JPS63155633A - Automatic sticking system for semiconductor wafer - Google Patents

Automatic sticking system for semiconductor wafer

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Publication number
JPS63155633A
JPS63155633A JP61304781A JP30478186A JPS63155633A JP S63155633 A JPS63155633 A JP S63155633A JP 61304781 A JP61304781 A JP 61304781A JP 30478186 A JP30478186 A JP 30478186A JP S63155633 A JPS63155633 A JP S63155633A
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JP
Japan
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semiconductor wafer
frame
wafer
error
adhesive tape
Prior art date
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Pending
Application number
JP61304781A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Noda
和宏 野田
Hiroshi Owaki
大脇 弘
Akira Ishihara
明 石原
Kenji Nonomura
野々村 謙二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Electric Industrial Co Ltd filed Critical Nitto Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP61304781A priority Critical patent/JPS63155633A/en
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Abstract

PURPOSE:To detect an error of the suction of a semiconductor wafer at a semiconductor-wafer transfer part by a method wherein a pressure switch detects a change in the pressure of a vacuum chuck built in the semiconductor-wafer transfer part. CONSTITUTION:If a solenoid valve VL2 installed in connection with a vacuum chuck of a reversing fork 40 (semiconductor-wafer transfer part) is actuated and the reversing fork 40 starts a sucking operation of a wafer, a timer installed in a control unit is cleared. A pressure switch PUSW 2 detects whether the reversing fork 40 has sucked the wafer 2. When this pressure switch PUSW 2 is not set to an OFF state, said timer confirms whether a time limit has been exceeded or not. If the time limit has been exceeded, it is judged that the semiconductor wafer 2 has not been sucked by the reversing fork 40 for one cause or another, and an error is displayed.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、半導体ウェハのスクライブ工程の前工程にお
いて、半導体ウェハを粘着テープに貼付けるために用い
られる半導体ウェハの自動貼付は装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to an automatic semiconductor wafer affixing apparatus used for affixing a semiconductor wafer to an adhesive tape in a pre-process of a semiconductor wafer scribing process.

〈従来の技術〉 一般に、半導体ウェハのスクライブ工程では、半導体ウ
ェハを粘着テープに貼付けた状態でスクライブを行って
いる。スクライブされた半導体ウェハは、粘着テープに
貼付けられた状態でタラソキングされる。そして、粘着
テープを引き伸ばして、個々の半導体素子を分離し、次
工程であるダイボンディング工程において、半導体素子
を容易に取り扱えるようにしている。
<Prior Art> Generally, in a scribing process for semiconductor wafers, scribing is performed with the semiconductor wafer attached to an adhesive tape. The scribed semiconductor wafer is attached to an adhesive tape and subjected to thalassoking. The adhesive tape is then stretched to separate the individual semiconductor elements so that they can be easily handled in the next die bonding process.

このような半導体ウェハを粘着テープに貼付ける工程は
、半導体ウェハのスクライブ工程の前工程として行われ
る。そして、近年の半導体製造ラインの自動化に伴い、
半導体ウェハを粘着テープに貼付ける自動装置の開発が
望まれている。
Such a process of attaching a semiconductor wafer to an adhesive tape is performed as a pre-process of a semiconductor wafer scribing process. With the automation of semiconductor manufacturing lines in recent years,
It is desired to develop an automatic device for attaching semiconductor wafers to adhesive tape.

〈発明が解決しようとする問題点〉 本発明は、このような事情に鑑みて開発された半導体ウ
ェハの自動貼付は装置において、特に、アライメント・
テーブルによって位置合わせされた半導体ウェハを貼付
はテーブルに搬送する半導体ウェハ搬送部が、半導体ウ
ェハを吸着しているか否かを検出する機能を備えた半導
体ウェハの自動貼付は装置を提供することを目的として
いる。
<Problems to be Solved by the Invention> The present invention has been developed in view of the above circumstances, and is directed to an apparatus for automatically attaching semiconductor wafers, in particular to alignment and
The object of the present invention is to provide an automatic semiconductor wafer pasting device that has a function of detecting whether a semiconductor wafer is being adsorbed by a semiconductor wafer transport unit that transports semiconductor wafers aligned by a table to a pasting table. It is said that

このような本発明の目的は、後に行う本発明の詳細な説
明において、さらに明らかにする。
Such objects of the present invention will become clearer in the detailed description of the present invention that follows.

〈問題点を解決するための手段〉 本発明は、上記目的を達成するために、次のような構成
を採る。
<Means for Solving the Problems> In order to achieve the above object, the present invention adopts the following configuration.

即ち、本発明は、オリエンテーションフラットが形成さ
れた半導体ウェハを位置合わせして粘着テープに貼付け
る半導体ウェハの自動貼付は装置であって、 前記半導体ウェハの位置合わせを行うアライメント・テ
ーブルと、 前記アライメント・テーブルによって位置合わせされた
半導体ウェハを粘着テープに貼付ける貼付はテーブルと
、 前記アライメント・テーブルによって位置合わせされた
半導体ウェハを真空チャックで吸着保持して、前記アラ
イメント・テーブルから前記貼付はテーブルへ搬送する
半導体ウェハ搬送部と、前記半導体ウェハ搬送部が前記
半導体ウェハを吸着しているか否かを検出する吸着検出
部とを含み、 前記吸着検出部は、 前記半導体ウェハ搬送部に備えられる真空チャックの圧
力変化を検出する圧力検出手段と、前記圧力検出手段が
前記真空チャックの圧力変化を検出したか否かによって
、前記半導体ウェハ搬送部の半導体ウェハ吸着ミスを判
別するエラー判別手段とを備えたことを特徴としている
That is, the present invention provides an automatic semiconductor wafer attaching apparatus for aligning a semiconductor wafer on which an orientation flat is formed and attaching the semiconductor wafer to an adhesive tape, comprising: an alignment table for aligning the semiconductor wafer; and an alignment table for aligning the semiconductor wafer;・The semiconductor wafer aligned by the table is attached to the adhesive tape.The semiconductor wafer aligned by the alignment table is sucked and held by a vacuum chuck, and the semiconductor wafer aligned by the alignment table is attached to the adhesive tape from the alignment table to the adhesive tape. The semiconductor wafer transport unit includes a semiconductor wafer transport unit that transports the semiconductor wafer, and a suction detection unit that detects whether or not the semiconductor wafer transport unit is suctioning the semiconductor wafer, and the suction detection unit includes a vacuum chuck provided in the semiconductor wafer transport unit. pressure detection means for detecting a pressure change in the vacuum chuck; and error determination means for determining a semiconductor wafer suction error in the semiconductor wafer transfer section based on whether the pressure detection means detects a pressure change in the vacuum chuck. It is characterized by

〈実施例〉 以下、本発明の一実施例を図面に基づいて詳しく説明す
る。
<Example> Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail based on the drawings.

第1図は、本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は装
置の全体構成を示した概略斜視図、第2図〜第9図は前
記半導体ウェハの自動貼付は装置の各部の構成の概略図
である。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing the overall configuration of the automatic semiconductor wafer attachment device according to the present embodiment, and FIGS. 2 to 9 are schematic diagrams of the configuration of each part of the automatic semiconductor wafer attachment device. It is.

第10図は、本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は
装置によって粘着テープに貼付けられる半導体ウェハ2
と、この半導体ウェハ2を貼付けられた粘着テープを保
持するためのフレーム4と、半導体ウェハ2が貼付けら
れた状態のフレームであるマウント・フレーム6とを示
している。
FIG. 10 shows a semiconductor wafer 2 that is attached to an adhesive tape by an apparatus for automatic attachment of semiconductor wafers according to this embodiment.
, a frame 4 for holding the adhesive tape to which the semiconductor wafer 2 is attached, and a mount frame 6 which is the frame to which the semiconductor wafer 2 is attached.

半導体ウェハ2の外周部には、平坦な切り欠き面である
オリエンテーションフラットOFが形成されている。こ
のオリエンテーションフラットOFを基準として、素子
パターンが半導体ウェハ2=4− に形成されている。
An orientation flat OF, which is a flat cutout surface, is formed on the outer periphery of the semiconductor wafer 2 . Based on this orientation flat OF, an element pattern is formed on the semiconductor wafer 2=4-.

フレーム4は、リング状の金属板又は樹脂板であって、
その外周部には、後述するフレーム4の位置合わせの際
に使用されるVノツチ4□、4□が形成されている。
The frame 4 is a ring-shaped metal plate or resin plate,
V-notches 4□, 4□ are formed on the outer periphery of the frame 4 to be used when aligning the frame 4, which will be described later.

本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は装置は、上述
した半導体ウェハ2をウェハ・ローダ部から、フレーム
4をフレーム・ローダ部からそれぞれ個別に供給して粘
着テープに貼付け、最終的にはマウント・フレーム6を
アンローダ部に収納するようになっている。
For automatic attachment of semiconductor wafers according to this embodiment, the apparatus separately supplies the semiconductor wafer 2 and the frame 4 from the wafer loader section and the frame loader section, respectively, and attaches them to the adhesive tape, and finally mounts the semiconductor wafers. -The frame 6 is stored in the unloader section.

以下、本装置の各部の構成を説明する。The configuration of each part of this device will be explained below.

第1図に示す符号8 (8,〜84)は、ウェハ・ロー
ダ部にセットされたウェハ・カセットである。ウェハ・
カセット8は、複数枚の半導体ウェハ2をそれぞれ水平
状態に保持して、等間隔に上下方向に収納している。本
実施例では、二つのウェハ・ローダ部があり、左のウェ
ハ・ローダ部にウェハ・カセット88,8□が、右のウ
ェハ・ローダ部にウェハ・カセット83.84がそれぞ
れセントできる。各ウェハ・ローダ部は、上下方向に移
動可能に構成されているとともに、ウェハ・カセット8
内の半導体ウェハ2を検出して、これを押し出すことに
よって半導体ウェハ2の供給を行っている。
Reference numeral 8 (8, to 84) shown in FIG. 1 is a wafer cassette set in the wafer loader section. Wafer
The cassette 8 holds a plurality of semiconductor wafers 2 horizontally and stores them vertically at regular intervals. In this embodiment, there are two wafer loader sections, wafer cassettes 88, 8□ can be loaded into the left wafer loader section, and wafer cassettes 83, 84 can be loaded into the right wafer loader section. Each wafer loader section is configured to be movable in the vertical direction, and the wafer cassette 8
The semiconductor wafer 2 is supplied by detecting the semiconductor wafer 2 inside and pushing it out.

各ウェハ・ローダ部に備えられるウェハ押し出し機構は
、第2図に示されている。即ち、左のウェハ・ローダ部
には、モーフで駆動されるウェハ押し出し機構10が、
右のウェハ・ローダ部には、エアーシリンダで駆動され
るウェハ押し出し機構12がそれぞれ設けられている。
The wafer push mechanism provided in each wafer loader section is shown in FIG. That is, in the left wafer loader section, a wafer pushing mechanism 10 driven by a morph is installed.
The right wafer loader section is provided with a wafer pushing mechanism 12 driven by an air cylinder.

各ウェハ・ローダ部から供給された半導体ウェハ2は、
この半導体ウェハ2を位置合わせするための半導体ウェ
ハ位置合わせ部14に搬送される。
The semiconductor wafers 2 supplied from each wafer loader section are
This semiconductor wafer 2 is transported to a semiconductor wafer alignment section 14 for alignment.

半導体ウェハ2は、第2図に示す搬送ベルト16によっ
て半導体ウェハ位置合わせ部14に搬送される。この搬
送ベルト16は、モーフ18によって正逆方向に駆動さ
れる。
The semiconductor wafer 2 is transported to the semiconductor wafer alignment section 14 by a transport belt 16 shown in FIG. This conveyor belt 16 is driven by the morph 18 in forward and reverse directions.

半導体ウェハ位置合わせ部14は、搬送されてきた半導
体ウェハ2を受は取って、オリエンテーションフラット
OFの位置合わせを行うアライメント・テーブル20と
、半導体ウェハ2の中心をアライメント・テーブル20
の中心に一致させるように半導体ウェハ2の位置合わせ
を行う中心位置合わせ板22.,22゜などを含む。
The semiconductor wafer alignment unit 14 includes an alignment table 20 that receives and receives the semiconductor wafer 2 that has been transferred and aligns the orientation flat OF, and an alignment table 20 that aligns the center of the semiconductor wafer 2 with the alignment table 20.
A center alignment plate 22. which aligns the semiconductor wafer 2 so that it aligns with the center of the center alignment plate 22. , 22°, etc.

アライメント・テーブル2oは、半導体ウェハ2を吸着
保持するための真空チャックを備えている。VLIは、
この真空チャックの入/切を行う電磁弁、PUSWIは
、真空チャック内の圧力低下を検出してON状態になる
圧力スイツチである。
The alignment table 2o is equipped with a vacuum chuck for holding the semiconductor wafer 2 by suction. VLI is
The solenoid valve PUSWI that turns on/off the vacuum chuck is a pressure switch that turns on when it detects a drop in pressure within the vacuum chuck.

また、このアライメント・テーブル20は、パルスモー
タ24によって回動可能に構成されているとともに、エ
アーシリンダ26によって上下方向に移動可能に構成さ
れている。
Further, this alignment table 20 is configured to be rotatable by a pulse motor 24 and configured to be movable in the vertical direction by an air cylinder 26.

中心位置合わせ板22.,22□は、上限位置にあるア
ライメント・テーブル20を介して対向する位置に設け
られている。各中心位置合わせ板22、.222の対向
面側には、半導体ウェハ2の外形に対応した円弧状の基
準面が形成されている。中心位置合わせ板22□、22
□は、エアーシリンダ28で駆動されるリンク機構によ
って、水平方向に移動可能に構成されている。
Center alignment plate 22. , 22□ are provided at positions facing each other with the alignment table 20 at the upper limit position interposed therebetween. Each center alignment plate 22, . An arc-shaped reference surface corresponding to the outer shape of the semiconductor wafer 2 is formed on the opposing surface side of the semiconductor wafer 2 . Center alignment plate 22□, 22
□ is configured to be movable in the horizontal direction by a link mechanism driven by an air cylinder 28.

アライメント・テーブル20の両側には、搬送ベルト1
6に乗って搬送されてきた半導体ウェハ2を受は止める
ためのウェハストッパー301゜30、がある。ウェハ
ストッパー30..30zは、図示しないエアーシリン
ダによって揺動される。左のウェハ・ローダ部から半導
体ウェハ2が供給されている場合には、右のウェハスト
ッパー302が、右のウェハ・ローダ部から半導体ウェ
ハ2が供給されている場合には、左のウェハストッパー
30.が、それぞれ上昇して、搬送されてきた半導体ウ
ェハ2を受は止める。
On both sides of the alignment table 20, conveyor belts 1
There are wafer stoppers 301 and 30 for receiving and stopping the semiconductor wafers 2 conveyed on the wafer 6. Wafer stopper 30. .. 30z is swung by an air cylinder (not shown). When the semiconductor wafer 2 is supplied from the left wafer loader section, the right wafer stopper 302 is used, and when the semiconductor wafer 2 is supplied from the right wafer loader section, the left wafer stopper 30 .. , respectively, rise and stop receiving the semiconductor wafer 2 that has been transported.

第2図に示す符号32は、アライメント・テーブル20
に吸着保持されて回転している半導体ウェハ2のオリエ
ンテーションフラットOFの端部を検出するために、3
Mの透過型の光電素子PH3WI、2.3を備えたオリ
エンテーションフラット端部検出部である。このオリエ
ンテーションフラット端部検出部32は、第3図に示す
ように、前記光電素子PH3WI、2.3の発光部36
と受光部38とがエアーシリンダ34によって開閉自在
になるように構成されている。このような3組の透過型
の光電素子PH3WI、2.3を使用するのは、半導体
ウェハ2の大きさに応じて、適宜な光電素子を選択して
使用するためである。オリエンテーションフラット端部
検出部32は、通常状態では開いており、オリエンテー
ションフラットOFの位置合わせのために、その端部を
検出するときに閉じられる。
Reference numeral 32 shown in FIG.
In order to detect the edge of the orientation flat OF of the semiconductor wafer 2 which is being held by suction and rotating,
This is an orientation flat end detection unit equipped with a transmission type photoelectric element PH3WI, 2.3. As shown in FIG.
The light receiving section 38 and the light receiving section 38 are configured to be openable and closable by the air cylinder 34. The reason why such three sets of transmission type photoelectric elements PH3WI, 2.3 are used is to select and use appropriate photoelectric elements according to the size of the semiconductor wafer 2. The orientation flat end detection section 32 is open in a normal state, and is closed when detecting the end of the orientation flat OF for positioning.

第1図および第2図に示した符号40は、半導体ウェハ
位置合わせ部14によってオリエンテーションフラン)
OFの位置合わせが行われた半導体ウェハ2を貼付はテ
ーブル42に搬送するための反転フォークである。この
反転フォーク40は、半導体ウェハ2を裏面側から吸着
保持するための真空チャックを備えている。VL2は、
この真空チャックの入/切を行う電磁弁、PUSW2は
、真空チャック内の圧力低下を検出してON状態になる
圧力スイツチである。
Reference numeral 40 shown in FIG. 1 and FIG.
A reversing fork is used to transfer the semiconductor wafer 2 whose OF has been aligned to the table 42. The reversing fork 40 is equipped with a vacuum chuck for suctioning and holding the semiconductor wafer 2 from the back side. VL2 is
The solenoid valve PUSW2 that turns on/off the vacuum chuck is a pressure switch that turns on when it detects a drop in pressure within the vacuum chuck.

反転フォーク40は、エアーシリンダ44によって駆動
されてアライメント・テーブル20と貼付はテーブル4
2との間を往復動するとともに、モータ46によって上
方向に回動されることによって、半導体ウェハ2の裏面
が上側になるように半導体ウェハ2を反転させる。P 
HS W 4は、反転フォーク40が反転動作して所定
の位置にあるか否かを検出するための光電素子である。
The reversing fork 40 is driven by an air cylinder 44 to connect the alignment table 20 and the pasting table 4.
2, and is rotated upward by the motor 46, thereby inverting the semiconductor wafer 2 so that the back surface of the semiconductor wafer 2 faces upward. P
HSW 4 is a photoelectric element for detecting whether or not the reversing fork 40 has performed a reversing operation and is at a predetermined position.

貼付はテーブル42は、第6図に示すように、ウェハ・
チャックテーブル48と、このウェハ・チャックテーブ
ル48の周囲に設けられるフレーム・チャックテーブル
50とを含む。ウェハ・チャックテーブル48は、エア
ーシリンダ49によって上下方向に移動可能に構成され
ているとともに、圧縮コイルバネ51によって上方向に
付勢されている。ウェハ・チャックテーブル48の上に
は保護フィルム52が敷設されている。反転フォーク4
0によって搬送された半導体ウェハ2は、その裏面を上
側にした状態で、保護フィルム52を介してウェハ・チ
ャックテーブル48上に載置される。保護フィルム52
は、半導体ウェハ2の表面に傷を発生させないようにす
るために用いられている。
As shown in FIG.
It includes a chuck table 48 and a frame chuck table 50 provided around the wafer chuck table 48. The wafer chuck table 48 is configured to be movable in the vertical direction by an air cylinder 49, and is biased upward by a compression coil spring 51. A protective film 52 is laid on the wafer chuck table 48. Reversing fork 4
The semiconductor wafer 2 transported by the wafer 2 is placed on the wafer chuck table 48 via the protective film 52 with its back side facing upward. Protective film 52
is used to prevent scratches from occurring on the surface of the semiconductor wafer 2.

第1図に戻って、符号54はフレーム・ローダ部である
。フレーム・ローダ部54は、複数枚のフレーム4を重
ねた状態で収納するフレーム・ストッカー56と、この
フレーム・ストッカー56に収納されたフレーム4を下
から順番に押し出すフレーム押し出し機構を備えている
。このフレーム押し出し機構は、第4図に示すように、
フレーム4を押し出すための押し出しプレート58と、
これを水平方向に駆動するエアーシリンダ60などから
構成されている。
Returning to FIG. 1, reference numeral 54 is a frame loader section. The frame loader section 54 includes a frame stocker 56 that stores a plurality of frames 4 in a stacked state, and a frame push-out mechanism that sequentially pushes out the frames 4 stored in the frame stocker 56 from below. This frame extrusion mechanism, as shown in Figure 4,
an extrusion plate 58 for extruding the frame 4;
It is composed of an air cylinder 60 that drives this horizontally.

フレーム・ローダ部54から供給されたフレーム4は、
フレーム送り出し部によって、フレーム位置決め部62
にまで送り出される。フレーム送り出し部は、フレーム
・ストッカー56から押し出されたフレーム4の内周面
に係合して、このフレーム4を送り出すフレーム・プッ
シャー64と、このフレーム・プッシャー64を上げ下
ろしするためのエアーシリンダ66と、フレーム・プッ
シャー64を水平方向に駆動するためのエアーシリンダ
68などから構成されている。通常状態において、フレ
ーム・プッシャー64は下降している。
The frame 4 supplied from the frame loader section 54 is
The frame positioning section 62
It is sent out to The frame feeding section includes a frame pusher 64 that engages with the inner peripheral surface of the frame 4 pushed out from the frame stocker 56 and feeds out the frame 4, and an air cylinder 66 for raising and lowering the frame pusher 64. , an air cylinder 68 for horizontally driving the frame pusher 64, and the like. In the normal state, frame pusher 64 is lowered.

フレーム・ストッカー56からフレーム4が押し出され
ると、エアーシリンダ66が駆動して、フレーム・プッ
シャー64を押し上げて、これをフレーム4の内側に差
し入れ、続いて、エアーシリンダ68が駆動して、フレ
ーム4をフレーム位置決め部62にまで送り出す。
When the frame 4 is pushed out from the frame stocker 56, the air cylinder 66 is driven to push up the frame pusher 64 and insert it into the frame 4, and then the air cylinder 68 is driven to push the frame pusher 64 up and into the frame 4. is sent out to the frame positioning section 62.

フレーム位置決め部62は、送り出されたフレーム4を
位置決めするための2本の位置決めピン70 (但し、
第4図には1本の位置決めピン70だけが現れている)
が設けられている。この位置決めピン70と、フレーム
4の■ノツチ4..4□が係合することによって、フレ
ーム4が位置決めされる。P HS W 5は、位置決
めされたフレーム4を検出するための光電素子である。
The frame positioning unit 62 has two positioning pins 70 (however,
Only one positioning pin 70 is visible in Fig. 4)
is provided. This positioning pin 70 and the notch 4 of the frame 4. .. The frame 4 is positioned by engaging 4□. PHSW 5 is a photoelectric element for detecting the positioned frame 4.

位置決めされたフレーム4は、フレーム搬送部によって
貼付はテーブル42にまで搬送され、貼付はテーブル4
2のフレーム・チャックテーブル50に載置される。フ
レーム搬送部は、第5図に示すように、フレーム4を吸
着保持するフレーム・チャックアーム72と、このフレ
ーム・チャックアーム72を上昇させるエアーシリンダ
73と、フレーム・チャックアーム72を水平方向に駆
動するためのエアーシリンダ74などから構成されてい
る。VL3は、このフレーム・チャックアーム72の入
/切を行う電磁弁、PUSW3は、フレーム・チャック
アーム72内の圧力低下を検出してON状態になる圧力
スイフチである。
The positioned frame 4 is transported to the table 42 for pasting by the frame conveying section, and the pasting is carried out by the table 42.
It is placed on the frame chuck table 50 of No. 2. As shown in FIG. 5, the frame transport section includes a frame chuck arm 72 that holds the frame 4 by suction, an air cylinder 73 that raises this frame chuck arm 72, and a horizontal drive of the frame chuck arm 72. It is composed of an air cylinder 74, etc. for VL3 is a solenoid valve that turns on/off the frame chuck arm 72, and PUSW3 is a pressure switch that detects a drop in pressure within the frame chuck arm 72 and turns on.

フレーム・チャックテーブル50は、前記フレーム搬送
部によって搬送されたフレーム4を吸着保持する。第5
図に示したV L 4は、このフレーム・チャックテー
ブル50の入/切を行う電磁弁、PUSW4は、フレー
ム・チャックテーブル50内の圧力低下を検出してON
状態になる圧力スイフチである。また、PH3W6は、
フレーム・チャックテーブル50上のフレーム4を検出
する光電素子である。
The frame chuck table 50 attracts and holds the frame 4 transported by the frame transport section. Fifth
V L 4 shown in the figure is a solenoid valve that turns on/off the frame/chuck table 50, and PUSW 4 is turned on by detecting a pressure drop inside the frame/chuck table 50.
It is a pressure swift that goes into the state. In addition, PH3W6 is
This is a photoelectric element that detects the frame 4 on the frame chuck table 50.

次に、第1図および第6図に基づいて、テープ供給・巻
き取り機構および粘着テープの切断機構について説明す
る。
Next, a tape supply/winding mechanism and an adhesive tape cutting mechanism will be explained based on FIGS. 1 and 6.

前述した保護フィルム52は、貼付はテーブル42の一
方側に設けられた保護フィルム供給り−ル76から供給
され、貼付はテーブル42の他方側に設けられた保護フ
ィルム巻き取りリール78によって巻き取られる。
The above-described protective film 52 is pasted and supplied from a protective film supply reel 76 provided on one side of the table 42, and pasted and wound up by a protective film take-up reel 78 provided on the other side of the table 42. .

符号80は、半導体ウェハ2を貼付けるための粘着テー
プ82を供給する粘着テープ供給リールである。粘着テ
ープ82は、これと同じ幅のセパレータ84と重ね合わ
された状態で粘着テープ供給リール80にセントされて
いる。セパレータ84は、粘着テープ82が粘着面を下
側にして送り出されるときに、粘着テープ82とは別に
セパレータ巻き取りリール86によって巻き取られる。
Reference numeral 80 is an adhesive tape supply reel that supplies adhesive tape 82 for pasting the semiconductor wafer 2. The adhesive tape 82 is placed on the adhesive tape supply reel 80 in a state where it is overlapped with a separator 84 having the same width. The separator 84 is wound up separately from the adhesive tape 82 by a separator take-up reel 86 when the adhesive tape 82 is fed out with the adhesive side facing down.

半導体ウェハ2の貼付けのために使用された粘着テープ
82の残りは残渣テープ巻き取りリール88によって巻
き取られる。
The remainder of the adhesive tape 82 used for pasting the semiconductor wafer 2 is taken up by a residual tape take-up reel 88.

符号90は、上下方向に配設された複数本のローラから
なる貼付はローラユニットである。第6図に示すように
、粘着テープ供給リール80から供給された粘着テープ
82は、貼付はローラユニット90に’SJの字状に架
は渡され、さらに、貼付はローラユニット90に並設さ
れた剥離ローラユニット92に架は渡されて、残渣テー
プ巻き取りリール88に巻き取られる。
Reference numeral 90 denotes a pasting roller unit consisting of a plurality of rollers arranged in the vertical direction. As shown in FIG. 6, the adhesive tape 82 supplied from the adhesive tape supply reel 80 is pasted onto a roller unit 90 in a 'SJ' shape, and is further pasted on the roller unit 90 in parallel. The tape is then passed to a peeling roller unit 92 and wound onto a residue tape take-up reel 88 .

第7図に示すように、貼付はローラユニット90は、こ
れを水平駆動するエアーシリンダ94のロンド先端部に
結合されている。また、剥離ローラユニット92は、前
記エアーシリンダ94のシリンダ本体に結合されている
。貼付はローラユニット90および剥離ローラユニット
92は、それらの上部に設けられたカムホロワ−によっ
てレール96上を摺動するように構成されている。レー
ル96は、その両端部に設けられたエアーシリンダ98
..9B□によって上下動可能に構成されている。貼付
はローラユニット90の下部には、ラック・ピニオン機
構100が設けられており、このラック・ピニオン機構
100は、ブレーキ102、クラッチ104を介して結
合されたモータ106によって駆動されるようになって
いる。
As shown in FIG. 7, the pasting roller unit 90 is connected to the tip of an air cylinder 94 that horizontally drives the pasting roller unit 90. Furthermore, the peeling roller unit 92 is coupled to the cylinder body of the air cylinder 94. The pasting roller unit 90 and the peeling roller unit 92 are configured to slide on a rail 96 by means of cam followers provided above them. The rail 96 has air cylinders 98 provided at both ends thereof.
.. .. It is configured to be movable up and down by 9B□. A rack and pinion mechanism 100 is provided at the bottom of the roller unit 90, and this rack and pinion mechanism 100 is driven by a motor 106 coupled via a brake 102 and a clutch 104. There is.

上述した貼付はローラユニット90およびff1l離ロ
ーラユニツト92の動作を第7図および第8図によって
説明する。
The operations of the pasting roller unit 90 and the ff1l separating roller unit 92 will be explained with reference to FIGS. 7 and 8.

通常状態において、各ローラユニット90.92は貼付
はテーブル42よりも左側の原点位置にあり、レール9
6は上昇している。また、このときブレーキ102およ
びクラッチ104は解除されている。
In the normal state, each roller unit 90, 92 is attached at the origin position to the left of the table 42, and the rail 9
6 is rising. Further, at this time, the brake 102 and the clutch 104 are released.

貼付は動作を行う場合、エアーシリンダ98゜、9日、
が作動してレール96が下降する。そして、剥離ローラ
ユニット92に関連して設けられた図示しないコツタが
作動して剥離ローラユニット92を停止状態に維持する
。この状態で、エアーシリンダ94が作動すると貼付は
ローラユニット90だけが水平方向に駆動されて、貼付
はローラが貼付はテーブル42上の粘着テープ82を下
方に押圧しながら転勤することによって、粘着テープ8
2と半導体ウェハ2との貼付けが行われる。
When pasting is performed, use an air cylinder at 98° for 9 days.
is activated and the rail 96 is lowered. Then, a not-shown lever provided in connection with the peeling roller unit 92 operates to maintain the peeling roller unit 92 in a stopped state. In this state, when the air cylinder 94 is activated, only the roller unit 90 is driven in the horizontal direction, and the roller moves while pressing the adhesive tape 82 on the table 42 downward, thereby applying the adhesive tape. 8
2 and the semiconductor wafer 2 are attached.

このときクラッチ104は開放されている。At this time, clutch 104 is released.

粘着テープ82の切断後に、残渣テープをフレーム4な
どから剥離する場合、前記剥離ローラユニット92のコ
ックが解除されるとともに、ブレーキ102が作動する
。この状態で、エアーシリンダ94が作動すると、貼付
はローラユニット90は停止状態を維持するから、剥離
ローラユニット92とエアーシリンダ94とが一体とな
って右方向に水平移動する。剥離ローラユニット92は
水平移動しながら、剥離ローラを回転駆動することによ
って、残渣テープを剥離する。第8図は、このような剥
離動作を終了した時点の各ローラユニット90.92の
位置を示している。
When peeling the residual tape from the frame 4 or the like after cutting the adhesive tape 82, the cock of the peeling roller unit 92 is released and the brake 102 is activated. In this state, when the air cylinder 94 is operated, the pasting roller unit 90 remains in a stopped state, so the peeling roller unit 92 and the air cylinder 94 move horizontally to the right as one. The peeling roller unit 92 peels off the residual tape by rotating the peeling roller while moving horizontally. FIG. 8 shows the position of each roller unit 90, 92 at the time when such a peeling operation is completed.

剥離動作終了後の各ローラユニッ)90.92の原点復
帰は、次のようにして行われる。
The return of each roller unit (90, 92) to its origin after the completion of the peeling operation is performed as follows.

まず、エアーシリンダ98..98□が作動して、レー
ル96を上昇させる。このようにレール96を上昇させ
るのは、原点復帰動作のときに各ローラユニソ)、90
.92が貼付はテーブル42上を転動すると、前述した
剥離動作によってヱリ離された残渣テープがフレーム4
等に再び接着するからである。レール96が上昇すると
ともに、ブレーキ102が解除され、クラッチ104が
結合される。そして、モータ106が作動してランク・
ピニオン機構100が駆動されることにより、貼付はロ
ーラユニット90および剥離ローラユニット92が一体
となって、左方向に水平移動して原点復帰する。
First, air cylinder 98. .. 98□ operates to raise the rail 96. Raising the rail 96 in this way is done by each roller 90
.. When the attached tape 92 rolls on the table 42, the residual tape released by the above-mentioned peeling operation is left on the frame 4.
This is because it will be re-adhered to etc. As the rail 96 rises, the brake 102 is released and the clutch 104 is engaged. Then, the motor 106 operates to
By driving the pinion mechanism 100, the pasting roller unit 90 and the peeling roller unit 92 move horizontally to the left and return to the origin.

貼付はテーブル42の上方向には、前述した貼付は動作
によって貼付けられた帯状の粘着テープ82をフレーム
4に沿って円形に切断するための粘着テープ切断機構1
08が設けられている。この粘着テープ切断機構108
は、第6図に示すように、貼付はテーブル42上の粘着
テープ82を押さえ付けて保持する押さえプレー1−1
10と、押さえプレート110の外周に沿って回転駆動
されるテープカッター112などから構成されている。
For pasting, an adhesive tape cutting mechanism 1 is provided above the table 42 for cutting the band-shaped adhesive tape 82 pasted by the above-described pasting operation into a circular shape along the frame 4.
08 is provided. This adhesive tape cutting mechanism 108
As shown in FIG.
10, a tape cutter 112 that is rotatably driven along the outer periphery of the presser plate 110, and the like.

押さえプレート110およびテープカッター112は、
一体となって上下方向に移動可能に構成されている。
The pressing plate 110 and tape cutter 112 are
It is configured to be movable in the vertical direction as a unit.

第6図に示した符号114は、貼付はテーブル42から
マウント・フレーム6を、排出するためのマウント・フ
レームチャックアームである。このマウント・フレーム
チャックアーム114は、前述した剥離ローラユニット
92に取り付けられている。マウント・フレームチャッ
クアーム114は、剥離ローラユニット92の剥離動作
とともに貼付はテーブル42側に移動して、マウント・
フレーム6を吸着保持し、剥離ローラユニット92等の
原点復帰動作によって、マウント・フレーム6を排出搬
送する。なお、第6図に示したVL5は、このマウント
・フレームチャックアーム114の入/切を行う電磁弁
、PUSW5は、マウント・フレームチャックアーム1
14内の圧力低下を検出してON状態になる圧力スイツ
チである。
Reference numeral 114 shown in FIG. 6 is a mount/frame chuck arm for ejecting the mount frame 6 from the attachment table 42. This mount/frame chuck arm 114 is attached to the peeling roller unit 92 described above. The mount/frame chuck arm 114 moves toward the table 42 side with the peeling operation of the peeling roller unit 92, and removes the mount/frame.
The frame 6 is held by suction, and the mount frame 6 is discharged and conveyed by the return-to-origin operation of the peeling roller unit 92 or the like. In addition, VL5 shown in FIG. 6 is a solenoid valve that turns on/off this mount/frame chuck arm 114, and PUSW5 is a solenoid valve that turns on/off the mount/frame chuck arm 114.
This is a pressure switch that turns on when it detects a drop in pressure within the pressure switch 14.

マウント・フレームチャックアーム114によって吸着
保持されたマウント・フレーム6は、前記各ローラユニ
ソ)90.92の原点復帰動作によって、スイング反転
ユニット116にまで搬送される。スイング反転ユニッ
ト116は、第6図および第9図に示すように、搬送さ
れたマウント・フレーム6を保持するクランプ機構11
8の他に、保持したマウント・フレームを水平方向に約
180度スイングするスイング機構120、スイングさ
れたマウント・フレーム6を半導体ウェハ2の表面が上
になるように反転させる反転機構122、反転されたマ
ウント・フレームをヒートステージ126にまで下降さ
せる上下駆動機構124などを備えている。なお、クラ
ンプ機構118に備えられたPH3W7は、このクラン
プ機構118にクランプされたマウント・フレーム6を
検出する光電素子である。
The mount frame 6 suctioned and held by the mount frame chuck arm 114 is conveyed to the swing reversing unit 116 by the origin return operation of each of the rollers 90 and 92. As shown in FIGS. 6 and 9, the swing reversing unit 116 includes a clamp mechanism 11 that holds the transported mount frame 6.
In addition to 8, there is also a swing mechanism 120 that swings the held mount frame 6 approximately 180 degrees in the horizontal direction, an inversion mechanism 122 that inverts the swung mount frame 6 so that the surface of the semiconductor wafer 2 faces up, and The apparatus includes a vertical drive mechanism 124 for lowering the mount frame to the heat stage 126. Note that the PH3W7 provided in the clamp mechanism 118 is a photoelectric element that detects the mount frame 6 clamped by the clamp mechanism 118.

ヒートステージ126は、熱収縮性フィルムを支持体と
して用いた粘着テープを使用する場合、加熱することに
よってテープ張力を増大させる目的で設けられている。
The heat stage 126 is provided for the purpose of increasing tape tension by heating when using an adhesive tape using a heat-shrinkable film as a support.

第9図に示すように、このヒートステージ126に隣接
して、ヒートステージ126上のマウント・フレーム6
を押し出すためのマウント・フレーム押し出し機構12
8と、押し出されたマウント・フレーム6を第1図に示
すフレーム・カセット132(132,〜1324)に
搬送する搬送テーブル130が設けられている。搬送テ
ーブル130は、第9図に示すエアーシリンダ131に
よって、水平方向に移動可能に構成されており、左側の
アンローダ部に搬送するための搬送ベルト134と、右
側のアンローダ部に搬送するための搬送ベルト136に
、マウント・フレーム6を振り分けできるようになって
いる。
As shown in FIG. 9, the mount frame 6 on the heat stage 126 is adjacent to the heat stage 126.
Mount frame extrusion mechanism 12 for extruding
8 and a transport table 130 for transporting the extruded mount frame 6 to a frame cassette 132 (132, to 1324) shown in FIG. The conveyance table 130 is configured to be movable in the horizontal direction by an air cylinder 131 shown in FIG. 9, and includes a conveyor belt 134 for conveying to the unloader section on the left side and a conveyor belt 134 for conveying to the unloader section on the right side. The mount frame 6 can be distributed to the belt 136.

なお、第9図に示した、PH5W8はヒートステージ1
26上のマウント・フレーム6を検出する光電素子、P
H3W9はヒートステージ126上のマウント・フレー
ム6の押し出しを検出する光電素子、PH3WI Oは
搬送テーブル130によるマウント・フレーム6の受は
取りを検出する光電素子である。
In addition, PH5W8 shown in FIG. 9 is heat stage 1.
A photoelectric element for detecting the mounting frame 6 on 26, P
H3W9 is a photoelectric element that detects the extrusion of the mount frame 6 on the heat stage 126, and PH3WIO is a photoelectric element that detects the reception of the mount frame 6 by the transport table 130.

フレーム・カセット132は、複数のマウント・フレー
ム6を水平状態で等間隔に収納するもので、本実施例で
は4個のフレーム・カセット132I〜1324をセッ
トできる。フレーム・カセット1321.132□は左
側のアンローダ部に、フレーム・カセット132..1
324は右側のアンローダ部に、それぞれセントされる
。各アンローダ部は、それぞれ上下方向に移動可能に構
成されている。
The frame cassette 132 stores a plurality of mount frames 6 horizontally at equal intervals, and in this embodiment, four frame cassettes 132I to 1324 can be set. Frame cassettes 1321.132□ are placed in the left unloader section. .. 1
324 are respectively sent to the right unloader section. Each unloader section is configured to be movable in the vertical direction.

第1図に示す、符号138は操作盤である。この操作盤
1.38には、装置のエラーの種類に対応したコードを
表示する3桁の7セグメントLEDや操作キーなどが設
けられている。また、符号140は、自動運転動作やエ
ラー発止などを表示するパトライトである。
Reference numeral 138 shown in FIG. 1 is an operation panel. This operation panel 1.38 is provided with a 3-digit 7-segment LED that displays a code corresponding to the type of error in the device, operation keys, and the like. Further, reference numeral 140 is a patrol light that displays automatic driving operations, occurrence of errors, and the like.

次に、本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は装置の
制御系の構成を第11図に基づいて説明する。
Next, the configuration of the control system of the apparatus for automatically attaching semiconductor wafers according to this embodiment will be explained based on FIG. 11.

制御部142は、CPU144.ROM146゜RAM
14B、操作盤コントローラ150.センサーコントロ
ーラ152.アクチュエータコントローラ154.パル
スモータコントローラ156などから構成されている。
The control unit 142 includes a CPU 144. ROM146°RAM
14B, operation panel controller 150. Sensor controller 152. Actuator controller 154. It is composed of a pulse motor controller 156 and the like.

CPU144は、ROM146に格納された処理プログ
ラムに従って、装置全体の制御を行う。RAM148に
は、貼付けされる半導体ウェハの大きさなどのデータや
処理条件が書き込まれる。操作盤コントローラ150は
操作盤138を、センサーコントローラ152は本装置
に備えられた圧力スイツチや光電素子などの各種のセン
サ一群158を、アクチュエータコントローラ154は
本装置に備えられたモータやエアーシリンダなどの各種
のアクチュエータ群160を、パルスモータコントロー
ラ156はアライメント・テーブル20を回転駆動する
パルスモータ24をそれぞれ制御するものである。
The CPU 144 controls the entire device according to a processing program stored in the ROM 146. Data such as the size of the semiconductor wafer to be attached and processing conditions are written in the RAM 148. The operation panel controller 150 controls the operation panel 138, the sensor controller 152 controls the various sensors 158 such as pressure switches and photoelectric elements provided in this device, and the actuator controller 154 controls the motors, air cylinders, etc. provided in this device. The pulse motor controller 156 controls the various actuator groups 160 and the pulse motor 24 that rotationally drives the alignment table 20.

次に、上述した構成を備えた半導体ウェハの自動貼付は
装置の動作を、第12図に示した動作フローチャートに
従って説明する。
Next, the operation of the automatic semiconductor wafer bonding apparatus having the above-described configuration will be explained according to the operation flowchart shown in FIG.

本装置の各部が原点に復帰しており、また、ウェハ・ロ
ーダ部およびアンローダ部にそれぞれウェハ・カセット
8およびフレーム・カセット132が装着された状態で
、本装置が始動されると、まず、ウェハ・カセット8が
装着された一方側のウェハ・ローダ部が下降する(ステ
ップS2)。
When the apparatus is started with each part of the apparatus having returned to its original position and with the wafer cassette 8 and frame cassette 132 installed in the wafer loader section and unloader section, respectively, the wafer - The wafer loader section on one side with the cassette 8 mounted is lowered (step S2).

このウェハ・ローダ部に備えられたウェハ検出器によっ
て、ウェハ・カセット8内の半導体ウェハ2が検出され
たか否かが確認される(ステップS4)。
It is confirmed whether the semiconductor wafer 2 in the wafer cassette 8 has been detected by the wafer detector provided in the wafer loader section (step S4).

半導体ウェハ2が検出されると搬送ベルト16が駆動さ
れ、ウェハ・ローダ部に備えられたウェハ押し出し機構
10または12によって、前記検出された半導体ウェハ
2がウェハ・カセット8内から押し出される(ステップ
S8)。押し出された半導体ウェハ2は、搬送ベルト1
6に乗って半導体ウェハ位置合わせ部14へ搬送される
When the semiconductor wafer 2 is detected, the conveyor belt 16 is driven, and the detected semiconductor wafer 2 is pushed out from inside the wafer cassette 8 by the wafer pushing mechanism 10 or 12 provided in the wafer loader section (step S8 ). The extruded semiconductor wafer 2 is transferred to the conveyor belt 1
6 and is transported to the semiconductor wafer alignment section 14.

そして、アライメント・テーブル20が半導体ウェハ2
を受は取ったか否かが確認される(ステップ510)。
Then, the alignment table 20 is aligned with the semiconductor wafer 2.
It is checked whether the receipt has been received (step 510).

半導体ウェハ2の受は取りの確認は、第13図に示すよ
うに、アライメント・テーブル20の近傍に設けられた
光電素子PH3WI 1によって検出される。一定時間
経過後アライメント・テーブル20が半導体ウェハ2を
受は取らなかった場合は、エラー表示■が行われ(ステ
ップ512)、パトライト140のエラー表示ライトが
点灯するとともに、操作盤138の7セグメントLED
が、このエラーに対応したコードを表示する。
Confirmation that the semiconductor wafer 2 has been received is detected by a photoelectric element PH3WI1 provided near the alignment table 20, as shown in FIG. If the alignment table 20 does not pick up the semiconductor wafer 2 after a certain period of time has elapsed, an error display ■ is performed (step 512), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED of the operation panel 138 lights up.
will display the code corresponding to this error.

アライメント・テーブル20が半導体ウェハ2を受は取
ったことが確認されると、このアライメント・テーブル
20が上昇する(ステップ514)。そして、中心位置
合わせ板221,222が駆動して、この半導体ウェハ
2の中心の割り出しを行う(ステップ516)。半導体
ウェハ2の中心が割り出されると、アライメント・テー
ブル20の真空チャックが作動して、この半導体ウェハ
2が吸着される(ステップ818)。そして、前記真空
チャックに関連して設けられた圧力スイツチPUSWI
によって、半導体ウェハ2が確実に吸着されているか否
かが確認される(ステップ520)。
When it is confirmed that the alignment table 20 has received the semiconductor wafer 2, the alignment table 20 is raised (step 514). Then, the center alignment plates 221 and 222 are driven to index the center of the semiconductor wafer 2 (step 516). Once the center of the semiconductor wafer 2 has been determined, the vacuum chuck of the alignment table 20 is operated to suck the semiconductor wafer 2 (step 818). and a pressure switch PUSWI provided in connection with the vacuum chuck.
Thus, it is confirmed whether the semiconductor wafer 2 is reliably attracted (step 520).

半導体ウェハ2の吸着が確認されると、その半導体ウェ
ハ2のオリエンテーションフラットOFの位置合わせが
行われる(ステップ524)。
When the suction of the semiconductor wafer 2 is confirmed, the orientation flat OF of the semiconductor wafer 2 is aligned (step 524).

以下、このステップにおいて行われる、半導体ウェハの
オリエンテーションフラットの位置合わせの手順を第1
3図および第14図に基づいて説明する。
Below, the procedure for aligning the orientation flat of the semiconductor wafer, which is performed in this step, will be explained as follows.
This will be explained based on FIG. 3 and FIG. 14.

第13図は、中心位置合わせ板22+、22□によって
中心割り出しされた半導体ウェハ2が、アライメント・
テーブル20によって吸着された状態を示している。オ
リエンテーションフラットOFの端部は、半導体ウェハ
2の大きさに応して適宜に選択された光電素子PH3W
1.2.3の中の一つによって検出される。この図では
、便宜的に光電素子PH3WIのみを示している。光電
素子P HS W 1は、アライメント・テーブル20
の中心から半導体ウェハ2の半径よりも若干内側に位置
して設けられている。光電素子P HS W 1の出力
は、パルスモータ24をコントロールするパルスモータ
コントローラ156に直接に与えられる。パルスモーク
コントローラ156は、光電素子PH5WIの検出信号
によってパルスモータ24を停止させるように構成され
ている。また、パルスモータコントローラ156はCP
U144からの指令に基づいて、パルスモータ24に回
転量を出力するとともに、パルスモータ24が停止状態
になるまでの回転量をCPU144に与える。
FIG. 13 shows that the semiconductor wafer 2 whose center is indexed by the center alignment plates 22+ and 22□ is aligned and
A state in which the table 20 has been adsorbed is shown. The end of the orientation flat OF is provided with a photoelectric element PH3W that is appropriately selected according to the size of the semiconductor wafer 2.
1.2.3. In this figure, only the photoelectric element PH3WI is shown for convenience. The photoelectric element P HS W 1 is connected to the alignment table 20
It is located slightly inside the radius of the semiconductor wafer 2 from the center of the semiconductor wafer 2 . The output of the photoelectric element P HS W 1 is directly given to a pulse motor controller 156 that controls the pulse motor 24 . The pulse smoke controller 156 is configured to stop the pulse motor 24 in response to a detection signal from the photoelectric element PH5WI. In addition, the pulse motor controller 156 is
Based on the command from U144, the amount of rotation is output to the pulse motor 24, and the amount of rotation until the pulse motor 24 comes to a stop state is given to the CPU 144.

第14図は、オリエンテーションフラットOFの位置合
わせ動作のフローチャートである。以下、これに基づい
て説明する。
FIG. 14 is a flowchart of the alignment operation of the orientation flat OF. The following explanation will be based on this.

半導体ウェハ2がアライメント・テーブル20に吸着保
持されると、CPU144はパルスモータ24を例えば
、反時計方向に360°だけ回転させる回転量を設定し
くステップ5130>、これをパルスモータコントロー
ラ156を介してパルスモータ24に出力する(ステッ
プ5132)。
When the semiconductor wafer 2 is suctioned and held on the alignment table 20, the CPU 144 sets a rotation amount to rotate the pulse motor 24 by 360 degrees counterclockwise, for example, in step 5130>, and controls this via the pulse motor controller 156. It outputs to the pulse motor 24 (step 5132).

これにより、半導体ウェハ2がパルスモータ24によっ
て回転される。そして、オリエンテーションフラン)O
Fの一方端が光電素子PH3W1によって検出されると
、その検出信号がパルスモークコントローラ156に与
えられて、パルスモーク24が停止する。
Thereby, the semiconductor wafer 2 is rotated by the pulse motor 24. And orientation franc)O
When one end of F is detected by the photoelectric element PH3W1, the detection signal is given to the pulse smoke controller 156, and the pulse smoke 24 is stopped.

ステップ5132の終了後、CPU144は、パルスモ
ーク24が停止したか否かを監視している(ステップ5
134)。
After step 5132 is completed, the CPU 144 monitors whether the pulse smoke 24 has stopped (step 5
134).

パルスモーク24が停止したことを確認すると、CPU
I 44は、パルスモーク24を時計方向に360°回
転させる回転量を設定しくステップ5136)、これを
パルスモータコントローラ156を介してパルスモータ
24に出力する(ステップ3138)。これにより、半
導体ウェハ2が時計方向に回転される。そして、オリエ
ンテーションフラン)OFの他端が光電素子PH3WI
によって検出されると、その検出信号がパルスモータコ
ントローラ156に与えられて、パルスモーク24が停
止する。
After confirming that Pulsmoke 24 has stopped, the CPU
The I 44 sets the amount of rotation for rotating the pulse smoke 24 360° clockwise (step 5136), and outputs this to the pulse motor 24 via the pulse motor controller 156 (step 3138). As a result, the semiconductor wafer 2 is rotated clockwise. And the other end of the orientation (orientation flange) OF is the photoelectric element PH3WI.
When detected, the detection signal is given to the pulse motor controller 156, and the pulse smoke 24 is stopped.

CPU144は、パルスモータ24の停止を確認すると
(ステップ5140)、そのときの時計方向の回転量θ
を読み込む(ステップ3142)。
When the CPU 144 confirms that the pulse motor 24 has stopped (step 5140), the CPU 144 determines the clockwise rotation amount θ at that time.
(step 3142).

そして、パルスモータ24を反時計方向にθ/2だけ回
転させる回転量を設定しくステ・7プ5144)、これ
をパルスモータコントローラ156を介してパルスモー
タ24に出力する。これにより、半導体ウェハ2は反時
計方向にθ/2回転される。
Then, a rotation amount for rotating the pulse motor 24 counterclockwise by θ/2 is set (Step 7 5144), and this is output to the pulse motor 24 via the pulse motor controller 156. As a result, the semiconductor wafer 2 is rotated counterclockwise by θ/2.

このような処理により、アライメント・テープル20の
中心と光電素子P HS W 1とを結ぶ方向に対して
、オリエンテーションフラットOFが直角に交わる位置
で、半導体ウェハ2が停止する。
Through such processing, the semiconductor wafer 2 is stopped at a position where the orientation flat OF intersects at right angles to the direction connecting the center of the alignment table 20 and the photoelectric element P HS W 1.

以上がオリエンテーションフラットOFの位置合わせの
基本的手順であるが、半導体ウェハ2の機種に応して、
半導体ウェハ2を更に90’回転あるいは180°回転
して、最終的な位置決めを完了することもある。
The above is the basic procedure for aligning the orientation flat OF, but depending on the model of the semiconductor wafer 2,
Final positioning may be completed by further rotating the semiconductor wafer 2 by 90' or 180°.

以下、第12図に戻って本装置の動作説明を続ける。Hereinafter, referring back to FIG. 12, the explanation of the operation of this device will be continued.

オリエンテーションフラットOFの位置合わせが終了す
ると、再度、半導体ウェハ2の吸着の有無を確認する(
ステップ826)。これは、オリエンテーションフラッ
トOFの位置合わせ動作の際に、半導体ウェハ2がアラ
イメント・テーブル20から離脱することも考えられる
からである。
When the alignment of the orientation flat OF is completed, check again whether or not the semiconductor wafer 2 is attracted (
step 826). This is because the semiconductor wafer 2 may come off from the alignment table 20 during the alignment operation of the orientation flat OF.

そして、このステップS26で、吸着されていないこと
が検出されると、前述したステップS22に進んでエラ
ー表示■を行う。
If it is detected in this step S26 that the object is not attracted, the process proceeds to step S22 described above and an error display (2) is displayed.

ところで、前述したステップS14が終了した後、ステ
ップS16に移行するとともに、ステップ528に移行
する。これにより、反転フォーク40が前進し、アライ
メント・テーブル20に吸着された半導体ウェハ2の下
方に挿入した状態で停止する。
By the way, after the above-described step S14 is completed, the process moves to step S16 and also moves to step 528. As a result, the reversing fork 40 moves forward and stops while being inserted below the semiconductor wafer 2 that is attracted to the alignment table 20.

反転フォーク40が半導体ウェハ2の下方に挿入された
後、アライメント・テーブル20が下降する(ステップ
530)、アライメント・テーブル20が下降すると同
時に、アライメント・テーブル20の吸着が解除され、
反転フォーク40の真空チャックが作動する。これによ
り、アライメント・テーブル20上の半導体ウェハ2が
、反転フォーク40に移って吸着保持される。
After the reversing fork 40 is inserted below the semiconductor wafer 2, the alignment table 20 is lowered (step 530).At the same time as the alignment table 20 is lowered, the suction of the alignment table 20 is released,
The vacuum chuck of the reversing fork 40 is activated. As a result, the semiconductor wafer 2 on the alignment table 20 is moved to the reversing fork 40 and held there by suction.

そして、反転フォーク40が半導体ウェハ2を確実に吸
着したか否かが確認される(ステップ532)。吸着の
有無は、反転フォーク40の真空チャックに関連して設
けられた圧力スイフチPUSW2からの検出信号に基づ
いて判断される。吸着が行われていない場合は、エラー
表示■を行い(ステップ534)、パトライト140の
エラー表示ライトが点灯するとともに、操作盤138の
7セグメントL E Dが、このエラーに対応したコー
ドを表示する。
Then, it is checked whether the reversing fork 40 has reliably attracted the semiconductor wafer 2 (step 532). The presence or absence of suction is determined based on a detection signal from a pressure switch PUSW2 provided in connection with the vacuum chuck of the reversing fork 40. If suction has not been performed, an error display ■ is performed (step 534), and the error display light of the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED of the operation panel 138 displays a code corresponding to this error. .

半導体ウェハ2が反転フォーク40に確実に吸着されて
いる場合、反転フォーク40が反転する(ステップ83
6)。そして、反転フォーク40が、所定の反転位置に
あるか否かが確認される(ステップ838)。反転フォ
ーク4oの反転の有無は、この反転フォーク40に関連
して設けられた光電素子PH3W4の検出信号に基づい
て判断される。反転フォーク40が所定位置にまで反転
していない場合、エラー表示■を行い(ステップ540
)、パトライト140のエラー表示ライトが点灯すると
ともに、操作盤138の7セグメントLEDが、このエ
ラーに対応したコードを表示する。
When the semiconductor wafer 2 is reliably attracted to the reversing fork 40, the reversing fork 40 is reversed (step 83).
6). Then, it is confirmed whether the reversing fork 40 is at a predetermined reversing position (step 838). Whether or not the reversing fork 4o is reversed is determined based on the detection signal of the photoelectric element PH3W4 provided in relation to the reversing fork 40. If the reversing fork 40 has not been reversed to the predetermined position, an error message ■ is displayed (step 540).
), the error indicator light on the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED on the operation panel 138 displays a code corresponding to this error.

反転フォーク40が正しく反転されている場合には、再
び、半導体ウェハ2の吸着の確認を行い(ステップS4
1.)、吸着されていない場合には前述したエラー表示
■を行う(ステップ534)。
If the reversing fork 40 is correctly reversed, the suction of the semiconductor wafer 2 is confirmed again (step S4).
1. ), if it has not been adsorbed, the above-mentioned error display (2) is performed (step 534).

=31− 半導体ウェハ2の吸着が確認されると、反転フォーク4
0が貼付はテーブル42側に後退する(ステップ542
)。そして、反転フォーク4゜は、半導体ウェハ2の吸
着を解除して、移送した半導体ウェハを、保護フィルム
52に覆われたウェハ・チャックテーブル48上に移す
(ステップ544)。ウェハ・チャックテーブル48に
移された半導体ウェハ2は、その裏面が上になっている
=31- When the suction of the semiconductor wafer 2 is confirmed, the reversing fork 4
0 is pasted and retreats to the table 42 side (step 542
). Then, the reversing fork 4° releases the suction of the semiconductor wafer 2 and transfers the transferred semiconductor wafer onto the wafer chuck table 48 covered with the protective film 52 (step 544). The semiconductor wafer 2 transferred to the wafer chuck table 48 has its back side facing up.

一方、前述したステップS4において半導体ウェハ2が
検出されると、ステップS8に移行するとともに、ステ
ップS46に移行する。これにより、フレーム・ストッ
カー56に収納されたフレーム4が、フレーム押し出し
機構によって押し出される。そして、フレーム・ストッ
カー56とフレーム位置決め部62との搬送経路途中に
設けられたフレーム・プッシャー64が上昇しくステッ
プ34B)、押し出されたフレーム4の内側に係合した
状態で前進する(ステップ550)。これにより、フレ
ーム4はフレーム位置決め部62に送り出され、フレー
ム4のVノツチ47,4□が、フレーム位置決め部62
に設けられた位置決めピン70に係合することによって
、フレーム4の位置決めが行われる。
On the other hand, if the semiconductor wafer 2 is detected in step S4 described above, the process moves to step S8 and then moves to step S46. As a result, the frame 4 stored in the frame stocker 56 is pushed out by the frame push-out mechanism. Then, the frame pusher 64 provided in the middle of the conveyance path between the frame stocker 56 and the frame positioning section 62 rises (step 34B), and moves forward while engaging inside the pushed-out frame 4 (step 550). . As a result, the frame 4 is sent out to the frame positioning section 62, and the V notches 47, 4□ of the frame 4 are moved to the frame positioning section 62.
The frame 4 is positioned by engaging with a positioning pin 70 provided in the frame 4 .

そして、フレーム4が確実に位置決めされたか否かが確
認される(ステップ552)。これは、フレーム位置決
め部62に設けられた光電素子PH3W5の検出信号に
基づいて判断される。フレーム4が位置合わせされてい
ない場合は、エラー表示■を行い(ステップ354)、
パトライト140のエラー表示ライトが点灯するととも
に、操作盤138の7セグメントLEDが、このエラー
に対応したコードを表示する。
Then, it is confirmed whether the frame 4 has been reliably positioned (step 552). This is determined based on the detection signal of the photoelectric element PH3W5 provided in the frame positioning section 62. If frame 4 is not aligned, an error message ■ is displayed (step 354),
The error indicator light on the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED on the operation panel 138 displays a code corresponding to this error.

フレーム4の位置決めが行われている場合、そのフレー
ム4を貼付はテーブル42にまで搬送するフレーム・チ
ャックアーム72が下降しくステップ556)、位置決
めされたフレーム4を吸着する(ステップ858)。次
に、フレーム・チャックアーム72がフレーム4を吸着
したか否かが確認される(ステップ560)。これは、
フレーム・チャックアーム72に関連して設けられた圧
力スイツチPUSW3の検出信号に基づいて判断される
。フレーム4が吸着されていない場合は、エラー表示■
を行い(ステップ562)、パトライト140のエラー
表示ライトが点灯するとともに、操作盤138の7セグ
メントLEDが、このエラーに対応したコードを表示す
る。
If the frame 4 has been positioned, the frame chuck arm 72 that conveys the frame 4 to the table 42 is lowered (step 556) and sucks the positioned frame 4 (step 858). Next, it is determined whether the frame chuck arm 72 has attracted the frame 4 (step 560). this is,
The determination is made based on the detection signal of the pressure switch PUSW3 provided in relation to the frame chuck arm 72. If frame 4 is not adsorbed, an error message appears■
is carried out (step 562), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED of the operation panel 138 displays a code corresponding to this error.

フレーム4が吸着されていることが確認されると、フレ
ーム・チャックアーム72が上昇する(ステップ564
)。そして、再び、フレーム4が吸着されていることを
確認しくステップ565)、吸着されていない場合は前
述したエラー表示■を行う(ステップ562)。フレー
ム4の吸着が確認されると、フレーム・チャックアーム
72は貼付はテーブル42にまで移動する(ステップ8
66)。そして、フレーム・チャックアーム72が下降
して、フレーム4をフレーム・チャ・7クテーブル50
に移す(ステップ567)。
When it is confirmed that the frame 4 is attracted, the frame chuck arm 72 is raised (step 564).
). Then, it is checked again that frame 4 has been attracted (step 565), and if it has not been attracted, the above-mentioned error display (2) is performed (step 562). When adsorption of the frame 4 is confirmed, the frame chuck arm 72 moves to the attachment table 42 (step 8).
66). Then, the frame chuck arm 72 descends to move the frame 4 onto the frame chuck table 50.
(step 567).

フレーム4の移載が確認されると、フレーム・チャック
テーブル50が作動して、載置されたフレーム4を吸着
保持する(ステップ570)。そして、フレーム・チャ
ックテーブル50がフレーム4を確実に吸着しているか
否かが確認される(ステップ571)。これは、フレー
ム・チャックテーブル50に関連して設けられた圧力ス
イツチPUSW4の検出信号に基づいて判断される。
When the transfer of the frame 4 is confirmed, the frame chuck table 50 is operated to suction and hold the placed frame 4 (step 570). Then, it is confirmed whether the frame chuck table 50 is reliably sucking the frame 4 (step 571). This is determined based on the detection signal of the pressure switch PUSW4 provided in relation to the frame chuck table 50.

フレーム4が吸着されていない場合は、エラー表示■を
行い(ステップ572)、パトライト140のエラー表
示ライトが点灯するとともに、操作盤138の7セグメ
ントLEDが、このエラーに対応したコードを表示する
If the frame 4 is not attracted, an error display (2) is performed (step 572), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED of the operation panel 138 displays a code corresponding to this error.

フレーム4がフレーム・チャックテーブル50に吸着さ
れていることを確認するとフレーム・チャックアーム7
2の吸着を解除しくステップ573)、フレーム・チャ
ックアーム72が上昇する(ステップ574)。
After confirming that the frame 4 is attracted to the frame/chuck table 50, the frame/chuck arm 7
In order to release the suction of the frame chuck arm 72 (step 573), the frame chuck arm 72 rises (step 574).

以上のステップによって、貼付はテーブル42に半導体
ウェハ2およびフレーム4がセットされる。
Through the above steps, the semiconductor wafer 2 and frame 4 are set on the attachment table 42.

フレーム・チャックアーム72が上昇すると、貼付はロ
ーラユニット90が下降する(ステップ575)。これ
により、貼付はローラユニット90に架は渡された粘着
テープ82も下降して、この粘着テープ82はウェハ・
チャックテーブル48上の半導体ウェハ2の裏面に当接
する。貼付はローラユニット90が下降すると、この貼
付はローラユニット90は貼付はテーブル42に向かっ
て水平移動する。これにより、貼付はローラユニット9
0の貼付はローラが、半導体ウェハ2の裏面に当接した
粘着テープ82の上を転がりながら、軽く押圧し、半導
体ウェハ2と粘着テープ82とフレーム4との貼付けを
行う (ステップ876)。
When the frame chuck arm 72 is raised, the pasting roller unit 90 is lowered (step 575). As a result, the adhesive tape 82 placed on the roller unit 90 also descends, and this adhesive tape 82 is attached to the wafer.
It comes into contact with the back surface of the semiconductor wafer 2 on the chuck table 48. When the pasting roller unit 90 is lowered, the pasting roller unit 90 moves horizontally toward the pasting table 42. As a result, pasting is performed by the roller unit 9.
0 is attached by a roller rolling on the adhesive tape 82 that is in contact with the back surface of the semiconductor wafer 2 and pressing lightly to attach the semiconductor wafer 2, the adhesive tape 82, and the frame 4 (step 876).

半導体ウェハ2と粘着テープ82とフレーム4との貼付
けが終了すると、押さえプレート110とテープカッタ
ー112とが下降し、押さえプレート110はフレーム
4上の粘着テープ82を押圧保持する。そして、テープ
カフター112が、押さえプレート110の周囲を1回
転することによって、フレーム4の外形よりも若干小さ
くなるように、粘着テープ82を切断する(ステップS
78)。
When the attachment of the semiconductor wafer 2, adhesive tape 82, and frame 4 is completed, the presser plate 110 and tape cutter 112 are lowered, and the presser plate 110 presses and holds the adhesive tape 82 on the frame 4. Then, by rotating the tape cuffer 112 once around the presser plate 110, the adhesive tape 82 is cut so as to be slightly smaller than the outer shape of the frame 4 (step S
78).

粘着テープ82の切断が終了すると、ウェハ・チャック
テーブル48が下降しくステップ580)、保護フィル
ム巻き取りリール78が駆動して保護フィルム52を巻
き取るとともに、新しい保護フィルム52をウェハ・チ
ャックテーブル48上に引き出す(ステップ582)。
When cutting of the adhesive tape 82 is completed, the wafer/chuck table 48 is lowered (step 580), the protective film take-up reel 78 is driven to take up the protective film 52, and a new protective film 52 is placed on the wafer/chuck table 48. (step 582).

一方、粘着テープ82の切断が終了すると、剥離ローラ
ユニット92が貼付はテーブル42側に向かって水平方
向に移動する。これにより、フレーム4の周辺部に貼付
いている粘着テープ82の残渣を、フレーム4から剥離
する(ステップ584)。
On the other hand, when the cutting of the adhesive tape 82 is completed, the peeling roller unit 92 moves horizontally toward the adhesion table 42 side. As a result, the residue of the adhesive tape 82 stuck to the periphery of the frame 4 is peeled off from the frame 4 (step 584).

粘着テープの剥離が終わると、貼付はテーブル42上の
マウント・フレーム6を排出するためのマウント・フレ
ームチャックアーム114が下降しくステップ886)
。マウント・フレーム6を吸着する(ステップ388)
。そして、マウント・フレーム6が確実に吸着されたか
否かが確認される(ステップ590)。これは、マウン
ト・フレームチャソクアーム114に関連して設けられ
た圧力スイッチPUSW5の検出信号に基づいて判断す
る。マウント・フレーム6が吸着されていない場合はエ
ラー表示Xを行い(ステップ592)、パトライト14
0のエラー表示ライトが点灯するとともに、操作盤13
8の7セグメントLEDが、このエラーに対応したコー
ドを表示する。
Once the adhesive tape has been peeled off, the mount/frame chuck arm 114 is lowered to eject the mount frame 6 on the table 42 (step 886).
. Attach the mount frame 6 (step 388)
. Then, it is confirmed whether the mount frame 6 has been reliably attracted (step 590). This is determined based on the detection signal of the pressure switch PUSW5 provided in relation to the mount/frame control arm 114. If the mount frame 6 is not attracted, an error message X is displayed (step 592), and the patrol light 14
0 error display light lights up and the operation panel 13
8 7-segment LEDs display the code corresponding to this error.

マウント・フレーム6が吸着されていることが確認され
ると、マウント・フレームチャックアーム114が上昇
する(ステップ594)。マウント・フレームチャック
アーム114が上昇した後、再び、マウント・フレーム
6の吸着を確認しくステップ595)、吸着されていな
い場合にはエラー表示Xを行う(ステップ592)。マ
ウント・フレーム6の吸着を確認すると、貼付はテーブ
ル42にまで移動している貼付はローラユニット90お
よび剥離ローラユニット92が元の位置(原点)にまで
戻る(ステップ896)。貼付はローラユニット90お
よび剥離ローラユニット92が原点復帰するとともに、
マウント・フレーム6を吸着したマウント・フレームチ
ャックアーム1工4もスイング反転ユニット116方向
に移動する(ステップ398)。そして、マウント・フ
レームチャックアーム114がスイング反転ユニット1
16のクランプ機構118にマウント・フレーム6の一
端を挿入する位置にまで移動したところで、再び、マウ
ント・フレーム6の吸着を確認しくステップ599)、
吸着されていない場合にはエラー表示Xを行う(ステッ
プ592)。
When it is confirmed that the mount frame 6 is attracted, the mount frame chuck arm 114 is raised (step 594). After the mount/frame chuck arm 114 is raised, check again whether the mount/frame 6 is attracted (step 595), and if it is not attracted, an error message X is displayed (step 592). When the suction of the mount frame 6 is confirmed, the pasting roller unit 90 and the peeling roller unit 92, which have moved to the pasting table 42, return to their original positions (origins) (step 896). For pasting, the roller unit 90 and peeling roller unit 92 return to their origin, and
The mount/frame chuck arm 1/4 which has attracted the mount/frame 6 also moves toward the swing reversing unit 116 (step 398). Then, the mount/frame chuck arm 114 is attached to the swing reversing unit 1.
After moving to the position where one end of the mount frame 6 is inserted into the clamp mechanism 118 of 16, check again that the mount frame 6 is attracted (step 599).
If it is not attracted, an error message X is displayed (step 592).

マウント・フレーム6の吸着が確認されると、スイング
反転ユニット116のクランプ機構118が閉じてマウ
ント・フレーム6をクランプする(ステップ3100)
。そして、マウント・フレーム6が確実にクランプされ
ているか否かを確認する(ステップ5102)。これは
、前記クランプ機構118に備えられた光電素子PH3
W7の検出信号に基づいて判断する。マウント・フレー
ム6がクランプされていない場合は、エラー表示XIを
行い(ステップ5104)、パトライト140のエラー
表示ライトが点灯するとともに、操作盤138の7セグ
メントLEDが、このエラーに対応したコードを表示す
る。
When adhesion of the mount frame 6 is confirmed, the clamp mechanism 118 of the swing reversing unit 116 closes and clamps the mount frame 6 (step 3100).
. Then, it is confirmed whether the mount frame 6 is securely clamped (step 5102). This is due to the photoelectric element PH3 provided in the clamp mechanism 118.
The determination is made based on the detection signal of W7. If the mount frame 6 is not clamped, error display XI is performed (step 5104), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED of the operation panel 138 displays a code corresponding to this error. do.

マウント・フレーム6がクランプされていることを確認
すると、スイング反転ユニット116は、水平方向に約
180度スイングしくステップ3106)、再び、マウ
ント・フレーム6のクランプを確認する(ステップ31
07)。クランプされていない場合はエラー表示XIを
行う(ステップ5104)。マウント・フレーム6のク
ランプが確認されると、半導体ウェハ2の表面が上にな
るようにマウント・フレーム6を反転させる(ステップ
3108)。そして、もう一度、マウント・フレーム6
のクランプを確認しくステップ5IO9)、クランプさ
れていない場合にはエラー表示XIを行う(ステップS
 104)。
After confirming that the mount frame 6 is clamped, the swing reversing unit 116 swings approximately 180 degrees in the horizontal direction (step 3106), and confirms that the mount frame 6 is clamped again (step 31).
07). If it is not clamped, error display XI is performed (step 5104). When the clamping of the mount frame 6 is confirmed, the mount frame 6 is turned over so that the surface of the semiconductor wafer 2 faces upward (step 3108). And once again, mount frame 6
Confirm the clamping (Step 5IO9), and if it is not clamped, perform an error display XI (Step S
104).

マウント・フレーム6のクランプが確認されると、ヒー
トステージ126上に他のマウント・フレーム6が無い
ことを確認する(ステップ5lIO)。これは、ヒート
ステージ126に設けられた光電素子PH3W8の検出
信号に基づいて行ゎれる。ヒートステージ126に他の
マウント・フレーム6があれば、エラー表示X■を行い
(ステツ7”5111)、パ)ライl−140(7)エ
ラー表示ライトが点灯するとともに、操作盤138の7
セグメントLEDが、このエラーに対応したコードを表
示する。
When the clamping of the mount frame 6 is confirmed, it is confirmed that there is no other mount frame 6 on the heat stage 126 (step 5lIO). This is performed based on the detection signal of the photoelectric element PH3W8 provided on the heat stage 126. If there is another mount frame 6 on the heat stage 126, an error display X will be displayed (status 7" 5111), the Parallel I-140 (7) error display light will turn on, and 7 on the operation panel 138 will be displayed.
A segment LED will display the code corresponding to this error.

ヒートステージ126に他のマウント・フレーム6が無
いことが確認されると、スイング反転ユニット116は
下降しくステップ5112)、マウント・フレーム6が
ヒートステージ126上にまで来たところで、クランプ
機構118が解放する(ステップ5113)。これによ
って、マウント・フレーム6はヒートステージ126に
移される。
When it is confirmed that there is no other mount frame 6 on the heat stage 126, the swing reversing unit 116 descends (step 5112), and when the mount frame 6 reaches above the heat stage 126, the clamp mechanism 118 is released. (Step 5113). This moves the mount frame 6 to the heat stage 126.

ヒートステージ126に移されたマウント・フレーム6
は、ここで加熱される(ステップ3114)。これによ
り、マウント・フレーム6の粘着テープが収縮して、そ
のテープ張力を強くする。
Mount frame 6 transferred to heat stage 126
is now heated (step 3114). This causes the adhesive tape on the mount frame 6 to contract, increasing the tape tension.

ただし、このような弛み除去を必要としない場合、この
ステップ5114は省略される。
However, if such slack removal is not required, this step 5114 is omitted.

マウント・フレーム6の加熱を終了すると、マウント・
フレーム押し出し機構128が作動して、ヒートステー
ジ126上のマウント・フレームを押し出す(ステップ
5116)。そして、マウント・フレーム6がヒートス
テージ126から押し出されたか否かがVv認される(
ステップ5l18)。これは、ヒートステージ126の
端部に設けられた光電素子PH3W9の検出信号に基づ
いて判断する。マウント・フレーム6の押し出しが行わ
れていない場合はエラー表示X■を行い(ステップ51
20)、パトライト140のエラー表示ライトが点灯す
るとともに、操作盤138の7セグメントLEDが、こ
のエラーに対応したコードを表示する。
After heating the mount frame 6, the mount frame 6 is heated.
Frame pushing mechanism 128 is activated to push out the mounting frame on heat stage 126 (step 5116). Then, it is determined by Vv whether or not the mount frame 6 has been pushed out from the heat stage 126 (
Step 5l18). This is determined based on the detection signal of the photoelectric element PH3W9 provided at the end of the heat stage 126. If the mount frame 6 has not been pushed out, an error message will be displayed (step 51).
20) The error display light of the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED of the operation panel 138 displays a code corresponding to this error.

ヒートステージ126から押し出されたマウント・フレ
ーム6は、アンローダ部に搬送するための搬送テーブル
130に乗る。そして、この搬送テーブル130に設け
られた光電素子PH3WIOによって、マウント・フレ
ーム6が搬送テーブル130に受は取られたか否かを(
I′iIl認する(ステップ5122)。搬送テーブル
130にマウント・フレーム6が受は取られていない場
合は、エラー表示XTVを行い(ステップ5124)、
パトライト140のエラー表示ライトが点灯するととも
に、操作盤138の7セグメントLEDが、このエラー
に対応したコードを表示する。
The mount frame 6 pushed out from the heat stage 126 rides on a transport table 130 for transporting to the unloader section. Then, the photoelectric element PH3WIO provided on the transport table 130 detects whether the mount frame 6 is placed on the transport table 130 or not.
I'iIl is recognized (step 5122). If the mount frame 6 is not placed on the transport table 130, an error display XTV is displayed (step 5124);
The error indicator light on the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED on the operation panel 138 displays a code corresponding to this error.

搬送テーブル130にマウント・フレーム6が受は取ら
れている場合は、このマウント・フレーム6をアンロー
ダ部にまで搬送し、前記アンロータ部にセットされたフ
レーム・カセット132に収納する(ステップ5126
)。アンローダ部に設けられた光電素子によって、マウ
ント・フレーム6がフレーム・カセット132に収納さ
れたことが検出されると、アンローダ部は1ピツチ上昇
して、次のマウント・フレーム6が収納されるのを待つ
(ステップ5128)。
If the mount frame 6 is not supported on the transport table 130, the mount frame 6 is transported to the unloader section and stored in the frame cassette 132 set in the unrotor section (step 5126).
). When the photoelectric element provided in the unloader section detects that the mount frame 6 has been stored in the frame cassette 132, the unloader section moves up one pitch to accommodate the next mount frame 6. (step 5128).

以上のように、ウェハ・ローダ部から供給された半導体
ウェハ2を所定方向に位置合わせした後、粘着テープ8
2に貼付けし、半導体ウェハ2が貼付けされたマウント
・フレーム6をフレーム・カセット132に収納すると
いう半導体ウェハ2の一連の貼付は作業が自動的に行わ
れる。
As described above, after aligning the semiconductor wafer 2 supplied from the wafer loader section in a predetermined direction, the adhesive tape 8
A series of operations for attaching the semiconductor wafer 2, such as attaching the semiconductor wafer 2 to the frame cassette 132 and storing the mount frame 6 with the semiconductor wafer 2 attached thereto in the frame cassette 132, are automatically performed.

次に、本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は装置に
備えられる、半導体ウェハ搬送部の吸着検出部をさらに
具体的に説明しよう。
Next, the suction detection section of the semiconductor wafer transport section, which is included in the automatic semiconductor wafer attachment apparatus according to this embodiment, will be described in more detail.

前記半導体ウェハ搬送部に、半導体ウェハが吸着されて
いないと、半導体ウェハをアライメント・テーブルから
貼付はテーブルへ搬送するときに、半導体ウェハが落下
して破損するおそれがある。
If the semiconductor wafer is not attracted to the semiconductor wafer transfer section, there is a risk that the semiconductor wafer will fall and be damaged when the semiconductor wafer is transferred from the alignment table to the attachment table.

したがって、上述した半導体ウェハの自動貼付は装置に
おいて、半導体ウェハ搬送部が半導体ウェハを吸着して
いるか否かを検出する機能は重要である。
Therefore, in the above-described automatic attachment of semiconductor wafers, it is important to have a function of detecting whether or not the semiconductor wafer transport section is suctioning a semiconductor wafer.

ところで、上述した実施例の説明から明らかなように、
位置合わせされた半導体ウェハ2を真空チャ・7りによ
って吸着保持して、アライメント・テーブル20から貼
付はテーブル42へ搬送する半導体ウェハ搬送部は、反
転フォーク40に対応している。また、前記半導体ウェ
ハ搬送部が半導体ウェハを吸着しているか否か検出する
吸着検出44一 部に備えられる圧力検出手段は、実施例で説明した圧力
スイフチPUSW2に対応し、半導体ウェハ吸着ミスを
判別するエラー判別手段は実施例で説明した制御部14
2に対応している。また、この吸着検出部の動作は、第
12図に示した動作フローチャートにおけるステップS
32およびステップS41に相当する。
By the way, as is clear from the explanation of the embodiments mentioned above,
A semiconductor wafer transport section that sucks and holds the aligned semiconductor wafer 2 with a vacuum chuck and transports it from the alignment table 20 to the pasting table 42 corresponds to the reversing fork 40 . Further, the pressure detection means included in a part of the suction detection 44 for detecting whether or not the semiconductor wafer transfer section is suctioning a semiconductor wafer corresponds to the pressure switch PUSW2 described in the embodiment, and is capable of determining a semiconductor wafer suction error. The error determination means is the control unit 14 described in the embodiment.
It corresponds to 2. Further, the operation of this adsorption detection section is as follows in step S in the operation flowchart shown in FIG.
32 and step S41.

次に、これらステップS32およびステップS41にお
いて行われる吸着検出部のさらに具体的な動作を、第1
5図に基づいて説明する。
Next, more specific operations of the adsorption detection unit performed in steps S32 and S41 will be described in the first step.
This will be explained based on FIG.

反転フォーク40の真空チャックに関連して設けられた
電磁弁VL2が作動して、反転フォーク40が半導体ウ
ェハ2の吸着を開始したとする(第12図に示すステッ
プ531)。電磁弁VL2が作動すると同時に、第11
図に示した制御部142のCPU144に含まれるタイ
マがクリアされる(ステップ5321)。そして、位置
合わせされた半導体ウェハ2を反転フォーク40が吸着
したか否かを、圧力スイフチPUSW2の検出信号に基
づいて判断するくステップS32□)。反転フォーク4
0が半導体ウェハ2を吸着している場合、真空チャック
内の圧力が低下するから、圧力スイフチPUSW2はO
N状態になる。
Assume that the electromagnetic valve VL2 provided in connection with the vacuum chuck of the reversing fork 40 is activated, and the reversing fork 40 starts suctioning the semiconductor wafer 2 (step 531 shown in FIG. 12). At the same time as the solenoid valve VL2 operates, the 11th
A timer included in the CPU 144 of the control unit 142 shown in the figure is cleared (step 5321). Then, it is determined whether or not the reversing fork 40 has picked up the aligned semiconductor wafer 2 based on the detection signal of the pressure swifter PUSW2 (step S32□). Reversing fork 4
0 is sucking the semiconductor wafer 2, the pressure inside the vacuum chuck decreases, so the pressure switch PUSW2 is set to 0.
It becomes N state.

この圧力スイフチPUSW2がON状態になっていない
場合は、前記タイマがタイムオーバーしたか否かを確認
する(ステップs32:+)。これは、電磁弁VL2が
作動してから、反転フォーク40の真空チャック内が低
圧になるまで相当の時間を要するから、この待ち時間を
考慮したものである。したがって、タイムオーバしてい
なければ、ステップS32□に戻る。一方、タイムオー
バした場合は、位置合わせされた半導体ウェハ2が、何
等かの原因で反転フォーク40に吸着されなかったもの
と判断して、エラー表示■(ステップ534)を行う。
If the pressure switch PUSW2 is not in the ON state, it is checked whether the timer has timed out (step s32: +). This is done in consideration of the waiting time since it takes a considerable amount of time after the electromagnetic valve VL2 is activated until the pressure inside the vacuum chuck of the reversing fork 40 becomes low. Therefore, if the time has not exceeded, the process returns to step S32□. On the other hand, if the time has elapsed, it is determined that the aligned semiconductor wafer 2 has not been attracted to the reversing fork 40 for some reason, and an error display (2) is performed (step 534).

ステップS32□において、反転フォーク40が半導体
ウェハ2を吸着したことが確認されると、第12図にお
いて説明したステップS36に進んで、反転フォーク4
0の反転を行う。そして、反転フォーク40が正しく反
転されていることが確認されると(ステップ838)、
もう一度、反転フォーク40が半導体ウェハ2を吸着し
ているか否かを検出する(ステップ541)。ただし、
このステップS41では、上述した待ち時間は考慮され
ず、圧力スイフチPUSW2の検出信号から直ちに半導
体ウェハ2の吸着の有無が確認される。
In step S32□, when it is confirmed that the reversing fork 40 has attracted the semiconductor wafer 2, the process proceeds to step S36 explained in FIG.
Performs inversion of 0. Then, when it is confirmed that the reversing fork 40 is correctly reversed (step 838),
Once again, it is detected whether the reversing fork 40 is sucking the semiconductor wafer 2 (step 541). however,
In this step S41, the above-described waiting time is not taken into consideration, and the presence or absence of suction of the semiconductor wafer 2 is immediately confirmed from the detection signal of the pressure switch PUSW2.

これは、前記ステップS31およびステップS32にお
いて、反転フォーク40は半導体ウェハ2を吸着して、
反転フォーク40の真空チャックは低圧になっているは
ずだからである。
This is because the reversing fork 40 attracts the semiconductor wafer 2 in step S31 and step S32, and
This is because the vacuum chuck of the reversing fork 40 should be under low pressure.

このステップ341で半導体ウェハ2の吸着ミスが検出
されると、エラー表示■を行う (ステップ534)。
If a suction error of the semiconductor wafer 2 is detected in this step 341, an error display ■ is performed (step 534).

一方、半導体ウェハ2が吸着されていることが確認され
ると、反転フォーク40が反転した状態で後退しくステ
ップ542)、貼付はテーブル42に半導体ウェハ2が
搬送される。
On the other hand, when it is confirmed that the semiconductor wafer 2 is attracted, the reversing fork 40 moves backward in an inverted state (step 542), and the semiconductor wafer 2 is transferred to the table 42 for pasting.

なお、上述したステップS41における半導体ウェハ2
の吸着確認は、念のために行われるものであるから、本
実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は装置において必
ずしも必要とされるものではない。
Note that the semiconductor wafer 2 in step S41 described above
Since the suction confirmation is carried out just to be sure, the automatic attachment of the semiconductor wafer according to this embodiment is not necessarily required in the apparatus.

次に、上述した実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は
装置にエラーが発生した場合に行われる、回復処理を簡
単に説明しよう。
Next, we will briefly explain the recovery process that is performed when an error occurs in the automatic attachment of semiconductor wafers according to the above-described embodiment.

前述したような各種のエラーが発生すると、′そのエラ
ー発生箇所の後工程にあたる各機構部は、各動作を継続
してそれぞれの動作サイクルを終了したところで停止す
る。一方、エラーが発生した箇所と、その前工程にあた
る各機構部は、エラーが発生した時点で停止する。オペ
レータは、上述したエラー表示に基づいて、エラー発生
箇所のワーク(例えば、半導体ウェハ2やフレーム4な
ど)を取り外し、あるいは、カセットを正しくセットす
るなどの適宜の措置を採る。そして、エラー発生箇所の
前工程にあたる各機構部を原点に戻し、本装置を再スタ
ートさせる。
When any of the various errors described above occur, the mechanical sections that follow the location where the error occurs continue their respective operations and stop after completing their respective operation cycles. On the other hand, the location where the error occurred and each mechanical section corresponding to the preceding process stop when the error occurs. Based on the above-mentioned error display, the operator takes appropriate measures such as removing the workpiece (for example, the semiconductor wafer 2 or the frame 4) where the error has occurred or setting the cassette correctly. Then, each mechanical section corresponding to the process preceding the error occurrence point is returned to its origin, and the apparatus is restarted.

なお、反転フォーク40の半導体ウェハ吸着ミスを示す
表示態様は、実施例で説明したものに限られず、ブザー
表示など種々変形実施できる。
Note that the display mode indicating the failure of the reversing fork 40 to pick up the semiconductor wafer is not limited to that described in the embodiment, and may be modified in various ways such as a buzzer display.

また、本発明に係る半導体ウェハ自動貼付は装置は、実
施例において説明した装置に限定されるものでないこと
は勿論である。
Furthermore, it goes without saying that the apparatus for automatically attaching semiconductor wafers according to the present invention is not limited to the apparatus described in the embodiments.

〈発明の効果〉 以上の説明から明らかなように、本発明に係る半導体ウ
ェハの自動貼付は装置は、アライメント・テーブルによ
って位置合わせされた半導体ウェハを、貼付はテーブル
に搬送する半導体ウェハ搬送部に関連して、前記半導体
ウェハ1般送部が半導体ウェハを吸着しているか否かを
検出する吸着検出部と、前記吸着検出部の検出信号に基
づいて、この半導体ウェハ搬送部の半導体ウェハ吸着ミ
スを判別するエラー判別手段とを備えている。
<Effects of the Invention> As is clear from the above description, the automatic semiconductor wafer attachment device according to the present invention transfers the semiconductor wafer aligned by the alignment table to the semiconductor wafer transport unit that conveys the semiconductor wafer to the attachment table. Relatedly, a suction detection section detects whether or not the semiconductor wafer 1 general transfer section is suctioning a semiconductor wafer, and a suction detection section detects a semiconductor wafer suction error of the semiconductor wafer transfer section based on a detection signal of the suction detection section. and an error determining means for determining.

したがって、本発明によれば、何等かの異常発生によっ
て、半導体ウェハが半導体ウェハ搬送部に吸着されなか
った場合に、オペレータが、この半導体ウェハ自動貼付
は装置の異常発生とその箇所を知ることができ、これに
より適宜な措置を迅速に採ることができるので、半導体
ウェハ搬送部からの半導体ウェハの落下を防止できると
ともに、半導体ウェハ自動貼付は装置の稼動効率を向」
二させる上でたいへん好都合である。
Therefore, according to the present invention, if the semiconductor wafer is not attracted to the semiconductor wafer transport unit due to some abnormality, the operator can use this automatic semiconductor wafer attachment to know the occurrence of the abnormality in the apparatus and the location thereof. This makes it possible to take appropriate measures quickly, which prevents semiconductor wafers from falling from the semiconductor wafer transport section, and also improves the operating efficiency of the equipment by automatically attaching semiconductor wafers.
This is very convenient for making two things happen.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例に係る半導体ウェハの自動貼
付は装置の全体構成の概略を示した説明図、第2図は前
記実施例における半導体ウェハ位置合わせ部および反転
フォーク周辺部の構成図、第3図は前記実施例における
オリエンテーションフラット端部検出部の構成図、第4
図は前記実施例におけるフレーム・ローダ部とフレーム
位置決め部周辺の構成図、第5図は前記実施例における
フレーム搬送部周辺の構成図、第6図は前記実施例にお
ける粘着テープ供給系統と粘着テープ切断機構周辺の構
成図、第7図および第8図は前記実施例における貼付は
ローラユニットと剥離ローラユニットとの構成および動
作説明図、第9図は前記実施例におけるヒートステージ
周辺の構成図、第10図は前記実施例において使用され
る半導体ウェハ、フレームおよびマウント・フレームの
説明図、第11図は前記実施例における制御系統の構成
の概略を示したブロック図、第12図は前記実施例の動
作フローチャート、第13図は前記実施例におけるオリ
エンテーションフラット位置合わせの説明図、第14図
は前記実施例におけるオリエンテーションフラット位置
合わせの動作フローチャート、第15図は前記実施例に
おける反転フォークの半導体ウェハ吸着ミス検出の具体
的な動作フローチャートである。 2・・・半導体ウェハ、○F・・・オリエンテーション
フラット、4・・・フレーム、6・・・マウント・フレ
ーム、8・・・ウェハ・カセット、14・・・半導体ウ
ェハ位置合わせ部、20・・・アライメント・テーブル
、24・・・パルスモータ、32・・・オリエンテーシ
ョンフラット端部検出部、40・・・反転フォーク、4
2・・・貼付はテーブル、48・・・ウェハ・チャック
テーブル、50・・・フレーム・チャックテーブル、5
4・・・フレーム・ローダ部、62・・・フレーム位置
決め部、72・・・フレーム・チャックアーム、82・
・・粘着テープ、90・・・貼付はローラユニット、9
2・・・剥離ローラユニット、108・・・粘着テープ
切断機構、114・・・マウント・フレームチャックア
ーム、116・・・スイング反転ユニット、118・・
・クランプ機構、126・・・ヒートステージ、128
・・・マウント・フレーム押し出し機構、130・・・
搬送テーブル、132・・・フレーム・カセット、13
8・・・操作盤、140・・・パトライト、142・・
・制御部、144・・・CPU、PH3WI〜PH3W
I 1・・・光電素子、PUSWI〜PUSW5・・・
圧力スイツチ。
FIG. 1 is an explanatory diagram schematically showing the overall configuration of a semiconductor wafer automatic pasting apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a configuration of the semiconductor wafer alignment section and the surrounding area of the reversing fork in the embodiment. FIG. 3 is a configuration diagram of the orientation flat end detection section in the above embodiment, and FIG.
The figure is a block diagram of the frame loader section and the surroundings of the frame positioning section in the embodiment, FIG. 5 is a block diagram of the frame transport section and its periphery in the embodiment, and FIG. 6 is the adhesive tape supply system and the adhesive tape in the embodiment. FIGS. 7 and 8 are diagrams illustrating the configuration and operation of the pasting roller unit and peeling roller unit in the embodiment; FIG. 9 is a diagram illustrating the configuration around the heat stage in the embodiment; FIG. 10 is an explanatory diagram of the semiconductor wafer, frame, and mount frame used in the embodiment, FIG. 11 is a block diagram schematically showing the configuration of the control system in the embodiment, and FIG. 12 is a diagram showing the configuration of the control system in the embodiment. FIG. 13 is an explanatory diagram of the orientation flat alignment in the embodiment, FIG. 14 is an operation flowchart of the orientation flat alignment in the embodiment, and FIG. 15 is an illustration of the semiconductor wafer adsorption of the reversing fork in the embodiment. It is a specific operation flowchart of error detection. 2... Semiconductor wafer, ○F... Orientation flat, 4... Frame, 6... Mount frame, 8... Wafer cassette, 14... Semiconductor wafer positioning section, 20... - Alignment table, 24... Pulse motor, 32... Orientation flat end detection section, 40... Reversing fork, 4
2... Paste on table, 48... Wafer/chuck table, 50... Frame/chuck table, 5
4... Frame loader section, 62... Frame positioning section, 72... Frame chuck arm, 82...
...Adhesive tape, 90...Pasting is done using a roller unit, 9
2... Peeling roller unit, 108... Adhesive tape cutting mechanism, 114... Mount/frame chuck arm, 116... Swing reversing unit, 118...
・Clamp mechanism, 126... Heat stage, 128
...Mount frame extrusion mechanism, 130...
Transport table, 132...Frame cassette, 13
8... Control panel, 140... Patrol light, 142...
・Control unit, 144...CPU, PH3WI to PH3W
I1...Photoelectric element, PUSWI~PUSW5...
Pressure switch.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  オリエンテーションフラットが形成された半導体ウェ
ハを位置合わせして粘着テープに貼付ける半導体ウェハ
の自動貼付け装置であって、前記半導体ウェハの位置合
わせを行うアライメント・テーブルと、前記アライメン
ト・テーブルによって位置合わせされた半導体ウェハを
粘着テープに貼付ける貼付けテーブルと、前記アライメ
ント・テーブルによって位置合わせされた半導体ウェハ
を真空チャックで吸着保持して、前記アライメント・テ
ーブルから前記貼付けテーブルへ搬送する半導体ウェハ
搬送部と、前記半導体ウェハ搬送部が前記半導体ウェハ
を吸着しているか否かを検出する吸着検出部とを含み、
前記吸着検出部は、前記半導体ウェハ搬送部に備えられ
る真空チャックの圧力変化を検出する圧力検出手段と、
前記圧力検出手段が前記真空チャックの圧力変化を検出
したか否かによって、前記半導体ウェハ搬送部の半導体
ウェハ吸着ミスを判別するエラー判別手段とを備えたこ
とを特徴とする半導体ウェハの自動貼付け装置。
An automatic semiconductor wafer affixing device that aligns a semiconductor wafer on which an orientation flat is formed and affixes it to an adhesive tape, the apparatus comprising: an alignment table that aligns the semiconductor wafer; and a wafer that is aligned by the alignment table. a pasting table for pasting a semiconductor wafer onto an adhesive tape; a semiconductor wafer transport section for sucking and holding the semiconductor wafer aligned by the alignment table with a vacuum chuck and transporting the semiconductor wafer from the alignment table to the pasting table; a suction detection unit that detects whether the semiconductor wafer transfer unit is suctioning the semiconductor wafer;
The suction detection unit includes pressure detection means for detecting a pressure change of a vacuum chuck provided in the semiconductor wafer transfer unit;
An automatic semiconductor wafer pasting apparatus comprising: an error determination means for determining a semiconductor wafer suction error in the semiconductor wafer transfer section based on whether or not the pressure detection means detects a pressure change in the vacuum chuck. .
JP61304781A 1986-12-18 1986-12-18 Automatic sticking system for semiconductor wafer Pending JPS63155633A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100667252B1 (en) * 2005-12-01 2007-01-11 세메스 주식회사 Apparatus for transferring semiconductor wafer
CN112490107A (en) * 2021-01-14 2021-03-12 北京瓢虫星球信息技术有限公司 Plasma etching machine and etching method thereof

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