JPH01207943A - Automatic apparatus for sticking semiconductor wafer - Google Patents

Automatic apparatus for sticking semiconductor wafer

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Publication number
JPH01207943A
JPH01207943A JP63033564A JP3356488A JPH01207943A JP H01207943 A JPH01207943 A JP H01207943A JP 63033564 A JP63033564 A JP 63033564A JP 3356488 A JP3356488 A JP 3356488A JP H01207943 A JPH01207943 A JP H01207943A
Authority
JP
Japan
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frame
semiconductor wafer
wafer
peeling
tape
Prior art date
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Pending
Application number
JP63033564A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Nonomura
野々村 謙二
Matsuro Kanehara
松郎 金原
Akira Ishihara
明 石原
Hide Izumida
秀 和泉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
Priority to JP63033564A priority Critical patent/JPH01207943A/en
Publication of JPH01207943A publication Critical patent/JPH01207943A/en
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent breakage of a wafer and improve the utilization factor by a method wherein an auxiliary removing roller provided in a removing roller unit is displaced by a large tension applied to a remaining tape and the displacement is detected to judge the existence of removing failure. CONSTITUTION:The apparatus is used for sticking a semiconductor wafer 2 to an adhesive tape 82 in the process before the scribing process of the semiconductor wafer 2. An auxiliary removing roller which can be displaced by the application of the tension of a remaining tape 82' remaining after the adhesive tape 82 is cut into a circle along a frame and a tension detecting mechanism which detects the occasion that a tension higher than a predetermined tension is applied to the auxiliary removing roller are provided in a removing roller unit 92 and a means which judges the existence of removing failure in accordance with the detected results of the tension detecting mechanism is also provided. Therefore, the roll-in of the wafer in the process of removing the remaining tape 82' caused by the cutting failure of the tape can be detected beforehand. With this constitution, a proper disposition can be carried out before a large trouble such as breakage of the wafer 2 which requires much labor for restoration takes so that the performance of the automatic apparatus can be fully exhibited.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、半導体ウェハのスクライブ工程の前工程にお
いて、半導体ウェハを粘着テープに貼付けるために用い
られる半導体ウェハの自動貼付は装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to an automatic semiconductor wafer affixing apparatus used for affixing a semiconductor wafer to an adhesive tape in a pre-process of a semiconductor wafer scribing process.

〈従来の技術〉 一般に、半導体ウェハのスクライブ工程では、半導体ウ
ェハを粘着テープに貼付けた状態でスクライブを行って
いる。スクライブされた半導体ウェハは、粘着テープに
貼付けられた状態でクランキングされる。そして、粘着
テープを引き伸ばして、個々の半導体素子を分離し、次
工程であるグイボンディング工程において、半導体素子
を容易に取り扱えるようにしている。
<Prior Art> Generally, in a scribing process for semiconductor wafers, scribing is performed with the semiconductor wafer attached to an adhesive tape. The scribed semiconductor wafer is cranked while attached to the adhesive tape. The adhesive tape is then stretched to separate the individual semiconductor elements so that they can be easily handled in the next process, the bonding process.

このような半導体ウェハを粘着テープに貼付ける工程は
、半導体ウェハのスクライブ工程の前工程として行われ
る。そして、近年の半導体製造ラインの自動化に伴い、
半導体ウェハを粘着テープに貼付ける自動装置の開発が
望まれている。
Such a process of attaching a semiconductor wafer to an adhesive tape is performed as a pre-process of a semiconductor wafer scribing process. With the automation of semiconductor manufacturing lines in recent years,
It is desired to develop an automatic device for attaching semiconductor wafers to adhesive tape.

そこで、本出願人は、リング状のフレームを自動供給手
段を用いてフレームチャックテーブルに位置決め保持す
るとともに、同しく自動供給された半導体ウェハを前記
リングの中央部位においてウェハチャックテーブルに位
置決め保持させた上で、連続状の粘着テープを貼付はロ
ーラユニットによってフレームとウェハにわたって貼付
け、次に、貼付けられた粘着テープをフレームに沿って
円形に切り抜き、その後、切断後の残渣テープを剥離ロ
ーラユニットを用いてフレームから剥離して巻き取り回
収するよう構成した自動貼付は装置を先に提案した。
Therefore, the present applicant positioned and held a ring-shaped frame on a frame chuck table using automatic feeding means, and also positioned and held a semiconductor wafer, which was also automatically fed, on the wafer chuck table at the center of the ring. In the above, a continuous adhesive tape is pasted over the frame and wafer using a roller unit, and then the pasted adhesive tape is cut out in a circular shape along the frame, and the residual tape after cutting is removed using a peeling roller unit. We have previously proposed an automatic pasting device that is designed to be peeled off from the frame and then rolled up and collected.

〈発明が解決しようとする課題〉 提案した上記自動貼付は装置によって、極めて高能率で
粘着テープ、を介してウェハを貼着支持したフレーム(
マウントフレーム)を得ることができるようになったの
であるが、フレームに貼付けた粘着テープを円形に切り
抜く際、長時間の使用によってカンタの切断性能が低下
していたり、刃こぼれが生じていて、円形切断線の一部
に切断不良部が発生すると、次の残渣テープの剥離回収
工程において、残渣テープのめならず、ウェハに貼付け
たテープ部分までもがフレームから剥離されて剥離ロー
ラユニット内に巻き込まれてしまい、ウェハが破損され
てしまうことがあり、このようなトラブルが発生ずると
、その修復のために、装置を長時間停止しなければなら
なかった。
<Problems to be Solved by the Invention> The proposed automatic affixing described above uses an extremely highly efficient device to affix and support wafers via adhesive tape to a frame (
However, when cutting out a circular shape from the adhesive tape attached to the frame, the cutting performance of the canter deteriorated due to long-term use, and the blade was damaged. If a cutting defect occurs in a part of the circular cutting line, in the next residue tape peeling and recovery process, not only the residue tape but also the tape attached to the wafer will be peeled off from the frame and placed inside the peeling roller unit. If the wafer gets caught, the wafer may be damaged, and when such a trouble occurs, the apparatus has to be stopped for a long time to repair it.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、テープ切断不良に起因する残渣テープの剥離工程で
のウェハ巻き込みを事前に検知できるようにすることで
、ウェハの破損や修復に手間のかかる大きいトラブルに
至る前に適切な処置を施すことができ、自動化装置とし
ての性能を充分に発揮させることができるようにするこ
とを目的とする。
The present invention has been developed in view of the above circumstances, and by making it possible to detect in advance wafer entrapment during the residual tape peeling process due to poor tape cutting, it is possible to prevent wafer damage and repair. The purpose of the present invention is to enable appropriate measures to be taken before major troubles occur that require time and effort, and to enable the performance of an automated device to be fully demonstrated.

く問題点を解決するための手段〉 本発明は、このような目的を達成するために、次のよう
な構成をとる。
Means for Solving the Problems> In order to achieve the above object, the present invention has the following configuration.

即ち、本発明の特徴構成は、リング状のフレームを位置
決め保持するフレームチャックテーブルと、 前記フレームの中央部位において半導体ウェハを位置決
め保持するウェハチャックテーブルと、位置決め保持さ
れたリングとウェハにわたって連続状の粘着テープを貼
着する貼付はローラユニットと、 貼付けられた粘着テープをフレームに沿って円形に切り
抜く粘着テープ切断機構と、 切断後の残渣テープをフレームから剥離する剥離ローラ
ユニットと、 を備えた半導体ウェハの自動貼付は装置において、 前記剥離ローラユニットに、残渣テープの張力を受けて
変位可能な剥離補助ローラと、この剥離補助ローラに設
定以上の張力が作用したことを検出する張力検出機構と
を設け、この張力検出機構の検出結果に基づいて剥離ミ
スを判断する手段を備えた点にある。
That is, the characteristic configuration of the present invention includes: a frame chuck table for positioning and holding a ring-shaped frame; a wafer chuck table for positioning and holding a semiconductor wafer at the center of the frame; A semiconductor device equipped with a roller unit for pasting adhesive tape, an adhesive tape cutting mechanism for cutting out the pasted adhesive tape in a circular shape along the frame, and a peeling roller unit for peeling off the residual tape from the frame after cutting. For automatic wafer attachment, the apparatus includes a peeling auxiliary roller that can be displaced by the tension of the residual tape in the peeling roller unit, and a tension detection mechanism that detects when a tension higher than a set value is applied to the peeling auxiliary roller. and a means for determining a peeling error based on the detection result of the tension detection mechanism.

〈作用〉 本発明の構成による作用は、次の通りである。<Effect> The effects of the configuration of the present invention are as follows.

粘着テープ切断機構の異常により、半導体ウェハに貼付
けられた粘着テープの一部が切断されていないと、残渣
テープをフレームから剥離する際に、残渣テープに大き
な張力が作用する。剥離ローラユニットに設けられた剥
離補助ローラは、残渣テープに作用した大きな張力を受
けて変位し、この変位が張力検出機構で検出されること
に基づき、剥離ミスが判断される。
If a part of the adhesive tape attached to the semiconductor wafer is not cut due to an abnormality in the adhesive tape cutting mechanism, a large tension will be applied to the residual tape when it is peeled off from the frame. The peeling auxiliary roller provided in the peeling roller unit is displaced by the large tension acting on the residual tape, and a peeling error is determined based on this displacement being detected by the tension detection mechanism.

〈実施例〉 以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
<Example> Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail based on the drawings.

第1図は、本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付け装
置の全体構成を示した概略斜視図、第2図〜第15図は
、前記半導体ウェハの自動貼付は装置の各部の構成の概
略図である。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing the overall configuration of an automatic semiconductor wafer attaching apparatus according to the present embodiment, and FIGS. 2 to 15 are schematic diagrams of the configuration of each part of the automatic semiconductor wafer attaching apparatus. It is.

第16図は、本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は
装置によって粘着テープに貼付けられる半導体ウェハ2
と、この半導体ウェハ2が貼付けられた粘着テープを保
持するためのリング状のフレーム4と、半導体ウェハ2
が貼付けられた状態のマウント・フレーム6とを示して
いる。
FIG. 16 shows a semiconductor wafer 2 that is attached to an adhesive tape by an apparatus for automatic attachment of semiconductor wafers according to this embodiment.
, a ring-shaped frame 4 for holding the adhesive tape to which the semiconductor wafer 2 is attached, and the semiconductor wafer 2
The mount frame 6 is shown with the mount frame 6 attached.

半導体ウェハ2の外周部には、平坦な切り欠き面である
オリエンテーションフラットOFが形成されている。こ
のオリエンテーションフラットOFを基準として、素子
パターンが半導体ウェハ2に形成されている。
An orientation flat OF, which is a flat cutout surface, is formed on the outer periphery of the semiconductor wafer 2 . An element pattern is formed on the semiconductor wafer 2 using this orientation flat OF as a reference.

フレーム4は、リング状の金属板または樹脂板であって
、その外周部には、後述するフレーム4の位置合わせの
際に使用されるVノツチ4..4□が形成されている。
The frame 4 is a ring-shaped metal plate or resin plate, and has a V-notch 4 on its outer periphery, which is used when aligning the frame 4, which will be described later. .. 4□ is formed.

本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は装置は、上述
した半導体ウェハ2をウェハ・ローダ部から、フレーム
4をフレーム・ローダ部からそれぞれ個別に供給して粘
着テープに貼付け、最終的にはマウント・フレーム6を
アンローダ部に収納するようになっている。
For automatic attachment of semiconductor wafers according to this embodiment, the apparatus separately supplies the semiconductor wafer 2 and the frame 4 from the wafer loader section and the frame loader section, respectively, and attaches them to the adhesive tape, and finally mounts the semiconductor wafers. -The frame 6 is stored in the unloader section.

以下、本装置の各部の構成を説明する。The configuration of each part of this device will be explained below.

第1図に示す符号8(81〜84)は、ウェハ・ローダ
部にセットされたウェハ・カセットである。ウェハ・カ
セット8は、複数枚の半導体ウェハ2をそれぞれ水平状
態に保持して、等間隅に上下方向に収納している。本実
施例では、二つのウェハ・ローダ部があり、左のウェハ
・ローダ部にウェハ・カセット8..82が、右のウェ
ハ・1コ一ダ部にウェハ・カセット83,8.がそれぞ
れセットできる。各ウェハ・ローダ部は、上下方向に移
動可能に構成されているとともに、ウェハ・カセット8
内の半導体ウェハ2を検出して、これを押し出すことに
よって半導体ウェハ2の供給を行っている。
Reference numerals 8 (81 to 84) shown in FIG. 1 are wafer cassettes set in the wafer loader section. The wafer cassette 8 holds a plurality of semiconductor wafers 2 horizontally and stores them vertically in equally spaced corners. In this embodiment, there are two wafer loader sections, and the left wafer loader section has wafer cassettes 8. .. 82 is a wafer cassette 83, 8 . can be set respectively. Each wafer loader section is configured to be movable in the vertical direction, and the wafer cassette 8
The semiconductor wafer 2 is supplied by detecting the semiconductor wafer 2 inside and pushing it out.

各ウェハ・ローダ部に備えられるウェハ押し出し手段は
、第2図に示されている。即ち、左のウェハ・ローダ部
には、モータで駆動されるウェハ押し出し機構10が、
右のウェハ・ローダ部にば、エアーシリンダで駆動され
るウェハ押し出し機構12がそれぞれ設けられている。
The wafer pushing means provided in each wafer loader section is shown in FIG. That is, in the left wafer loader section, a wafer pushing mechanism 10 driven by a motor is installed.
A wafer push-out mechanism 12 driven by an air cylinder is provided in the right wafer loader section.

各ウェハ・ローダ部から供給された半導体ウェハ2ば、
この半導体ウェハ2を位置合わせするための半導体ウェ
ハ位置合わせ部14に搬送される。
Semiconductor wafers 2B supplied from each wafer loader section,
This semiconductor wafer 2 is transported to a semiconductor wafer alignment section 14 for alignment.

半導体ウェハ2は、第2図に示す搬送ベルト16によっ
て半導体ウェハ位置合わせ部14に搬送される。この搬
送ヘルド16ば、モータ】8によって正逆方向に駆動さ
れる。
The semiconductor wafer 2 is transported to the semiconductor wafer alignment section 14 by a transport belt 16 shown in FIG. This transport heald 16 is driven in forward and reverse directions by a motor 8.

半導体ウェハ位置合わせ部14は、搬送されてきた半導
体ウェハ2を受は取って、オリエンテーションフラット
OFの位置合ねせを行うアライメント・テーブル20と
、半導体ウェハ2の中心をアライメント・テーブル20
の中心に一致させるように半導体ウェハ2の位置合ねせ
を行う中心位置合わせ板22..22□などを含む。
The semiconductor wafer alignment unit 14 includes an alignment table 20 that receives and receives the semiconductor wafer 2 that has been transferred and aligns the orientation flat OF, and an alignment table 20 that aligns the center of the semiconductor wafer 2 with the alignment table 20.
A center alignment plate 22. which aligns the semiconductor wafer 2 so that it aligns with the center of the center of the semiconductor wafer 2. .. Including 22□ etc.

アライメント・テーブル20は、半導体ウェハ2を吸着
保持するだめの真空チャックを備えている。VLIは、
この真空チャックの入/切を行う電磁弁、PUSWIは
、真空チャック内の圧力低下を検出してON状態になる
圧力スイッチである。
The alignment table 20 is equipped with a vacuum chuck that holds the semiconductor wafer 2 by suction. VLI is
The solenoid valve PUSWI that turns on/off the vacuum chuck is a pressure switch that detects a pressure drop within the vacuum chuck and turns on.

また、このアライメント・テーブル20は、パルスモー
タ24によって回転可能に構成されているとともに、エ
アーシリンダ26によって上下方向に移動可能に構成さ
れている。
Further, this alignment table 20 is configured to be rotatable by a pulse motor 24 and configured to be movable in the vertical direction by an air cylinder 26.

中心位置合わせ板22.,22□は、上限状態にあるア
ライメント・テーブル20を介して対向する位置に設け
られている。各中心位置合わせ板22、.22□の対向
面側には、半導体ウェハ2の外形に対応した円弧状の基
準面が形成されている。中心位置合わせ板22.,22
□は、エアーシリンダ28で駆動されるリンク機構によ
って水平方向に移動可能に構成されている。
Center alignment plate 22. , 22□ are provided at positions facing each other with the alignment table 20 in the upper limit state interposed therebetween. Each center alignment plate 22, . An arc-shaped reference surface corresponding to the outer shape of the semiconductor wafer 2 is formed on the opposite surface side of the 22□. Center alignment plate 22. ,22
□ is configured to be movable in the horizontal direction by a link mechanism driven by an air cylinder 28.

第3図に示すように、アライメント・テーブル20の両
側には、搬送ヘルド16に乗って移送されてきた半導体
ウェハ2の端部を検出するために2個の反射型の光電素
子PH3WI 1+ 、PH3Wll。が設けられてい
る。左のウェハ・ローダ部から半導体ウェハ2が供給さ
れている場合には、右の反射型の光電素子PH3W1]
+で半導体ウェハ2の端部を検出し、搬送ヘルド16を
半導体ウェハ2の大きさに応して、一定時間経過後に停
止させる。右のウェハ・ローダ部から半導体装置ハ2が
供給されている場合には、左の反射型の光電素子PH3
WI 1□で半導体ウェハ2の端部を検出し、搬送ベル
ト16を半導体ウェハ2の大きさに応じて、一定時間経
過後に停止させる。
As shown in FIG. 3, two reflective photoelectric elements PH3WI 1+ and PH3Wll are installed on both sides of the alignment table 20 in order to detect the edge of the semiconductor wafer 2 transferred on the transfer heald 16. . is provided. When the semiconductor wafer 2 is supplied from the wafer loader section on the left, the reflective photoelectric element PH3W1 on the right]
+ detects the edge of the semiconductor wafer 2, and the transport heald 16 is stopped after a certain period of time has elapsed depending on the size of the semiconductor wafer 2. When the semiconductor device H2 is supplied from the right wafer loader section, the left reflective photoelectric element PH3
The end of the semiconductor wafer 2 is detected at WI 1□, and the conveyor belt 16 is stopped after a certain period of time has elapsed depending on the size of the semiconductor wafer 2.

第2図に示す符号32は、アライメント・テーブル20
に吸着保持されて回転している半導体ウェハ2のオリエ
ンテーションフラットOFの端部を検出するために、3
組の透過型の光電素子PH3WI、2.3を備えたオリ
エンテーションフラット端部検出部である。このオリエ
ンテーションフラット端部検出部32は、第4図に示す
ように、前記光電素子PH3W1.2,3の発光部36
と受光部38とがエアーシリンダ34によって開閉自在
になるように構成されている。このような3組の透過型
の光電素子PH3WI、2.3を使用するのは、半導体
ウェハ2の大きさに応じて適当な光電素子を選択して使
用するためである。オリエンテーションフラット端部検
出部32は、通常状態では開いており、オリエンテーシ
ョンフラットOFの位置合わせのために、その端部を検
出する場合に閉じられる。
Reference numeral 32 shown in FIG.
In order to detect the edge of the orientation flat OF of the semiconductor wafer 2 which is being held by suction and rotating,
This is an orientation flat end detection unit equipped with a set of transmission type photoelectric elements PH3WI, 2.3. As shown in FIG.
The light receiving section 38 and the light receiving section 38 are configured to be openable and closable by the air cylinder 34. The reason why such three sets of transmission type photoelectric elements PH3WI, 2.3 are used is to select and use an appropriate photoelectric element according to the size of the semiconductor wafer 2. The orientation flat end detection section 32 is open in a normal state, and is closed when detecting the end of the orientation flat OF for positioning.

第1図および第2図に示した符号40は、半導体ウェハ
位置合わせ部14によってオリエンテーションフラノ)
OFの位置合わゼが行われた半導体ウェハ2を貼付はテ
ーブル42に搬送するだめの反転フォークである。この
反転フォーク40は、半導体ウェハ2を裏面側から吸着
保持するための真空チャックを備えている。■I、2は
、この真空チャックの入/切を行う電磁弁、PUSW2
は、真空チャック内の圧力低下を検出してON状態にな
る圧力スイッチである。
Reference numeral 40 shown in FIG. 1 and FIG.
A reversing fork is used to convey the semiconductor wafer 2, which has been subjected to OF alignment, to the table 42. The reversing fork 40 is equipped with a vacuum chuck for suctioning and holding the semiconductor wafer 2 from the back side. ■I, 2 is a solenoid valve that turns on/off this vacuum chuck, PUSW2
is a pressure switch that detects a pressure drop within the vacuum chuck and turns on.

反転フォーク40は、エアーシリンダ44によって駆動
されアライメント・テーブル20と貼付はテーブル42
との間を往復動するとともに、モータ46により上方向
に回動されることによって、半導体ウェハ2の裏面が上
側になるように半導体ウェハ2を反転させる。PH3W
4は、反転フォーク40が反転動作して所定の位置にあ
るか否がを検出するための光電素子である。
The reversing fork 40 is driven by an air cylinder 44 and is connected to the alignment table 20 and the pasting table 42.
The semiconductor wafer 2 is rotated upward by the motor 46, thereby inverting the semiconductor wafer 2 so that the back surface of the semiconductor wafer 2 faces upward. PH3W
Reference numeral 4 denotes a photoelectric element for detecting whether the reversing fork 40 is in a predetermined position after performing a reversing operation.

貼付はテーブル42は、第7図に示すように、ウェハ・
チャックテーブル48と、このウェハ・チャックテーブ
ル48の周囲に設けられるフレーム・チャックテーブル
5oとを含む。ウェハ・チャックテーブル48は、エア
ーシリンダ49によって上下方向に移動可能に構成され
ているとともに、圧縮コイルバネ51によって上方向に
付勢されている。ウェハ・チャックテーブル48の上に
は、多数の小孔が形成された保護フィルム52が敷設さ
れている。反転フォーク40によって搬送された半導体
ウェハ2は、その裏面を上側にした状態で、保護フィル
ム52を介してウェハ・チャックテーブル48上に載置
される。保護フィルム52は、半導体ウェハ2の表面に
傷を発生させないようにするために用いられている。
As shown in FIG. 7, the pasting table 42 is
It includes a chuck table 48 and a frame chuck table 5o provided around the wafer chuck table 48. The wafer chuck table 48 is configured to be movable in the vertical direction by an air cylinder 49, and is biased upward by a compression coil spring 51. A protective film 52 in which a large number of small holes are formed is laid on the wafer chuck table 48. The semiconductor wafer 2 conveyed by the reversing fork 40 is placed on the wafer chuck table 48 with the back surface facing up via the protective film 52. The protective film 52 is used to prevent scratches from occurring on the surface of the semiconductor wafer 2.

第1図に戻って、符号54はフレーム・ローダ部である
。フレーム・ローダ部54は、複数枚の7レーム4を重
ねた状態で収納するフレーム・ストッカー56と、この
フレーム・ストッカー56に収納されたフレーム4を下
から順番に押し出すフレーム押し出し機構を備えている
。このフレーム押し出し機構は、第5図に示すように1
、フレーム4を押し出すための押し出しプレート58と
、これを水平方向に駆動するエアーシリンダ60などか
ら構成されている。フレーム・ローダ部54から供給さ
れたフレーム4は、フレーム送り出し手段によって、フ
レーム位置決め部62まで送り出される。フレーム送り
出し手段は、フレーム・ストッカー56から押し出され
たフレーム4の内周面に係合して、このフレーム4を送
り出すフレーム・プッシャー64と、このフレーム・プ
ッシャー64を上げ下ろしするためのエアーシリンダ6
6と、フレーム・プッシャー64を水平方向に駆動する
ためのエアーシリンダ68などから構成されている。通
常状態において、フレーム・プッシャー64は下降して
いる。フレーム・ストッカー56からフレーム4が押し
出されると、エアーシリンダ66が駆動してフレーム・
プッシャー64を押し上げ、さらに、エアーシリンダ6
8が駆動し、フレーム・プッシャー64でフレーム4を
係合した状態で、フレーム4をフレーム位置決め部62
にまで送り出す。
Returning to FIG. 1, reference numeral 54 is a frame loader section. The frame loader section 54 includes a frame stocker 56 that stores a plurality of 7 frames 4 in a stacked state, and a frame extrusion mechanism that sequentially pushes out the frames 4 stored in the frame stocker 56 from below. . This frame extrusion mechanism consists of 1
, an extrusion plate 58 for extruding the frame 4, an air cylinder 60 for horizontally driving the extrusion plate 58, and the like. The frame 4 supplied from the frame loader section 54 is sent out to the frame positioning section 62 by the frame sending means. The frame sending means includes a frame pusher 64 that engages with the inner circumferential surface of the frame 4 pushed out from the frame stocker 56 and sends out the frame 4, and an air cylinder 6 for raising and lowering the frame pusher 64.
6, and an air cylinder 68 for horizontally driving the frame pusher 64. In the normal state, frame pusher 64 is lowered. When the frame 4 is pushed out from the frame stocker 56, the air cylinder 66 is driven and the frame stocker 56 is pushed out.
Push up the pusher 64 and then push the air cylinder 6
8 is driven, and with the frame pusher 64 engaging the frame 4, the frame 4 is moved to the frame positioning section 62.
Send it out to.

フレーム位置決め部62は、送り出されたフレーム4を
位置決めするための左右2本の位置決めビン70(但し
、第5図には1本の位置決めビン70だけが現れている
)が設けられている。この位置決めビン70と、フレー
ム4のVノツチ41.4□が係合することによって、フ
レーム4が位置決めされる。PH3W5は、位置決めさ
れたフレーム4を検出するための光電素子である。
The frame positioning section 62 is provided with two left and right positioning bins 70 (however, only one positioning bin 70 is shown in FIG. 5) for positioning the sent-out frame 4. The frame 4 is positioned by engaging the positioning pin 70 with the V-notch 41.4□ of the frame 4. PH3W5 is a photoelectric element for detecting the positioned frame 4.

位置決めされたフレーム4は、フレーム搬送手段によっ
て貼付はテーブル42にまで搬送され、貼付はテーブル
42のフレーム・チャックテーブル50に載置される。
The positioned frame 4 is conveyed to the attachment table 42 by the frame conveyance means, and the attachment frame 4 is placed on the frame chuck table 50 of the table 42.

フレーム搬送手段は、第6図に示すように、フレーム4
を吸着保持するフレーム・チャンクアーム72と、この
フレーム・チャックアーム72を上昇させるエアーシリ
ンダ73と、フレーム・チャックアーム72を水平方向
に駆動するためのエアーシリンダ74などから構成され
ている。VL3は、このフレーム・チャックアーム72
の入/切を行う電磁弁、PUSW3−15= は、フレーム・チャックアーム72内の圧力低下を検出
してON状態になる圧力スイッチである。
As shown in FIG.
It is composed of a frame/chuck arm 72 for sucking and holding the frame/chuck arm 72, an air cylinder 73 for raising the frame/chuck arm 72, and an air cylinder 74 for driving the frame/chuck arm 72 in the horizontal direction. VL3 is this frame chuck arm 72
The solenoid valve PUSW3-15= which turns on/off is a pressure switch that detects a drop in pressure within the frame chuck arm 72 and turns on.

フレーム・チャックテーブル50は、前記フレーム搬送
手段によって搬送されたフレーム4を吸着保持する。第
6図に示したVL4は、このフレーム・チャックテーブ
ル50の入/切を行う電磁弁、PUSW4は、フレーム
・チャックテーブル50内の圧力低下を検出してON状
態になる圧力スイ・ツチである。また、PH3W6は、
フレーム・チャックテーブル50上のフレーム4を検出
する光電素子である。
The frame chuck table 50 attracts and holds the frame 4 transported by the frame transport means. VL4 shown in FIG. 6 is a solenoid valve that turns on/off the frame/chuck table 50, and PUSW4 is a pressure switch that turns on when detecting a pressure drop within the frame/chuck table 50. . In addition, PH3W6 is
This is a photoelectric element that detects the frame 4 on the frame chuck table 50.

次に、第1図および第7図に基づいて、テープ供給・巻
き取り機構および粘着テープの切断機構について説明す
る。
Next, a tape supply/winding mechanism and an adhesive tape cutting mechanism will be explained based on FIGS. 1 and 7.

前述した保護フィルム52は、貼付はテーブル42の一
方側に設けられた保護フィルム供給り−ル76から供給
され、貼付はテーブル42の他方側に設けられた保護フ
ィルム巻き取りリール78によって巻き取られる。
The above-described protective film 52 is pasted and supplied from a protective film supply reel 76 provided on one side of the table 42, and pasted and wound up by a protective film take-up reel 78 provided on the other side of the table 42. .

符号80は、半導体ウェハ2を貼付けるための粘着テー
プ82を供給する粘着テープ供給リールである。粘着テ
ープ82は、これと同じ幅のセパレータ84と重ね合わ
された状態で粘着テープ供給リール80にセットされて
いる。セパレータ84は、粘着テープ82が粘着面を下
側にして送り出されるときに、粘着テープ82とは別に
セパレータ巻き取りリール86によって巻き取られる。
Reference numeral 80 is an adhesive tape supply reel that supplies adhesive tape 82 for pasting the semiconductor wafer 2. The adhesive tape 82 is set on the adhesive tape supply reel 80 in a state where it is overlapped with a separator 84 having the same width. The separator 84 is wound up separately from the adhesive tape 82 by a separator take-up reel 86 when the adhesive tape 82 is fed out with the adhesive side facing down.

半導体ウェハ2の貼付けのために使用された粘着テープ
82の残りは残渣テープ巻き取りリール88によって巻
き取られる。
The remainder of the adhesive tape 82 used for pasting the semiconductor wafer 2 is taken up by a residual tape take-up reel 88.

符号90は、上下方向に配設された複数本のローラから
なる貼付はローラユニットである。第7図に示すように
、粘着テープ供給リール80から供給された粘着テープ
82は、貼付はローラユニット90にr3Jの字状に架
は渡され、さらに、貼付はローラユニット90に並設さ
れた剥離ローラユニット92に架は渡されて、残渣テー
プ巻き取りリール88に巻き取られる。
Reference numeral 90 denotes a pasting roller unit consisting of a plurality of rollers arranged in the vertical direction. As shown in FIG. 7, the adhesive tape 82 supplied from the adhesive tape supply reel 80 is pasted onto a roller unit 90 in an r3J shape, and is further placed in parallel on the roller unit 90. The frame is passed to the peeling roller unit 92 and wound onto the residue tape take-up reel 88.

剥離ローラユニット92は、第10図に拡大して示すよ
うに、剥離ローラ92.と上下2本の剥離補助ローラ9
22,923を備えている。剥離ローラ92.には、剥
離用トルクモータ924が連結されており、粘着テープ
′82の剥離時に剥離用トルクモータ924で剥離ロー
ラ92.を強制駆動することで残渣テープ82′を残渣
テープ巻き取りリール88へ円滑に送り出すように構成
されている。なお、この剥離用トルクモータ924は、
残渣テープ82の種類によって剥離トルクが調節できる
ものが採用されている。
As shown enlarged in FIG. 10, the peeling roller unit 92 includes a peeling roller 92. and two upper and lower peeling auxiliary rollers 9.
It is equipped with 22,923. Peeling roller 92. A peeling torque motor 924 is connected to the peeling torque motor 924, and when the adhesive tape '82 is peeled off, the peeling torque motor 924 moves the peeling roller 92. By forcibly driving the residual tape 82', the residual tape 82' is smoothly sent out to the residual tape take-up reel 88. Note that this peeling torque motor 924 is
A tape whose peeling torque can be adjusted depending on the type of residual tape 82 is used.

前記再剥離補助ローラ92□、923は、中間支点Pを
中心に左右揺動自在な揺動アーム93の上下端それぞれ
に設けられ、かつ、この揺動アーム93を引っ張りスプ
リング95で反時計方向に揺動付勢して下側の剥離補助
ローラ92□を剥離ローラ92.に一定の圧力で押圧し
、粘着テープ82が剥離ローラ92.上で滑らないよう
にしている。また、前記揺動アーム93が引っ張りスプ
リング95に抗して揺動されたか否かを検出するリミッ
トスイッチLSWIが設けられ、このリミットスイッチ
LSWIによって下側の剥離補助口−ラ92□が適切に
剥離ローラ92.に押し付けられているかどうかを検出
する機構が構成されている。
The re-peeling auxiliary rollers 92□, 923 are provided at the upper and lower ends of a swinging arm 93 that can swing left and right about an intermediate fulcrum P, respectively, and the swinging arm 93 is pulled counterclockwise by a spring 95. The peeling roller 92. The adhesive tape 82 is pressed with a constant pressure to the peeling roller 92. I try not to slip on top. Further, a limit switch LSWI is provided to detect whether or not the swing arm 93 is swung against the tension spring 95, and this limit switch LSWI causes the lower peeling auxiliary opening 92□ to properly peel. Roller 92. A mechanism is configured to detect whether or not the object is being pressed.

第8図に示すように、貼付はローラユニット90は、こ
れを水平駆動するエアーシリンダ94のロンド先端部に
結合されている。また、剥離ローラユニット92は、前
記エアーシリンダ94のシリンダ本体に結合されている
。貼付はローラユニット90および剥離ローラユニット
92は、それらの上部に設けられたカムホロワ−によっ
てレール9G上を左右水平に摺動するように構成されて
いる。レール96は、その両端部に設LJられたエアー
シリンダ9B、、98□によって上下動可能に構成され
ている。貼付はローラユニット90の下部には、ラック
・ピニオン機構100が設けられており、このラック・
ピニオン機構100は、ブレーキ102、クラッチ10
4を介して結合されたモータ106によって駆動される
ようになっている。
As shown in FIG. 8, the pasting roller unit 90 is connected to the tip of an air cylinder 94 that horizontally drives it. Furthermore, the peeling roller unit 92 is coupled to the cylinder body of the air cylinder 94. The pasting roller unit 90 and the peeling roller unit 92 are configured to slide horizontally on the rail 9G by means of a cam follower provided on their upper portions. The rail 96 is configured to be movable up and down by air cylinders 9B, 98□ provided at both ends thereof. A rack and pinion mechanism 100 is provided at the bottom of the roller unit 90, and this rack and pinion mechanism 100 is used for pasting.
The pinion mechanism 100 includes a brake 102 and a clutch 10
The motor 106 is connected to the motor 106 via the motor 4.

上述した貼付けローラユニット90および剥離ローラユ
ニット92の動作を第8図および第9図によって説明す
る。
The operations of the pasting roller unit 90 and peeling roller unit 92 described above will be explained with reference to FIGS. 8 and 9.

通常状態において、各ローラユニット90.92は貼付
はテーブル42よりも左側の原点位置にあり、レール9
6は上昇している。また、このときブレーキ102およ
びクラッチ104は解除されている。
In the normal state, each roller unit 90, 92 is attached at the origin position to the left of the table 42, and the rail 9
6 is rising. Further, at this time, the brake 102 and the clutch 104 are released.

貼付け動作を行う場合、エアーシリンダ98゜、98□
が作動してレール96が下降する。そして、第11図に
示すように、装置フレーム1に設けられたコツクー91
がエアーシリンダ99の突出作動によって剥離ローラユ
ニット92に備えた凹部925に係入して、剥離ローラ
ユニット92を停止状態に維持する。この状態で、エア
ーシリンダ94が作動すると貼付はローラユニット90
だけが水平方向に駆動されて、貼付はローラが貼付はテ
ーブル42上の粘着テープ82を下方に押圧しながら転
動することによって、粘着テープ82と半導体ウェハ2
との貼付けが行われる。このとき、クラッチ104は開
放されている。
When performing pasting operation, use air cylinder 98°, 98□
is activated and the rail 96 is lowered. As shown in FIG.
The air cylinder 99 engages in a recess 925 provided in the peeling roller unit 92 due to the protruding operation of the air cylinder 99, thereby maintaining the peeling roller unit 92 in a stopped state. In this state, when the air cylinder 94 is activated, the pasting is done by the roller unit 90.
The adhesive tape 82 and the semiconductor wafer 2 are driven horizontally, and the roller rolls while pressing the adhesive tape 82 on the table 42 downward.
Pasting is done. At this time, clutch 104 is released.

粘着テープ82の切断後に、残渣テープ82“をフレー
ム4などから剥離する場合、電磁弁VL10を介して前
記エアーシリンダ99が加圧解除されてコツクー97が
後退することにより、剥離ローラユニット92の固定が
解除されるとともに、ブレーキ102が作動する。この
状態で、エアーシリンダ94が作動すると、貼付はロー
ラユニット90は停止状態を維持するから、剥離ローラ
ユニット92とエアーシリンダ94とが一体となって右
方向に水平移動する。剥離ローラユニット92は、水平
移動しながら、剥離ローラ92.を回転駆動することに
よって残渣テープ82゛を剥離する。第9図は、このよ
うな剥離動作を終了した時点の各ローラユニッ)90.
92の位置を示している。
When the residual tape 82'' is to be peeled off from the frame 4 etc. after cutting the adhesive tape 82, the pressure on the air cylinder 99 is released via the solenoid valve VL10, and the cutter 97 is moved back, thereby fixing the peeling roller unit 92. is released, and the brake 102 is activated.In this state, when the air cylinder 94 is activated, the peeling roller unit 92 and the air cylinder 94 are integrated, since the pasting roller unit 90 remains stopped. The peeling roller unit 92 moves horizontally to the right and peels off the residual tape 82' by rotationally driving the peeling roller 92. FIG. 9 shows the point at which such a peeling operation is completed. each roller unit) 90.
92 position is shown.

剥離動作終了後の各ローラユニット90.92の原点復
帰は、次のようにして行われる。
The return of each roller unit 90, 92 to its origin after the peeling operation is completed is performed as follows.

先ず、エアーシリンダ98..9B□が作動してレール
96を上昇させる。このようにレール96を」二昇させ
るのは、原点復帰動作のときに各ローラユニット90.
92が貼付はテーブル42上を転動すると、前述した剥
離動作によって剥離された残渣テープ82゛がフレーム
4等に再び接着するからである。レール96が上昇する
とともに、ブレーキ102が解除され、クラッチ104
が結合される。そして、モータ106が作動してラック
・ピニオン機構100が駆動されるごとにより、貼付は
ローラユニッ1−90および剥離ローラユニット92が
一体となって、左方向に水平移動して原点復帰する。
First, air cylinder 98. .. 9B□ operates to raise the rail 96. The reason for raising the rail 96 in this way is that each roller unit 90.
This is because when the adhesive tape 92 rolls on the table 42, the residual tape 82' peeled off by the peeling operation described above will adhere to the frame 4 etc. again. As the rail 96 rises, the brake 102 is released and the clutch 104
are combined. Then, each time the motor 106 is activated and the rack and pinion mechanism 100 is driven, the pasting roller unit 1-90 and the peeling roller unit 92 move horizontally to the left and return to the origin.

ところで、貼付はテーブル42の上方向には、前述した
貼付は動作によって貼付けられた帯状の粘着テープ82
をフレーム4に沿って円形に切断するための粘着テープ
切断機構108が設けられている。この粘着テープ切断
機構108は、第7図に示すように、貼付はテーブル4
2上の粘着テープ82を押さえ付けて保持する押さえプ
レート110と、押さえプレート110の外周に沿って
回転駆動される円盤状のテープカッター112などから
構成されている。押さえプレート110およびテープカ
ンタ−112は、一体となって上下方向に移動可能に構
成されている。
By the way, the above-mentioned pasting is performed using a band-shaped adhesive tape 82 that is pasted on the upper side of the table 42.
An adhesive tape cutting mechanism 108 is provided for cutting the tape along the frame 4 in a circular shape. This adhesive tape cutting mechanism 108, as shown in FIG.
2, a disc-shaped tape cutter 112 that is rotatably driven along the outer periphery of the press plate 110, and the like. The holding plate 110 and the tape counter 112 are configured to be movable in the vertical direction as a unit.

第7図Gこ示した符号114は、貼付はテーブル42か
らマウント・フレーム6を排出するためのマウン1〜・
フレームチャックアームである。このマウント・フレー
ムチャックアーム114は、前述した剥離ローラユニッ
ト92に取り付けられている。マウント・フレームチャ
ックアーム114は、剥離ローラユニット92の剥離動
作とともに貼付はテーブル42側に移動して、マウント
・フレーム6を吸着保持し、剥離ローラユニット92等
の原点復帰動作によって、マウント・フレーム6を排出
搬送する。なお、第7図に示したVL5は、このマウン
ト・フレームチャックアーム114の入/切を行う電磁
弁、PUSW5は、マウント・フレームチャックアーム
114内の圧力低下を検出してON状態になる圧力スイ
ッチである。
The reference numeral 114 shown in FIG.
It is a frame chuck arm. This mount/frame chuck arm 114 is attached to the peeling roller unit 92 described above. The mount/frame chuck arm 114 moves to the side of the pasting table 42 along with the peeling operation of the peeling roller unit 92 and holds the mount/frame 6 by suction, and the mount/frame 6 is removed by the return-to-origin operation of the peeling roller unit 92 or the like. is discharged and conveyed. In addition, VL5 shown in FIG. 7 is a solenoid valve that turns on/off this mount/frame chuck arm 114, and PUSW5 is a pressure switch that turns on when detecting a pressure drop inside the mount/frame chuck arm 114. It is.

マウント・フレームチャックアーム114によって吸着
保持されたマウント・フレーム6は、前記各ローラユニ
ット90.92の原点復帰動作によって、スイング反転
ユニット116にまで搬送される。スイング反転ユニッ
ト116は、第7図および第15図に示すように、搬送
されたマウント・フレーム6を保持するクランプ機構1
18の他に、保持したマウント・フレーム6を水平方向
に約180度スイングするスイング機構120、スイン
グされたマウント・フレーム6を半導体ウェハ2の表面
が上になるように反転させる反転機構122、反転され
たマウント・フレーム6をマウント・フレーム払い出し
テーブル126にまで下降させる上下駆動機構124な
どを備えている。
The mount frame 6 suctioned and held by the mount frame chuck arm 114 is conveyed to the swing reversing unit 116 by the return-to-origin operation of each of the roller units 90 and 92. As shown in FIGS. 7 and 15, the swing reversing unit 116 includes a clamp mechanism 1 that holds the transported mount frame 6.
In addition to 18, there is also a swing mechanism 120 that swings the held mount frame 6 approximately 180 degrees in the horizontal direction, an inversion mechanism 122 that inverts the swung mount frame 6 so that the surface of the semiconductor wafer 2 faces up, and an inversion mechanism The mount frame 6 is provided with a vertical drive mechanism 124 for lowering the mounted mount frame 6 to a mount frame dispensing table 126.

なお、クランプ機構118に備えられたPH3W7は、
このクランプ機構118にクランプされたマウント・フ
レーム6を検出する光電素子である。
Note that the PH3W7 provided in the clamp mechanism 118 is
This is a photoelectric element that detects the mount frame 6 clamped by the clamp mechanism 118.

マウント・フレーム払い出しテーブル126には、マウ
ント・フレーム6を搬送テーブル130へ払い出すため
の搬送ヘルド127が設けられている。
The mount frame delivery table 126 is provided with a transport heald 127 for delivering the mount frame 6 to the transport table 130.

搬送テーブル130は、マウント・フレーム払い出しテ
ーブル126より払い出されたマウント・フレーム6を
第1図に示すフレーム・カセット132 (132,〜
1324)に搬送するものである。搬送テーブル130
は、第15図に示すモータ131によって駆動されるヘ
ルド133に連結されて水平方向に移動できるように構
成されており、左側のアンローダ部に搬送するための搬
送ヘルド134と、右側のアンローダ部に搬送するため
の搬送ヘルド136とに、マウント・フレーム6を振り
分けて供給するようになっている。なお、第15図中に
示したPH3W8は、マウント・フレーム払い出しテー
ブル126上のマウント・フレーム6を検出する光電素
子、PH3WIOは、搬送テーブル130によるマウン
ト・フレーム6の受は取りを検出する光電素子である。
The transport table 130 transports the mount frame 6 discharged from the mount frame discharge table 126 into frame cassettes 132 (132, . . .
1324). Transfer table 130
is connected to a heald 133 driven by a motor 131 as shown in FIG. The mount frame 6 is distributed and supplied to a transport heald 136 for transport. Note that PH3W8 shown in FIG. 15 is a photoelectric element that detects the mount frame 6 on the mount frame dispensing table 126, and PH3WIO is a photoelectric element that detects the reception and removal of the mount frame 6 by the transport table 130. It is.

フレーム・カセット132は、複数のマウント・フレー
ム6を水平状態で等間隔に収納するもので、本実施例で
は4個のフレーム・カセット132I〜1324をセッ
トできる。フレーム・カセット132..132□は、
左側のアンローダ部に、フレーム・カセット1323,
132.は右側のアンローダ部にそれぞれセントされる
。各アンローダ部は、それぞれ上下方向に移動可能に構
成されている。
The frame cassette 132 stores a plurality of mount frames 6 horizontally at equal intervals, and in this embodiment, four frame cassettes 132I to 1324 can be set. Frame cassette 132. .. 132□ is
Frame cassette 1323,
132. are respectively sent to the right unloader section. Each unloader section is configured to be movable in the vertical direction.

第1図に示す符号138は操作盤である。この操作盤1
38には、装置のエラーの種類に対応したメツセージを
表示するL CD表示ユニットや操作キーなどが設けら
れている。また、符号140は、自動運転動作やエラー
発生などを表示するパトライトである。
Reference numeral 138 shown in FIG. 1 is an operation panel. This control panel 1
38 is provided with an LCD display unit that displays a message corresponding to the type of error in the device, operation keys, and the like. Further, reference numeral 140 is a patrol light that displays automatic driving operations, error occurrences, and the like.

次に、本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は装置の
制御系の構成を第17図に基づいて説明する。
Next, the configuration of the control system of the apparatus for automatically attaching semiconductor wafers according to this embodiment will be explained based on FIG. 17.

制御部142は、CPU144、ROM146、RAM
148、操作盤コントローラ150、センサコントロー
ラ152、アクチュエータコントローラ154、パルス
モータコントローラ156などから構成されている。C
PU144は、ROM146に格納された処理プログラ
ムに従って、装置全体の制御を行う。RAM 14 B
には、貼付けされる半導体ウェハの大きさなどのデータ
や処理条件が書き込まれる。操作盤コントローラ150
は操作盤138を、センサコントローラ152は本装置
に備えられた圧力スイッチや光電素子などの各種のセン
サー群158を、アクチュエータコントローラ154は
本装置に備えられたモータやエアーシリンダなどの各種
のアクチュエータ群160を、パルスモータコントロー
ラ156はアライメント・テーブル20を回転駆動する
パルスモータ24をそれぞれ制御するものである。
The control unit 142 includes a CPU 144, a ROM 146, and a RAM.
148, an operation panel controller 150, a sensor controller 152, an actuator controller 154, a pulse motor controller 156, and the like. C
The PU 144 controls the entire device according to a processing program stored in the ROM 146. RAM 14B
Data such as the size of the semiconductor wafer to be pasted and processing conditions are written in. Operation panel controller 150
represents the operation panel 138, the sensor controller 152 represents various sensor groups 158 such as pressure switches and photoelectric elements provided in this device, and the actuator controller 154 represents various actuator groups such as motors and air cylinders provided in this device. 160 and a pulse motor controller 156 respectively control the pulse motor 24 that rotationally drives the alignment table 20.

次に、上述した構成を備えた半導体ウェハの自動貼付は
装置の動作を、第18図に示したフローチャートに従っ
て説明する。
Next, the operation of the automatic semiconductor wafer bonding apparatus having the above-described configuration will be explained according to the flowchart shown in FIG.

本装置の各部が原点に復帰しており、また、ウェハ・ロ
ーダ部およびアンローダ部にそれぞれウェハ・カセット
8およびフレーム・カセット132が装着された状態で
、本装置が始動されると、先ず、ウェハ・カセット8が
装着された一方側のウェハ・ローダ部が下降する(ステ
ップS2)。
When this apparatus is started with each part of the apparatus having returned to its original position and with the wafer cassette 8 and frame cassette 132 installed in the wafer loader section and unloader section, respectively, the wafer - The wafer loader section on one side with the cassette 8 mounted is lowered (step S2).

このウェハ・ローダ部に備えられたウェハ検出器によっ
てウェハ・カセット8内の半導体ウェハ2が検出された
か否かが確認される(ステップS4)。
It is confirmed whether the semiconductor wafer 2 in the wafer cassette 8 has been detected by the wafer detector provided in the wafer loader section (step S4).

半導体ウェハ2が検出されると搬送ヘルド16が駆動さ
れ、ウェハ・ローダ部に備えられたウェハ押し出し機構
10または12によって、前記検出された半導体ウェハ
2がウェハ・カセット8内から押し出される(ステップ
3B)。押し出された半導体ウェハ2は、搬送ヘルド1
6に乗って半導体ウェハ位置合わせ部14へ搬送される
When the semiconductor wafer 2 is detected, the transport heald 16 is driven, and the detected semiconductor wafer 2 is pushed out from the wafer cassette 8 by the wafer pushing mechanism 10 or 12 provided in the wafer loader section (step 3B). ). The extruded semiconductor wafer 2 is transferred to the transport heddle 1
6 and is transported to the semiconductor wafer alignment section 14.

そして、アライメント・テーブル20が半導体ウェハ2
を受は取ったか否かが確認される(ステップ510)。
Then, the alignment table 20 is aligned with the semiconductor wafer 2.
It is checked whether the receipt has been received (step 510).

半導体ウェハ2の受は取りの確認は、第3図に示すよう
に、アライメント・テーブル20の近傍に設けられた光
電素子PH3WI 1゜、PH3WII□によって検出
される。一定時間経過後にアライメント・テーブル20
が半導体ウェハ2を受は取らなかった場合は、エラー表
示■が行われ(ステップ312)、パトライト140の
エラー表示ライトが点灯するとともに、操作盤138の
LCD表示ユニットが、このエラーに対応したメツセー
ジを表示する。
Confirmation that the semiconductor wafer 2 has been received is detected by photoelectric elements PH3WI1° and PH3WII□ provided near the alignment table 20, as shown in FIG. Alignment table 20 after a certain period of time
does not pick up the semiconductor wafer 2, an error display ■ is performed (step 312), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the LCD display unit of the operation panel 138 displays a message corresponding to this error. Display.

アライメント・テーブル20が半導体ウェハ2を受は取
ったことが確認されると、このアライメント・テーブル
20が上昇する(ステップ514)。そして、中心位置
合わせ板22.,22゜が駆動して、この半導体ウェハ
2の中心の割り出しを行う(ステップ316)。半導体
ウェハ2の中心が割り出されると、アライメント・テー
ブル20の真空チャックが作動して、この半導体ウェハ
2が吸着される(ステップ518)。そして、前記真空
チャックに関連して設けられた圧力スイッチPUSWI
によって、半導体ウェハ2が確実に吸着されているか否
かが確認される(ステップ520)。
When it is confirmed that the alignment table 20 has received the semiconductor wafer 2, the alignment table 20 is raised (step 514). And center alignment plate 22. , 22° are driven to index the center of the semiconductor wafer 2 (step 316). Once the center of the semiconductor wafer 2 has been determined, the vacuum chuck of the alignment table 20 is operated to suck the semiconductor wafer 2 (step 518). and a pressure switch PUSWI provided in connection with the vacuum chuck.
Thus, it is confirmed whether the semiconductor wafer 2 is reliably attracted (step 520).

半導体ウェハ2の吸着が確認されると、その半導体ウェ
ハ2のオリエンテーションフラットOFの位置合わせが
行われる(ステップ524)。
When the suction of the semiconductor wafer 2 is confirmed, the orientation flat OF of the semiconductor wafer 2 is aligned (step 524).

以下、このステップにおいて行われる半導体ウェハのオ
リエンテーションフラットの位2合わせの手順を第3図
および第19図に基づいて説明す第3図は、中心位置合
わせ板22..22□によって中心割り出しされた半導
体ウェハ2が、アライメント・テーブル20によって吸
着された状態を示している。オリエンテーションフラッ
トOFの端部は、半導体ウェハ2の大きさに応じて適宜
に選択された光電素子PH3WI、2.3の中の一つに
よって検出される。第3図では、便宜的に光電素子PH
3WIのみを示している。光電素子PH3WIは、アラ
イメント・テーブル20の中心から半導体ウェハ2の半
径よりも若干内側に位置して設けられている。光電素子
P HS W 1の出力は、パルスモータ24をコント
ロールするパルスモータコントローラ156に直接に与
えられる。パルスモータコントローラ156は、光電素
子PH3WIの検出信号によってパルスモータ24を停
止させるように構成されている。また、パルスモータコ
ントローラ156は、CPU14’4からの指令に基づ
いて、パルスモータ24に回転量を出力するとともに、
パルスモータ24が停止状態になるまでの回転量をCP
U144に与える。
Hereinafter, the procedure for aligning the orientation flat of the semiconductor wafer in this step will be explained based on FIGS. 3 and 19. FIG. 3 shows the center alignment plate 22. .. The semiconductor wafer 2 centered by 22□ is shown being attracted by the alignment table 20. The edge of the orientation flat OF is detected by one of the photoelectric elements PH3WI, 2.3, which are appropriately selected depending on the size of the semiconductor wafer 2. In FIG. 3, for convenience, the photoelectric element PH
Only 3WI is shown. The photoelectric element PH3WI is located slightly inside the radius of the semiconductor wafer 2 from the center of the alignment table 20. The output of the photoelectric element P HS W 1 is directly given to a pulse motor controller 156 that controls the pulse motor 24 . The pulse motor controller 156 is configured to stop the pulse motor 24 in response to a detection signal from the photoelectric element PH3WI. Further, the pulse motor controller 156 outputs a rotation amount to the pulse motor 24 based on a command from the CPU 14'4, and
CP is the rotation amount until the pulse motor 24 comes to a stop state.
Give to U144.

第19図は、オリエンテーションフラットOFの位置合
わせ動作のフローチャートである。以下、これに基づい
て説明する。
FIG. 19 is a flowchart of the alignment operation of the orientation flat OF. The following explanation will be based on this.

半導体ウェハ2がアライメント・テーブル20に吸着保
持されると、CPU144は、パルスモータ24を、例
えば、反時計方向に360°だけ回転させ、る回転量を
設定しくステップ3130)、これをパルスモータコン
トローラ156を介してパルスモータ24に出力する(
ステップ5132)。
When the semiconductor wafer 2 is suctioned and held on the alignment table 20, the CPU 144 rotates the pulse motor 24 counterclockwise by 360° and sets the rotation amount (step 3130), and controls the pulse motor controller 156 to the pulse motor 24 (
Step 5132).

これにより、半導体ウェハ2がパルスモータ24によっ
て回転される。そして、オリエンテーションフラン)O
Fの一端が光電素子PH3WIによって検出されると、
その検出信号がパルスモータコントローラ156に与え
られてパルスモータ24が停止する。
Thereby, the semiconductor wafer 2 is rotated by the pulse motor 24. And orientation franc)O
When one end of F is detected by photoelectric element PH3WI,
The detection signal is given to the pulse motor controller 156, and the pulse motor 24 is stopped.

ステップ5132の終了後、CPU144はパルスモー
タ24が停止したか否かを監視している(ステップ31
.34 )。
After step 5132 is completed, the CPU 144 monitors whether the pulse motor 24 has stopped (step 31
.. 34).

パルスモータ24が停止したことを確認すると、CPU
144は、パルスモータ24を時計方向に360°だけ
回転させる回転量を設定しくステラ7”5L36)、こ
れをパルスモータコントローラ156を介してパルスモ
ータ24に出力する(ステップ5L3B)。
After confirming that the pulse motor 24 has stopped, the CPU
144 sets the amount of rotation for rotating the pulse motor 24 by 360° clockwise (STELLA 7''5L36), and outputs this to the pulse motor 24 via the pulse motor controller 156 (step 5L3B).

これにより、半導体ウェハ2が時開方向に回転される。As a result, the semiconductor wafer 2 is rotated in the opening direction.

そして、オリエンテーションフラットOFの他端が光電
素子PH3VI/1によって検出されると、その検出信
号がパルスモータコントローラ156に与えられてパル
スモータ24が停止する。
When the other end of the orientation flat OF is detected by the photoelectric element PH3VI/1, the detection signal is given to the pulse motor controller 156 to stop the pulse motor 24.

CPU144は、パルスモータ24の停止を確認すると
(ステップ5140)、そのときの時計方向の回転量θ
を読み込む(ステップ5142)。
When the CPU 144 confirms that the pulse motor 24 has stopped (step 5140), the CPU 144 determines the clockwise rotation amount θ at that time.
is read (step 5142).

そして、パルスモータ24を反時計方向にθ/2だけ回
転させる回転量を設定しくステップ5144)、これを
パルスモータコントローラ156を介してパルスモータ
24に出力する(ステップ5146)。これにより、半
導体ウェハ2は、反時計方向にθ/2回転される。
Then, a rotation amount for rotating the pulse motor 24 counterclockwise by θ/2 is set (step 5144), and this is output to the pulse motor 24 via the pulse motor controller 156 (step 5146). As a result, the semiconductor wafer 2 is rotated counterclockwise by θ/2.

このような処理により、アライメント・テーブル20の
中心と光電素子PH3WIとを結ぶ方向に対して、オリ
エンテーションフラットOFが直角に交わる位置で半導
体ウェハ2が停止する。
Through such processing, the semiconductor wafer 2 is stopped at a position where the orientation flat OF intersects at right angles to the direction connecting the center of the alignment table 20 and the photoelectric element PH3WI.

以上がオリエンテーションフラットOFの位置合わせの
基本的手順であるが、半導体ウェハ2の種類に応じて、
半導体ウェハ2を更に90°回転あるいは180°回転
して、最終的な位置決めを完了することもある。
The above is the basic procedure for aligning the orientation flat OF, but depending on the type of semiconductor wafer 2,
Final positioning may be completed by further rotating the semiconductor wafer 2 by 90° or 180°.

以下、第18図に戻って本装置の動作説明を続ける。Hereinafter, referring back to FIG. 18, the explanation of the operation of this device will be continued.

オリエンテーションフラットOFの位置合わせが終了す
ると、再度、半導体ウェハ2の吸着の有無を確認する(
ステップ526)。これは、オリエンテーションフラッ
トOFの位置合わせ動作の際に、半導体ウェハ2がアラ
イメント・テーブル20から離脱することも考えられる
からである。
When the alignment of the orientation flat OF is completed, check again whether or not the semiconductor wafer 2 is attracted (
step 526). This is because the semiconductor wafer 2 may come off from the alignment table 20 during the alignment operation of the orientation flat OF.

そして、このステップS26で、吸着されていないこと
が検出されると、前述したステップ32.2に進んでエ
ラー表示■を行う。
If it is detected in this step S26 that the object is not attracted, the process proceeds to step 32.2 described above and an error display (2) is performed.

ところで、前述したステップS14が終了した後、ステ
ップS16に移行するとともに、ステップ328に移行
する。これにより、反転フォーク40が前進し、アライ
メント・テーブル20に吸着された半導体ウェハ2の下
方に挿入した状態で停止する。
By the way, after the above-mentioned step S14 is completed, the process moves to step S16 and also moves to step 328. As a result, the reversing fork 40 moves forward and stops while being inserted below the semiconductor wafer 2 that is attracted to the alignment table 20.

反転フォーク40が半導体ウェハ2の下方に挿入された
後、アライメント・テーブル20が下降する(ステップ
530)。アライメント・テーブル20が下降すると同
時に、アライメント・テーブル20の吸着が解除され、
反転フォーク40の真空チャックが作動する。これによ
り、アライメント・テーブル20上の半導体ウェハ2が
、反転フォーク40に移って吸着保持される(ステップ
531)。
After the reversing fork 40 is inserted below the semiconductor wafer 2, the alignment table 20 is lowered (step 530). At the same time as the alignment table 20 is lowered, the suction of the alignment table 20 is released,
The vacuum chuck of the reversing fork 40 is activated. As a result, the semiconductor wafer 2 on the alignment table 20 is moved to the reversing fork 40 and held there by suction (step 531).

そして、反転フォーク40が半導体ウェハ2を確実に吸
着したか否かが確認される(ステップ532)。吸着の
を無は、反転フォーク40の真空チャックに関連して設
けられた圧力スイッチPUSW2からの検出信号に基づ
いて判断される。吸着が行われていない場合は、エラー
表示■を行い(ステップ534)、パトライト140の
エラー表示ライトが点灯するとともに、操作盤138の
LCD表示ユニットが、このエラーに対応したメンセー
ジを表示する。
Then, it is checked whether the reversing fork 40 has reliably attracted the semiconductor wafer 2 (step 532). Whether or not suction is performed is determined based on a detection signal from a pressure switch PUSW2 provided in connection with the vacuum chuck of the reversing fork 40. If suction has not been performed, an error display (2) is performed (step 534), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the LCD display unit of the operation panel 138 displays a message corresponding to this error.

半導体ウェハ2が反転フォーク40に確実に吸着されて
いる場合、反転フォーク40が反転する(ステップ53
6)。そして、反転フォーク40が所定の反転位置にあ
るか否かが確認される(ステップ838)。反転フォー
ク40の反転の有無は、この反転フォーク40に関連し
て設けられた光電素子PH3W4の検出信号に基づいて
判断される。反転フォーク40が所定位置にまで反転し
ていない場合、エラー表示Vを行い(ステップ540)
、パトライト140のエラー表示ライトが点灯するとと
もに、操作盤138のL CD表示ユニントが、このエ
ラーに対応したメツセージを表示する。
When the semiconductor wafer 2 is reliably attracted to the reversing fork 40, the reversing fork 40 is reversed (step 53).
6). Then, it is confirmed whether the reversing fork 40 is at a predetermined reversing position (step 838). Whether or not the reversing fork 40 is reversed is determined based on the detection signal of the photoelectric element PH3W4 provided in relation to the reversing fork 40. If the reversing fork 40 has not been reversed to the predetermined position, an error display V is displayed (step 540).
, the error indicator light of the patrol light 140 lights up, and the LCD display unit of the operation panel 138 displays a message corresponding to this error.

反転フメーク40が正しく反転されている場合には、再
び、半導体ウェハ2の吸着の確認を行い(ステップ54
1)、吸着されていない場合には前述したエラー表示I
Vを行う(ステップ534)。
If the inversion frame 40 is correctly inverted, the suction of the semiconductor wafer 2 is confirmed again (step 54).
1) If it is not picked up, the error message I mentioned above will be displayed.
V (step 534).

反転フォーク40の吸着が確認されると、反転フォーク
40が貼付はテーブル42側に後退する(ステップ54
2)。そして、反転フォーク40は、半導体ウェハ2の
吸着を解除して、後退した半導体ウェハ2を保護フィル
ム52に覆われたウェハ・チャックテーブル48上に移
す(ステップ544)。ウェハ・チャックテーブル48
に移された半導体ウェハ2は、その裏面が上になってい
る。
When adsorption of the reversing fork 40 is confirmed, the reversing fork 40 retreats toward the table 42 (step 54).
2). Then, the reversing fork 40 releases the suction of the semiconductor wafer 2 and transfers the retreated semiconductor wafer 2 onto the wafer chuck table 48 covered with the protective film 52 (step 544). Wafer chuck table 48
The semiconductor wafer 2 transferred has its back side facing up.

一方、前述したステップS4において半導体ウェハ2が
検出されると、ステップS8に移行するとともに、ステ
ップS46に移行する。ごれにより、フレーム・ストッ
カー56に収納されたフレーム4がフレーム押し出し機
構によって押し出される。そして、フレーム・ストッカ
ー56とフレーム位置決め部62との搬送経路途中に設
けられたフレーム・プッシャー64が上昇しくステップ
548)、押し出されたフレーム4の内側に保合した状
態で前進する(ステップ550)。これにより、フレー
ム4はフレーム位置決め部62に送り出され、フレーム
4の■ノツチ4.,4□が、フレーム位置決め部62に
設けられた位置決めピン70に係合することによって、
フレーム4の位置決めが行われる。そして、フレーム4
が確実に位置決めされたか否かが確認される(ステップ
552)。これは、フレーム位置決め部62に設けられ
た光電素子PH3W5の検出信号に基づいて判断される
。フレーム4が位置合わせされていない場合は、エラー
表示■を行い(ステップ554)、パトライト140の
エラー表示ライトが点灯する々ともに、操作盤138の
LCD表示ユニットが、このエラーに対応したメツセー
ジを表示する。
On the other hand, if the semiconductor wafer 2 is detected in step S4 described above, the process moves to step S8 and then moves to step S46. Due to the dirt, the frame 4 stored in the frame stocker 56 is pushed out by the frame pushing mechanism. Then, the frame pusher 64 provided in the middle of the conveyance path between the frame stocker 56 and the frame positioning section 62 rises (step 548), and moves forward while being held inside the pushed-out frame 4 (step 550). . As a result, the frame 4 is sent out to the frame positioning section 62, and the notch 4. , 4□ engage with the positioning pin 70 provided on the frame positioning part 62,
The frame 4 is positioned. And frame 4
It is checked whether the position has been reliably positioned (step 552). This is determined based on the detection signal of the photoelectric element PH3W5 provided in the frame positioning section 62. If the frame 4 is not aligned, an error display ■ is performed (step 554), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the LCD display unit of the operation panel 138 displays a message corresponding to this error. do.

フレーム4の位置決めが行われている場合、そのフレー
ム4を貼付はテーブル42まで搬送するフレーム・チャ
ックアーム72が下降しくステップ556)、位置決め
されたフレーム4を吸着する(ステップ358)。次に
、フレーム・チャックアーム72がフレーム4を吸着し
たが否かが確認される(ステップ560)。これは、フ
レーム・チャックアーム72に関連して設けられた圧力
スイッチPUSW3からの検出信号に基づいて判断され
る。フレーム4が吸着されていない場合は、エラー表示
■を行い(ステップ562)、パトライト140のエラ
ー表示ライトが点灯するとともに、操作盤138のLC
D表示ユニットが、このエラーに対応したメツセージを
表示する。
If the frame 4 has been positioned, the frame chuck arm 72 that transports the frame 4 to the table 42 is lowered (step 556) and sucks the positioned frame 4 (step 358). Next, it is confirmed whether or not the frame chuck arm 72 has attracted the frame 4 (step 560). This is determined based on the detection signal from the pressure switch PUSW3 provided in relation to the frame chuck arm 72. If the frame 4 is not attracted, an error display ■ is displayed (step 562), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the LC of the operation panel 138 turns on.
The D display unit displays a message corresponding to this error.

フレニム4が吸着されていることが確認されると、フレ
ーム・チャックアーム72が上昇する(ステップ564
)。そして、再び、フレーム4が吸着されていることを
確認しくステップ565)、吸着されていない場合は、
前述したエラー表示■を行う(ステップ562)。フレ
ーム4の吸着が確認されると、フレーム・チャックアー
ム72は貼付けテーブル42にまで移動する(ステップ
566)。そして、フレーム・チャックアーム72が下
降してフレーム4をフレーム・チャックテーブル50に
移す(ステップ567)。
When it is confirmed that the frenim 4 is attracted, the frame chuck arm 72 is raised (step 564).
). Then, check again that frame 4 is adsorbed (step 565); if it is not adsorbed,
The error display (2) described above is performed (step 562). When adsorption of the frame 4 is confirmed, the frame chuck arm 72 moves to the pasting table 42 (step 566). Then, the frame chuck arm 72 descends to transfer the frame 4 to the frame chuck table 50 (step 567).

フレーl、4の移載が確認されると、フレーム・チャッ
クテーブル50が作動して、載置されたフレーム4を吸
着保持する(ステップ570)。そして、フレーム・チ
ャックテーブル50がフレーム4確実に吸着しているか
否かが確認される(ステップ571)。これは、フレー
ム・チャックテーブル50に関連して設けられた圧カス
インチPUSW4の検出信号に基づいて判断される。フ
レーム4が吸着されていない場合は、エラー表示■を行
い(ステップ572)、パトライト140のエラー表示
ライトが点灯するとともに、操作盤138のLCD表示
ユニットが、このエラーに対応したメツセージを表示す
る。
When it is confirmed that the frames 1 and 4 have been transferred, the frame chuck table 50 operates to suction and hold the placed frame 4 (step 570). Then, it is confirmed whether the frame chuck table 50 is reliably adsorbing the frame 4 (step 571). This is determined based on the detection signal of the pressure inch PUSW4 provided in relation to the frame/chuck table 50. If the frame 4 is not attracted, an error display (2) is performed (step 572), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the LCD display unit of the operation panel 138 displays a message corresponding to this error.

フレーム4がフレーム・チャックチーフル50に吸着さ
れていることを確認すると、フレーム・チャックアーム
72の吸着を解除しくステップ573)、フレーム・チ
ャックアーム72が上昇する(ステップ574)。
When it is confirmed that the frame 4 is attracted to the frame chuck full 50, the adsorption of the frame chuck arm 72 is released (step 573), and the frame chuck arm 72 is raised (step 574).

以上のステップによって、貼付はテーブル42に半導体
ウェハ2およびフレーム4がセットされフレーム・チャ
ックアーム72が上昇すると、貼付はローラユニット9
0が下降する(ステップ575)。これにより、貼(q
けローラユニット90に架は渡された粘着テープ82も
下降して、この粘着テープ82はウェハ・ヂャノクテー
ブル48上の半導体ウェハ2の裏面に当接する。貼(=
Jけローラユニット90が下降すると、この貼付はロー
ラユニット90は、貼付けテーブル42に向かって水平
移動する。これにより、貼付はローラユニット90の貼
付はローラが、半導体ウェハ2の裏面に当接した粘着テ
ープ82の上を転がりながら軽く押圧し、半導体ウェハ
2と粘着テープ82とフレーム4との貼付げを行う(ス
テップ576)。
Through the above steps, the semiconductor wafer 2 and the frame 4 are set on the table 42, and when the frame chuck arm 72 is raised, the pasting is performed by the roller unit 9.
0 falls (step 575). This allows pasting (q
The adhesive tape 82 carried over the roller unit 90 also descends, and this adhesive tape 82 comes into contact with the back surface of the semiconductor wafer 2 on the wafer lock table 48. Paste (=
When the roller unit 90 descends, the pasting roller unit 90 moves horizontally toward the pasting table 42. As a result, the roller of the roller unit 90 presses lightly while rolling on the adhesive tape 82 that is in contact with the back surface of the semiconductor wafer 2, and the adhesive tape 82 and frame 4 are attached to the semiconductor wafer 2. (step 576).

半導体ウェハ2と粘着テープ82とフレーム4との貼付
けが終了すると、押さえプレー1−110とテープカッ
ター112とが下降し、押さえプレート110はフレー
ム4上の粘着テープ82を押圧保持する。そして、テー
プカッター112が、押さえプレート110の周囲を1
回転することによって、フレーム4の外形よりも若干小
さくなるように粘着テープ82を切断する(ステップ3
78)。
When the attachment of the semiconductor wafer 2, adhesive tape 82, and frame 4 is completed, the presser plate 1-110 and tape cutter 112 are lowered, and the presser plate 110 presses and holds the adhesive tape 82 on the frame 4. Then, the tape cutter 112 cuts the circumference of the presser plate 110 one by one.
By rotating the adhesive tape 82, the adhesive tape 82 is cut to be slightly smaller than the outer shape of the frame 4 (step 3).
78).

粘着テープ82の切断が終了すると、ウェハ・チャック
テーブル48が下降しくステップ580)、保護フィル
ム巻き取りリール78が駆動して保護フィルム52を巻
き取るとともに、新しい保護フィルム52をウェハ・チ
ャ・ンクテーフ゛Jし48」二に引き出す(ステップ5
82)。
When cutting of the adhesive tape 82 is completed, the wafer chuck table 48 is lowered (step 580), the protective film take-up reel 78 is driven to wind up the protective film 52, and the new protective film 52 is transferred to the wafer chuck table (step 580). 48" (Step 5)
82).

一方、粘着テープ82の切断が終了すると、剥離ローラ
ユニット92が貼付はテーブル42側に向かって水平方
向に移動する。これにより、フレーム4の周辺部に貼付
いている残渣テープ82゛を、フレーム4から剥離する
(ステップ584)。
On the other hand, when the cutting of the adhesive tape 82 is completed, the peeling roller unit 92 moves horizontally toward the adhesion table 42 side. As a result, the residual tape 82' stuck to the peripheral portion of the frame 4 is peeled off from the frame 4 (step 584).

残渣テープ82”の剥離動作の間、ステップS85でテ
ープ剥離ミスの検出が行われており、剥離ミスが検出さ
れるとエラー表示■を行い(ステップ387)、パトラ
イト140のエラー表示ライトが点灯するとともに、操
作盤138のLCDCD表示ノニン1〜このエラーに対
応したメツセージを表示する。
During the peeling operation of the residual tape 82'', a tape peeling error is detected in step S85. If a peeling error is detected, an error display ■ is displayed (step 387), and the error display light of the patrol light 140 lights up. At the same time, a message corresponding to this error is displayed on the LCDCD display of the operation panel 138.

残渣テープ82“の剥離が終わると、貼付はテーブル4
2上のマウント・フレーム6を排出するためのマウント
・フレームチャンクアーム114が下降しくステップ5
86)、マウント・フレーム6を吸着する(ステップ3
88)。そして、マウント・フレーム6が確実に吸着さ
れたか否かが確認される(ステップ590)。これは、
マウント・フレームチャックアーム114に関連して設
けられた圧力スイッチPUSW5の検出信号に基づいて
判断する。マウント・フレーム6が吸着されていない場
合は、エラー表示Xを行い(ステップ592)、パトラ
イト140のエラー表示ライトが点灯するとともに、操
作盤138のL CD表示ユニントが、このエラーに対
応したメツセージを表示する。
Once the residue tape 82'' has been removed, the tape is attached to table 4.
In step 5, the mount frame chunk arm 114 for ejecting the mount frame 6 on the 2 is lowered.
86), adsorb the mount frame 6 (step 3
88). Then, it is confirmed whether the mount frame 6 has been reliably attracted (step 590). this is,
The determination is made based on the detection signal of the pressure switch PUSW5 provided in relation to the mount/frame chuck arm 114. If the mount frame 6 is not suctioned, error display X is displayed (step 592), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the LCD display unit of the operation panel 138 displays a message corresponding to this error. indicate.

マウント・フレーム6が吸着されていることが確認され
ると、マウント・フレームチャックアーム114が上昇
する(ステップ594)。マウント・フレームチャンク
アーム114が上昇した後、再び、マウント・フレーム
6の吸着を確認しくステップ595)、吸着されていな
い場合には前述したエラー表示Xを行う(ステップ59
2)。
When it is confirmed that the mount frame 6 is attracted, the mount frame chuck arm 114 is raised (step 594). After the mount frame chunk arm 114 has been raised, check again whether the mount frame 6 is attracted (step 595), and if it is not attracted, the above-mentioned error message X is displayed (step 59).
2).

マウント・フレーム6の吸着を確認すると、貼付はテー
ブル42にまで移動している貼付はローラユニット90
および剥離ローラユニット92が元の位置(原点)にま
で戻る(ステップ896)。
When the adhesion of the mount frame 6 is confirmed, the adhesion has moved to the table 42, and the adhesion has moved to the roller unit 90.
Then, the peeling roller unit 92 returns to its original position (origin) (step 896).

貼付はローラユニット90および剥離ローラユニット9
2が原点復帰するとともに、マウント・フレーム6を吸
着したマウント・フレームチャックアーム114もスイ
ング反転ユニット116方向に移動する(ステップ89
8)。そして、マウント・フレームチャックアーム11
4がスイング反転ユニット116のクランプ機構118
にマウント・フレーム6の一端を挿入する位置にまで移
動したところで、再び、マウント・フレーム6の吸着を
確認しくステップ599)、吸着されていない場合には
前述したエラー表示Xを行う(ステップ592)。
Pasting is done by roller unit 90 and peeling roller unit 9
2 returns to the origin, the mount/frame chuck arm 114 that has attracted the mount/frame 6 also moves in the direction of the swing reversing unit 116 (step 89
8). And mount frame chuck arm 11
4 is a clamp mechanism 118 of the swing reversing unit 116
When the mount frame 6 is moved to the position where one end of the mount frame 6 is inserted, check again whether the mount frame 6 is attracted (Step 599), and if it is not attracted, the above-mentioned error message X is displayed (Step 592). .

マウント・フレーム6の吸着が確認されると、スイング
反転ユニット116のクランプ機構118が閉じて、マ
ウント・フレーム6をクランプする(ステップ3100
)。そして、マウント・フレーム6が確実にクランプさ
れているか否かを確認する(ステップ5102)。これ
は、前記クランプ機構118に備えられた光電素子P 
HS W 7の検出信号に基づいて判断する。マウント
・フレーム6がクランプされていない場合は、エラー表
示XIを行い(ステップ5104)、パトライト140
のエラー表示ライトが点灯するとともに、操作盤138
のLCD表示ユニットが、このエラーに対応したメツセ
ージを表示する。
When suction of the mount frame 6 is confirmed, the clamp mechanism 118 of the swing reversing unit 116 closes and clamps the mount frame 6 (step 3100).
). Then, it is confirmed whether the mount frame 6 is securely clamped (step 5102). This is due to the photoelectric element P provided in the clamp mechanism 118.
The judgment is made based on the detection signal of HSW 7. If the mount frame 6 is not clamped, an error display XI is displayed (step 5104), and the patrol light 140
The error display light on the control panel 138 lights up.
The LCD display unit will display a message corresponding to this error.

マウント・フレーム6がクランプされていることを確認
すると、スイング反転ユニット116は、水平方向に約
180°スイングしくステップ5106)、再び、マウ
ント・フレーム6のクランプを確認する(ステップ51
07)。クランプされていない場合は、前述したエラー
表示XIを行う(ステップ5104)。マウント・フレ
ーム6のクランプが確認されると、半導体ウェハ2の表
面が上になるようにマウント・フレーム6を反転させる
(ステップ310B)。そして、もう−度、マウント・
フレーム6のクランプを確認しくステップ5109)、
クランプされていない場合は、前述したエラー表示XI
を行う(ステップ5IO4)。
After confirming that the mount frame 6 is clamped, the swing reversing unit 116 swings approximately 180 degrees in the horizontal direction (step 5106), and confirms that the mount frame 6 is clamped again (step 51).
07). If it is not clamped, the above-mentioned error display XI is performed (step 5104). When the clamping of the mount frame 6 is confirmed, the mount frame 6 is turned over so that the surface of the semiconductor wafer 2 faces upward (step 310B). And once again, Mt.
Check the clamp of frame 6 (step 5109),
If it is not clamped, the error display XI mentioned above will appear.
(Step 5IO4).

マウント・フレーム6のクランプが確認されると、マウ
ント・フレーム払い出しテーブル126上に他のマウン
ト・フレーム6が無いことを確認する(ステップ5il
o)。これは、マウント・フレーム払い出しテーブル1
26に設けられた光電素子PH3W8の検出信号に基づ
いて行われる。
When the clamp of the mount frame 6 is confirmed, it is confirmed that there is no other mount frame 6 on the mount frame dispensing table 126 (step 5il).
o). This is the mount frame payout table 1
This is performed based on the detection signal of the photoelectric element PH3W8 provided at 26.

マウント・フレーム払い出しテーブル126に他のマウ
ント・フレーム6があれば、エラー表示XIIを行い(
ステップ5111)、パトライト140のエラー表示ラ
イトが点灯するとともに、操作盤138のLCD表示ユ
ニットが、このエラーに対応したメツセージを表示する
If there is another mount frame 6 in the mount frame payout table 126, error display XII is displayed (
In step 5111), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the LCD display unit of the operation panel 138 displays a message corresponding to this error.

マウント・フレーム払い出しテーブル126に他のマウ
ント・フレーム6が無いことが確認されると、スイング
反転ユニット116は下降しくステップ3112)、マ
ウント・フレーム6がマウント・フレーム払い出しテー
ブル126上にまで来たところで、クランプ機構118
が解放する(ステップ5113)。これにより、マウン
ト・フレーム6がマウント・フレーム払い出シテーブル
126に移される。
When it is confirmed that there is no other mount frame 6 on the mount frame dispensing table 126, the swing reversing unit 116 descends (step 3112), and when the mount frame 6 reaches the top of the mount frame dispensing table 126. , clamp mechanism 118
(step 5113). As a result, the mount frame 6 is moved to the mount frame payout table 126.

マウント・フレーム6がマウント・フレーム払い出しテ
ーブル126に移されると、搬送ベルト127が作動し
て、マウント・フレーム払い出しテーブル126上のマ
ウント・フレーム6を払い出す(ステップ5116)。
When the mount frame 6 is transferred to the mount frame dispensing table 126, the conveyor belt 127 is operated to dispense the mount frame 6 on the mount frame dispensing table 126 (step 5116).

そして、マウント・フレーム6がマウント・フレーム払
い出しテーブル126から払い出されたか否かが確認さ
れる(ステップS’1lB)。これは、マウント・フレ
ーム払い出しテーブル126上に設けられた光電素子F
)H3W8の検出信号に基づいて判断する。
Then, it is confirmed whether the mount frame 6 has been paid out from the mount frame payout table 126 (step S'11B). This is the photoelectric element F provided on the mount frame dispensing table 126.
) Judgment is made based on the detection signal of H3W8.

マウント・フレーム6の払い出しが行われていない場合
は、エラー表示X■を行い(ステップ5120)、パト
ライト140のエラー表示ライトが点灯するとともに、
操作盤138のLCD表示ユニットが、このエラーに対
応したメツセージを表示する。
If the mount frame 6 has not been paid out, an error display X is displayed (step 5120), and the error display light of the patrol light 140 lights up.
The LCD display unit of the operation panel 138 displays a message corresponding to this error.

マウント・フレーム払い出しテーブル126から払い出
されたマウント・フレーム6は、アンローダ部に搬送す
るための搬送テーブル130に乗る。そして、この搬送
テーブル130に設けられた光電素子PH3WIOによ
ってマウント・フレーム6が搬送テーブル130に受は
取られたか否かを確認する(ステップ5122)。搬送
テーブル130にマウント・フレーム6が受は取られて
いない場合は、エラー表示XIVを行い(ステップ31
24)、パトライト140のエラー表示ライトが点灯す
るとともに、操作盤138のLCD表示ユニットが、こ
のエラーに対応したメツセージを表示する。
The mount frame 6 discharged from the mount frame dispensing table 126 rides on a transport table 130 for transporting to the unloader section. Then, it is checked by the photoelectric element PH3WIO provided on the transport table 130 whether or not the mount frame 6 has been received by the transport table 130 (step 5122). If the mount frame 6 is not placed on the transport table 130, an error display XIV is displayed (step 31).
24) The error display light of the patrol light 140 lights up, and the LCD display unit of the operation panel 138 displays a message corresponding to this error.

搬送テーブル130にマウント・フレーム6が受は取ら
れている場合は、このマウント・フレーム6をアンロー
ダ部にまで搬送し、前記アンローダ部にセットされたフ
レーム・カセット132に収納する(ステップ3126
)。アンローダ部に設けられた光電素子によって、マウ
ント・フレーム6がフレーム・カセット132に収納さ
れたことが検出されると、アンローダ部は1ピツチ上昇
して、次のマウント・フレーム6が収納されるのを待つ
(ステップ5L2B)。
If the mount frame 6 is not supported on the transport table 130, the mount frame 6 is transported to the unloader section and stored in the frame cassette 132 set in the unloader section (step 3126).
). When the photoelectric element provided in the unloader section detects that the mount frame 6 has been stored in the frame cassette 132, the unloader section moves up one pitch to accommodate the next mount frame 6. (Step 5L2B).

以上のように、ウェハ・ローダ部から供給された半導体
ウェハ2を所定方向に位置合わせした後、粘着テープ8
2に貼付けし、半導体ウエノX2が貼付けされたマウン
ト・フレーム6をフレーム・カセット132に収納する
という半導体ウェハ2の一連の貼付は作業が自動的に行
われる。
As described above, after aligning the semiconductor wafer 2 supplied from the wafer loader section in a predetermined direction, the adhesive tape 8
A series of operations for attaching the semiconductor wafer 2, such as attaching the semiconductor wafer 2 to the frame cassette 132 and storing the mount frame 6 to which the semiconductor wafer X2 has been attached, into the frame cassette 132 are automatically performed.

次に、本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は装置に
備えられるテープ剥離部のテープ剥離ミス検出部をさら
に具体的に説明する。
Next, the tape peeling error detecting section of the tape peeling section provided in the automatic semiconductor wafer attaching apparatus according to this embodiment will be described in more detail.

粘着テープ82の切断後、残渣テープ82”をフレーム
4から剥離ローラによって剥離する際、粘着テープ切断
機構部のカッター刃による粘着テープの切断が十分でな
いと粘着テープに貼付けられた半導体ウェハまでを残渣
テープといっしょに剥離ローラで巻き取ってしまい、半
導体ウェハを破損させ、本装置の一連の貼付は動作が妨
げられる。したがって、剥離補助ローラ部の剥離補助ロ
ーラ揺動検出機構は、上述した半導体ウェハの自動貼付
は装置において重要である。
After cutting the adhesive tape 82, when the residual tape 82'' is peeled off from the frame 4 by the peeling roller, if the adhesive tape is not cut sufficiently by the cutter blade of the adhesive tape cutting mechanism, the semiconductor wafer attached to the adhesive tape may be left as a residue. If the tape is wound up by the peeling roller together with the tape, the semiconductor wafer will be damaged and the series of pasting operations of this device will be hindered. Automatic pasting is important in the device.

ところで、上述した実施例の説明から明らかなように、
本発明において、粘着テープの切断後、粘着テープの剥
離をスムーズに行うための剥離補助ローラは、実施例に
おける剥離補助ローラ92□に対応している。また、剥
離補助ローラ92□に働くテープ張力変化を検出するこ
とによって、前記剥離ローラ92.が粘着テープを正常
に剥離しているか否かを検出する手段は、実施例におけ
るリミットスイッチLSWIに対応し、前記張力検出手
段(LSWI)の検出信号に基づいてテープ剥離部のテ
ープ剥離ミスを判別するエラー判別手段は、実施例にお
ける制御部142に対応している。そして、剥離補助ロ
ーラ92□に作用するテープ張力変化を検出することに
よって、テープ剥離ミスを判別する過程は、第18図で
説明した動作フローチャートにおけるステップS85に
相当している。
By the way, as is clear from the explanation of the embodiments mentioned above,
In the present invention, the auxiliary peeling roller for smoothly peeling off the adhesive tape after cutting the adhesive tape corresponds to the auxiliary peeling roller 92□ in the embodiment. Also, by detecting changes in tape tension acting on the peeling auxiliary roller 92□, the peeling roller 92. The means for detecting whether or not the adhesive tape is normally peeled off corresponds to the limit switch LSWI in the embodiment, and determines whether there is a tape peeling error in the tape peeling section based on the detection signal of the tension detecting means (LSWI). The error determining means corresponds to the control unit 142 in the embodiment. The process of determining a tape peeling error by detecting a change in tape tension acting on the peeling auxiliary roller 92□ corresponds to step S85 in the operation flowchart described in FIG. 18.

以下、剥離ミス検出の具体的な動作を、第10図〜第1
3図および第20図に基づいて説明する。
The specific operations for detecting peeling errors are shown in Figures 10 to 1 below.
This will be explained based on FIG. 3 and FIG. 20.

ステップ37Bにおいて、粘着テープ82の切断が行わ
れた後に、残渣テープ82′をフレーム4などから剥離
する場合、前記剥離ローラユニット92に関連して設け
られた電磁弁VLIOを解除することにより、コツクー
97の開放が行われる(ステップ3841 )。
In step 37B, when the residual tape 82' is to be peeled off from the frame 4 etc. after the adhesive tape 82 has been cut, the solenoid valve VLIO provided in connection with the peeling roller unit 92 is released, so that the residual tape 82' can be peeled off. 97 is opened (step 3841).

そして、コツクー97が開放されたか否かを、エアーシ
リンダ99の変位として検出するリミットスイッチLS
W3の検出信号に基づいて判断する(ステップ384□
)。
A limit switch LS detects whether or not the cock 97 is opened as a displacement of the air cylinder 99.
Judgment is made based on the detection signal of W3 (step 384□
).

コツクー97が開放するとともに、ブレーキ102が作
動する。この状態で、エアーシリンダ94が作動すると
、貼付はローラユニット90は停止状態を維持するから
、剥離ローラユニット92とエアーシリンダ94とが一
体となって右方向に水平移動し、剥離動作を開始する(
ステップS843 )。
The brake 102 is activated at the same time as the cock 97 is opened. In this state, when the air cylinder 94 is operated, the pasting roller unit 90 remains in a stopped state, so the peeling roller unit 92 and the air cylinder 94 move horizontally to the right as one, and begin the peeling operation. (
Step S843).

剥離動作が完了するまでに、フレーム・チャックテーブ
ル50が位置決めされたフレーム4を吸着しているか否
かを、圧力スイッチPUSW4の検出信号に基づいて判
断する(ステップ3851 )。
By the time the peeling operation is completed, it is determined whether or not the frame chuck table 50 has attracted the positioned frame 4 based on the detection signal of the pressure switch PUSW4 (step 3851).

フレーム・チャックテーブル50がフレーム4を吸着し
ている場合、真空チャック内の圧力が低下するから、圧
力スイッチPUSW4はO’N状態になる。この圧力ス
イッチPUSW4がON状態になっていない場合は、位
置決めされたフレーム4が何等かの原因でフレーム・チ
ャックテーブル50に吸着されてないものと判断してエ
ラー表示■、を行う(ステップS87+ )。
When the frame/chuck table 50 is suctioning the frame 4, the pressure inside the vacuum chuck decreases, so the pressure switch PUSW4 is turned on. If this pressure switch PUSW4 is not in the ON state, it is determined that the positioned frame 4 is not attracted to the frame/chuck table 50 for some reason, and an error message is displayed (step S87+). .

ステップS85.において、フレーム・チャックテーブ
ル50がフレーム4を吸着していることが確認されると
、第20図に示したステップS85□に進んで、ウェハ
・チャックテーブル48が位置決めされた半導体ウェハ
2を吸着しているか否かを、圧力スイッチPUSW6の
検出信号に基づいて判断する。
Step S85. When it is confirmed that the frame/chuck table 50 is suctioning the frame 4, the process proceeds to step S85□ shown in FIG. 20, where the wafer/chuck table 48 suctions the positioned semiconductor wafer 2. It is determined based on the detection signal of the pressure switch PUSW6.

ウェハ・チャックテーブル48が半導体ウェハ2を吸着
している場合、真空チャック内の圧力が低下するから、
圧力スイッチPUSW6はON状態になる。この圧力ス
イッチPUSW6がON状態になっていない場合は、位
置決めされた半導体ウェハ2が、何等かの原因でウェハ
・チャックテーブル48に吸着されてないものと判断し
てエラー表示■2を行う(ステップ5872)。
When the wafer chuck table 48 is sucking the semiconductor wafer 2, the pressure inside the vacuum chuck decreases.
Pressure switch PUSW6 is turned on. If this pressure switch PUSW6 is not in the ON state, it is determined that the positioned semiconductor wafer 2 is not attracted to the wafer chuck table 48 for some reason, and an error display (2) is performed (step 5872).

ステップS85□において、ウェハ・チャックテーブル
4Bが半導体ウェハ2を吸着していることが確認される
と、第20図に示したステップ5853に進んで、剥離
ローラ92.により残渣テープ82°がフレーム4など
から剥離されているか否かを、剥離補助ローラ92□に
関連して設けられたリミットスイッチLSWIの検出信
号に基づいて判断する(ステップSSS:+)。
If it is confirmed in step S85□ that the wafer chuck table 4B is adsorbing the semiconductor wafer 2, the process proceeds to step 5853 shown in FIG. Based on the detection signal of the limit switch LSWI provided in relation to the peeling auxiliary roller 92□, it is determined whether the residual tape 82° has been peeled off from the frame 4 or the like (step SSS: +).

粘着テープ切断機構108により、粘着テープ82が完
全に円形に切り抜かれている場合、残渣テープ82’ 
はスムーズに剥離ローラユニット92に巻き取られ、ま
た、剥離補助ローラ92□は、コイルハネ95により剥
離ローラ921に押し付りられているので、リミットス
イッチLSWIはON状態になる。
When the adhesive tape 82 is completely cut out in a circular shape by the adhesive tape cutting mechanism 108, the residual tape 82'
is smoothly wound around the peeling roller unit 92, and the peeling auxiliary roller 92□ is pressed against the peeling roller 921 by the coil spring 95, so the limit switch LSWI is turned on.

また、粘着テープ切断機構108のカッター112の刃
こぼれ等の原因で粘着テープ82が完全に円形に切断さ
れずに、例えば、第13図に示すように、切断線CLの
一部に非切断部Mが発生すると、残渣テープ82゛の剥
離抵抗が大きくなって残渣テープ82°の張力が増大す
る。残渣テープ82′の張力が設定以上に増大すると、
剥離補助ローラ92□に働く左方への分力が増大して、
第12図に示すように、揺動アーム93がコイルハネ9
5に抗して揺動し、リミットスイッチLSW1がOFF
状態になり、これによって粘着テープ82の剥離ミスを
判断してエラー表示■3を行う(ステップS87.)。
Furthermore, due to the blade of the cutter 112 of the adhesive tape cutting mechanism 108 falling off, etc., the adhesive tape 82 may not be cut into a complete circle, and, for example, as shown in FIG. When M occurs, the peeling resistance of the residual tape 82' increases and the tension of the residual tape 82' increases. When the tension of the residue tape 82' increases beyond the set value,
The leftward force acting on the peeling auxiliary roller 92□ increases,
As shown in FIG.
5, the limit switch LSW1 turns OFF.
From this, it is determined that the adhesive tape 82 has been peeled off incorrectly, and an error display (3) is performed (step S87).

ステップ5853において、テープ剥離が正常に行われ
ていることが確認されると、ステップ5854に進んで
、剥離ローラユニット92が剥離ローラ移動端まで移動
しているか否かを、第8図に示したリミットスイッチL
SW2の検出信号に基づいて判断する(ステップ385
4)。
If it is confirmed in step 5853 that the tape is peeled off normally, the process proceeds to step 5854, where it is determined whether or not the peeling roller unit 92 has moved to the peeling roller moving end, as shown in FIG. limit switch L
Judgment is made based on the detection signal of SW2 (step 385
4).

剥離ローラユニント92が剥離ローラ移動端まで移動し
た場合、リミットスイッチLSW2はON状態になる。
When the peeling roller unit 92 moves to the peeling roller moving end, the limit switch LSW2 is turned on.

このリミットスイッチLSW2がON状態になっていな
い場合は、まだ、剥離ローラユニット92が剥離ローラ
移動端まで移動していないものと判断して、第20図に
おいて説明したステップS85□に戻る。
If the limit switch LSW2 is not in the ON state, it is determined that the peeling roller unit 92 has not yet moved to the peeling roller moving end, and the process returns to step S85□ described in FIG. 20.

ステップ5854において、剥離ローラユニット92が
剥離ローラ移動端まで移動したことが確認されると、次
のステップS86に進んでマウント・フレームチャンク
アーム114の下降動作を行う。
When it is confirmed in step 5854 that the peeling roller unit 92 has moved to the peeling roller moving end, the process proceeds to the next step S86, where the mount/frame chunk arm 114 is lowered.

次に、上述した実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は
装置にエラーが発生した場合に行われる回復処理につい
て簡単に説明する。
Next, a brief explanation will be given of the recovery process performed when an error occurs in the automatic semiconductor wafer bonding apparatus according to the above-described embodiment.

前述したような各種のエラーが発生すると、そのエラー
発生箇所の次工程にあたる各機構部は、各動作を継続し
てそれぞれの動作ザイクルを終了したところで停止する
。一方、エラーが発生した箇所と、その前工程にあたる
各機構部は、エラーが発生した時点で停止する。オペレ
ータは、上述したエラー表示に基づいて、エラー発生箇
所のワーク(例えば、半導体ウェハ2やフレーム4など
)を取り外し、あるいは、カセットを正しくセットする
などの適宜の措置を採る。そして、そのエラー発生箇所
の前工程にあたる各機構部を原点に戻し、本装置を再ス
タートさせる。  。
When any of the above-mentioned errors occur, each mechanical section corresponding to the next process of the location where the error occurs continues its respective operations and stops after completing each operation cycle. On the other hand, the location where the error occurred and each mechanical section corresponding to the preceding process stop when the error occurs. Based on the above-mentioned error display, the operator takes appropriate measures such as removing the workpiece (for example, the semiconductor wafer 2 or the frame 4) where the error has occurred or setting the cassette correctly. Then, each mechanical section corresponding to the process preceding the error occurrence point is returned to its origin, and the apparatus is restarted. .

なお、上述した各種のエラーが発生したことをしらせる
ための表示態様は、実施例で説明したものに限られず、
ブザー表示など種々変形実施できる。
Note that the display mode for informing that the various errors mentioned above have occurred is not limited to the one explained in the embodiment.
Various modifications such as buzzer display can be implemented.

また、剥離ミスを判断するために残液テープ82′の張
力増大を検出する張力検出機構としては、例えば、第1
4図に示すように、剥離ローラ92+に押し付けられる
剥離補助ローラ92□を直線的に左右スライド自在な可
動アーム93Iに取り付けるとともに、この可動アーム
931をコイルバネ95□で剥離ローラ92.側に付勢
し、かつ、この可動アーム93.のコイルバネ951に
抗する変位をリミットスイッチLSW4で検出するよう
な構造で実施することもできる。
Further, as a tension detection mechanism for detecting an increase in tension of the residual liquid tape 82' in order to determine a peeling error, for example, the first
As shown in FIG. 4, a peeling auxiliary roller 92□ that is pressed against the peeling roller 92+ is attached to a movable arm 93I that can slide left and right in a straight line, and this movable arm 931 is attached to the peeling roller 92. with a coil spring 95□. side, and this movable arm 93. It is also possible to implement a structure in which the displacement resisting the coil spring 951 is detected by the limit switch LSW4.

また、上述の実施例の揺動アーム93や上記可動アーム
93、に働く外力を圧電素子で検出するようにして、残
渣テープ82”の設定以上の張力増大を検出することも
可能である。また、剥離補助ローラ92□の支軸に作用
する外力を圧電素子などのセンサを用いて直接的に検出
することもできる。
Furthermore, by detecting the external force acting on the swing arm 93 or the movable arm 93 of the above-described embodiment using a piezoelectric element, it is also possible to detect an increase in the tension of the residual tape 82'' that exceeds the setting. It is also possible to directly detect the external force acting on the support shaft of the peeling auxiliary roller 92□ using a sensor such as a piezoelectric element.

また、本発明に係る半導体ウェハの自動貼付は装置は、
実施例において説明した装置に限定されるものではない
ことは勿論である。
Furthermore, the automatic attachment device for semiconductor wafers according to the present invention includes:
Of course, the present invention is not limited to the devices described in the embodiments.

〈発明の効果〉 以上説明したように、本発明によれば、切断不良やその
地回等かの異常発生によって粘着テープがフレームなど
から剥離されなかった場合にウェハ巻き込みのような大
きいトラブルに至るまでに、オペレータが、この半導体
ウェハ自動貼付は装置の異常発生とその発生箇所を知る
ことができ、これにより、適宜な措置を迅速に採ること
ができるので、ウェハの破損を未然に防止することがで
きるとともに、トラブル回復のために長時間にわたって
装置が停止することも無く、半導体ウェハ自動貼付は装
置の稼働効率を向上させることができる。
<Effects of the Invention> As explained above, according to the present invention, if the adhesive tape is not peeled off from the frame due to abnormality such as poor cutting or the occurrence of irregularities, major troubles such as wafer entrapment can occur. This automatic semiconductor wafer attachment system allows operators to know when an abnormality has occurred in the equipment and where it has occurred, allowing them to quickly take appropriate measures to prevent wafer damage. In addition, automatic semiconductor wafer attachment can improve the operating efficiency of the equipment without having to stop the equipment for a long time to recover from a problem.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例に係る半導体ウェハの自動貼
付は装置の全体の概略を示した説明図、第2図は、前記
実施例における半導体ウェハ位置合わせ部および反転フ
ォーク周辺部の構成図、第3図は前記実施例におけるオ
リエンテーションフラット位置合わせの説明図、第4図
は前記オリエンテーションフラット端部検出部の説明図
、第5図は前記実施例におけるフレーム・ローダ部とフ
レーム位置決め部周辺の構成図、第6図は前記実施例に
おけるフレーム搬送部周辺の構成図、第7図は前記実施
例における粘着テープ供給系統と粘着テープ切断機構周
辺の構成図、第8図および第9図は前記実施例における
貼付はローラユニットと剥離ローラユニットとの構成お
よび動作説明図、第10図は前記実施例における剥離ロ
ーラユニットの構成図、第11図は前記実施例における
剥離ローラユニットの固定手段を示す構成図、第12図
は前記実施例における剥離補助ローラの剥離ミス検出作
動状態を示す説明図、第13図は切断不良の粘着テープ
を剥離する状態を示す説明図、第14図は剥離ミス検出
手段の別実施例を示す構成図、第15図は前記実施例に
おけるマウント・フレーム払い出しテーブル周辺の構成
図、第16図は前記実施例において使用される半導体ウ
ェハ、フレームおよびマウント・フレームの説明図、第
17図は前記実施例における制御系統の構成の概略を示
したブロック図、第18図は前記実施例の動作フローチ
ャート、第19図は前記実施例におけるオリエンテーシ
ョンフラット位置合わせの動作フローチャート、第20
図は前記実施例における剥離補助ローラのテープ剥離ミ
ス検出の具体的な動作フローチャー1・である。 2・・・半導体ウエハ 4・・・フレーム 6・・・マウント・フレーム 14・・・半導体ウェハ位置合わせ部 18・・・ウェハ・カセット 20・・・アライメント・テーブル 24・・・パルスモータ 32・・・オリエンテーションフラット端部検出部40
・・・反転フォーク 42・・・貼付はテーブル 48・・・ウェハ・チャックテーブル 50・・・フレーム・チャックテーブル54・・・フレ
ーム・ローダ部 62・・・フレーム位置決め部 72・・・フレーム・チャックアーム 82・・・粘着テープ 82°・・・残渣テープ 90・・・貼付けローラユニット 92・・・剥Mtl−ラユニット 93・・・剥離ローラ 94・・・剥離補助ローラ 95・・・コイルハネ 96・・・剥離用トルクモータ 108・・・粘着テープ切断機構 114・・・マウント・フレームチャックアーム116
・・・スイング反転ユニット 118・・・クランプ機構 126・・・マウント・フレーム払い出しテーブル12
7・・・搬送ベルト 130・・・搬送テーブル 131・・・搬送テーブル水平移動モータ132・・・
フレーム・カセット 13′8・・・操作盤 140・・・パトライト 142・・・制御部 144・・・CPU PH3WI〜PH3WI 1.、PH3WI 1□・・
・光電素子 PUSWI〜PUSW6・・・圧力スイッチLSWI〜
L ’S W 4・・・リミットスイッチ第15図 第16r!J (実施例における半導体ウェハ、フレーム、マウントフ
レームのHQ明図)(a) 第18図(死の (実施例の動作フローチャ ート) 第 18 図  (その4 E       F マウントフレー           5122510
6  ムシスインクパ 5107      マウント   NOフレームクラ
゛            5126)6? ES マウントフレー             5128S
1    ムを反転
FIG. 1 is an explanatory diagram showing the overall outline of an automatic attachment device for semiconductor wafers according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a configuration of the semiconductor wafer alignment section and the surrounding area of the reversing fork in the embodiment. 3 is an explanatory diagram of the orientation flat positioning in the embodiment, FIG. 4 is an explanatory diagram of the orientation flat end detecting section, and FIG. 5 is an explanatory diagram of the frame loader section and frame positioning section surroundings in the embodiment. FIG. 6 is a block diagram of the area around the frame conveyance unit in the embodiment, FIG. 7 is a block diagram of the adhesive tape supply system and the area around the adhesive tape cutting mechanism in the embodiment, and FIGS. 8 and 9 are The pasting in the above embodiment is an explanatory diagram of the structure and operation of the roller unit and the peeling roller unit, FIG. 10 is a configuration diagram of the peeling roller unit in the above embodiment, and FIG. FIG. 12 is an explanatory diagram showing the operation state of the peeling auxiliary roller in the above embodiment for detecting a peeling error. FIG. 13 is an explanatory diagram showing a state in which a poorly cut adhesive tape is peeled off. FIG. 15 is a block diagram showing another embodiment of the detection means; FIG. 15 is a block diagram of the mount frame dispensing table and its surroundings in the embodiment; FIG. 16 is an explanation of the semiconductor wafer, frame, and mount frame used in the embodiment. 17 is a block diagram showing an outline of the configuration of the control system in the embodiment, FIG. 18 is an operation flowchart of the embodiment, and FIG. 19 is an operation flowchart of orientation flat alignment in the embodiment. 20
The figure is a concrete operational flowchart 1 for detecting a tape peeling error of the peeling auxiliary roller in the embodiment. 2... Semiconductor wafer 4... Frame 6... Mount frame 14... Semiconductor wafer alignment section 18... Wafer cassette 20... Alignment table 24... Pulse motor 32...・Orientation flat end detection section 40
... Reversing fork 42 ... Pasting is done on table 48 ... Wafer chuck table 50 ... Frame chuck table 54 ... Frame loader section 62 ... Frame positioning section 72 ... Frame chuck Arm 82... Adhesive tape 82°... Residue tape 90... Pasting roller unit 92... Peeling Mtl-ra unit 93... Peeling roller 94... Peeling auxiliary roller 95... Coil spring 96. ...Torque motor for peeling 108...Adhesive tape cutting mechanism 114...Mount frame chuck arm 116
...Swing reversing unit 118...Clamp mechanism 126...Mount frame dispensing table 12
7... Conveyance belt 130... Conveyance table 131... Conveyance table horizontal movement motor 132...
Frame cassette 13'8...Operation panel 140...Patrol light 142...Control section 144...CPU PH3WI to PH3WI 1. , PH3WI 1□...
・Photoelectric element PUSWI~PUSW6...Pressure switch LSWI~
L'S W 4...Limit switch Fig. 15 Fig. 16r! J (HQ diagram of the semiconductor wafer, frame, and mount frame in the example) (a) Figure 18 (Operation flowchart of the example) Figure 18 (Part 4 E F Mount Frame 5122510
6 Musisinkpa 5107 Mount NO Frame Clamp 5126) 6? ES mount frame 5128S
1 Invert the image

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)リング状のフレームを位置決め保持するフレーム
チャックテーブルと、 前記フレームの中央部位において半導体ウェハを位置決
め保持するウェハチャックテーブルと、位置決め保持さ
れたリングとウェハにわたって連続状の粘着テープを貼
着する貼付けローラユニットと、 貼付けられた粘着テープをフレームに沿って円形に切り
抜く粘着テープ切断機構と、 切断後の残渣テープをフレームから剥離する剥離ローラ
ユニットと、 を備えた半導体ウェハの自動貼付け装置において、 前記剥離ローラユニットに、残渣テープの張力を受けて
変位可能な剥離補助ローラと、この剥離補助ローラに設
定以上の張力が作用したことを検出する張力検出機構と
を設け、この張力検出機構の検出結果に基づいて剥離ミ
スを判断する手段を備えてある半導体ウェハの自動貼付
け装置。
(1) A frame chuck table that positions and holds a ring-shaped frame, a wafer chuck table that positions and holds a semiconductor wafer at the center of the frame, and a continuous adhesive tape that is pasted over the positioned and held ring and wafer. An automatic semiconductor wafer pasting device comprising: a pasting roller unit; an adhesive tape cutting mechanism that cuts out the pasted adhesive tape in a circular shape along a frame; and a peeling roller unit that peels off residual tape from the frame after cutting. The peeling roller unit is provided with a peeling auxiliary roller that can be displaced in response to the tension of the residual tape, and a tension detection mechanism that detects when a tension exceeding a setting is applied to the peeling auxiliary roller, and the tension detection mechanism detects An automatic semiconductor wafer pasting device that is equipped with a means for determining peeling errors based on the results.
JP63033564A 1988-02-15 1988-02-15 Automatic apparatus for sticking semiconductor wafer Pending JPH01207943A (en)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002313877A (en) * 2001-04-19 2002-10-25 Murata Mach Ltd Automatic guided vehicle
WO2006018924A1 (en) * 2004-08-17 2006-02-23 Lintec Corporation Transferring and bonding device for brittle member
JP2011124369A (en) * 2009-12-10 2011-06-23 Nitto Denko Corp Adhesive tape joining method, and apparatus using the same
JP2020047899A (en) * 2018-09-21 2020-03-26 株式会社ディスコ Tape sticking apparatus

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002313877A (en) * 2001-04-19 2002-10-25 Murata Mach Ltd Automatic guided vehicle
WO2006018924A1 (en) * 2004-08-17 2006-02-23 Lintec Corporation Transferring and bonding device for brittle member
JP2006059861A (en) * 2004-08-17 2006-03-02 Lintec Corp Transferring and bonding device of brittle member
JP2011124369A (en) * 2009-12-10 2011-06-23 Nitto Denko Corp Adhesive tape joining method, and apparatus using the same
TWI450804B (en) * 2009-12-10 2014-09-01 Nitto Denko Corp Adhesive tape joining method and apparatus using the same
JP2020047899A (en) * 2018-09-21 2020-03-26 株式会社ディスコ Tape sticking apparatus

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