題点を解決するための手段コ この発明は、斜め方向からの光ビームの位置検出対象物
体表面による反射光が受光されたときに、第一の光電信
号を出力する第一の受光手段とを育するとともに、この
第一の受光手段は、前記対象物体の位2かあらかじめ定
められた設定位置とほぼ一致したときに、前記反射光を
受光する受光領域を備え、この受光領域に対する前記反
射光の受光位置の変化に基づいて、前記設定位置に対す
る餌記物体表面の相対的位置を検出する位置検出装置に
かかるものであり、前記反射光が前記受光領域からずれ
たときに第二の光電信号を出力する第二の受光手段と、
この第二の光電信号の入力に基づいて、前記設定位置に
対する前記物体表面位置のずれの方向を検出するずれ方
向検出手段とを備えたことを技術的要点とするものであ
る。
[作用] この発明によれば、対象物体の設定位置に対する位置ず
れの程度が太き(、第一の受光手段に反射光か入射しな
いときても、第二の受光手段に反射光が入射し、第二の
光電信号が得られる。
この第二の光電信号が得られると、ずれ方向検出手段に
よって、対象物体の設定位置に対する位置ずれ方向か検
出される。
対象物体の位置ずれの修正は、この検出されたずれ方向
を考、慮して行われる。
[実施例] 以下、本発明の実施例を、添付図面を参照しなから詳細
に説明する。なお、上述した従来技術と同線の構成部分
には、同一の符号を用いることとする。第1図は本実施
例による焦点検出装置の全体的な構成を示し、基本的に
は従来のものと同一である。
第5図には、本発明にかかる第一実施例の受光体におけ
る充電変換面の構成例が示されている。
この図において、受光面30上には、3つの独立して光
信号検出の可能な受光領域30Aないし30Cが各々設
けられている。
受光領域30.4は、中央にスリット状に設けられてお
り、これによって得られる検出信号は、第2図に示した
受光側スリット20および光電変換素子22によって得
られる検出信号と全く同様である。
この受光領域30Aからの検出信号か、従来通りの位置
検出信号となる。
次に、受光領域3OAの左右に位置する比較的広い面積
の受光領域30B、30Cは、位置検出のタイナミック
レンジを広げるための検出信号を得るためのものである
。これらの受光領域30B、30Cは、光信号の入射の
有無のみを検出するものである。
以上のような受光面30を有する受光体32は、英1図
に示すように、ウェハWによって正規反射ないし散乱さ
れた光信号(以下では単に反射光とする)の受光111
jに、振動ミラー34を介して酉装置ざnている。
次に、第6図を参照しながら、検出信号処理装置の一例
について説明する。
第6図において、上述した受光領域30Aの出力側は、
アンプ36を介して同期検波回路38の入力端に接続さ
れている。この同期検波回路38には、第1図の振動ミ
ラー34の振動の基準信号が入力されている。
次に、かかる同期検波回路38の出力側は、一方におい
て、コンパレータ40の入力端に+l IIされており
、他方において、選択スイッチ42の入力(!!!Iに
接続されている。コンパレータ40の出力111は、コ
ンピュータ440入力端に接続されており、その出力側
は、上述した選択スイッチ42に接読されている。
かかる選択スイッチ42の出力側は、サーボアンプ46
のプラス入力端に接続されて、おり、そのマイナス入力
端はアースされている。
サーボアンプ46の出力側は、ウェハWが@冒されてい
るZステージ48(第1図参照)をZ方向に駆動する駆
動モータ50に接続されている。
他方、受光領域30B、30Cの出力側は、各々アンプ
52.54を介して、フィルタ56゜58の入力端に接
読されている。これらフィルタ56.58の出力側は、
各々引算器60の入力側に接続されており、この引算器
60の出力側は、コンパレータを介して、上述したコン
ピュータ44に接続されている。
次に、上記第一実施例の作用動作について、第7図のフ
ローチャートを参照しながら説明する。
まず、ウェハWからの反射光が良好に受光体32の受光
領域30Aに入射している場合について説明する。
この場合には、受光領域30Aから検出信号が出力され
る。このため、同期検波回路38の出力であるAF信号
SS、又は2倍周波数の同期検波信号が、コンパレータ
40の比較入力よりも大きくなり、コンパレータ40の
出力信号S1は、論理値の「H」となる。この信号S1
がコンピュータ44に入力され、ここでサーボ制御可能
範囲か否かが判断される(第7図ステップ100参照)
ここでサーボ制御可能であると判断されると、コンピュ
ータ44から切替信号S3が選択スイッチ42に入力さ
れ、AF信号SSが直接サーボアンプ46に入力されて
、駆動モータ50によるZステージ48のサーボ制御が
行われる(ステップ102参照)。
そして、AF信号SSが、ほぼ;となったか否かが判断
され(ステップ104参照)、零となったときには、駆
動モータ50が停止されて(ステップ106参照)、制
御動作が終了する。
以上の動作は、第2図に示したものと同様である。
次に、例えば第2図に破線で示したように、ウェハWが
合焦位晋CZ=O>から太きくずれている場合について
説明する。
この場合、従来の装置では、第4図を参照して説明した
ように、全く検出信号を得ることができない。
上述した受光体32の受光領域30Aには、光信号(ウ
ェハWからの反射光)が入射しないため、コンパレータ
40の出力S1は、論理値の「L」となる。このため、
コンピュータ44によってサーボ制御が不可能であると
判断される(ステップ100参照)。
他方、受光領域30Cには光信号が入射するため、検出
信号が得られる。この信号は、アンプ54で増幅され、
フィルタ58で必要な周波数成分が取り出されたのち、
検出信号1rとして引算器60に入力される。
他方、この受光領域30Cと反対側の受光領域30Bに
は、光信号が入射しないため、検出信号は得られない。
このため、例えば負の信号が引算器60からコンパレー
タ62に入力される。コンパレータ62では、かかる入
力信号と、所定の基準信号とが比較され、論理値の「L
」の信号S2がコンピュータ44に出力される。
コンピュータ44では、信号S2の入力によって、ウェ
ハWに位置づれが生じているものと判断される(ステッ
プ108参照)。
また、コンピュータ44では、かかる信号S2の論理値
に基いて、光信号が受光面30の受光領域30C側、す
なわち第5図の右側に入射していることが認識される。
そして、以上のような判断に基き、コンピュータ44か
ら切替43号S3が選択スイッチ42に入力されて接続
の切替か行われ1、コンピュータ44がサーボアンプ4
6に接続される。これによって、制御信号S4がサーボ
アンプ46に入力され、Zステージ48の駆動が行われ
る(ステップ110参照)。
この2ステージ48の駆動の方向は、受光領域30Cに
入射している光信号が受光領域30Aに入射する方向、
すなわち位置づれを修正する方向であり、上述した信号
S2の論理値によって定められる。
以上の制御か行われると、ウェハWからの反射光は、や
がて中央の受光頑j或30Aに入射するようになる。上
述したように、受光vB域30Aに光信号が入射するよ
うになると、AF信号SSによって直接サーボ制御を行
うことができる。
このため、信号Stが入力されてサーボ制御が可能か否
かがコンピュータ44で判断され(ステップ112参照
)、可能と判断されたときには、切替信号S3が彦根ス
イッチ42に出力されて、上述したAF信号SSによる
サーボ制御に移行する(ステップ112,102.10
4゜106参照)。
なお、上述した特開昭56−42205号公報に開示さ
れているように、受光体32の受光面30における像は
、振動ミラー34の振動によって微小に振動しているが
、受光領域30B、30Cは、光信号の入射の有無のみ
を検出しているので、その振動による景三響はない。
以上にように、この第一実施例によれは、受光領域30
B、30Cを設けることによって、位蓋検出光学系のケ
ラレ等によって光信号か受光面30に到達しなくなると
ころまでダイナミンクレンジを拡げることが可能となる
。具体的には、ウェハWの厚さのバラツキや、Zステー
ジ48の移動ストロークをもカバーする公さのダイナミ
ックレンジを得ることか可能となる。
次に、第8図を参照しながら、この発明の第三実施例に
ついて説明する。
上述した第一実施例では、受光体32の受光面30を分
割しているが、この第三実施例は、各受光領域間に、適
宜の間隔を設けたものである。
第8図において、第1図の受光面30に対応する受光面
70には、中央に、受光領域70Aが設けられており、
その左右には、所定の間隔DAをおいて、受光領域70
B、70Cが各々設けられている。
受光領域70Aによる光信号の入射時の検出信号の変化
は、同図CB)に示すようにウェハWの位置変化に対し
てSカーブとなり、ダイナミックレンジはMAで示す範
囲となる。
また、受光領域70B、70Cから出力される検出信号
出力は、同図(C)に示すように、つエバWの位置変化
に対して、グラフMB、MCで各々示すようになり、ウ
ェハWないしZステージ48の位置制御の方向を検出で
きる範囲は、MD、?JEの範囲である。
上述した間’A D Aは、同図(B)のダイナミック
レンジMAと、同図(C)の制御方向検出範囲MD、M
Eとか不連続とならないように設定される。
この第二実施例によれば、受光領域70Aと受光領域7
0B、70Cとの間に、間隔DAを各々設けることとし
たので、例えば、これらの受光領域7OAないし70C
として光学的フィルタ(開口等)を使用し、これに入射
してくるウェハWからの反射光の透最側に光電変換素子
を貼付けることが可n旨となる。
次に、第9図を参照しながら、この発明の第三実施例に
ついて説明する。
この第三実施例では、上述した第二実施例と比較して、
受光領域間;二重に大きな間隔を取ることが出来るよう
にしたものである。
第9図(A)において、受光面72の中央の位置検出用
の受光領域72Aと、位置づれ方向検出用の受光領域7
2=B、72Cとの間には、第8図(A)に示す間隔D
Aよりも大きな間隔DBが設けられている。
また、受光領域72B、72Cの上下端部(IIIを、
受光領域72Aの上下端部側の方向にオーバーハングさ
せた構成となっている。
受光領域72Aの長さは、送光側スリット14(第1図
参照)の長さより相対的に短かくされており、受光領域
72Aに入射する光信号の一部か受光領域72B、72
Cにも入射するようになっている。
同図(B)は、受光領域72Aにおける位置検出のため
のSカーブであり、同図(C) j、f、受光領域72
B、72Cからの検出信号NA、NBを各々示すもので
ある。
更に、同図(D)は、同図(C)に示す検出信号NA、
NBの差に該当する位置つれ方向検出信号である。この
信号は、第6図の引算器60から出力されるものである
なお、受光領域72B、72Cの受光領域72Aに対す
るオーバーハング量は、同図(C)に示すように、受光
領域72B、72Cの出力検出信号NA、NBの立上り
部分が設定位置、すなわちほぼ焦点位置(2=0)近傍
で交差するように設定する必要がある。この実施例では
、受光領域72Aの中心線上まで、受光領域72B。
72Cをオーバーハングさせている。
次に、第10図を参照しながら、この発明の第四実施例
について説明する。
この第四実施例は、第9図で示した第三実施例に対し、
市販されている矩形の光電変換素子を用いることができ
るようにしたものである。
第10図において、受光面74は光学的フィルタを形成
しており、スリット74Aと開口部74B、74C,7
4D、74Eから成っている。
開口部74B、74C,74D、74Eの透過側には、
同図に破線で示すように、光電変換素子が各々貼付され
ている。
これらのうち1、開口部74B、74Cを各々透過した
反射光による光電変換素子の出力の加算が、第9区(C
)の検出信号NAに該当する。
また、開口部74D、74Eを各々透過した反射光によ
る充電変換素子の出力の加算が、第9図(C)の検出信
号NBに該当する。
次に、7JJ11図を参照しながら、この発明の第五実
施例について説明する。
この実施例は、上述した第一実施例における位置づれ方
向検出用の受光領域を、位置検出用の受光領域に対して
、いづれが一方のみに設けたものである。
第11図において、受光面76の中央には、受光領域7
6Aが設けられており、その右側には、受光領域76B
か設けられている。
この実施例のように、位置つれ方向検出用の受光領域を
片側にのみ設けた場合には、受光領域76Bから信号出
力か得られる場合と、得られない場合とを比較して、受
光面76上における反射光の位置、ないしはウェハWの
Z方向の位置つれ方向を知ることができる。
以上説明したように、この発明の実施例によれば、測定
対象の位置づれ方向を容易に知ることができ、位置検出
を速やかに行うことができる。
この発明を、平面度の悪いウェハや、厚さバラツキの大
といウェハ等のような被測定部の位置度。
勅が大きい場合に適用すると、特に有効である。
なお、本発明は何ら上記実施例に限定されるものではな
く、例えば第五実施例のように受光領域を配置する方式
は、第一実施例に限らず、その他の実施例にも適用可能
である。
また、受光領域を透過した光信号を、適宜の光学手段、
例えば集光レンズ、光ファイバ等を用いて集光あるいは
導光し、異った位置の異った形状の光電変換素子によっ
て、検出信号を得るようにしてもよい。
また、上記第6図の信号処理回路では、同期検波回路か
ら出力される信号(AF信号SS)の大きさに基いて、
サーボ制御可能かどうかを判断しているが、実際の装置
では、第12図に示す方法でサーボ範囲を判断するよう
にしている。第12図において、(A)は第4図に示し
たSカーブである。これは、受光領域からの検出信号を
、振動ミラーの振動周波数で同期検波したものである。
ところで、かかる同期検波を、該を辰動周波数の2倍の
周波数で行うと、同図(B)に示すような位置づれのな
い状態でビークとなる信号波形を得ることがでとる。サ
ーボ制御可能範囲か否かは、かかる信号を適当なレベル
でスライス(2値化)することによって、同図(C)に
示すように容易に得ることができる。そして、この2値
化された信号か「H」レベルのときは、Sカーブ信号(
AF信号SS)を参照してサーボ動作に切りかえられる
[発明の効果〕 以上のようにこの発明によれは、位置検出用の受光手段
の近辺に、他の受光手段を配置して、位置検出対象物体
からの光信号を検出することとしたので、位置検出のダ
イナミックレンジが拡大されて対象物体の位置づれ方向
を良好に検出できるようになり、光信号のサーチ動作が
不要となって、検出時間の短縮を図ることができるとい
う効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の第一実施例を示す構成図、第2図は
従来装置の位置例を示す構成図、第3図および第4図は
第2図の装置の動作を説明する線図、第5図は第一実施
例の主要部分を示す平面図、第6図は第一実施例の信号
処理装置を示す回路ブロック図、第7図は第一実施例の
動作を示すフローチャート、第8図ないし第12図はこ
の発明の他の実施例を示す説明図である。 [主要部分の符号の説明コ 30.70,72,74.76・・・受光面、30Aな
いし30C,7OAないし70C972Aないし72C
,74Aないし74C976Aないし76B・・・受光
領域、34・・・振動ミラー、38・・・同期検波回路
、40.62・・・コンパレータ、44・・・コンピュ
ータ、46・・・サーボアンプ、48・・・Zステージ
、W・・・ウェハ。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ほぼ平坦な表面を有する位置検出対象物体に斜め
    方向から光ビームを照射する照明手段と、前記物体から
    の反射光が受光されたときに、第一の光電信号を出力す
    る第一の受光手段とを有するとともに、 該第一の受光手段は、前記対象物体の位置があらかじめ
    定められた設定位置とほぼ一致したときに、前記反射光
    を受光する受光領域を備え、該受光領域に対する前記反
    射光の受光位置の変化に基づいて、前記設定位置に対す
    る前記物体表面の相対的位置を検出する位置検出装置に
    おいて前記反射光が前記受光領域からずれたときに第二
    の光電信号を出力する第二の受光手段と、該第二の光電
    信号の入力に基づいて、前記設定位置に対する前記物体
    表面位置のずれの方向を検出するずれ方向検出手段とを
    備えたことを特徴とする位置検出装置。
  2. (2)前記第二の受光手段は、前記受光領域の両脇に、
    第一及第二の受光領域を各々有し、 前記ずれ方向検出手段は、該第一及第二の受光領域から
    各々得られる光電信号の差を演算する引算手段を有する
    特許請求の範囲第1項記載の位置検出装置。
  3. (3)前記反射光は、前記物体表面上でスリット状の断
    面を有する結像光束であり、 前記第一の受光手段の受光領域は、該反射光の断面に対
    応する形状に合わせてスリット状に形成され、 前記第一及第二の受光領域は、該第一の受光手段の受光
    領域の長手方向と直交する方向に該受光領域を挟んで配
    置され、 前記第二の受光手段は、前記反射光が前記第一の受光手
    段の受光領域に入射しているときに、該反射光の一部を
    受光し得る第三の受光領域を有する特許請求の範囲第1
    項記載の位置検出装置。
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