JPS63155642A - Automatic sticking system for semiconductor wafer - Google Patents

Automatic sticking system for semiconductor wafer

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Publication number
JPS63155642A
JPS63155642A JP61304787A JP30478786A JPS63155642A JP S63155642 A JPS63155642 A JP S63155642A JP 61304787 A JP61304787 A JP 61304787A JP 30478786 A JP30478786 A JP 30478786A JP S63155642 A JPS63155642 A JP S63155642A
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JP
Japan
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frame
semiconductor wafer
mount frame
mount
error
Prior art date
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Pending
Application number
JP61304787A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Matsuro Kanehara
松郎 金原
Akira Ishihara
明 石原
Shigehisa Kuroda
黒田 繁寿
Kazuhiro Noda
和宏 野田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Priority to JP61304787A priority Critical patent/JPS63155642A/en
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Abstract

PURPOSE:To quickly take measures against a malfunction by installing a means to detect the occurrence of the malfunction at a heating stage of an automatic sticking system for a semiconductor wafer. CONSTITUTION:A wafer 2 inside cassettes 81-84 and a frame 4 inside a loader part 54 are placed on a sticking table 42, and are stuck on an adhesive tape 82 by means of a sticking roller unit 90. A cutting mechanism 108 cuts the tape 82 along the frame 4, and a mounting frame 6 is formed. The frame 6 is transferred to a heating stage 126; after it has been heat-treated at the heating stage 126, it is accommodated by cassettes 1321-1324 at an unloader part via a transfer table 130. Because a mechanism to detect the erroneous remainder of the frame 6 on the stage 126, the mechanism to detect the erroneous feeding operation of the frame 6 from the stage 126, and the mechanism to detect the erroneous receipt of the frame 6 by the transfer table 130 are installed, it is possible to detect a part where a malfunction has occurred at a system and to quickly take measures against the malfunction.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、半導体ウェハのスクライブ工程の前工程にお
いて、半導体ウェハを粘着テープに貼付けるために用い
られる半導体ウェハの自動貼付は装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to an automatic semiconductor wafer affixing apparatus used for affixing a semiconductor wafer to an adhesive tape in a pre-process of a semiconductor wafer scribing process.

〈従来の技術〉 一般に、半導体ウェハのスクライブ工程では、半導体ウ
ェハを粘着テープに貼付けた状態でスクライブを行って
いる。スクライブされた半導体ウェハは、粘着テープに
貼付けられた状態でクラッキングされる。そして、粘着
テープを引き伸ばして、個々の半導体素子を分離し、次
工程であるグイポンディング工程において、半導体素子
を容易に取り扱えるようにしている。
<Prior Art> Generally, in a scribing process for semiconductor wafers, scribing is performed with the semiconductor wafer attached to an adhesive tape. The scribed semiconductor wafer is cracked while attached to the adhesive tape. The adhesive tape is then stretched to separate the individual semiconductor elements so that they can be easily handled in the next process, the bonding process.

このような半導体ウェハを粘着テープに貼付ける工程は
、半導体ウェハのスクライブ工程の前工程として行われ
る。そして、近年の半導体製造ラインの自動化に伴い、
半導体ウェハを粘着テープに貼付ける自動装置の開発が
望まれている。
Such a process of attaching a semiconductor wafer to an adhesive tape is performed as a pre-process of a semiconductor wafer scribing process. With the automation of semiconductor manufacturing lines in recent years,
It is desired to develop an automatic device for attaching semiconductor wafers to adhesive tape.

〈発明が解決しようとする問題点〉 本発明は、このような事情に鑑みて開発された半導体ウ
ェハの自動貼付は装置において、特に、半導体ウェハが
貼付けられたマウント・フレームを加熱処理できると−
トスデージ上のマウント・フレーム残りミス、 前記ヒートステージからのマウント・フレームの押し出
しミス、 ヒートステージから押し出されたマウント・フレームを
受け取ってアンロータ部に搬送するマウント・フレーム
搬送部のマウント・フレーム受け取りミス をそれぞれ検出する機能を備えた半導体ウェハの自動貼
付は装置を提供することを目的としている。
<Problems to be Solved by the Invention> The present invention has been developed in view of the above circumstances, and is directed to an apparatus for automatically attaching semiconductor wafers, in particular, if the mount frame to which the semiconductor wafer is attached can be heat-treated.
A mistake in remaining the mount frame on the tossage, a mistake in pushing out the mount frame from the heat stage, a mistake in receiving the mount frame in the mount frame transport section that receives the mount frame pushed out from the heat stage and transports it to the unrotor section. It is intended to provide a device for automatic pasting of semiconductor wafers with respective detection functions.

このような本発明の目的は、後に行う本発明の詳細な説
明において、さらに明らかにする。
Such objects of the present invention will become clearer in the detailed description of the present invention that follows.

〈問題点を解決するための手段〉 本発明は、上記目的を達成するために、次のような構成
を採る。
<Means for Solving the Problems> In order to achieve the above object, the present invention adopts the following configuration.

即ち、本発明は、オリエンテーションフラットが形成さ
れた半導体ウェハを位置合わせして粘着テープに貼イ」
げる半導体ウェハの自動貼付は装置であって、 前記半導体ウェハが貼付けられた粘着テープを保持して
いるフレーム(マウント・フレーム)が載置され、この
マウント・フレームを加熱処理できるヒートステージと
、 前記ヒートステージ上のマウント・フレームを検出する
第1検出手段と、 前記第1検出手段の検出信号に基づいて、前記ヒートス
テージのフラン]・・フレーム残りミスを判別する第1
エラー判別手段と、 前記ヒートステージに載置されたマウント・フレームを
押し出すマウント・フレーム押し出し機構部と、 前記ヒートステージから押し出されたマウント・フレー
ムを検出する第2検出手段と、前記第2検出手段の検出
信号に基づいて、前記ヒートステージからのマウント・
フレームの押し出しミスを判別する第2エラー判別手段
と、前記ヒートステージから押し出されたマウント・フ
レー1、を受け取って、これをアンロータ部に向りて搬
送するマウント・フレーム搬送部と、前記マウント・フ
レーム搬送部にあるマウント・フレームを検出する第3
検出手段と、−4= 前記第3検出手段の検出信号に基づいて、前記マウント
・フレーム搬送部のマウント・フレーム受け取りミスを
判別する第3エラー判別手段とを備えたことを特徴とし
ている。
That is, the present invention allows a semiconductor wafer on which an orientation flat is formed to be aligned and attached to an adhesive tape.
The automatic attachment of semiconductor wafers is an apparatus comprising: a heat stage on which a frame (mount frame) holding an adhesive tape with the semiconductor wafer attached thereon is placed, and which can heat-process the mount frame; a first detecting means for detecting a mount frame on the heat stage; and a first detecting means for determining a frame remaining error on the heat stage based on a detection signal of the first detecting means.
an error determining means; a mount frame push-out mechanism for pushing out the mount frame placed on the heat stage; a second detection means for detecting the mount frame pushed out from the heat stage; and the second detection means. Based on the detection signal from the heat stage, the mount
a second error determining means for determining a frame extrusion error; a mount frame conveying section that receives the mount frame 1 extruded from the heat stage and conveys it toward the unrotor section; The third part detects the mount frame in the frame transport section.
The present invention is characterized in that it comprises a detection means, and -4=a third error determination means for determining whether the mount frame transport section has received an error in receiving the mount frame based on the detection signal of the third detection means.

〈実施例〉 以下、本発明の一実施例を図面に基づいて詳しく説明す
る。
<Example> Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail based on the drawings.

第1図は、本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は装
置の全体構成を示した概略斜視図、第2図〜第9図は前
記半導体ウェハの自動貼付は装置の各部の構成の概略図
である。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing the overall configuration of the automatic semiconductor wafer attachment device according to the present embodiment, and FIGS. 2 to 9 are schematic diagrams of the configuration of each part of the automatic semiconductor wafer attachment device. It is.

第10図は、本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は
装置によって粘着テープに貼付けられる半導体ウェハ2
と、この半導体ウェハ2を貼付けられた粘着テープを保
持するためのフレーム4と、半導体ウェハ2が貼付げら
れた状態のフレームであるマウント・フレーム6とを示
している。
FIG. 10 shows a semiconductor wafer 2 that is attached to an adhesive tape by an apparatus for automatic attachment of semiconductor wafers according to this embodiment.
, a frame 4 for holding the adhesive tape to which the semiconductor wafer 2 is attached, and a mount frame 6 which is the frame to which the semiconductor wafer 2 is attached.

半導体ウェハ2の外周部には、平坦な切り欠き面である
オリエンテーションフラン1−OFが形成されている。
An orientation flange 1-OF, which is a flat cutout surface, is formed on the outer periphery of the semiconductor wafer 2.

このオリエンテーションフラyl’0Fを基準として、
素子パターンが半導体ウェハ2に形成されている。
Based on this orientation flyl'0F,
An element pattern is formed on a semiconductor wafer 2.

フレーム4は、リング状の金属板又は樹脂板であって、
その外周部には、後述するフレーム4の位置合わせの際
に使用されるVノツチ43,4□が形成されている。
The frame 4 is a ring-shaped metal plate or resin plate,
V-notches 43, 4□ are formed on the outer periphery of the frame 4 to be used when aligning the frame 4, which will be described later.

本実施例に係る半導体ウェハの自動貼イ1り装置は、」
二連した半導体ウェハ2をウェハ・ローダ部から、フレ
ーム4をフレーム・ローダ部からそれぞれ個別に供給し
て粘着テープに貼付け、最終的にはマウント・フレーム
6をアンロータ部に収納するようになっている。
The automatic bonding device for semiconductor wafers according to this embodiment is as follows:
The two series of semiconductor wafers 2 are individually supplied from the wafer loader section and the frame 4 is supplied from the frame loader section and attached to the adhesive tape, and finally the mount frame 6 is stored in the unrotor section. There is.

以下、本装置の各部の構成を説明する。The configuration of each part of this device will be explained below.

第1図に示す符号8(8,〜84)は、ウェハ・ローダ
部にセットされたウェハ・カセットである。ウェハ・カ
セット8は、複数枚の半導体ウェハ2をそれぞれ水平状
態に保持して、等間隔に上下方向に収納している。本実
施例では、二つのウェハ・ローダ部があり、左のウェハ
・ローダ部にウェハ・カセット81,8□が、右のウェ
ハ・ローダ部にウェハ・カセット83,84がそれぞれ
セントできる。各ウェハ・ローダ部は、上下方向に移動
可能に構成されているとともに、ウェハ・カセット8内
の半導体ウェハ2を検出して、これを押し出すことによ
って半導体ウェハ2の供給を行っている。
Reference numeral 8 (8, to 84) shown in FIG. 1 is a wafer cassette set in the wafer loader section. The wafer cassette 8 holds a plurality of semiconductor wafers 2 horizontally and stores them vertically at equal intervals. In this embodiment, there are two wafer loader sections, wafer cassettes 81 and 8□ can be loaded into the left wafer loader section, and wafer cassettes 83 and 84 can be loaded into the right wafer loader section. Each wafer loader section is configured to be movable in the vertical direction, and supplies the semiconductor wafers 2 by detecting the semiconductor wafers 2 in the wafer cassette 8 and pushing them out.

各ウェハ・ローダ部に備えられるウェハ押し出し機構は
、第2図に示されている。即ち、左のウェハ・ローダ部
には、モータで駆動されるウェハ押し出し機構10が、
右のウェハ・ローダ部には、エアーシリンダで駆動され
るウェハ押し出し機構12がそれぞれ設けられている。
The wafer push mechanism provided in each wafer loader section is shown in FIG. That is, in the left wafer loader section, a wafer pushing mechanism 10 driven by a motor is installed.
The right wafer loader section is provided with a wafer pushing mechanism 12 driven by an air cylinder.

各ウェハ・ローダ部から供給された半導体ウェハ2は、
この半導体ウェハ2を位置合わせするための半導体ウェ
ハ位置合わせ部14に搬送される。
The semiconductor wafers 2 supplied from each wafer loader section are
This semiconductor wafer 2 is transported to a semiconductor wafer alignment section 14 for alignment.

半導体ウェハ2は、第2図に示す搬送ベルト16によっ
て半導体ウェハ位置合わせ部14に搬送される。この搬
送ヘルド16は、モータ18によって正逆方向に駆動さ
れる。
The semiconductor wafer 2 is transported to the semiconductor wafer alignment section 14 by a transport belt 16 shown in FIG. This transport heald 16 is driven by a motor 18 in forward and reverse directions.

半導体ウェハ位置合わせ部14は、搬送されてきた半導
体ウェハ2を受け取って、オリエンテーションフラット
OFの位置合わセを行うアライメント・テーブル20と
、半導体ウェハ2の中心をアライメント・テーブル20
の中心に一致させるように半導体ウェハ2の位置合ねせ
を行う中心位置合わせ板22..22□などを含む。
The semiconductor wafer alignment unit 14 includes an alignment table 20 that receives the transferred semiconductor wafer 2 and aligns the orientation flat OF, and an alignment table 20 that aligns the center of the semiconductor wafer 2 with the alignment table 20.
A center alignment plate 22. which aligns the semiconductor wafer 2 so that it aligns with the center of the center of the semiconductor wafer 2. .. Including 22□ etc.

アライメント・テーブル20は、半導体ウェハ2を吸着
保持するだめの真空チャックを備えている。Vl、1は
、この真空チャックの入/切を行う電磁弁、PIJSW
Iは、真空チャック内の圧力低下を検出してON状態に
なる圧力スイフチである。
The alignment table 20 is equipped with a vacuum chuck that holds the semiconductor wafer 2 by suction. Vl, 1 is a solenoid valve that turns on/off this vacuum chuck, PIJSW
I is a pressure switch that detects a pressure drop within the vacuum chuck and turns on.

また、このアライメント・テーブル20は、パルスモー
タ24によって回動可能に構成されているとともに、エ
アーシリンダ26によって上下方向に移動可能に構成さ
れている。
Further, this alignment table 20 is configured to be rotatable by a pulse motor 24 and configured to be movable in the vertical direction by an air cylinder 26.

中心位置合わゼ板22.,22□は、上限位置にあるア
ライメント・テーブル20を介して対向する位置に設け
られている。各中心位置合わせ板22、.22□の対向
面側には、半導体ウェハ2の外形に対応した円弧状の基
準面が形成されている。中心位置合わせ仮22.,22
2は、エアーシリンダ28で駆動されるリンク機構によ
って、水平方向に移動可能に構成されている。
Center alignment plate 22. , 22□ are provided at positions facing each other with the alignment table 20 at the upper limit position interposed therebetween. Each center alignment plate 22, . An arc-shaped reference surface corresponding to the outer shape of the semiconductor wafer 2 is formed on the opposite surface side of the 22□. Temporary center alignment 22. ,22
2 is configured to be movable in the horizontal direction by a link mechanism driven by an air cylinder 28.

アライメント・テーブル20の両側には、搬送ヘルド1
6に乗って搬送されてきた半導体ウェハ2を受け止める
ためのウニハス1ツバ−30,。
On both sides of the alignment table 20, there are transport healds 1.
A sea urchin hut 1 collar 30, for receiving the semiconductor wafer 2 conveyed on the sea urchin wafer 6.

302がある。ウェハストッパー30..30゜は、図
示しないエアーシリンダによって揺動される。左のウェ
ハ・ローダ部から半導体ウェハ2が供給されている場合
には、右のウェハストッパー30□が、右のウェハ・ロ
ーダ部から半導体ウェハ2が供給されている場合には、
左のウェハストッパー301が、それぞれ上昇して、搬
送されてきた半導体ウェハ2を受け止める。
There are 302. Wafer stopper 30. .. It is swung by 30 degrees by an air cylinder (not shown). When the semiconductor wafer 2 is supplied from the left wafer loader section, the right wafer stopper 30 □ is pressed, and when the semiconductor wafer 2 is supplied from the right wafer loader section,
The left wafer stoppers 301 each rise to receive the semiconductor wafer 2 that has been transported.

第2図に示す符号32は、アライメント・テーブル20
に吸着保持されて回転している半導体ウェハ2のオリエ
ンテーションフランl−OFの端部を検出するために、
3Miの透過型の光電素子P L(SWL、2.3を備
えたオリエンテーションフラット端部検出部である。こ
のオリエンテーションフラット端部検出部32は、第3
図に示すように、前記光電素子PH3W1.2.3の発
光部36と受光部38とがエアーシリンダ34によって
開閉自在になるように構成されている。このような3組
の透iM型の光電素子PH3W1.2.3を使用するの
は、半導体ウェハ2の大きさに応じて、適宜な光電素子
を選択して使用するためである。オリエンテーションフ
ラット端部検出部32は、通常状態では開いており、オ
リエンテーションフラットOFの位置合わせのために、
その端部を検出するときに閉じられる。
Reference numeral 32 shown in FIG.
In order to detect the end of the orientation flan l-OF of the semiconductor wafer 2 which is being rotated while being sucked and held by the
This is an orientation flat end detection unit equipped with a 3Mi transmission type photoelectric element PL (SWL, 2.3).
As shown in the figure, the light emitting section 36 and the light receiving section 38 of the photoelectric element PH3W1.2.3 are configured to be openable and closable by an air cylinder 34. The reason for using these three sets of transparent iM type photoelectric elements PH3W1.2.3 is to select and use appropriate photoelectric elements according to the size of the semiconductor wafer 2. The orientation flat end detection section 32 is open in the normal state, and is used for positioning the orientation flat OF.
Closed when detecting its end.

第1図および第2図に示した符号40は、半導体ウェハ
位置合わせ部14によってオリエンテーションフラン)
OFの位置合わせが行われた半導体ウェハ2を貼付はテ
ーブル42に搬送するための反転フォークである。この
反転フォーク40は、半導体ウェハ2を裏面側から吸着
保持するための真空チャックを備えている。VL2は、
この真空チャックの入/切を行う電磁弁、PUSW2は
、真空チャック内の圧力低下を検出してON状態になる
圧力スイッチである。
Reference numeral 40 shown in FIG. 1 and FIG.
A reversing fork is used to transfer the semiconductor wafer 2 whose OF has been aligned to the table 42. The reversing fork 40 is equipped with a vacuum chuck for suctioning and holding the semiconductor wafer 2 from the back side. VL2 is
The solenoid valve PUSW2 that turns on/off the vacuum chuck is a pressure switch that detects a drop in pressure within the vacuum chuck and turns on.

反転フォーク40は、エアーシリンダ44によって駆動
されてアライメント・テーブル20と貼付はテーブル4
2との間を往復動するとともに、モータ46によって上
方向に回動されることによって、半導体ウェハ2の裏面
が上側になるように半導体ウェハ2を反転させる。PH
3W4は、反転フォーク40が反転動作して所定の位置
にあるか否かを検出するための光電素子である。
The reversing fork 40 is driven by an air cylinder 44 to connect the alignment table 20 and the pasting table 4.
2, and is rotated upward by the motor 46, thereby inverting the semiconductor wafer 2 so that the back surface of the semiconductor wafer 2 faces upward. P.H.
3W4 is a photoelectric element for detecting whether the reversing fork 40 is in a predetermined position after performing a reversing operation.

貼付はテーブル42は、第6図に示すように、ウェハ・
チャックテーブル48と、このウェハ・チャックテーブ
ル4日の周囲に設けられるフレーム・チャックテーブル
50とを含む。ウェハ・チャックテーブル48は、エア
ーシリンダ49によって上下方向に移動可能に構成され
ているとともに、圧縮コイルバネ51によって上方向に
付勢されている。ウェハ・チャックテーブル48の上に
は保護フィルム52が敷設されている。反転フォーク4
0によって搬送された半導体ウェハ2は、その裏面を上
側にした状態で、保護フィルム52= 11− を介してウェハ・チャックテーブル48上に載置される
。保護フィルム52は、半導体ウェハ2の表面に傷を発
生させないようにするために用いられている。
As shown in FIG.
It includes a chuck table 48 and a frame chuck table 50 provided around the wafer chuck table 4. The wafer chuck table 48 is configured to be movable in the vertical direction by an air cylinder 49, and is biased upward by a compression coil spring 51. A protective film 52 is laid on the wafer chuck table 48. Reversing fork 4
The semiconductor wafer 2 transported by the semiconductor wafer 2 is placed on the wafer chuck table 48 with its back side facing up via the protective film 52=11-. The protective film 52 is used to prevent scratches from occurring on the surface of the semiconductor wafer 2.

第1図に戻って、符号54はフレーム・ローダ部である
。フレーム・ローダ部54は、複数枚のフレーム4を重
ねた状態で収納するフレーム・ストッカー56と、この
フレーム・ストッカー56に収納されたフレーム4を下
から順番に押し出すフレーム押し出し機構を備えている
。このフレーム押し出し機構は、第4図に示すように、
フレーム4を押し出すための押し出しプレート58と、
これを水平方向に駆動するエアーシリンダ60などから
構成されている。
Returning to FIG. 1, reference numeral 54 is a frame loader section. The frame loader section 54 includes a frame stocker 56 that stores a plurality of frames 4 in a stacked state, and a frame push-out mechanism that sequentially pushes out the frames 4 stored in the frame stocker 56 from below. This frame extrusion mechanism, as shown in Figure 4,
an extrusion plate 58 for extruding the frame 4;
It is composed of an air cylinder 60 that drives this horizontally.

フレーム・ローダ部54から供給されたフレーム4は、
フレーム送り出し部によって、フレーム位置決め部62
にまで送り出される。フレーム送り出し部は、フレーム
・ストッカー56から押し出されたフレーム4の内周面
に係合して、このフレーム4を送り出すフレーム・プッ
シャー64と、このフレーム・プッシャー64を上げ下
ろしするためのエアーシリンダ66と、フレーム・プッ
シャー64を水平方向に駆動するためのエアーシリンダ
68などから構成されている。通常状態において、フレ
ーム・プッシャー64は下降している。
The frame 4 supplied from the frame loader section 54 is
The frame positioning section 62
It is sent out to The frame feeding section includes a frame pusher 64 that engages with the inner peripheral surface of the frame 4 pushed out from the frame stocker 56 and feeds out the frame 4, and an air cylinder 66 for raising and lowering the frame pusher 64. , an air cylinder 68 for horizontally driving the frame pusher 64, and the like. In the normal state, frame pusher 64 is lowered.

フレーム・ストッカー56からフレーム4が押し出され
ると、エアーシリンダ66が駆動して、フレーム・プッ
シャー64を押し上げて、これをフレーム4の内側に差
し入れ、続いて、エアーシリンダ68が駆動して、フレ
ーム4をフレーム位置決め部62にまで送り出す。
When the frame 4 is pushed out from the frame stocker 56, the air cylinder 66 is driven to push up the frame pusher 64 and insert it into the frame 4, and then the air cylinder 68 is driven to push the frame pusher 64 up and into the frame 4. is sent out to the frame positioning section 62.

フレーム位置決め部62は、送り出されたフレーム4を
位置決めするための2本の位置決めピン70 (但し、
第4図には1本の位置決めピン70だけが現れている)
が設けられている。この位置決めピン70と、フレーム
4の■ノツチ4+、42が係合することによって、フレ
ーム4が位置決めされる。PH3W5は、位置決めされ
たフレーム4を検出するための光電素子である。
The frame positioning unit 62 has two positioning pins 70 (however,
Only one positioning pin 70 is visible in Fig. 4)
is provided. The frame 4 is positioned by engaging the positioning pin 70 with the notches 4+ and 42 of the frame 4. PH3W5 is a photoelectric element for detecting the positioned frame 4.

位置決めされたフレーム4は、フレーム搬送部によって
貼付はテーブル42にまで搬送され、貼付はテーブル4
2のフレーム・チャックテーブル50に載置される。フ
レーム搬送部は、第5図に示すように、フレーム4を吸
着保持するフレーム・チャックアーム72と、このフレ
ーム・チャ・ツクアーム72を上昇させるエアーシリン
ダ73と、フレーム・チャックアーム72を水平方向に
駆動するためのエアーシリンダ74などから構成されて
いる。VL3は、このフレーム・チャ・ツクアーム72
の入/切を行う電磁弁、PUSW3は、フレーム・チャ
ックアーム72内の圧力低下を検出してON状態になる
圧力スイッチである。
The positioned frame 4 is transported to the table 42 for pasting by the frame conveying section, and the pasting is carried out by the table 42.
It is placed on the frame chuck table 50 of No. 2. As shown in FIG. 5, the frame transport section includes a frame chuck arm 72 that holds the frame 4 by suction, an air cylinder 73 that raises the frame chuck arm 72, and a frame chuck arm 72 that moves the frame chuck arm 72 horizontally. It is composed of an air cylinder 74 and the like for driving. VL3 is this frame chassis arm 72
The solenoid valve PUSW3 that turns on/off is a pressure switch that detects a drop in pressure within the frame chuck arm 72 and turns on.

フレーム・チャックテーブル50は、前記フレーム搬送
部によって搬送されたフレーム4を吸着保持する。第5
図に示したVL4は、このフレーム・チャックテーブル
50の入/切を行う電磁弁、PUSW4は、フレーム・
チャックテーブル50内の圧力低下を検出してON状態
になる圧力スイフチである。また、PH3W6は、フレ
ーム・チャックテーブル50上のフレーム4を検出する
光電素子である。
The frame chuck table 50 attracts and holds the frame 4 transported by the frame transport section. Fifth
VL4 shown in the figure is a solenoid valve that turns on/off the frame chuck table 50, and PUSW4 is a solenoid valve that turns on/off the frame chuck table 50.
This is a pressure switch that detects a pressure drop within the chuck table 50 and turns on. Further, PH3W6 is a photoelectric element that detects the frame 4 on the frame chuck table 50.

次に、第1図および第6図に基づいて、テープ供給・巻
き取り機構および粘着テープの切断機構について説明す
る。
Next, a tape supply/winding mechanism and an adhesive tape cutting mechanism will be explained based on FIGS. 1 and 6.

前述した保護フィルム52は、貼付はテーブル42の一
方側に設けられた保護フィルム供給リール76から供給
され、貼付はテーブル42の他方側に設けられた保護フ
ィルム巻き取りリール78によって巻き取られる。
The protective film 52 described above is pasted and supplied from a protective film supply reel 76 provided on one side of the table 42, and pasted and taken up by a protective film take-up reel 78 provided on the other side of the table 42.

符号80は、半導体ウェハ2を貼付けるための粘着テー
プ82を供給する粘着テープ供給リールである。粘着テ
ープ82叫、これと同じ幅のセパレータ84と重ね合わ
された状態で粘着テープ供給リール80にセットされて
いる。セパレータ84は、粘着テープ82が粘着面を下
側にして送り出されるときに、粘着テープ82とは別に
セパレータ巻き取りリール86によって巻き取られる。
Reference numeral 80 is an adhesive tape supply reel that supplies adhesive tape 82 for pasting the semiconductor wafer 2. The adhesive tape 82 is set on the adhesive tape supply reel 80 in a state where it is overlapped with a separator 84 having the same width. The separator 84 is wound up separately from the adhesive tape 82 by a separator take-up reel 86 when the adhesive tape 82 is fed out with the adhesive side facing down.

半導体ウェハ2の貼付けのために使用された粘着テープ
82の残りは残渣テープ巻き取りリール88によって巻
き取られる。
The remainder of the adhesive tape 82 used for pasting the semiconductor wafer 2 is taken up by a residual tape take-up reel 88.

符号90は、上下方向に配設された複数本のローラから
なる貼付はローラユニットである。第6図に示すように
、粘着テープ供給リール80から供給された粘着テープ
82は、貼付はローラユニット90にr3.の字状に架
は渡され、さらに、貼付はローラユニット90に並設さ
れた剥離ローラユニット92に架は渡されて、残渣テー
プ巻き取りリール88に巻き取られる。
Reference numeral 90 denotes a pasting roller unit consisting of a plurality of rollers arranged in the vertical direction. As shown in FIG. 6, the adhesive tape 82 supplied from the adhesive tape supply reel 80 is applied to the roller unit 90 at r3. The frame is passed in the shape of a square, and further passed to a peeling roller unit 92 arranged in parallel to the pasting roller unit 90, and then wound onto a residue tape take-up reel 88.

第7図に示すように、貼付はローラユニット90は、こ
れを水平駆動するエアーシリンダ94のロンド先端部に
結合されている。また、剥離ローラユニット92は、前
記エアーシリンダ94のシリンダ本体に結合されている
。貼付はローラユニット90および剥離ローラユニット
92は、それらの上部に設けられたカムホロワ−によっ
てレール96上を摺動するように構成されている。レー
ル96は、その両端部に設けられたエアーシリンダ9B
、、9B□によって上下動可能に構成されている。貼付
はローラユニット90の下部には、ラック・ピニオン機
構100が設けられており、このランク・ビニオン機構
100は、ブレーキ102、クラッチ104を介して結
合されたモータ106によって駆動されるようになって
いる。
As shown in FIG. 7, the pasting roller unit 90 is connected to the tip of an air cylinder 94 that horizontally drives the pasting roller unit 90. Furthermore, the peeling roller unit 92 is coupled to the cylinder body of the air cylinder 94. The pasting roller unit 90 and the peeling roller unit 92 are configured to slide on a rail 96 by means of cam followers provided above them. The rail 96 has air cylinders 9B provided at both ends thereof.
, 9B□, it is configured to be able to move up and down. A rack and pinion mechanism 100 is provided at the bottom of the roller unit 90, and this rank and pinion mechanism 100 is driven by a motor 106 coupled via a brake 102 and a clutch 104. There is.

上述した貼付はローラユニット90および剥離ローラユ
ニット92の動作を第7図および第8図によって説明す
る。
The operations of the above-mentioned pasting roller unit 90 and peeling roller unit 92 will be explained with reference to FIGS. 7 and 8.

通常状態において、各ローラユニット90.92は貼付
はテーブル42よりも左側の原点位置にあり、レール9
6は上昇している。また、このときブレーキ102およ
びクラッチ104は解除されている。
In the normal state, each roller unit 90, 92 is attached at the origin position to the left of the table 42, and the rail 9
6 is rising. Further, at this time, the brake 102 and the clutch 104 are released.

貼付は動作を行う場合、エアーシリンダ98重、98□
が作動してレール96が下降する。そして、剥離ローラ
ユニット92に関連して設けられた図示しないコックが
作動して剥離ローラユニット92を停止状態に維持する
。この状態で、エアーシリンダ94が作動すると貼付は
ローラユニソ)90だけが水平方向に駆動されて、貼付
はローラが貼付はテーブル42上の粘着テープ82を下
方に押圧しながら転動することによって、粘着テ−プ8
2と半導体ウェハ2との貼付けが行われる。
When pasting is performed, use an air cylinder 98 times, 98□
is activated and the rail 96 is lowered. Then, a cock (not shown) provided in connection with the peeling roller unit 92 is operated to maintain the peeling roller unit 92 in a stopped state. In this state, when the air cylinder 94 is activated, only the pasting roller 90 is driven in the horizontal direction, and the pasting roller rolls while pressing the adhesive tape 82 on the table 42 downward, thereby creating an adhesive. tape 8
2 and the semiconductor wafer 2 are attached.

このときフランチ104は開放されている。At this time, the flange 104 is open.

粘着テープ82の切断後に、残渣テープをフレーム4な
どから剥離する場合、前記剥離ローラユニット92のコ
ツタが解除されるとともに、ブレーキ102が作動する
。この状態で、エアーシリンダ94が作動すると、貼付
はローラユニット90は停止状態を維持するから、剥離
ローラユニット92とエアーシリンダ94とが一体とな
って右方向に水平移動する。剥離ローラユニット92は
水平移動しながら、剥離ローラを回転駆動することによ
って、残渣テープをff111離する。第8図は、この
ような剥離動作を終了した時点の各ローラユニノ)90
.92の位置を示している。
When the residual tape is to be peeled off from the frame 4 or the like after cutting the adhesive tape 82, the peeling roller unit 92 is released and the brake 102 is activated. In this state, when the air cylinder 94 is operated, the pasting roller unit 90 remains in a stopped state, so the peeling roller unit 92 and the air cylinder 94 move horizontally to the right as one. The peeling roller unit 92 separates the residual tape ff111 by rotating the peeling roller while moving horizontally. Figure 8 shows each roller unit (90) at the time when such a peeling operation is completed.
.. 92 position is shown.

剥離動作終了後の各ローラユニット90.92の原点復
グWは、次のようにして行われる。
Returning to the origin W of each roller unit 90, 92 after the peeling operation is completed is performed as follows.

まず、エアーシリンダ98..98□が作動して、レー
ル96を−L昇させる。このようにレール96を」1昇
さ廿るのは、原点復帰動作のときに各ローラユニノt9
0,92が貼付はテーブル42上を転動すると、前述し
た剥離動作によって剥離された残渣テープがフレーム4
等に再び接着するからである。レール96が上昇すると
ともに、ブレーキ102が解除され、フランチ104が
結合される。そして、モータ106が作動してランク・
ピニオン機構100が駆動されることにより、貼付げロ
ーラユニ・ノド90および剥離ローラユニット92が一
体となって、左方向に水平移動して原点復帰する。
First, air cylinder 98. .. 98□ operates to raise the rail 96 by -L. The reason why the rail 96 is raised by 1" is that each roller unit t9 is raised during the return-to-origin operation.
When the attached tape rolls on the table 42, the residual tape peeled off by the above-mentioned peeling operation is left on the frame 4.
This is because it will be re-adhered to etc. As the rail 96 rises, the brake 102 is released and the flange 104 is coupled. Then, the motor 106 operates to
By driving the pinion mechanism 100, the pasting roller unit/nose 90 and the peeling roller unit 92 are integrally moved horizontally to the left and return to the origin.

貼付はテーブル42の上方向には、前述した貼付は動作
によって貼付けられた帯状の粘着テープ82をフレーム
4に沿って円形に切断するための粘着テープ切断機構1
08が設けられている。この粘着テープ切断機構108
は、第6図に示すように、貼付はテーブル42上の粘着
テープ82を押さえ付けて保持する押さえプレー)11
0と、押さえプレート110の外周に沿って回転駆動さ
れるテープカッター112などから構成されている。押
さえプレート110およびテープカッター112は、一
体となってに下方向に移動可能に構成されている。
For pasting, an adhesive tape cutting mechanism 1 is provided above the table 42 for cutting the band-shaped adhesive tape 82 pasted by the above-described pasting operation into a circular shape along the frame 4.
08 is provided. This adhesive tape cutting mechanism 108
As shown in FIG. 6, pasting is done by pressing and holding the adhesive tape 82 on the table 42)11
0, a tape cutter 112 that is rotatably driven along the outer periphery of the presser plate 110, and the like. The press plate 110 and the tape cutter 112 are configured to be movable downward as a unit.

第6図に示した符号114は、貼付はテーブル42から
マウント・フレーム6を、排出するためのマウント・フ
レームチャックアームである。このマウント・フレーム
チャックアーム114は、前述した剥離ローラユニット
92に取り付けられている。マウント・フレームチャッ
クアーム114は、剥離ローラユニット92の剥離動作
点ともに貼付はテーブル42側に移動して、マウント・
フレーム6を吸着保持し、剥離ローラユニット92等の
原点復帰動作によって、マウント・フレーム6を排出搬
送する。なお、第6図に示したVL5は、このマウント
・フレームチャックアーム114の入/切を行う電磁弁
、PUSW5は、マウント・フレームチャックアーム1
14内の圧力低下を検出してON状態になる圧力スイフ
チである。
Reference numeral 114 shown in FIG. 6 is a mount/frame chuck arm for ejecting the mount frame 6 from the attachment table 42. This mount/frame chuck arm 114 is attached to the peeling roller unit 92 described above. The mount/frame chuck arm 114 moves the peeling operation point of the peeling roller unit 92 to the side of the pasting table 42, and
The frame 6 is held by suction, and the mount frame 6 is discharged and conveyed by the return-to-origin operation of the peeling roller unit 92 or the like. In addition, VL5 shown in FIG. 6 is a solenoid valve that turns on/off this mount/frame chuck arm 114, and PUSW5 is a solenoid valve that turns on/off the mount/frame chuck arm 114.
This is a pressure switch that detects a drop in the pressure within 14 and turns on.

マウント・フレームチャックアーム114によって吸着
保持されたマウント・フレーム6は、前記各ローラユニ
ット90.92の原点復帰動作によって、スイング反転
ユニット116にまで搬送される。スイング反転ユニッ
ト116は、第6図および第9図に示すように、搬送さ
れたマウント・フレーム6を保持するクランプ機構11
8の他に、保持したマウント・フレームを水平方向に約
180度スイングするスイング機構120、スイングさ
れたマウント・フレーム6を半導体ウェハ2の表面が上
になるように反転させる反転機構122、反転されたマ
ウント・フレームをヒートステージ126にまで下降さ
せる上下駆動機構124などを備えている。なお、クラ
ンプ機構118に備えられたP HS W 7は、この
クランプ機構118にクランプされたマウント・フレー
ム6を検出する光電素子である。
The mount frame 6 suctioned and held by the mount frame chuck arm 114 is conveyed to the swing reversing unit 116 by the return-to-origin operation of each of the roller units 90 and 92. As shown in FIGS. 6 and 9, the swing reversing unit 116 includes a clamp mechanism 11 that holds the transported mount frame 6.
In addition to 8, there is also a swing mechanism 120 that swings the held mount frame 6 approximately 180 degrees in the horizontal direction, an inversion mechanism 122 that inverts the swung mount frame 6 so that the surface of the semiconductor wafer 2 faces up, and The apparatus includes a vertical drive mechanism 124 for lowering the mount frame to the heat stage 126. Note that the PHS W 7 provided in the clamp mechanism 118 is a photoelectric element that detects the mount frame 6 clamped by the clamp mechanism 118.

ヒートステージ126は、熱収縮性フィルムを支持体と
して用いた粘着テープを使用する場合、加熱することに
よってテープ張力を増大させる目的で設けられている。
The heat stage 126 is provided for the purpose of increasing tape tension by heating when using an adhesive tape using a heat-shrinkable film as a support.

第9図に示すように、このヒートステージ126に隣接
して、ヒートステージ126上のマウント・フレーム6
を押し出すためのマウント・フレーム押し出し機構12
8と、押し出されたマウント・フレーム6を第1図に示
すフレーム・カセット132(132,〜1324)に
搬送する搬送テーブル130が設けられている。搬送テ
ーブル130は、第9図に示すエアーシリンダ131に
よって、水平方向に移動可能に構成されており、左側の
アンロータ部に搬送するための搬送ベルト134と、右
側のアンロータ部に搬送するための搬送ベルト136に
、マウント・フレーム6を振り分けできるよう番こなっ
ている。
As shown in FIG. 9, the mount frame 6 on the heat stage 126 is adjacent to the heat stage 126.
Mount frame extrusion mechanism 12 for extruding
8 and a transport table 130 for transporting the extruded mount frame 6 to a frame cassette 132 (132, to 1324) shown in FIG. The conveyance table 130 is configured to be movable in the horizontal direction by an air cylinder 131 shown in FIG. 9, and includes a conveyor belt 134 for conveying to the unrotor section on the left side and a conveyor belt 134 for conveying to the unrotor section on the right side. The belt 136 is arranged so that the mount frames 6 can be distributed.

なお、第9図に示した、PH3W8はヒートステージ1
26上のマウント・フレーム6を検出する光電素子、P
H3W9はヒートステージ126上のマウント・フレー
ム6の押し出しを検出する光電素子、PH5WIOは搬
送テーブル130によるマウント・フレーム6の受け取
りを検出する光電素子である。
In addition, PH3W8 shown in FIG. 9 is heat stage 1.
A photoelectric element for detecting the mounting frame 6 on 26, P
H3W9 is a photoelectric element that detects the extrusion of the mount frame 6 on the heat stage 126, and PH5WIO is a photoelectric element that detects the reception of the mount frame 6 by the transport table 130.

フレーム・カセット132は、複数のマウント・フレー
ム6を水平状態で等間隔に収納するもので、本実施例で
は4個のフレーム・カセット1321〜1324をセン
トできる。フレーム・カセット132..132□は左
側のアンロータ部に、フレーム・カセット1.3L、1
32=は右側のアンロータ部に、それぞれセントされる
。各アンロータ部は、それぞれ上下方向に移動可能に構
成されている。
The frame cassette 132 stores a plurality of mount frames 6 horizontally at equal intervals, and in this embodiment, four frame cassettes 1321 to 1324 can be stored. Frame cassette 132. .. 132□ has frame cassette 1.3L, 1 in the left unrotor section.
32= are respectively sent to the right unrotor section. Each unrotor section is configured to be movable in the vertical direction.

第1図に示す、符号138は操作盤である。この操作盤
138には、装置のエラーの種類に対応したコードを表
示する3桁の7セグメントLEDや操作キーなどが設け
られている。また、符号140は、自動運転動作やエラ
ー発生などを表示するパトライトである。
Reference numeral 138 shown in FIG. 1 is an operation panel. The operation panel 138 is provided with a three-digit, seven-segment LED that displays a code corresponding to the type of error in the device, operation keys, and the like. Further, reference numeral 140 is a patrol light that displays automatic driving operations, error occurrences, and the like.

次に、本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は装置の
制御系の構成を第11図に基づいて説明する。
Next, the configuration of the control system of the apparatus for automatically attaching semiconductor wafers according to this embodiment will be explained based on FIG. 11.

制御部142は、CPU144.ROM146゜RAM
148.操作盤コントローラ150.センサーコントロ
ーラ152.アクチュエータコントローラ154.パル
スモータコントローラ156などから構成されている。
The control unit 142 includes a CPU 144. ROM146°RAM
148. Operation panel controller 150. Sensor controller 152. Actuator controller 154. It is composed of a pulse motor controller 156 and the like.

CPU144は、ROM146に格納された処理プログ
ラムに従って、装置全体のホII御を行う。RAM14
8には、貼付けされる半導体ウェハの大きさなどのデー
タや処理条件が書き込まれる。操作盤コントローラ15
0は操作盤138を、センサーコントローラ152は本
装置に備えられた圧力スイツチや光電素子などの各種の
センサ一群158を、アクチュエータコントローラ15
4は本装置に備えられたモータやエアーシリンダなどの
各種のアクチュエータ群160を、パルスモータコント
ローラ156はアライメント・テーブル20を回転駆動
するパルスモータ24をそれぞれ制御するものである。
The CPU 144 controls the entire device according to a processing program stored in the ROM 146. RAM14
8, data such as the size of the semiconductor wafer to be pasted and processing conditions are written. Operation panel controller 15
0 refers to the operation panel 138, the sensor controller 152 refers to a group of various sensors 158 such as pressure switches and photoelectric elements provided in this device, and the actuator controller 15
Reference numeral 4 controls various actuator groups 160 such as motors and air cylinders provided in this apparatus, and a pulse motor controller 156 controls the pulse motor 24 that rotationally drives the alignment table 20.

次に、上述した構成を備えた半導体ウェハの自動貼付は
装置の動作を、第12図に示した動作フローチャートに
従って説明する。
Next, the operation of the automatic semiconductor wafer bonding apparatus having the above-described configuration will be explained according to the operation flowchart shown in FIG.

本装置の各部が原点に復帰しており、また、ウェハ・ロ
ーダ部およびアンロータ部にそれぞれウェハ・カセット
8およびフレーム・カセット132が装着された状態で
、本装置が始動されると、まず、ウェハ・カセット8が
装着された一方側のうエバ・ローダ部が下降する(ステ
ップS2)。
When the apparatus is started with each part of the apparatus having returned to its original position and with the wafer cassette 8 and frame cassette 132 installed in the wafer loader section and unrotor section, respectively, the wafer - The evaporator loader section on one side with the cassette 8 attached is lowered (step S2).

このウェハ・ローダ部に備えられたウェハ検出器によっ
て、ウェハ・カセット8内の半導体ウェハ2が検出され
たか否かが確認される(ステップS4)。
It is confirmed whether the semiconductor wafer 2 in the wafer cassette 8 has been detected by the wafer detector provided in the wafer loader section (step S4).

半導体ウェハ2が検出されると搬送ベルト16が駆動さ
れ、ウェハ・ローダ部に備えられたウェハ押し出し機構
10または12によって、前記検出された半導体ウェハ
2がウェハ・カセット8内から押し出される(ステップ
S8)。押し出された半導体ウェハ2は、1般送ヘルド
16に乗って半導体ウェハ位置合わせ部14へ搬送され
る。
When the semiconductor wafer 2 is detected, the conveyor belt 16 is driven, and the detected semiconductor wafer 2 is pushed out from inside the wafer cassette 8 by the wafer pushing mechanism 10 or 12 provided in the wafer loader section (step S8 ). The extruded semiconductor wafer 2 is conveyed to the semiconductor wafer positioning section 14 on the first general conveyance heald 16 .

そして、アライメント・テーブル20が半導体ウェハ2
を受け取ったか否かが確認される(ステップ510)。
Then, the alignment table 20 is aligned with the semiconductor wafer 2.
It is confirmed whether or not it has been received (step 510).

半導体ウェハ2の受け取りの確認は、第13図に示すよ
うに、アライメント・テーブル20の近傍に設けられた
光電素子PH3WI ]によって検出される。一定時同
経iM後アライメント・テーブル20が半導体ウェハ2
を受け取らなかった場合は、エラー表示■が行われ(ス
テップ5L2)、パトライト140のエラー表示ライト
が点灯するとともに、操作盤138の7セグメントLE
Dが、このエラーに対応したコードを表示する。
Confirmation of receipt of the semiconductor wafer 2 is detected by a photoelectric element PH3WI provided near the alignment table 20, as shown in FIG. After a certain period of simultaneous iM, the alignment table 20 is placed on the semiconductor wafer 2.
If not received, an error display ■ is performed (step 5L2), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the 7 segment LE of the operation panel 138 is turned on.
D displays the code corresponding to this error.

アライメント・テーブル20が半導体ウェハ2を受け取
ったことが確認されると、このアライメント・テーブル
20が上昇する(ステップ514)。そして、中心位置
合わせ板22.,22□が駆動して、この半導体ウェハ
2の中心の割り出しを行う(ステップ816)。半導体
ウェハ2の中心が割り出されると、アライメント・テー
ブル20の真空チャックが作動して、この半導体ウェハ
2が吸着される(ステップ818)。そして、前記真空
チャックに関連して設けられた圧力スイフチPUSWI
によって、半導体ウェハ2が確実に吸着されているか否
かが確認される(ステ、プ520)。
When it is confirmed that the alignment table 20 has received the semiconductor wafer 2, the alignment table 20 is raised (step 514). And center alignment plate 22. , 22□ are driven to determine the center of the semiconductor wafer 2 (step 816). Once the center of the semiconductor wafer 2 has been determined, the vacuum chuck of the alignment table 20 is operated to suck the semiconductor wafer 2 (step 818). and a pressure swifter PUSWI provided in connection with the vacuum chuck.
As a result, it is confirmed whether the semiconductor wafer 2 is reliably attracted (step 520).

半導体ウェハ2の吸着が確認されると、その半導体ウェ
ハ2のオリエンテーションフラットOFの位置合わせが
行われる(ステップ524)。
When the suction of the semiconductor wafer 2 is confirmed, the orientation flat OF of the semiconductor wafer 2 is aligned (step 524).

以下、このステップにおいて行われる、半導体ウェハの
オリエンテーションフラットの位置合わせの手順を第1
3図および第14図に基づいて説明する。
Below, the procedure for aligning the orientation flat of the semiconductor wafer, which is performed in this step, will be explained as follows.
This will be explained based on FIG. 3 and FIG. 14.

第13図は、中心位置合わせ板22.,22□によって
中心割り出しされた半導体ウェハ2が、アライメント・
テーブル20によって吸着された状態を示している。オ
リエンテーションフラットOFの端部は、半導体ウェハ
2の大きさに応じて適宜に選択された光電素子PH3W
I、2.3の中の一つによって検出される。この図では
、便宜的に光電素子PH3WIのみを示している。光電
素子PH5WIは、アライメント・テーブル20の中心
から半導体ウェハ2の半径よりも若干内側に位置して設
けられている。光電素子PH3WIの出力は、パルスモ
ータ24をコントロールするパルスモータコントローラ
156に直接に4えられる。パルスモータコントローラ
156は、光電素子PH3WIの検出信号によってパル
スモータ24を停止させるように構成されている。また
、パルスモータコントローラ156はCPU144から
の指令に基づいて、パルスモータ24に回転量を出力す
るとともに、パルスモータ24が停止状態になるまでの
回転量をCPU144に与える。
FIG. 13 shows the center alignment plate 22. , 22□, the semiconductor wafer 2 is aligned and centered.
A state in which the table 20 has been adsorbed is shown. The end of the orientation flat OF is provided with a photoelectric element PH3W that is appropriately selected according to the size of the semiconductor wafer 2.
I, 2.3. In this figure, only the photoelectric element PH3WI is shown for convenience. The photoelectric element PH5WI is located slightly inside the radius of the semiconductor wafer 2 from the center of the alignment table 20. The output of the photoelectric element PH3WI is directly input to a pulse motor controller 156 that controls the pulse motor 24. The pulse motor controller 156 is configured to stop the pulse motor 24 in response to a detection signal from the photoelectric element PH3WI. Further, the pulse motor controller 156 outputs a rotation amount to the pulse motor 24 based on a command from the CPU 144, and also provides the CPU 144 with the rotation amount until the pulse motor 24 comes to a stopped state.

第14図は、オリエンテーションフラットOFの位置合
わせ動作のフローチャートである。以下、これに基づい
て説明する。
FIG. 14 is a flowchart of the alignment operation of the orientation flat OF. The following explanation will be based on this.

半導体ウェハ2がアライメント・テーブル20に吸着保
持されると、CPU144はパルスモータ24を例えば
、反時計方向に360’だけ回転させる回転量を設定し
くステップ5130)、これをパルスモータコントロー
ラ156を介してパルスモータ24に出力する(ステッ
プ5132)。
When the semiconductor wafer 2 is suctioned and held on the alignment table 20, the CPU 144 sets a rotation amount to rotate the pulse motor 24 by 360' counterclockwise (step 5130), and controls this via the pulse motor controller 156. It outputs to the pulse motor 24 (step 5132).

これにより、半導体ウェハ2がパルスモータ24によっ
て回転される。そして、オリエンテーションフラットO
Fの一方端が光電素子PH3WIによって検出されると
、その検出信号がパルスモータコントローラ156に与
えられて、パルスモータ24が停止する。
Thereby, the semiconductor wafer 2 is rotated by the pulse motor 24. And orientation flat O
When one end of F is detected by the photoelectric element PH3WI, the detection signal is given to the pulse motor controller 156, and the pulse motor 24 is stopped.

ステップ5132の終了後、CPU144は、パルスモ
ータ24が停止したか否かを監視している(ステップS
 134)。
After completing step 5132, the CPU 144 monitors whether the pulse motor 24 has stopped (step S
134).

パルスモータ24が停止したことを確認すると、CPU
144は、パルスモータ24を時計方向に360°回転
させる回転量を設定しくステップ5136)、これをパ
ルスモータコントローラ156を介してパルスモータ2
4に出力する(ステップ5138)。これにより、半導
体ウェハ2が時計方向に回転される。そして、オリエン
テーションフラットOFの他端が光電素子PH3WIに
よって検出されると、その検出信号がパルスモータコン
トローラ156に与えられて、パルスモータ24が停止
する。
After confirming that the pulse motor 24 has stopped, the CPU
144 sets the amount of rotation for rotating the pulse motor 24 clockwise 360 degrees (step 5136), and sets the rotation amount to rotate the pulse motor 24 through the pulse motor controller 156.
4 (step 5138). As a result, the semiconductor wafer 2 is rotated clockwise. Then, when the other end of the orientation flat OF is detected by the photoelectric element PH3WI, the detection signal is given to the pulse motor controller 156, and the pulse motor 24 is stopped.

CPU144は、パルスモータ24の停止を確認すると
(ステップ5140)、そのときの時計方向の回転量θ
を読み込む(ステップ5142)。
When the CPU 144 confirms that the pulse motor 24 has stopped (step 5140), the CPU 144 determines the clockwise rotation amount θ at that time.
is read (step 5142).

そして、パルスモータ24を反時計方向にθ/またけ回
転させる回転量を設定しくステップ5144)、これを
パルスモータコントローラ156t−介してパルスモー
タ24に出力する。これにより、半導体ウェハ2は反時
計方向にθ/2回転される。
Then, the amount of rotation for rotating the pulse motor 24 in the counterclockwise direction by θ/straddle is set (step 5144), and this is output to the pulse motor 24 via the pulse motor controller 156t-. As a result, the semiconductor wafer 2 is rotated counterclockwise by θ/2.

このような処理により、アライメント・テーブル20の
中心と光電素子PH3WIとを結ぶ方向に対して、オリ
エンテーションフラットOFが直角に交わる位置で、半
導体ウェハ2が停止する。
Through such processing, the semiconductor wafer 2 is stopped at a position where the orientation flat OF intersects at right angles to the direction connecting the center of the alignment table 20 and the photoelectric element PH3WI.

以上がオリエンテーションフラットOFの位置合わせの
基本的手順であるが、半導体ウェハ2の機種に応じて、
半導体ウェハ2を更に90°回転あるいは180°回転
して、最終的な位置決めを完了することもある。
The above is the basic procedure for aligning the orientation flat OF, but depending on the model of the semiconductor wafer 2,
Final positioning may be completed by further rotating the semiconductor wafer 2 by 90° or 180°.

以下、第12図に戻って本装置の動作説明を続ける。Hereinafter, referring back to FIG. 12, the explanation of the operation of this device will be continued.

オリエンテーションフラットOFの位置合わせが終了す
ると、再度、半導体ウェハ2の吸着の有無を確認する(
ステップ526)。これは、オリエンテーションフラッ
トOFの位置合わせ動作の際に、半導体ウェハ2がアラ
イメント・テーブル20から離脱することも考えられる
からである。
When the alignment of the orientation flat OF is completed, check again whether or not the semiconductor wafer 2 is attracted (
step 526). This is because the semiconductor wafer 2 may come off from the alignment table 20 during the alignment operation of the orientation flat OF.

そして、このステップS26で、吸着されていないこと
が検出されると、前述したステップS22に進んでエラ
ー表示■を行う。
If it is detected in this step S26 that the object is not attracted, the process proceeds to step S22 described above and an error display (2) is displayed.

ところで、前述したステップS14が終了した後、ステ
ップS16に移行するとともに、ステップ828に移行
する。これにより、反転フォーク40が前進し、アライ
メント・テーブル20に吸着された半導体ウェハ2の下
方に挿入した状態で停止する。
By the way, after the above-mentioned step S14 is completed, the process moves to step S16 and also moves to step 828. As a result, the reversing fork 40 moves forward and stops while being inserted below the semiconductor wafer 2 that is attracted to the alignment table 20.

反転フォーク40が半導体ウェハ2の下方に挿入された
後、アライメント・テーブル20が下降する(ステップ
530)。アライメント・テーブル20が下降すると同
時に、アライメント・テーブル20の吸着が解除され、
反転フォーク40の真空チャックが作動する。これによ
り、アライメント・テーブル20上の半導体ウェハ2が
、反転フォーク40に移って吸着保持される。
After the reversing fork 40 is inserted below the semiconductor wafer 2, the alignment table 20 is lowered (step 530). At the same time as the alignment table 20 is lowered, the suction of the alignment table 20 is released,
The vacuum chuck of the reversing fork 40 is activated. As a result, the semiconductor wafer 2 on the alignment table 20 is moved to the reversing fork 40 and held there by suction.

そして、反転フォーク40が半導体ウェハ2を確実に吸
着したか否かが確認される(ステップ532)。吸着の
有無は、反転フォーク40の真空チャックに関連して設
けられた圧力スイツチPUSW2からの検出信号に基づ
いて判断される。吸着が行われていない場合は、エラー
表示■を行い(ステップ534)、バ1−ライト140
のエラー表示ライトが点灯するとともに、操作盤138
の7セグメントLEDが、このエラーに対応したコード
を表示する。
Then, it is checked whether the reversing fork 40 has reliably attracted the semiconductor wafer 2 (step 532). The presence or absence of suction is determined based on a detection signal from a pressure switch PUSW2 provided in connection with the vacuum chuck of the reversing fork 40. If the adsorption is not performed, an error message ■ is displayed (step 534), and the bar 1-write 140 is
The error display light on the control panel 138 lights up.
The 7 segment LED will display the code corresponding to this error.

半導体ウェハ2が反転フォーク40に確実に吸着されて
いる場合、反転フォーク40が反転する(ステップ53
6)。そして、反転フォーク40が、所定の反転位置に
あるか否かがl+I認される(ステップ838)。反転
フォーク40の反転の有無は、この反転フォーク40に
関連して設けられた光電素子PH3W4の検出信号に基
づいて判断される。反転フォーク40が所定位置にまで
反転していない場合、エラー表示■を行い(ステップ5
40)、パトライト140のエラー表示ライトが点灯す
るとともに、操作盤138の7セグメントLEDが、こ
のエラーに対応したコードを表示する。
When the semiconductor wafer 2 is reliably attracted to the reversing fork 40, the reversing fork 40 is reversed (step 53).
6). Then, it is determined whether or not the reversing fork 40 is at a predetermined reversing position (step 838). Whether or not the reversing fork 40 is reversed is determined based on the detection signal of the photoelectric element PH3W4 provided in relation to the reversing fork 40. If the reversing fork 40 has not been reversed to the predetermined position, an error message ■ will be displayed (step 5).
40) The error indicator light on the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED on the operation panel 138 displays a code corresponding to this error.

反転フォーク40が正しく反転されている場合には、再
び、半導体ウェハ2の吸着の確認を行い(ステップ54
1)、吸着されていない場合には前述したエラー表示■
を行う(ステップ534)。
If the reversing fork 40 is correctly reversed, the suction of the semiconductor wafer 2 is confirmed again (step 54).
1) If it is not absorbed, the above error message will be displayed.
(step 534).

半導体ウェハ2の吸着が確認されると、反転フォーク4
0が貼付はテーブル42側に後退する(ステップ542
)。そして、反転フォーク40は、半導体ウェハ2の吸
着を解除して、移送した半導体ウェハを、保護フィルム
52に覆われたウェハ・チャックテーブル48上に移す
(ステップ544)、ウェハ・チャックテーブル48に
移された半導体ウェハ2は、その裏面が上になっている
When the semiconductor wafer 2 is confirmed to be attracted, the reversing fork 4
0 is pasted and retreats to the table 42 side (step 542
). Then, the reversing fork 40 releases the suction of the semiconductor wafer 2 and transfers the transferred semiconductor wafer onto the wafer chuck table 48 covered with the protective film 52 (step 544). The back side of the semiconductor wafer 2 is facing up.

一方、前述したステップS4において半導体ウェハ2が
検出されると、ステップS8に移行するとともに、ステ
ップS46に移行する。これにより、フレーム・ストッ
カー56に収納されたフレーム4が、フレーム押し出し
機構によって押し出される。そして、フレーム・ストッ
カー56とフレーム位置決め部62との搬送経路途中に
設けられたフレーム・プッシャー64が上昇しくステッ
プ548)、押し出されたフレーム4の内側に係合した
状態で前進する(ステップ550)、これにより、フレ
ーム4はフレーム位置決め部62に送り出され、フレー
ム4のVノツチ49,4□が、フレーム位置決め部62
に設けられた位置決めピン70に係合することによって
、フレーム4の位置決めが行われる。
On the other hand, if the semiconductor wafer 2 is detected in step S4 described above, the process moves to step S8 and then moves to step S46. As a result, the frame 4 stored in the frame stocker 56 is pushed out by the frame push-out mechanism. Then, the frame pusher 64 provided in the middle of the conveyance path between the frame stocker 56 and the frame positioning section 62 rises (step 548), and moves forward while engaging the inside of the pushed-out frame 4 (step 550). As a result, the frame 4 is sent out to the frame positioning section 62, and the V notches 49, 4□ of the frame 4 are moved to the frame positioning section 62.
The frame 4 is positioned by engaging with a positioning pin 70 provided in the frame 4 .

そして、フレーム4が確実に位置決めされたか否かが確
認される(ステップ552)。これは、フレーム位置決
め部62に設けられた光電素子P)ISW5の検出信号
に基づいて判断される。フレーム4が位置合わせされて
いない場合は、エラー表示■を行い(ステップ554)
、パトライト140のエラー表示ライトが点灯するとと
もに、操作盤138の7セグメントLEDが、このエラ
ーに対応したコードを表示する。
Then, it is confirmed whether the frame 4 has been reliably positioned (step 552). This is determined based on the detection signal of the photoelectric element P)ISW5 provided in the frame positioning section 62. If frame 4 is not aligned, an error message ■ is displayed (step 554).
, the error indicator light on the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED on the operation panel 138 displays a code corresponding to this error.

フレーム4の位置決めが行われている場合、そのフレー
ム4を貼付はテーブル42にまで搬送するフレーム・チ
ャックアーム72が下降しくステップ556)、位置決
めされたフレーム4を吸着する(ステップ858)。次
に、フレーム・チャ・7クアーム72がフレーム4を吸
着したか否かが6育認される(ステップ560)。これ
は、フレーム・チャックアーム72に関連して設けられ
た圧カスイソチPUSW3の検出信号に基づいて判断さ
れる。フレーム4が吸着されていない場合は、エラー表
示■を行い(ステップ562)、パトライト140のエ
ラー表示ライトが点灯するとともに、操作盤138の7
セグメン)LEDが、このエラーに対応したコードを表
示する。
If the frame 4 has been positioned, the frame chuck arm 72 that conveys the frame 4 to the table 42 is lowered (step 556) and sucks the positioned frame 4 (step 858). Next, it is determined whether the frame 4 has been picked up by the frame 7 arm 72 (step 560). This is determined based on the detection signal of the pressure gas islet PUSW3 provided in relation to the frame chuck arm 72. If the frame 4 is not attracted, an error display ■ is displayed (step 562), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the 7
segment) LED displays the code corresponding to this error.

フレーム4が吸着されていることが確認されると、フレ
ーム・チャックアーム72が上昇する(ステップ564
)。そして、再び、フレーム4が吸着されていることを
確認しくステップ565)、吸着されていない場合は前
述したエラー表示■を行う(ステップ562)。フレー
ム4の吸着が確認されると、フレーム・チャックアーム
72は貼付はテーブル42にまで移動する(ステップ3
66)。そして、フレーム・チャックアーム72が下降
して、フレーム4をフレーム・チャックテーブル50に
移す(ステップ567)。
When it is confirmed that the frame 4 is attracted, the frame chuck arm 72 is raised (step 564).
). Then, it is checked again that frame 4 has been attracted (step 565), and if it has not been attracted, the above-mentioned error display (2) is performed (step 562). When adsorption of the frame 4 is confirmed, the frame chuck arm 72 moves to the attachment table 42 (step 3).
66). Then, the frame chuck arm 72 descends and transfers the frame 4 to the frame chuck table 50 (step 567).

フレーム4の移載が確認されると、フレーム・チャック
テーブル50が作動して、載置されたフレーム4を吸着
保持する(ステップ570)。そして、フレーム・チャ
ックテーブル50がフレーム4を確実に吸着しているか
否かが確認される(ステップ571)。これは、フレー
ム・チャックテーブル50に関連して設けられた圧力ス
イフチPUSW4の検出信号に基づいて判断される。
When the transfer of the frame 4 is confirmed, the frame chuck table 50 is operated to suction and hold the placed frame 4 (step 570). Then, it is confirmed whether the frame chuck table 50 is reliably sucking the frame 4 (step 571). This is determined based on the detection signal of the pressure switch PUSW4 provided in association with the frame chuck table 50.

フレーム4が吸着されていない場合は、エラー表示■を
行い(ステップ572)、パトライト140のエラー表
示ライトが点灯するとともに、操作盤138の7セグメ
ントLEDが、このエラーに対応したコードを表示する
If the frame 4 is not attracted, an error display (2) is performed (step 572), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED of the operation panel 138 displays a code corresponding to this error.

フレーム4がフレーム・チャックテーブル50に吸着さ
れていることを確認するとフレーム・チャックアーム7
2の吸着を解除しくステップ573)、フレーム・チャ
ックアーム72が上昇する(ステップ574)。
After confirming that the frame 4 is attracted to the frame/chuck table 50, the frame/chuck arm 7
In order to release the suction of the frame chuck arm 72 (step 573), the frame chuck arm 72 rises (step 574).

以上のステップによって、貼付はテーブル42に半導体
ウェハ2およびフレーム4がセントされる。
Through the above steps, the semiconductor wafer 2 and frame 4 are placed on the attachment table 42.

フレーム・チャックアーム72が上昇すると、貼付はロ
ーラユニット90が下降する(ステップ575)。これ
により、貼付はローラユニット90に架は渡された粘着
テープ82も下降して、この粘着テープ82はウェハ・
チャックテーブル48上の半導体ウェハ2の裏面に当接
する。貼付はローラユニット90が下降すると、この貼
付はローラユニット90は貼イ1けテーブル42に向か
って水平移動する。これにより、貼付はローラユニット
90の貼付はローラが、半導体ウェハ2の裏面に当接し
た粘着テープ82の上を転がりながら、軽く押圧し、半
導体ウェハ2と粘着テープ82とフレーム4との貼付け
を行う(ステップ576)。
When the frame chuck arm 72 is raised, the pasting roller unit 90 is lowered (step 575). As a result, the adhesive tape 82 placed on the roller unit 90 also descends, and this adhesive tape 82 is attached to the wafer.
It comes into contact with the back surface of the semiconductor wafer 2 on the chuck table 48. When the pasting roller unit 90 is lowered, the pasting roller unit 90 moves horizontally toward the pasting table 42. As a result, the roller of the roller unit 90 presses lightly while rolling on the adhesive tape 82 that is in contact with the back surface of the semiconductor wafer 2, and the semiconductor wafer 2, the adhesive tape 82, and the frame 4 are attached. (step 576).

半導体ウェハ2と粘着テープ82とフレーム4との貼付
けが終了すると、押さえプレート110とテープカッタ
ー112とが下降し、押さえプレー)110はフレーム
4上の粘着テープ82を押圧保持する。そして、テープ
カッター112が、押さえプレート110の周囲を1回
転することによって、フレーム4の外形よりも若干小さ
くなるように、粘着テープ82を切断する(ステップ8
78)。
When the attachment of the semiconductor wafer 2, adhesive tape 82, and frame 4 is completed, the presser plate 110 and tape cutter 112 are lowered, and the presser plate 110 presses and holds the adhesive tape 82 on the frame 4. Then, by rotating the tape cutter 112 once around the presser plate 110, the adhesive tape 82 is cut so as to be slightly smaller than the outer shape of the frame 4 (step 8).
78).

粘着テープ82の切断が終了すると、ウェハ・チャック
テーブル48が下降しくステップ580)、保護フィル
ム巻き取りリール78が駆動して保護フィルム52を巻
き取るとともに、新しい保護フィルム52をウェハ・チ
ャックテーブル48」−に引き出す(ステップ582)
When cutting of the adhesive tape 82 is completed, the wafer chuck table 48 is lowered (step 580), the protective film take-up reel 78 is driven to wind up the protective film 52, and a new protective film 52 is transferred to the wafer chuck table 48. − (step 582)
.

一方、粘着テープ82の切断が終了すると、剥離ローラ
ユニット92が貼付はテーブル42側に向かって水平方
向に移動する。これにより、フレーム4の周辺部に貼付
いている粘着テープ82の残渣を、フレーム4から剥離
する(ステップ584)。
On the other hand, when the cutting of the adhesive tape 82 is completed, the peeling roller unit 92 moves horizontally toward the adhesion table 42 side. As a result, the residue of the adhesive tape 82 stuck to the periphery of the frame 4 is peeled off from the frame 4 (step 584).

粘着テープの剥離が終わると、貼付はテーブル42上の
マウント・フレーム6を排出するためのマウント・フレ
ームチャックアーム114 カ下降しくステップ886
)。マウント・フレーム6を吸着する(ステップ388
)。そして、マウント・フレーム6が確実に吸着された
か否かが確認される(ステップ590)。これは、マウ
ント・フレームチャックアーム114に関連して設けら
れた圧力スイツチPUSW5の検出信号に基づいて判断
する。マウント・フレーム6が吸着されていない場合は
エラー表示Xを行い(ステップ592)、パトライト1
40のエラー表示ライトが点灯するとともに、操作盤1
38の7セグメントLEDが、このエラーに対応したコ
ードを表示する。
After the adhesive tape has been peeled off, the mount/frame chuck arm 114 for ejecting the mount frame 6 on the table 42 is attached to step 886.
). Adsorb the mount frame 6 (step 388
). Then, it is confirmed whether the mount frame 6 has been reliably attracted (step 590). This is determined based on the detection signal of the pressure switch PUSW5 provided in connection with the mount/frame chuck arm 114. If the mount frame 6 is not attracted, an error message X is displayed (step 592), and the patrol light 1
Error indicator light 40 lights up and operation panel 1
38 7-segment LEDs display the code corresponding to this error.

マウント・フレーム6が吸着されていることが確認され
ると、マウント・フレームチャックアーム114が上昇
する(ステップ594)。マウント・フレームチャック
アーム114が上昇した後、再び、マウント・フレーム
6の吸着を確認しくステップ595)、吸着されていな
い場合にはエラー表示Xを行う(ステップ592)。マ
ウント・フレーム6の吸着を確認すると、貼付はテーブ
ル42にまで移動している貼付はローラユニット90お
よび剥離ローラユニット92が元の位置(原点)にまで
戻る(ステップ596)。貼付はローラユニット90お
よび剥離ローラユニット92が原点復帰するとともに、
マウント・フレーム6を吸着したマウント・フレームチ
ャックアーム114もスイング反転ユニット116方向
に移動する(ステップ598)、そして、マウント・フ
レームチャックアーム114がスイング反転ユニット1
16のクランプ機構118にマウント・フレーム6の一
端を挿入する位置にまで移動したところで、再び、マウ
ント・フレーム6の吸着を確認しくステップ599)、
吸着されていない場合にはエラー表示Xを行う (ステ
ップ592)。
When it is confirmed that the mount frame 6 is attracted, the mount frame chuck arm 114 is raised (step 594). After the mount/frame chuck arm 114 is raised, check again whether the mount/frame 6 is attracted (step 595), and if it is not attracted, an error message X is displayed (step 592). When the suction of the mount frame 6 is confirmed, the pasting roller unit 90 and peeling roller unit 92, which have moved to the pasting table 42, return to their original positions (origins) (step 596). For pasting, the roller unit 90 and peeling roller unit 92 return to their origin, and
The mount/frame chuck arm 114 that has attracted the mount frame 6 also moves toward the swing reversing unit 116 (step 598), and the mount/frame chuck arm 114 moves toward the swing reversing unit 1.
After moving to the position where one end of the mount frame 6 is inserted into the clamp mechanism 118 of 16, check again that the mount frame 6 is attracted (step 599).
If it is not absorbed, an error message X is displayed (step 592).

マウント・フレーム6の吸着が確認されると、スイング
反転ユニット116のクランプ機構118が閉じてマウ
ント・フレーム6をクランプする(ステップ5100)
。そして、マウント・フレーム6が確実にクランプされ
ているか否かを確認する(ステップ5102)。これは
、前記クランプ機構118に備えられた光電素子P H
S W 7の検出信号に基づいて判断する。マウント・
フレーム6がクランプされていない場合は、エラー表示
XIを行い(ステップ5104)、パトライト1−40
= 40のエラー表示ライトが点灯するとともに、操作盤1
38の7セグメントLEDが、このエラーに対応したコ
ードを表示する。
When adsorption of the mount frame 6 is confirmed, the clamp mechanism 118 of the swing reversing unit 116 closes and clamps the mount frame 6 (step 5100).
. Then, it is confirmed whether the mount frame 6 is securely clamped (step 5102). This is due to the photoelectric element P H provided in the clamp mechanism 118.
The determination is made based on the detection signal of SW7. mount·
If frame 6 is not clamped, error display XI is performed (step 5104), and the patrol light 1-4
= 40 error display light lights up and operation panel 1
38 7-segment LEDs display the code corresponding to this error.

マウント・フレーム6がクランプされていることを確認
すると、スイング反転ユニット116は、水平方向に約
180度スイングしくステップ5106)、再び、マウ
ント・フレーム6のクランプを確認する(ステップ51
07)。クランプされていない場合はエラー表示XIを
行う(ステップ5104)。マウント・フレーム6のク
ランプが確認されると、半導体ウェハ2の表面が上にな
るようにマウント・フレーム6を反転させる(ステップ
3108)。そして、もう一度、マウント・フレーム6
のクランプを確認しくステップ5IO9)、クランプさ
れていない場合にはエラー表示XIを行う (ステップ
3104)。
After confirming that the mount frame 6 is clamped, the swing reversing unit 116 swings approximately 180 degrees in the horizontal direction (step 5106), and confirms that the mount frame 6 is clamped again (step 51).
07). If it is not clamped, error display XI is performed (step 5104). When the clamping of the mount frame 6 is confirmed, the mount frame 6 is turned over so that the surface of the semiconductor wafer 2 faces upward (step 3108). And once again, mount frame 6
Confirm the clamping (Step 5IO9), and if it is not clamped, an error display XI is displayed (Step 3104).

マウント・フレーム6のクランプが確認されると、ヒー
トステージ126上に他のマウント・フレーム6が無い
ことを確認する(ステップ5llO)。これは、ヒート
ステージ126に設けられた光電素子PH3W8の検出
信号に基づいて行われる。ヒートステージ126に他の
マウント・フレーム6があれば、エラー表示x■を行い
(ステップ5ill)、パトライト140のエラー表示
ライトが点灯するとともに、操作盤138の7セグメン
トLEDが、このエラーに対応したコードを表示する。
When the clamping of the mount frame 6 is confirmed, it is confirmed that there is no other mount frame 6 on the heat stage 126 (step 5llO). This is performed based on the detection signal of the photoelectric element PH3W8 provided on the heat stage 126. If there is another mount frame 6 on the heat stage 126, an error display x is displayed (step 5ill), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED of the operation panel 138 responds to this error. Show code.

ヒートステージ126に他のマウント・フレーム6が無
いことが確認されると、スイング反転ユニット116は
下降しくステップ5112)、マウント・フレーム6が
ヒートステージ126上にまで来たところで、クランプ
機構118が解放する(ステップ5113)。これによ
ってマウント・フレーム6はヒートステージ126に移
される。
When it is confirmed that there is no other mount frame 6 on the heat stage 126, the swing reversing unit 116 descends (step 5112), and when the mount frame 6 reaches above the heat stage 126, the clamp mechanism 118 is released. (Step 5113). This moves the mount frame 6 to the heat stage 126.

ヒートステージ126に移されたマウント・フレーム6
は、ここで加熱される(ステップ5l14)。これによ
り、マウント・フレーム6の粘着テープが収縮して、そ
のテープ張力を強くする。
Mount frame 6 transferred to heat stage 126
is heated here (step 5l14). This causes the adhesive tape on the mount frame 6 to contract, increasing the tape tension.

ただし、このような弛み除去を必要としない場合、この
ステップ5114は省略される。
However, if such slack removal is not required, this step 5114 is omitted.

マウント・フレーム6の加熱を終了すると、マウント・
フレーム押し出し機構128が作動して、ヒートステー
ジ126上のマウント・フレームを押し出す(ステップ
5116)。そして、マウント・フレーム6がヒートス
テージ126から押し出されたか否かが確認される(ス
テップS ]、 18)。これは、ヒートステージ12
6の端部に設けられた光電素子PH3W9の検出信号に
基づいて判断する。マウント・フレーム6の押し出しが
行われていない場合はエラー表示X■を行い(ステップ
5120)、パトライト140のエラー表示ライトが点
灯するとともに、操作盤138の7セグメントLEDが
、このエラーに対応したコードを表示する。
After heating the mount frame 6, the mount frame 6 is heated.
Frame pushing mechanism 128 is activated to push out the mounting frame on heat stage 126 (step 5116). Then, it is confirmed whether the mount frame 6 has been pushed out from the heat stage 126 (step S], 18). This is heat stage 12
The judgment is made based on the detection signal of the photoelectric element PH3W9 provided at the end of the photoelectric element PH3W9. If the mount frame 6 is not pushed out, an error display X is displayed (step 5120), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED of the operation panel 138 displays a code corresponding to this error. Display.

ヒートステージ126から押し出されたマウント・フレ
ーム6ば、アンロータ部に搬送するための搬送テーブル
】30に乗る。そして、この搬送テーブル130に設け
られた光電素子PH3WIOによって、マウント・フレ
ーム6が搬送テーブル130に受け取られたか否かを確
認する(ステー43= ノブ5122)。搬送テーブル130にマウント・フレ
ーム6が受け取られていない場合は、エラー表示XIV
を行い(ステップ5124)、パトライl−140のエ
ラー表示ライトが点灯するとともに、操作盤138の7
セグメントLEDが、このエラーに対応したコードを表
示する。
The mount frame 6 pushed out from the heat stage 126 rides on a transport table 30 for transporting it to the unrotor section. Then, the photoelectric element PH3WIO provided on the transport table 130 confirms whether the mount frame 6 has been received by the transport table 130 (stay 43=knob 5122). If the mount frame 6 is not received on the transport table 130, error display XIV
(step 5124), the error display light on the patrol l-140 lights up, and the
A segment LED will display the code corresponding to this error.

搬送テーブル130にマウント・フレーム6が受け取ら
れている場合は、このマウント・フレーム6をアンロー
タ部にまで搬送し、前記アンロータ部にセットされたフ
レーム・カセット132に収納する(ステップ5126
)。アンロータ部に設けられた光電素子によって、マウ
ント・フレーム6がフレーム・カセット132に収納さ
れたことが検出されると、アンロータ部は1ピツチ上昇
して、次のマウント・フレーム6が収納されるのを待つ
(ステップ5L28)。
If the mount frame 6 is received on the transport table 130, the mount frame 6 is transported to the unrotor section and stored in the frame cassette 132 set in the unrotor section (step 5126).
). When the photoelectric element provided in the unrotor section detects that the mount frame 6 has been stored in the frame cassette 132, the unrotor section moves up one pitch to accommodate the next mount frame 6. (Step 5L28).

以上のように、ウェハ・ローダ部から供給された半導体
ウェハ2を所定方向に位置合わせした後、粘着テープ8
2に貼付けし、半導体ウェハ2が貼付けされたマウント
・フレーム6をフレーム・カセット132に収納すると
いう半導体ウェハ2の一連の貼付は作業が自動的に行わ
れる。
As described above, after aligning the semiconductor wafer 2 supplied from the wafer loader section in a predetermined direction, the adhesive tape 8
A series of operations for attaching the semiconductor wafer 2, such as attaching the semiconductor wafer 2 to the frame cassette 132 and storing the mount frame 6 with the semiconductor wafer 2 attached thereto in the frame cassette 132, are automatically performed.

次に、本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は装置に
備えられる、ヒートステージのマウント・フレーム残り
ミスを検出する機能、ヒートステージからのマウント・
フレーム押し出しミスを検出する機能、マウント・フレ
ーム搬送部のマウント・フレーム受け取りミスを検出す
る機能をそれぞれ具体的に説明しよう。
Next, the automatic attachment of semiconductor wafers according to this embodiment requires a function that is installed in the apparatus to detect errors in remaining heat stage mounting frames,
Let us specifically explain the function of detecting a frame extrusion error and the function of detecting a mount/frame receiving error of the mount/frame transport unit.

スイング反転ユニット116によってマウント・フレー
ム6を、ヒートステージ126に移すときに、そのヒー
トステージ126上に他のマウント・フレームが残って
いると、二つのマウント・フレーム6が重なって、以後
のマウント・フレーム6の排出ができなくなる。また、
ヒートステージ126からのマウント・フレーム6の押
し出しミスや、マウント・フレーム搬送部としての搬送
テーブル130のマウント・フレーム受け取りミスが発
生した場合にも、マウント・フレーム6をアンロータ部
に収納できなくなって不都合である。
When the mount frame 6 is transferred to the heat stage 126 by the swing inversion unit 116, if another mount frame remains on the heat stage 126, the two mount frames 6 will overlap and the subsequent mount frame will be The frame 6 cannot be ejected. Also,
Even if there is a mistake in pushing out the mount frame 6 from the heat stage 126 or a mistake in receiving the mount frame by the transport table 130 as the mount frame transport section, the mount frame 6 cannot be stored in the unrotor section, which is inconvenient. It is.

したがって、上述した各機能は、本半導体ウェハの自動
貼付は装置にとって重要である。
Therefore, each of the above-mentioned functions is important for the automatic attachment of semiconductor wafers.

ところで、上述した実施例において、ヒートステージ1
26上のマウント・フレーム6を検出する機能は、第1
検出手段としての光電素子PH3W8と、第1エラー判
別手段としての制御部142により得られる。即ち、ヒ
ートステージ126上にマウント・フレーム6が残って
いると、光電素子PH3W8がON状態となる。制御部
142は、スイング反転ユニット116からヒートステ
ージ126にマウント・フレーム6を移す前に、この光
電素子PH3W8がON状態であるか否かを確認するこ
とによって、マウント・フレーム残りミスを判別する(
第12図および第15図に示したステップ5ILO) 一方、ヒートステージ126からのマウント・フレーム
6の押し出しミス検出機能は、第2検出手段としての光
電素子PH3W9と、第2エラー判別手段としての制御
部142により得られる。
By the way, in the embodiment described above, heat stage 1
The function of detecting the mounting frame 6 on the first
This is obtained by the photoelectric element PH3W8 as a detection means and the control section 142 as a first error determination means. That is, if the mount frame 6 remains on the heat stage 126, the photoelectric element PH3W8 is turned on. Before transferring the mount frame 6 from the swing inversion unit 116 to the heat stage 126, the control unit 142 determines whether the mount frame remains incorrect by checking whether this photoelectric element PH3W8 is in the ON state (
(Step 5ILO shown in FIGS. 12 and 15) On the other hand, the function of detecting an extrusion error of the mount frame 6 from the heat stage 126 is performed using the photoelectric element PH3W9 as a second detection means and the control as a second error determination means. 142.

即ち、ヒートステージ126からマウント・フレーム6
が押し出されると、光電素子PH3W9がON状態にな
る。制御部142は、この光電素子PH3W9がON状
態であるか否かによって、マウント・フレーム押し出し
ミスを判別する(第12図および第15図に示したステ
ップ3118)。
That is, from the heat stage 126 to the mount frame 6
When pushed out, the photoelectric element PH3W9 is turned on. The control unit 142 determines whether the mount frame has been pushed out incorrectly depending on whether the photoelectric element PH3W9 is in the ON state (step 3118 shown in FIGS. 12 and 15).

また、マウント・フレーム搬送部としての搬送テーブル
130のマウント・フレーム受け取りミス検出機能は、
第3検出手段としての光電素子PH3WIOと、第3判
別手段としての制御部142により得られる。即ち、搬
送テーブル130にマウント・フレーム6が受け取られ
ると、光電素子PH5WI OがON状態になる。制御
部142は、この光電素子PH3WI OがON状態で
あるか否かによって、マウント・フレーム押し出しミス
を判別する(第12図および第15図に示したステップ
5122)。ただし、マウント・フレーム6が押し出さ
れてから、このマウント・フレーム6が光電素子PH3
WIOの位置に達するまでに、相当の時間を要するので
、このステップ5122は次のような待ち時間が考慮さ
れている。
In addition, the mount/frame receiving error detection function of the transport table 130 as the mount/frame transport unit is as follows:
This is obtained by the photoelectric element PH3WIO as the third detection means and the control section 142 as the third discrimination means. That is, when the mount frame 6 is received by the transport table 130, the photoelectric element PH5WIO is turned on. The control unit 142 determines whether the mount frame has been pushed out incorrectly depending on whether or not the photoelectric element PH3WIO is in the ON state (step 5122 shown in FIGS. 12 and 15). However, after the mount frame 6 is pushed out, this mount frame 6 is attached to the photoelectric element PH3.
Since it takes a considerable amount of time to reach the WIO position, this step 5122 takes into consideration the following waiting time.

即ち、第15図に示したように、ステップ5l18でマ
ウント・フレーム6の押し出しが確認されると同時に、
第11図に示した制御部142のCPU144に含まれ
るタイマがクリアされる(ステップ5122.)。そし
て、搬送テーブル130がマウント・フレーム6を受け
取ったか否かを、光電素子PH3WIOの検出信号に基
づいて判断する(ステップ5122□)。光電素子PH
3W10がON状態になっていない場合は、前記タイマ
がタイムオーバーしたか否かを確認する(ステップ51
223)。タイムオーバしていなければ、マウント・フ
レーム6が搬送されてくるまでに必要な時間が経過して
いないことになるから、ステップ31222に戻る。一
方、タイムオーバしても、光電素子PH3WIOがON
状態になっていない場合は、マウント・フレーム6が、
何等かの原因で搬送テーブル130に受け取られなかっ
たものと判断して、エラー表示XIV(ステップ512
4)を行う。
That is, as shown in FIG. 15, at the same time as the extrusion of the mount frame 6 is confirmed in step 5l18,
A timer included in the CPU 144 of the control unit 142 shown in FIG. 11 is cleared (step 5122). Then, it is determined whether the transport table 130 has received the mount frame 6 based on the detection signal of the photoelectric element PH3WIO (step 5122□). Photoelectric element PH
If 3W10 is not in the ON state, check whether the timer has timed out (step 51).
223). If the time has not exceeded, it means that the time required for the mount frame 6 to be transported has not elapsed, and the process returns to step 31222. On the other hand, even if the time is over, the photoelectric element PH3WIO remains ON.
If the mount frame 6 is not in the
It is determined that the item was not received by the transport table 130 for some reason, and an error display XIV (step 512) is displayed.
Do 4).

ステップ5122゜において、マウント・フレ一ムロの
受け取りが確認されると、第12図において説明したス
テップ8126に進んで、マウント・フレーム6をアン
ロータ部に収納する。
When the receipt of the mount frame 6 is confirmed in step 5122, the process proceeds to step 8126 described in FIG. 12, and the mount frame 6 is stored in the unrotor section.

次に、上述した実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は
装置にエラーが発生した場合に行われる、回復処理を簡
単に説明しよう。
Next, we will briefly explain the recovery process that is performed when an error occurs in the automatic attachment of semiconductor wafers according to the above-described embodiment.

前述したような各種のエラーが発生すると、そのエラー
発生箇所の後工程にあたる各機構部は、各動作をm続し
てそれぞれの動作サイクルを終了したところで停止する
。一方、エラーが発生した箇所と、その前工程にあたる
各機構部は、エラーが発生した時点で停止する。オペレ
ータは、」二連したエラー表示に基づいて、エラー発生
箇所のワーク(例えば、半導体ウェハ2やフレーム4な
ど)を取り外し、あるいは、カセットを正しくセントす
るなどの適宜の措置を採る。そして、エラー発生箇所の
前工程にあたる各機構部を原点に戻し、本装置を再スタ
ートさせる。
When any of the above-mentioned errors occurs, each mechanical section that is a process subsequent to the location where the error occurs continues each operation for m times and stops when each operation cycle is completed. On the other hand, the location where the error occurred and each mechanical section corresponding to the preceding process stop when the error occurs. Based on the double error display, the operator takes appropriate measures such as removing the workpiece (for example, semiconductor wafer 2 or frame 4) where the error has occurred or correctly inserting the cassette. Then, each mechanical section corresponding to the process preceding the error occurrence point is returned to its origin, and the apparatus is restarted.

なお、上述の実施例では、第1〜第3検出手段は、光電
素子PH3W8〜PH3WIOで構成されるとしたが、
本発明はこれに限定されるものでなく、例えば、近接ス
イッチなどの適宜の検出手段を採ることができる。
In addition, in the above-mentioned embodiment, the first to third detection means are composed of photoelectric elements PH3W8 to PH3WIO, but
The present invention is not limited to this, and for example, an appropriate detection means such as a proximity switch can be used.

また、マウント・フレーム残りミス、マウント・フレー
ム押し出しミスおよびマウント・フレーム受け取りミス
を示す表示態様は、実施例で説明したものに限られず、
ブサー表示など種々変形実施できる。
Furthermore, the display mode indicating the mount frame remaining error, mount frame extrusion error, and mount frame receiving error is not limited to that described in the embodiment,
Various modifications such as buzzer display etc. can be implemented.

さらに、本発明に係る半導体ウェハ自動貼付は装置は、
実施例において説明した装置に限定されるものでないこ
とは勿論である。
Furthermore, the semiconductor wafer automatic pasting device according to the present invention includes:
Of course, the present invention is not limited to the devices described in the embodiments.

〈発明の効果〉 以」二の説明から明らかなように、本発明に係る半導体
ウェハの自動貼付は装置は、ヒートステージ上のマウン
I・・フレームを検出する第1検出手段と、この第1検
出手段の検出信号に基づいて、ヒートステージのマウン
ト・フレーム残りミスを判別する第1判別手段と;ヒー
トステージから押し出されたマウンj・・フレームを検
出する第2検出手段と、この第2検出手段の検出手段に
基づいて、ヒートステージからのマウント・フレームの
押し出しミスを判別する第2判別手段と;マウント・フ
レーム搬送部にあるマウント・フレームを検出する第3
検出手段と、この第3検出手段の検出信号に基づいて、
マウント・フレーム搬送部のマウント・フレーム受け取
りミスを判別する第3判別手段とを備えている。
<Effects of the Invention> As is clear from the explanation in Section 2 below, the apparatus for automatically attaching semiconductor wafers according to the present invention includes a first detection means for detecting a mount I frame on a heat stage; a first determining means for determining whether the heat stage mount frame remains incorrectly based on a detection signal of the detecting means; a second detecting means for detecting the mount frame pushed out from the heat stage; a second determination means for determining whether the mount frame has been pushed out from the heat stage based on the detection means of the means; a third determination means for detecting the mount frame in the mount frame transport section;
Based on the detection means and the detection signal of this third detection means,
and a third determining means for determining whether the mount frame transport unit has received the mount frame incorrectly.

したがって、本発明によれば、何等がの異常発生によっ
て、マウント・フレームがヒートステージに残っていた
場合や、マウント・フレーム押し出しミスあるいはマウ
ント・フレームの受け取りミスが発生した場合に、オペ
レータが、この半導体ウェハ自動貼付は装置の異常発生
とその箇所を知ることができ、これにより適宜な措置を
迅速に採ることができるので、半導体ウェハ自動貼付は
装置の稼動効率を向」ニさせる上でたいへん好都合であ
る。
Therefore, according to the present invention, if the mount frame remains on the heat stage due to some abnormality, or if there is a mistake in pushing out the mount frame or in receiving the mount frame, the operator can Automatic semiconductor wafer attachment is very convenient for improving the operating efficiency of the equipment because it allows you to know when an abnormality has occurred in the equipment and where it is occurring, allowing you to quickly take appropriate measures. It is.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例に係る半導体ウェハの自動貼
付は装置の全体構成の概略を示した説明=51− 図、第2図は前記実施例における半導体ウェハ位置合わ
せ部および反転フォーク周辺部の構成図、第3図は前記
実施例におけるオリエンテーションフラット端部検出部
の構成図、第4図は前記実施例におけるフレーム・ロー
ダ部とフレーム位置決め部周辺の構成図、第5図は前記
実施例におけるフレーム搬送部周辺の構成図、第6図は
前記実施例における粘着テープ供給系統と粘着テープ切
断機構周辺の構成図、第7図および第8図は前記実施例
における貼付はローラユニットと剥離ローラユニットと
の構成および動作説明図、第9図は前記実施例における
ヒートステージ周辺の構成図、第10図は前記実施例に
おいて使用される半導体ウェハ、フレームおよびマウン
ト・フレームの説明図、第11図は前記実施例における
制御系統の構成の概略を示したブロック図、第12図は
前記実施例の動作フローチャート、第13図は前記実施
例におけるオリエンテーションフラット位置合わせの説
明図、第14図は前記実施例におけるオリエンテーショ
ンフラ・7ト位置合わせの動作フローチャト、第15図
は前記実施例におけるマウント・フレーム残りミス検出
、マウント・フレーム押し出しミス検出およびマウント
・フレーム受け取りミス検出の具体的な動作フローチャ
ートである。 2・・・半導体ウェハ、OF・・・オリエンテーション
フラット、4・・・フレーム、6・・・マウント・フレ
ーム、8・・・ウェハ・カセット、14・・・半導体ウ
ェハ位置合わせ部、20・・・アライメント・テーブル
、24・・・パルスモータ、32・・・オリエンテーシ
ョンフラット端部検出部、40・・・反転フォーク、4
2・・・貼付はテーブル、48・・・ウェハ・チャック
テーブル、50・・・フレーム・チャックテーブル、5
4・・・フレーム・ローダ部、62・・・フレーム位f
f決め部、72・・・フレーム・チャックアーム、82
・・・粘着テープ、90・・・貼付はローラユニット、
92・・・剥離ローラユニット、108・・・粘着テー
プ切断機構、114・・・マウント・フレームチャック
アーム、116・・・スイング反転ユニット、118・
・・クランプ機構、126・・・ヒートステージ、12
8・・・マウント・フレーム押し出し機構、130・・
・搬送テープル、132・・・フレーム・カセット、1
38・・・操作盤、140・・・パトライト、142・
・・制御部、144・・・CPU、PH3WI〜PH3
WII・・・光電素子、PUSWI〜PUSW5・・・
圧力スイツチ。
Figure 1 is an explanation showing the outline of the overall configuration of an apparatus for automatically attaching semiconductor wafers according to an embodiment of the present invention = 51- figure, and Figure 2 is a diagram showing the vicinity of the semiconductor wafer alignment section and reversing fork in the embodiment described above. FIG. 3 is a configuration diagram of the orientation flat end detection unit in the embodiment, FIG. 4 is a configuration diagram of the frame loader unit and frame positioning unit periphery in the embodiment, and FIG. 5 is a configuration diagram of the orientation flat end detection unit in the embodiment described above. FIG. 6 is a configuration diagram of the area around the frame conveyance unit in the example, FIG. 6 is a configuration diagram of the adhesive tape supply system and the area around the adhesive tape cutting mechanism in the example, and FIGS. 9 is a diagram illustrating the configuration and operation of the roller unit; FIG. 9 is a diagram illustrating the configuration around the heat stage in the embodiment; FIG. 10 is an explanatory diagram of the semiconductor wafer, frame, and mount frame used in the embodiment; 12 is a block diagram showing an outline of the configuration of the control system in the embodiment, FIG. 12 is an operation flowchart of the embodiment, FIG. 13 is an explanatory diagram of orientation flat alignment in the embodiment, and FIG. 14 is an illustration of the orientation flat alignment in the embodiment. FIG. 15 is an operational flowchart for orientation flat/7 position alignment in the embodiment. FIG. 15 is a specific operational flowchart for detecting a mount frame remaining error, mount frame extrusion error detection, and mount frame receiving error detection in the embodiment. . 2... Semiconductor wafer, OF... Orientation flat, 4... Frame, 6... Mount frame, 8... Wafer cassette, 14... Semiconductor wafer positioning unit, 20... Alignment table, 24... Pulse motor, 32... Orientation flat end detection section, 40... Reversing fork, 4
2... Paste on table, 48... Wafer/chuck table, 50... Frame/chuck table, 5
4...Frame loader section, 62...Frame position f
f determining part, 72...frame chuck arm, 82
... Adhesive tape, 90... Roller unit for pasting,
92... Peeling roller unit, 108... Adhesive tape cutting mechanism, 114... Mount/frame chuck arm, 116... Swing reversing unit, 118...
... Clamp mechanism, 126 ... Heat stage, 12
8...Mount frame extrusion mechanism, 130...
・Transport table, 132...Frame cassette, 1
38... Operation panel, 140... Patrol light, 142...
...Control unit, 144...CPU, PH3WI~PH3
WII...Photoelectric element, PUSWI~PUSW5...
Pressure switch.

Claims (1)

【特許請求の範囲】  オリエンテーションフラットが形成された半導体ウェ
ハを位置合わせして粘着テープに貼付ける半導体ウェハ
の自動貼付け装置であって、 前記半導体ウェハが貼付けられた粘着テープを保持して
いるフレーム(マウント・フレーム)が載置され、この
マウント・フレームを加熱処理できるヒートステージと
、 前記ヒートステージ上のマウント・フレームを検出する
第1検出手段と、 前記第1検出手段の検出信号に基づいて、前記ヒートス
テージのマウント・フレーム残りミスを判別する第1エ
ラー判別手段と、 前記ヒートステージに載置されたマウント・フレームを
押し出すマウント・フレーム押し出し機構部と、 前記ヒートステージから押し出されたマウント・フレー
ムを検出する第2検出手段と、 前記第2検出手段の検出信号に基づいて、前記ヒートス
テージからのマウント・フレームの押し出しミスを判別
する第2エラー判別手段と、前記ヒートステージから押
し出されたマウント・フレームを受け取って、これをア
ンロータ部に向けて搬送するマウント・フレーム搬送部
と、前記マウント・フレーム搬送部にあるマウント・フ
レームを検出する第3検出手段と、 前記第3検出手段の検出信号に基づいて、前記マウント
・フレーム搬送部のマウント・フレーム受け取りミスを
判別する第3エラー判別手段とを備えたことを特徴とす
る半導体ウェハの自動貼付け装置。
[Claims] An automatic semiconductor wafer pasting device that aligns a semiconductor wafer on which an orientation flat is formed and pastes it onto an adhesive tape, comprising: a frame holding the adhesive tape to which the semiconductor wafer is pasted; a heat stage on which a mount frame (mount frame) is placed and capable of heat-treating the mount frame; a first detection means for detecting the mount frame on the heat stage; based on a detection signal of the first detection means, a first error determining means for determining whether a remaining mount frame of the heat stage is incorrect; a mount frame pushing mechanism unit that pushes out the mount frame placed on the heat stage; and a mount frame pushed out from the heat stage. a second detection means for detecting a detection signal of the second detection means; a second error determination means for determining a mistake in pushing out the mount frame from the heat stage; - a mount frame transport section that receives a frame and transports it toward an unrotor section; a third detection means that detects the mount frame in the mount frame transport section; a detection signal of the third detection means; an automatic semiconductor wafer pasting apparatus, comprising third error determining means for determining whether the mount frame transfer unit receives a mount frame incorrectly based on the above.
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Cited By (7)

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