JPS63158504A - 偏光板とその製造方法 - Google Patents
偏光板とその製造方法Info
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- JPS63158504A JPS63158504A JP61307036A JP30703686A JPS63158504A JP S63158504 A JPS63158504 A JP S63158504A JP 61307036 A JP61307036 A JP 61307036A JP 30703686 A JP30703686 A JP 30703686A JP S63158504 A JPS63158504 A JP S63158504A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は液晶表示素子等の表示素子に用いる偏光板とそ
の製造方法に関する。
の製造方法に関する。
偏光板を偏光軸が直交するように液晶を封入した電極セ
ルの上下両面に配して、印加電圧の有無により数値表示
等の所望のパターンが表示できる液晶表示装置が既に実
用化されている。従来の液晶表示装置は上記のように一
定方向の偏光軸を有する偏光板を直交させる方法がとら
れているが、同一基板上に偏光方向が相直交する２つの
領域を持つ偏光板が実現できれば、液晶表示素子等の高
機能化の実現、例えば平板型液晶立体表示装置の実現が
可能となる。すなわち一対の基板間に液晶を挟持した単
純マトリクス型液晶パネル、あるいは、アクティブマト
リクス型液晶パネルにおいて。
ルの上下両面に配して、印加電圧の有無により数値表示
等の所望のパターンが表示できる液晶表示装置が既に実
用化されている。従来の液晶表示装置は上記のように一
定方向の偏光軸を有する偏光板を直交させる方法がとら
れているが、同一基板上に偏光方向が相直交する２つの
領域を持つ偏光板が実現できれば、液晶表示素子等の高
機能化の実現、例えば平板型液晶立体表示装置の実現が
可能となる。すなわち一対の基板間に液晶を挟持した単
純マトリクス型液晶パネル、あるいは、アクティブマト
リクス型液晶パネルにおいて。
第１の基板の奇数番目の画素ラインに対応する領域に偏
光方向が画素ライン方向と一致する方向を有する偏光板
を形成し、偶数番目の画素ラインに対応する領域に偏光
方向が前記奇数番目の画素ライン上に形成した偏光板と
偏光方向が９０°異なり。
光方向が画素ライン方向と一致する方向を有する偏光板
を形成し、偶数番目の画素ラインに対応する領域に偏光
方向が前記奇数番目の画素ライン上に形成した偏光板と
偏光方向が９０°異なり。
かつガラス面に平行な方向の偏光方向を有する偏光板を
形成し、第２の基板上には第１の基板上に形成した偏光
板のどちらか一方の偏光方向を有する偏光板を形成し、
かつ左右の眼鏡に偏光方向が９０°異なる直線偏光板を
とりつけ、該眼鏡を通して観察することにより、奇数番
目の画素ラインに対応する領域の偏光板を通して得られ
る画像はその偏光方向と一致した偏光方向を有する眼鏡
を通してのみ得られる。一方、偶数番目の画素ラインに
対応する領域の偏光板を通して得られる画像はその偏光
方向と一致した偏光方向を有する眼鏡を通してのみ得ら
れる。このように左眼用の画像と右眼用の画像とを分離
して観察することにより立体表示を創り出すことができ
る。
形成し、第２の基板上には第１の基板上に形成した偏光
板のどちらか一方の偏光方向を有する偏光板を形成し、
かつ左右の眼鏡に偏光方向が９０°異なる直線偏光板を
とりつけ、該眼鏡を通して観察することにより、奇数番
目の画素ラインに対応する領域の偏光板を通して得られ
る画像はその偏光方向と一致した偏光方向を有する眼鏡
を通してのみ得られる。一方、偶数番目の画素ラインに
対応する領域の偏光板を通して得られる画像はその偏光
方向と一致した偏光方向を有する眼鏡を通してのみ得ら
れる。このように左眼用の画像と右眼用の画像とを分離
して観察することにより立体表示を創り出すことができ
る。
しかしながら前記のような同一基板上に偏光方向が相直
交する２つの領域を持つ偏光板を実現する方法としては
、偏光方向が直交する２つの偏光板を画素ラインごとに
貼付ける方法しか従来提案されていない。
交する２つの領域を持つ偏光板を実現する方法としては
、偏光方向が直交する２つの偏光板を画素ラインごとに
貼付ける方法しか従来提案されていない。
然るにこのような方法では隣接する偏光膜間の間隙をな
くすように貼付するのが困難であり、また経時変化によ
り偏光膜が透明基板より剥離して品質安定な偏光板が得
にくいという欠点がある。
くすように貼付するのが困難であり、また経時変化によ
り偏光膜が透明基板より剥離して品質安定な偏光板が得
にくいという欠点がある。
本発明の目的は前記問題点を解決し、同一基板上に２つ
の偏光領域が高精細に形成された偏光板とその製造方法
を提供することにある。
の偏光領域が高精細に形成された偏光板とその製造方法
を提供することにある。
本発明は。
（１）一定方向の偏光方向を有する微細な直線偏光領域
と、前記偏光領域以外のすべての領域にわたって形成さ
れた、前記直線偏光領域の偏光方向と相直交する偏光方
向を有する直線偏光領域を同一基板上に具備したことを
特徴とする偏光板、および。
と、前記偏光領域以外のすべての領域にわたって形成さ
れた、前記直線偏光領域の偏光方向と相直交する偏光方
向を有する直線偏光領域を同一基板上に具備したことを
特徴とする偏光板、および。
（２）一定方向の偏光方向を有する微細な直線偏光領域
と、前記偏光領域以外のすべての領域にわたって形成さ
れた、前記直線偏光領域の偏光方向と相直交する偏光方
向を有する直線偏光領域を同一基板上に具備し、前記基
板上に形成した相直交する直線偏光領域上にλ／４層を
形成したことを特徴とする偏光板、並びに この偏光板を製造する方法、すなわち。
と、前記偏光領域以外のすべての領域にわたって形成さ
れた、前記直線偏光領域の偏光方向と相直交する偏光方
向を有する直線偏光領域を同一基板上に具備し、前記基
板上に形成した相直交する直線偏光領域上にλ／４層を
形成したことを特徴とする偏光板、並びに この偏光板を製造する方法、すなわち。
（３）偏光素膜とこれを保持する透明基板とからなる偏
光板を製造するに際し、一方向に延伸した偏光素膜の表
面に感光性樹脂を塗布して乾燥した後、写真原板の所望
のパターンを感光させ、該写真原板のパターンの透明部
分のみを感光硬化させ、現像により未硬化部分を溶解除
去して元の透明な偏光素膜を露呈させ、この露呈した透
明な偏光素膜に沃素、染料等を吸着させ、偏光膜を形成
した後感光硬化部分を剥離し、その後前記偏光素膜の延
伸方向と相直交する方向に第２の偏光素膜を形成し、以
下前記写真原板パターンと反転パターンとを有する写真
原板を用い、前記操作を繰り返し偏光方向が相直交する
２つの偏光領域を同一基板上に形成することを特徴とす
る偏光板の製造方法である。
光板を製造するに際し、一方向に延伸した偏光素膜の表
面に感光性樹脂を塗布して乾燥した後、写真原板の所望
のパターンを感光させ、該写真原板のパターンの透明部
分のみを感光硬化させ、現像により未硬化部分を溶解除
去して元の透明な偏光素膜を露呈させ、この露呈した透
明な偏光素膜に沃素、染料等を吸着させ、偏光膜を形成
した後感光硬化部分を剥離し、その後前記偏光素膜の延
伸方向と相直交する方向に第２の偏光素膜を形成し、以
下前記写真原板パターンと反転パターンとを有する写真
原板を用い、前記操作を繰り返し偏光方向が相直交する
２つの偏光領域を同一基板上に形成することを特徴とす
る偏光板の製造方法である。
以下１本発明を図面を参照しながら具体的に説明する。
第１図（Ａ）〜（Ｇ）は本発明の偏光板の製造工程を工
程順に示す図である。第１図（Ａ）において、まず一方
向に延伸したポリビニルアルコール（ＰＶＡ）等の高分
子フィルム（偏光素膜）２をＰＶＡ系接着剤を用い、透
明基板１の表面にローラＲにて押しつけてこれを接着す
る。
程順に示す図である。第１図（Ａ）において、まず一方
向に延伸したポリビニルアルコール（ＰＶＡ）等の高分
子フィルム（偏光素膜）２をＰＶＡ系接着剤を用い、透
明基板１の表面にローラＲにて押しつけてこれを接着す
る。
第２図（Ｂ）において、偏光素膜２の表面にホトレジス
トを塗布し１．て乾燥し、感光層３を形成する。
トを塗布し１．て乾燥し、感光層３を形成する。
次いで第１図（Ｃ）のように感光層３に写真原板４を密
着して露光させる。写真原板４は帯状の透明部４ａ及び
不透明部４ｂ、即ち白、黒を縞目状に配列したパターン
を有するものであり、また露光は高圧水銀灯等の灯を３
０秒〜２分程度照射する。前記操作により、感光層３は
写真原板４のパターンの−透明部４ａに対応する箇所の
み感光硬化し、硬化部３ａと未硬化部３ｂとが形成され
る。
着して露光させる。写真原板４は帯状の透明部４ａ及び
不透明部４ｂ、即ち白、黒を縞目状に配列したパターン
を有するものであり、また露光は高圧水銀灯等の灯を３
０秒〜２分程度照射する。前記操作により、感光層３は
写真原板４のパターンの−透明部４ａに対応する箇所の
み感光硬化し、硬化部３ａと未硬化部３ｂとが形成され
る。
第１図（Ｄ）は水または有機溶剤により現像処理をした
状態である。この処理により感光層３の未硬化部は溶解
除去され、透明な偏光素膜２ａの一部が露呈する。第１
図（Ｄ）の処理を経た後、沃素、染料等の偏光性インク
（溶液）に通すことで、第１図（Ｅ）のように光硬化し
た硬化膜面ば着色されず、露呈した偏光素膜２ａのみが
着色された偏光膜５、すなわち、写真原板４の不透明部
４ａに合せた偏光膜５が得られる。
状態である。この処理により感光層３の未硬化部は溶解
除去され、透明な偏光素膜２ａの一部が露呈する。第１
図（Ｄ）の処理を経た後、沃素、染料等の偏光性インク
（溶液）に通すことで、第１図（Ｅ）のように光硬化し
た硬化膜面ば着色されず、露呈した偏光素膜２ａのみが
着色された偏光膜５、すなわち、写真原板４の不透明部
４ａに合せた偏光膜５が得られる。
感光層３の硬化部３ａを、前記偏光膜５が溶解しない溶
剤を使用して剥離し、第１図（Ｆ）のように透明な偏光
素膜２ｂを露呈させた後、前記偏光素膜の延伸方向と相
直交する方向に第２の偏光素膜７を形成し、全面に再び
ホトレジストを塗布して乾燥し、感光層３を形成する。
剤を使用して剥離し、第１図（Ｆ）のように透明な偏光
素膜２ｂを露呈させた後、前記偏光素膜の延伸方向と相
直交する方向に第２の偏光素膜７を形成し、全面に再び
ホトレジストを塗布して乾燥し、感光層３を形成する。
この感光層３に、前記写真原板と全く逆の透明部６ａ及
び不透明部６ｂを有する写真原板６を密着し、前記と同
様に露光、現像処理を行う、その結果、感光層３は写真
原板６の透明部６ａのみ露光硬化して、硬化部と未硬化
部とが形成される。
び不透明部６ｂを有する写真原板６を密着し、前記と同
様に露光、現像処理を行う、その結果、感光層３は写真
原板６の透明部６ａのみ露光硬化して、硬化部と未硬化
部とが形成される。
以下前記偏光膜５の形成方法と同様に現像による偏光素
膜の露呈、沃素、染料等の吸着により第１図（Ｇ）に示
す偏光膜８を形成することにより、同一基板上に２つの
偏光領域を有する偏光板（偏光方向が相直交する直線偏
光膜）を高精細に形成できる。第１図中偏光膜５，８に
示す矢印→、Ｏはそれぞれ偏光方向を示している。
膜の露呈、沃素、染料等の吸着により第１図（Ｇ）に示
す偏光膜８を形成することにより、同一基板上に２つの
偏光領域を有する偏光板（偏光方向が相直交する直線偏
光膜）を高精細に形成できる。第１図中偏光膜５，８に
示す矢印→、Ｏはそれぞれ偏光方向を示している。
次に本発明を実施例により具体的に説明する。
（実施例１）
板厚２００μ〜３５０μトリアセテートフイルム製の透
明基板にポリビ゛ニルアルコールを２〜３．５倍に延伸
配向してなる１５〜３０μの透明偏光素膜を基板片面に
貼合わせて積層板を形成する。この積層板の偏光素膜に
ホトレジスト（東京応化Ｅ、Ｐ、Ｐ、Ｒ） ３ ｇを均
一に塗布し乾燥して膜厚１０〜２５μにした表面に縞目
状の白黒写真原板を当て、高圧水銀灯２ＫＶを用い、１
５〜３５秒間露光した。次いでトリクロルエチレン蒸気
中で２５〜３５秒現像し未露光部の透明偏光素膜を露出
する。この板を沃化カリウム（ＫＩ）に沃素（Ｉ）を添
加した水溶液（２０〜４０℃）中に２〜４分間通し、未
露光部の透明偏光素膜を染色した。
明基板にポリビ゛ニルアルコールを２〜３．５倍に延伸
配向してなる１５〜３０μの透明偏光素膜を基板片面に
貼合わせて積層板を形成する。この積層板の偏光素膜に
ホトレジスト（東京応化Ｅ、Ｐ、Ｐ、Ｒ） ３ ｇを均
一に塗布し乾燥して膜厚１０〜２５μにした表面に縞目
状の白黒写真原板を当て、高圧水銀灯２ＫＶを用い、１
５〜３５秒間露光した。次いでトリクロルエチレン蒸気
中で２５〜３５秒現像し未露光部の透明偏光素膜を露出
する。この板を沃化カリウム（ＫＩ）に沃素（Ｉ）を添
加した水溶液（２０〜４０℃）中に２〜４分間通し、未
露光部の透明偏光素膜を染色した。
次に露出した光硬化皮膜をシンナーでぬぐい取り前記偏
光素膜の延伸方向と相直交する方向にＰＶＡ膜を延伸し
貼合わせ再びホトレジスト（Ｅ、Ｐ、Ｐ、Ｒ）を同様に
塗布後、乾燥して一段ずらした白黒原板を当て、高圧水
銀灯で露光させ、トリクロルエチレン蒸気中で現像し未
露光部の透明偏光素膜を露出する。同様に沃化カリウム
（ＫＩ）に沃素（Ｉ）を添加した水溶液（２０〜４０℃
）中に２〜４分間通し未露光部の透明偏光素膜部を染色
した。露光部はシンナーにてぬぐい去ることで、偏光方
向が相直交する２つの偏光方向を有する直線偏光膜が同
一基板上に得られた。
光素膜の延伸方向と相直交する方向にＰＶＡ膜を延伸し
貼合わせ再びホトレジスト（Ｅ、Ｐ、Ｐ、Ｒ）を同様に
塗布後、乾燥して一段ずらした白黒原板を当て、高圧水
銀灯で露光させ、トリクロルエチレン蒸気中で現像し未
露光部の透明偏光素膜を露出する。同様に沃化カリウム
（ＫＩ）に沃素（Ｉ）を添加した水溶液（２０〜４０℃
）中に２〜４分間通し未露光部の透明偏光素膜部を染色
した。露光部はシンナーにてぬぐい去ることで、偏光方
向が相直交する２つの偏光方向を有する直線偏光膜が同
一基板上に得られた。
（実施例２）
第２図において、まず、実施例１と同様にトリアセテー
トフィルム製の透明基板１の表面に偏光膜８を形成した
。次に前記透明基板１の裏面に、第１の偏光素膜の延伸
方向と相直交する方向に第２の偏光素膜を形成し、実施
例１の場合と同様に一段ずらした白黒原板を用いて露光
、現像、沃素の染色工程を行い前記第１偏光膜の偏光方
向と相直交した直線偏光膜５が得られた。
トフィルム製の透明基板１の表面に偏光膜８を形成した
。次に前記透明基板１の裏面に、第１の偏光素膜の延伸
方向と相直交する方向に第２の偏光素膜を形成し、実施
例１の場合と同様に一段ずらした白黒原板を用いて露光
、現像、沃素の染色工程を行い前記第１偏光膜の偏光方
向と相直交した直線偏光膜５が得られた。
（実施例３）
第３図において、実施例１と同様にトリアセテートフィ
ルム製の透明基板１の表面に偏光膜５を形成した。次に
前記偏光膜５上に前記偏光素膜の延伸方向と相直交する
方向に第２の偏光素膜を形成し、実施例１の場合と同様
に一段ずらした白黒原板を用いて露光、現像、沃素の染
色工程を行うことで前記第１の偏光膜５の偏光方向と相
直交した直線偏光膜８を形成し、その後前記第２の偏光
膜８上にλ／４層９を形成して偏光板を得た。
ルム製の透明基板１の表面に偏光膜５を形成した。次に
前記偏光膜５上に前記偏光素膜の延伸方向と相直交する
方向に第２の偏光素膜を形成し、実施例１の場合と同様
に一段ずらした白黒原板を用いて露光、現像、沃素の染
色工程を行うことで前記第１の偏光膜５の偏光方向と相
直交した直線偏光膜８を形成し、その後前記第２の偏光
膜８上にλ／４層９を形成して偏光板を得た。
（実施例４）
第４図において、実施例２の場合と同様にトリアセテー
トフィルム製の透明基板１の両面に各々偏光方向が相直
交した偏光膜５．８を形成した。その後第１の偏光膜８
上に実施例３と同様にλ／４層９を形成して偏光板を得
た。
トフィルム製の透明基板１の両面に各々偏光方向が相直
交した偏光膜５．８を形成した。その後第１の偏光膜８
上に実施例３と同様にλ／４層９を形成して偏光板を得
た。
（実施例５）
実施例１において、偏光性インクとして、Ｃ，Ｉ。
Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌａｃｋ １１２（住人化学製）２ｇ
を用い前記インクをＩＱの水に溶解してなる染料液（２
０〜３５℃）中に３〜５分間通すことで偏光膜５，８が
得られた。
を用い前記インクをＩＱの水に溶解してなる染料液（２
０〜３５℃）中に３〜５分間通すことで偏光膜５，８が
得られた。
（実施例６）
実施例２において、偏光性インクとしてＣ，Ｉ。
Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌａｃｋ １１２（住人化学製）を用
い前記インク２ｇをＩＱの水に溶解してなる染料液（２
０〜３５℃）中に３〜５分間通すことで偏光膜５，８が
得られた。
い前記インク２ｇをＩＱの水に溶解してなる染料液（２
０〜３５℃）中に３〜５分間通すことで偏光膜５，８が
得られた。
（実施例７）
実施例３において、偏光性インクとしてＣ，Ｉ。
Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌａｃｋ １１２（住人化学製）を用
い、前記インク２ｇをＩＱの水に溶解してなる染料液（
２０〜３５℃）中に３〜５分間通すことで偏光膜５，８
が得られた。
い、前記インク２ｇをＩＱの水に溶解してなる染料液（
２０〜３５℃）中に３〜５分間通すことで偏光膜５，８
が得られた。
（実施例８）
実施例４において、偏光性インクとしてＣ，Ｉ。
Ｄｉｒｅｃｔ Ｂｌａｃｋ １１２（住人化学製）を用
い、前記インク２ｇをＩＱの水に溶解してなる染料液（
２０〜３５℃）中に３〜５分間通すことで偏光膜５．８
が得られた。
い、前記インク２ｇをＩＱの水に溶解してなる染料液（
２０〜３５℃）中に３〜５分間通すことで偏光膜５．８
が得られた。
以上説明したように本発明によれば同一基板上に２つの
偏光領域を高精細に形成でき、偏光膜の剥離がなく、品
質安定な偏光板が得られ、ひいては液晶表示素子などの
高機能化の実現を容易に図ることができる効果を有する
ものである。
偏光領域を高精細に形成でき、偏光膜の剥離がなく、品
質安定な偏光板が得られ、ひいては液晶表示素子などの
高機能化の実現を容易に図ることができる効果を有する
ものである。
第１図（Ａ）〜（Ｇ）は本発明における偏光板の製作工
程を工程順に示す図、第２図、第３図、第４図はそれぞ
れ本発明の実施例を示す断面図である。
程を工程順に示す図、第２図、第３図、第４図はそれぞ
れ本発明の実施例を示す断面図である。
Claims (3)
- （１）一定方向の偏光方向を有する微細な直線偏光領域
と、前記偏光領域以外のすべての領域にわたって形成さ
れた、前記直線偏光領域の偏光方向と相直交する偏光方
向を有する直線偏光領域とを同一基板上に具備したこと
を特徴とする偏光板。 - （２）一定方向の偏光方向を有する微細な直線偏光領域
と、前記偏光領域以外のすべての領域にわたって形成さ
れた、前記直線偏光領域の偏光方向と相直交する偏光方
向を有する直線偏光領域を同一基板上に具備し、前記基
板上に形成した相直交する直線偏光領域上にλ／４層を
形成したことを特徴とする偏光板。 - （３）偏光素膜とこれを保持する透明基板とからなる偏
光板を製造するに際し、一方向に延伸した偏光素膜の表
面に感光性樹脂を塗布して乾燥した後、写真原板の所望
のパターンを感光させ、該写真原板のパターンの透明部
分のみを感光硬化させ、現像により未硬化部分を溶解除
去して元の透明な偏光素膜を露呈させ、この露呈した透
明な偏光素膜に沃素、染料等を吸着させ、偏光膜を形成
して感光硬化部分を剥離し、その後前記偏光素膜の延伸
方向と相直交する方向に第２の偏光素膜を形成し、以下
前記写真原板パターンと反転パターンとを有する写真原
板を用い、前記操作を繰り返し偏光方向が相直交する２
つの偏光領域を同一基板上に形成することを特徴とする
偏光板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61307036A JPS63158504A (ja) | 1986-12-22 | 1986-12-22 | 偏光板とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61307036A JPS63158504A (ja) | 1986-12-22 | 1986-12-22 | 偏光板とその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63158504A true JPS63158504A (ja) | 1988-07-01 |
Family
ID=17964268
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61307036A Pending JPS63158504A (ja) | 1986-12-22 | 1986-12-22 | 偏光板とその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63158504A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03105318A (ja) * | 1989-09-20 | 1991-05-02 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
-
1986
- 1986-12-22 JP JP61307036A patent/JPS63158504A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03105318A (ja) * | 1989-09-20 | 1991-05-02 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
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