JPS63155639A - Automatic sticking system for semiconductor wafer - Google Patents

Automatic sticking system for semiconductor wafer

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Publication number
JPS63155639A
JPS63155639A JP61304784A JP30478486A JPS63155639A JP S63155639 A JPS63155639 A JP S63155639A JP 61304784 A JP61304784 A JP 61304784A JP 30478486 A JP30478486 A JP 30478486A JP S63155639 A JPS63155639 A JP S63155639A
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JP
Japan
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frame
semiconductor wafer
wafer
error
adhesive tape
Prior art date
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Pending
Application number
JP61304784A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Owaki
大脇 弘
Yoshiro Asakura
朝倉 吉郎
Kenji Nonomura
野々村 謙二
Toshiyuki Sekido
関戸 俊之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To detect an error of the suction of a wafer at a frame-transfer part by installing a pressure switch which detects a change in the pressure of a vacuum chuck incorporated in the frame transfer part. CONSTITUTION:A solenoid valve VL3 which is installed in connection with a vacuum chuck of a frame chuck arm 72 is actuated, and the arn 72 starts to such a semiconductor wafer frame 4. Simultaneously with the actuation of the solenoid valve VL3, a timer inside a control unit is cleared. It is judged by a detection signal of a pressure switch PUSW 3 whether the arm 72 has sucked the positioned frame 4. When the arm 72 has sucked the frame 4, the pressure inside the vacuum chuck is lowered and the PUSW 3 is set to an ON state. If the PUSW 3 is in an OFF state, said timer confirms whether a time limit has been exceeded or not. If the time limit has been exceeded, it is judged that the frame 4 has not been sucked by the arm 72 for one cause or another, and an error is displayed.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、半導体ウェハのスクライブ工程の前工程にお
いて、半導体ウェハを粘着テープに貼付けるために用い
られる半導体ウェハの自動貼付は装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to an automatic semiconductor wafer affixing apparatus used for affixing a semiconductor wafer to an adhesive tape in a pre-process of a semiconductor wafer scribing process.

〈従来の技術〉 一般に、半導体ウェハのスクライブ工程では、半導体ウ
ェハを粘着テープに貼付けた状態でスクライブを行って
いる。スクライブされた半導体ウェハは、粘着テープに
貼付けられた状態でタラソキングされる。そして、粘着
テープを引き伸ばして、個々の半導体素子を分離し、次
工程であるグイポンディング工程において、半導体素子
を容易に取り扱えるようにしている。
<Prior Art> Generally, in a scribing process for semiconductor wafers, scribing is performed with the semiconductor wafer attached to an adhesive tape. The scribed semiconductor wafer is attached to an adhesive tape and subjected to thalassoking. The adhesive tape is then stretched to separate the individual semiconductor elements so that they can be easily handled in the next process, the bonding process.

このような半導体ウェハを粘着テープに貼付ける工程は
、半導体ウェハのスクライブ工程の前工程として行われ
る。そして、近年の半導体製造ラインの自動化に伴い、
半導体ウェハを粘着テープに貼付ける自動装置の開発が
望まれている。
Such a process of attaching a semiconductor wafer to an adhesive tape is performed as a pre-process of a semiconductor wafer scribing process. With the automation of semiconductor manufacturing lines in recent years,
It is desired to develop an automatic device for attaching semiconductor wafers to adhesive tape.

〈発明が解決しようとする問題点〉 本発明は、このような事情に鑑みて開発された半導体ウ
ェハの自動貼付は装置において、特に、フレーム位置決
め部で位置決めされたフレームを、前記フレーム位置決
め部から貼付はテーブルにI!送するフレーム搬送部が
、フレームを吸着しているか否かを検出する機能を備え
た半導体ウェハの自動貼付は装置を堤供することを目的
としている。
<Problems to be Solved by the Invention> The present invention has been developed in view of the above-mentioned circumstances. Paste it on the table! The purpose is to provide an automatic semiconductor wafer attachment device that has a function of detecting whether or not the frame transport unit is picking up frames.

このような本発明の目的は、後に行う本発明の詳細な説
明において、さらに明らかにする。
Such objects of the present invention will become clearer in the detailed description of the present invention that follows.

〈問題点を解決するための手段〉 本発明は、上記目的を達成するために、次のような構成
を採る。
<Means for Solving the Problems> In order to achieve the above object, the present invention adopts the following configuration.

即ち、本発明は、オリエンテーションフラットが形成さ
れた半導体ウェハを位置合わせして粘着テープに貼付け
る半導体ウェハの自動貼付は装置であって、 前記半導体ウェハが貼付けられる粘着テープを保持する
ためのフレームを、予め位置決めするフレーム位置決め
部と、 前記半導体ウェハを粘着テープに貼付ける貼付はテーブ
ルと、 前記フレーム位置決め部によって位置決めされたフレー
ムを真空チャックによって吸着保持して、前記フレーム
位置決め部から前記貼付はテーブルに搬送するフレーム
搬送部と、 前記フレーム搬送部が前記フレームを吸着しているか否
かを検出する吸着検出部とを含み、前記吸着検出部は、 前記フレーム搬送部に備えられた真空チャックの圧力変
化を検出する圧力検出手段と、前記圧力検出手段の検出
信号に基づいて、前記フレーム搬送部のフレーム吸着ミ
スを判別するエラー判別手段とを備えたことを特徴とし
ている。
That is, the present invention provides an automatic semiconductor wafer affixing device that aligns a semiconductor wafer on which an orientation flat is formed and affixes it to an adhesive tape, the invention comprising a frame for holding the adhesive tape to which the semiconductor wafer is affixed. , a frame positioning unit that positions the semiconductor wafer in advance; a table that attaches the semiconductor wafer to the adhesive tape; a vacuum chuck that holds the frame positioned by the frame positioning unit; a frame conveyance unit that conveys the frame to a frame, and a suction detection unit that detects whether or not the frame conveyance unit is suctioning the frame, and the suction detection unit detects the pressure of a vacuum chuck provided in the frame conveyance unit. The apparatus is characterized in that it includes a pressure detection means for detecting a change, and an error determination means for determining a frame suction error in the frame conveying section based on a detection signal of the pressure detection means.

〈実施例〉 =3− 以下、本発明の一実施例を図面に基づいて詳しく説明す
る。
<Example> =3- Hereinafter, one example of the present invention will be described in detail based on the drawings.

第1図は、本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は装
置の全体構成を示した概略斜視図、第2図〜第9図は前
記半導体ウェハの自動貼付は装置の各部の構成の概略図
である。
FIG. 1 is a schematic perspective view showing the overall configuration of the automatic semiconductor wafer attachment device according to the present embodiment, and FIGS. 2 to 9 are schematic diagrams of the configuration of each part of the automatic semiconductor wafer attachment device. It is.

第10図は、本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は
装置によって粘着テープに貼付けられる半導体ウェハ2
と、この半導体ウェハ2を貼付けられた粘着テープを保
持するためのフレーム4と、半導体ウェハ2が貼付けら
れた状態のフレームであるマウント・フレーム6とを示
している。
FIG. 10 shows a semiconductor wafer 2 that is attached to an adhesive tape by an apparatus for automatic attachment of semiconductor wafers according to this embodiment.
, a frame 4 for holding the adhesive tape to which the semiconductor wafer 2 is attached, and a mount frame 6 which is the frame to which the semiconductor wafer 2 is attached.

半導体ウェハ2の外周部には、平坦な切り欠き面である
オリエンテーションフラットOFが形成されている。こ
のオリエンテーションフラソ1−OFを基準として、素
子パターンが半導体ウェハ2に形成されている。
An orientation flat OF, which is a flat cutout surface, is formed on the outer periphery of the semiconductor wafer 2 . An element pattern is formed on the semiconductor wafer 2 using this orientation flask 1-OF as a reference.

フレーム4は、リング状の金属板又は樹脂板であって、
その外周部には、後述するフレーム4の位置合わせの際
に使用されるVノソヂ41,4□が形成されている。
The frame 4 is a ring-shaped metal plate or resin plate,
On its outer periphery, V holes 41, 4□ are formed to be used when aligning the frame 4, which will be described later.

本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は装置は、上述
した半導体ウェハ2をウェハ・ローダ部から、フレーム
4をフレーム・ローダ部からそれぞれ個別に供給して粘
着テープに貼付け、最終的にはマウント・フレーム6を
アンローダ部に収納するようになっている。
For automatic attachment of semiconductor wafers according to this embodiment, the apparatus separately supplies the semiconductor wafer 2 and the frame 4 from the wafer loader section and the frame loader section, respectively, and attaches them to the adhesive tape, and finally mounts the semiconductor wafers. -The frame 6 is stored in the unloader section.

以下、本装置の各部の構成を説明する。The configuration of each part of this device will be explained below.

第1図に示す符号8(8□〜84)は、ウェハ・ローダ
部にセットされたウェハ・カセットである。ウェハ・カ
セット8は、複数枚の半導体ウェハ2をそれぞれ水平状
態に保持して、等間隔に上下方向に収納している。本実
施例では、二つのウェハ・ローダ部があり、左のウェハ
・ローダ部にウェハ・カセット81,8□が、右のウェ
ハ・ローダ部にウェハ・カセット83.84がそれぞれ
セットできる。各ウェハ・ローダ部は、上下方向に移動
可能に構成されているとともに、ウェハ・カセット8内
の半導体ウェハ2を検出して、これを押し出すことによ
って半導体ウェハ2の供給を行っている。
Reference numerals 8 (8□ to 84) shown in FIG. 1 are wafer cassettes set in the wafer loader section. The wafer cassette 8 holds a plurality of semiconductor wafers 2 horizontally and stores them vertically at equal intervals. In this embodiment, there are two wafer loader sections, wafer cassettes 81 and 8□ can be set in the left wafer loader section, and wafer cassettes 83 and 84 can be set in the right wafer loader section. Each wafer loader section is configured to be movable in the vertical direction, and supplies the semiconductor wafers 2 by detecting the semiconductor wafers 2 in the wafer cassette 8 and pushing them out.

各ウェハ・ローダ部に備えられるウェハ押し出し機構は
、第2図に示されている。即ち、左のウェハ・ローダ部
には、モータで駆動されるウェハ押し出し機構10が、
右のウェハ・ローダ部には、エアーシリンダで駆動され
るウェハ押し出し機構12がそれぞれ設けられている。
The wafer push mechanism provided in each wafer loader section is shown in FIG. That is, in the left wafer loader section, a wafer pushing mechanism 10 driven by a motor is installed.
The right wafer loader section is provided with a wafer pushing mechanism 12 driven by an air cylinder.

各ウェハ・ローダ部から供給された半導体ウェハ2は、
この半導体ウェハ2を位置合わせするだめの半導体ウェ
ハ位置合わせ部14に搬送される。
The semiconductor wafers 2 supplied from each wafer loader section are
This semiconductor wafer 2 is transported to a semiconductor wafer alignment section 14 for alignment.

半導体ウェハ2は、第2図に示す搬送ヘルド16によっ
て半導体ウェハ位置合わせ部14に1般送される。この
搬送ヘルド16は、モータ18によって正逆方向に駆動
される。
The semiconductor wafer 2 is generally transported to the semiconductor wafer alignment section 14 by a transport heald 16 shown in FIG. This transport heald 16 is driven by a motor 18 in forward and reverse directions.

半導体ウェハ位置合わせ部14は、搬送されてきた半導
体ウェハ2を受は取って、オリエンテーションフラット
OFの位置合わせを行うアライメント・テーブル20と
、半導体ウェハ2の中心をアライメント・テーブル20
の中心に一致させるように半導体ウェハ2の位置合わせ
を行う中心位置合わせ板22.,22□などを含む。
The semiconductor wafer alignment unit 14 includes an alignment table 20 that receives and receives the semiconductor wafer 2 that has been transferred and aligns the orientation flat OF, and an alignment table 20 that aligns the center of the semiconductor wafer 2 with the alignment table 20.
A center alignment plate 22. which aligns the semiconductor wafer 2 so that it aligns with the center of the center alignment plate 22. , 22□, etc.

アライメント・テーブル20は、半導体ウェハ2を吸着
保持するための真空チャックを備えている。VLIは、
この真空チャックの入/切を行う電磁弁、PUSWIは
、真空チャック内の圧力低下を検出してON状態になる
圧力スイツチである。
The alignment table 20 is equipped with a vacuum chuck for holding the semiconductor wafer 2 by suction. VLI is
The solenoid valve PUSWI that turns on/off the vacuum chuck is a pressure switch that turns on when it detects a drop in pressure within the vacuum chuck.

また、このアライメント・テーブル20は、パルスモー
タ24によって回動可能に構成されているとともに、エ
アーシリンダ26によって上下方向に移動可能に構成さ
れている。
Further, this alignment table 20 is configured to be rotatable by a pulse motor 24 and configured to be movable in the vertical direction by an air cylinder 26.

中心位置合わせ板22..22゜は、上限位置にあるア
ライメント・テーブル20を介して対向する位置に設け
られている。各中心位置合わせ仮22、.22、の対向
面側には、半導体ウェハ2の外形に対応した円弧状の基
準面が形成されている。中心位置合わせ板22□、22
□は、エアーシリンダ28で駆動されるリンク機構によ
って、水平方向に移動可能に構成されている。
Center alignment plate 22. .. 22 degrees are provided at positions facing each other with the alignment table 20 at the upper limit position interposed therebetween. Each center alignment provisional 22, . An arc-shaped reference surface corresponding to the outer shape of the semiconductor wafer 2 is formed on the opposite surface side of the semiconductor wafer 2 . Center alignment plate 22□, 22
□ is configured to be movable in the horizontal direction by a link mechanism driven by an air cylinder 28.

アライメント・テーブル20の両側には、搬送ベルト1
6に乗って1般送されてきた半導体ウェハ2を受は止め
るためのウェハストッパー30.。
On both sides of the alignment table 20, conveyor belts 1
A wafer stopper 30 for receiving and stopping the semiconductor wafer 2 that has been generally transported on the wafer 6. .

30□がある。ウェハストッパー30..302は、図
示しないエアーシリンダによって揺動される。左のウェ
ハ・ローダ部から半導体ウェハ2が供給されている場合
には、右のウェハストッパー30□が、右のウェハ・ロ
ーダ部から半導体ウェハ2が供給されている場合には、
左のウェハストッパー30+が、それぞれ上昇して、搬
送されてきた半導体ウェハ2を受は止める。
There are 30□. Wafer stopper 30. .. 302 is swung by an air cylinder (not shown). When the semiconductor wafer 2 is supplied from the left wafer loader section, the right wafer stopper 30 □ is pressed, and when the semiconductor wafer 2 is supplied from the right wafer loader section,
The left wafer stoppers 30+ each rise to stop receiving the semiconductor wafer 2 that has been transported.

第2図に示す符号32は、アライメント・テーブル20
に吸着保持されて回転している半導体ウェハ2のオリエ
ンテーションフラットOFの端部を検出するために、3
組の透過型の光電素子P H3WI、2.3を備えたオ
リエンテーションフラット端部検出部である。このオリ
エンテーションフラット端部検出部32は、第3図に示
すように、前記光電素子PH3W1.2.3の発光部3
6と受光部38とがエアーシリンダ34によって開閉自
在になるように構成されている。このような3組の透過
型の光電素子PH3W1.2.3を使用するのは、半導
体ウェハ2の大きさに応じて、適宜な光電素子を選択し
て使用するためである。オリエンテーションフラット端
部検出部32は、通常状態では開いており、オリエンテ
ーションフラットOFの位置合わせのために、その端部
を検出するときに閉じられる。
Reference numeral 32 shown in FIG.
In order to detect the edge of the orientation flat OF of the semiconductor wafer 2 which is being held by suction and rotating,
This is an orientation flat end detection unit equipped with a pair of transmissive photoelectric elements P H3WI, 2.3. As shown in FIG.
6 and the light receiving section 38 are configured to be openable and closable by an air cylinder 34. The reason why such three sets of transmission type photoelectric elements PH3W1.2.3 are used is to select and use appropriate photoelectric elements according to the size of the semiconductor wafer 2. The orientation flat end detection section 32 is open in a normal state, and is closed when detecting the end of the orientation flat OF for positioning.

第1図および第2図に示した符号40ば、半導体ウェハ
位置合わせ部14によってオリエンテーションフラット
OFの位置合わせが行われた半導体ウェハ2を貼付はテ
ーブル42に搬送するための反転フォークである。この
反転フォーク40ば、半導体ウェハ2を裏面側から吸着
保持するための真空チャックを備えている。V L 2
は、この真空チャックの入/切を行う電磁弁、PUSW
2は、真空チャック内の圧力低下を検出してON状態に
なる圧力スイツチである。
Reference numeral 40 shown in FIGS. 1 and 2 is a reversing fork for conveying the semiconductor wafer 2 whose orientation flat OF has been aligned by the semiconductor wafer alignment unit 14 to the attachment table 42. The reversing fork 40 is equipped with a vacuum chuck for suctioning and holding the semiconductor wafer 2 from the back side. V L 2
is a solenoid valve that turns on/off this vacuum chuck, PUSW
Reference numeral 2 denotes a pressure switch that detects a pressure drop within the vacuum chuck and turns on.

反転フォーク40は、エアーシリンダ44によって駆動
されてアライメント・テーブル20と貼付はテーブル4
2との間を往復動するとともに、モータ46によって上
方向に回動されることによって、半導体ウェハ2の裏面
が上側になるように半導体ウェハ2を反転させる。PH
3W4は、反転フォーク40が反転動作して所定の位置
にあるか否かを検出するための光電素子である。
The reversing fork 40 is driven by an air cylinder 44 to connect the alignment table 20 and the pasting table 4.
2, and is rotated upward by the motor 46, thereby inverting the semiconductor wafer 2 so that the back surface of the semiconductor wafer 2 faces upward. P.H.
3W4 is a photoelectric element for detecting whether the reversing fork 40 is in a predetermined position after performing a reversing operation.

貼付はテーブル42は、第6図に示すように、ウェハ・
チャックテーブル48と、このウェハ・チャックテーブ
ル48の周囲に設けられるフレーム・チャックテーブル
50とを含む。ウェハ・チャックテーブル48は、エア
ーシリンダ49によって上下方向に移動可能に構成され
ているとともに、圧縮コイルバネ51によって上方向に
付勢されている。ウェハ・チャックテーブル48の上に
は保護フィルム52が敷設されている。反転フォーク4
0によって搬送された半導体ウェハ2は、その裏面を上
側にした状態で、保護フィルム52を介してウェハ・チ
ャックテーブル48上に載置される。保護フィルム52
は、半導体ウェハ2の表面に傷を発生させないようにす
るために用いられている。
As shown in FIG.
It includes a chuck table 48 and a frame chuck table 50 provided around the wafer chuck table 48. The wafer chuck table 48 is configured to be movable in the vertical direction by an air cylinder 49, and is biased upward by a compression coil spring 51. A protective film 52 is laid on the wafer chuck table 48. Reversing fork 4
The semiconductor wafer 2 transported by the wafer 2 is placed on the wafer chuck table 48 via the protective film 52 with its back side facing upward. Protective film 52
is used to prevent scratches from occurring on the surface of the semiconductor wafer 2.

第1図に戻って、符号54はフレーム・ローダ部である
。フレーム・ローダ部54は、複数枚のフレーム4を重
ねた状態で収納するフレーム・ストッカー56と、この
フレーム・ストッカー56に収納されたフレーム4を下
から順番に押し出すフレーム押し出し機構を備えている
。このフレーム押し出し機構は、第4図に示すように、
フレーム4を押し出すための押し出しプレート58と、
これを水平方向に駆動するエアーシリンダ60などから
構成されている。
Returning to FIG. 1, reference numeral 54 is a frame loader section. The frame loader section 54 includes a frame stocker 56 that stores a plurality of frames 4 in a stacked state, and a frame push-out mechanism that sequentially pushes out the frames 4 stored in the frame stocker 56 from below. This frame extrusion mechanism, as shown in Figure 4,
an extrusion plate 58 for extruding the frame 4;
It is composed of an air cylinder 60 that drives this horizontally.

フレーム・ローダ部54から供給されたフレーム4は、
フレーム送り出し部によって、フレーム位置決め部62
にまで送り出される。フレーム送り出し部は、フレーム
・ストッカー56から押し出されたフレーム4の内周面
に係合して、このフレーム4を送り出すフレーム・プッ
シャー64と、このフレーム・プッシャー64を上げ下
ろしするだめのエアーシリンダ66と、フレーム・プッ
シャー64を水平方向に駆動するためのエアーシリンダ
68などから構成されている。通常状態において、フレ
ーム・プッシャー64は下降している。
The frame 4 supplied from the frame loader section 54 is
The frame positioning section 62
It is sent out to The frame feeding section includes a frame pusher 64 that engages with the inner peripheral surface of the frame 4 pushed out from the frame stocker 56 and feeds out the frame 4, and an air cylinder 66 that raises and lowers the frame pusher 64. , an air cylinder 68 for horizontally driving the frame pusher 64, and the like. In the normal state, frame pusher 64 is lowered.

フレーム・ストッカー56からフレーム4が押し出され
ると、エアーシリンダ66が駆動して、フレーム・プッ
シャー64を押し上げて、これをフレーム4の内側に差
し入れ、続いて、エアーシリンダ68が駆動して、フレ
ーム4をフレーム位置決め部62にまで送り出す。
When the frame 4 is pushed out from the frame stocker 56, the air cylinder 66 is driven to push up the frame pusher 64 and insert it into the frame 4, and then the air cylinder 68 is driven to push the frame pusher 64 up and into the frame 4. is sent out to the frame positioning section 62.

フレーム位置決め部62は、送り出されたフレーム4を
位置決めするための2木の位置決めピン70 (但し、
第4図には1本の位置決めピン70だけが現れている)
が設けられている。この位置決めピン70と、フレーム
4のVノツチ4..42が係合することによって、フレ
ーム4が位置決めされる。PH3W5は、位置決めされ
たフレーム4を検出するための光電素子である。
The frame positioning unit 62 has two positioning pins 70 (however,
Only one positioning pin 70 is visible in Fig. 4)
is provided. This positioning pin 70 and the V notch 4 of the frame 4. .. By engaging 42, the frame 4 is positioned. PH3W5 is a photoelectric element for detecting the positioned frame 4.

位置決めされたフレーム4は、フレーム搬送部によって
貼付はテーブル42にまで搬送され、貼付はテーブル4
2のフレーム・チャックテーブル50に載置される。フ
レーム搬送部は、第5図に示すように、フレーム4を吸
着保持するフレーム・チャックアーム72と、このフレ
ーム・チャンファーム72を上昇させるエアーシリンダ
73と、フレーム・チャックアーム72を水平方向に駆
動するためのエアーシリンダ74などから構成されてい
る。VL3は、このフレーム・チャックアーム72の入
/切を行う電磁弁、PUSW3は、フレーム・チャック
アーム72内の圧力低下を検出して○N状態になる圧力
スイッチである。
The positioned frame 4 is transported to the table 42 for pasting by the frame conveying section, and the pasting is carried out by the table 42.
It is placed on the frame chuck table 50 of No. 2. As shown in FIG. 5, the frame transport section includes a frame chuck arm 72 that holds the frame 4 by suction, an air cylinder 73 that raises the frame chuck arm 72, and a horizontal drive of the frame chuck arm 72. It is composed of an air cylinder 74, etc. for VL3 is a solenoid valve that turns on/off the frame/chuck arm 72, and PUSW3 is a pressure switch that detects a decrease in pressure within the frame/chuck arm 72 and enters the N state.

フレーム・チャックテーブル50は、前記フレーム搬送
部によって搬送されたフレーム4を吸着保持する。第5
図に示したVL4は、このフレーム・チャックテーブル
50の入/切を行う電磁弁、PUSW4は、フレーム・
チャックテーブル50内の圧力低下を検出してON状態
になる圧力スイッチである。また、PH3W6は、フレ
ーム・チャックテーブル50上のフレーム4を検出する
光電素子である。
The frame chuck table 50 attracts and holds the frame 4 transported by the frame transport section. Fifth
VL4 shown in the figure is a solenoid valve that turns on/off the frame chuck table 50, and PUSW4 is a solenoid valve that turns on/off the frame chuck table 50.
This is a pressure switch that detects a pressure drop within the chuck table 50 and turns on. Further, PH3W6 is a photoelectric element that detects the frame 4 on the frame chuck table 50.

次に、第1図および第6図に基づいて、テープ供給・巻
き取り機構および粘着テープの切断機構について説明す
る。
Next, a tape supply/winding mechanism and an adhesive tape cutting mechanism will be explained based on FIGS. 1 and 6.

前述した保護フィルム52は、貼付はテーブル42の一
方側に設けられた保護フィルム供給リール76から供給
され、貼付はテーブル42の他方側に設けられた保護フ
ィルム巻き取りリール78によって巻き取られる。
The protective film 52 described above is pasted and supplied from a protective film supply reel 76 provided on one side of the table 42, and pasted and taken up by a protective film take-up reel 78 provided on the other side of the table 42.

符号80は、半導体ウェハ2を貼付けるための粘着テー
プ82を供給する粘着テープ供給リールである。粘着テ
ープ82は、これと同じ幅のセパレータ84と重ね合わ
された状態で粘着テープ供給リール80にセットされて
いる。セパレータ84は、粘着テープ82が粘着面を下
側にして送り出されるときに、粘着テープ82とは別に
セ)iレーク巻き取りリール86によって巻き取られる
Reference numeral 80 is an adhesive tape supply reel that supplies adhesive tape 82 for pasting the semiconductor wafer 2. The adhesive tape 82 is set on the adhesive tape supply reel 80 in a state where it is overlapped with a separator 84 having the same width. The separator 84 is wound up separately from the adhesive tape 82 by a separator take-up reel 86 when the adhesive tape 82 is fed out with the adhesive side facing down.

半導体ウェハ2の貼付けのために使用された粘着テープ
82の残りは残渣テープ巻き取りリール88によって巻
き取られる。
The remainder of the adhesive tape 82 used for pasting the semiconductor wafer 2 is taken up by a residual tape take-up reel 88.

符号90は、上下方向に配設された複数本のローラから
なる貼付はローラユニ・ノドである。第6図に示すよう
に、粘着テープ供給リール80から供給された粘着テー
プ82は、貼付はローラユニット90に’SJの字状に
架は渡され、さらに、貼付はローラユニット90に並設
された剥離ローラユニット92に架は渡されて、残渣テ
ープ巻き取りリール88に巻き取られる。
Reference numeral 90 denotes a roller uni-nod attachment consisting of a plurality of rollers arranged in the vertical direction. As shown in FIG. 6, the adhesive tape 82 supplied from the adhesive tape supply reel 80 is pasted onto a roller unit 90 in a 'SJ' shape, and is further pasted on the roller unit 90 in parallel. The tape is then passed to a peeling roller unit 92 and wound onto a residue tape take-up reel 88 .

第7図に示すように、貼付はローラユニ・ノド90は、
これを水平駆動するエアーシリンダ94のロンド先端部
に結合されている。また、剥離ローラユニット92は、
前記エアーシリンダ94のシリンダ本体に結合されてい
る。貼付はローラユニット90および剥離ローラユニッ
ト92は、それらの上部に設けられたカムホロワ−によ
ってレール96上を摺動するように構成されている。レ
ール96は、その両端部に設けられたエアーシリンダ9
8..98□によって上下動可能に構成されている。貼
付はローラユニット90の下部には、ランク・ピニオン
機構100が設けられており、このラック・ピニオン機
構100は、ブレーキ102、クラッチ104を介して
結合されたモータ106によって駆動されるようになっ
ている。
As shown in FIG. 7, the application roller uni-nod 90 is
It is connected to the tip of an air cylinder 94 that drives this horizontally. Further, the peeling roller unit 92 is
It is coupled to the cylinder body of the air cylinder 94. The pasting roller unit 90 and the peeling roller unit 92 are configured to slide on a rail 96 by means of cam followers provided above them. The rail 96 has air cylinders 9 provided at both ends thereof.
8. .. It is configured to be movable up and down by 98□. A rank and pinion mechanism 100 is provided at the bottom of the roller unit 90, and this rack and pinion mechanism 100 is driven by a motor 106 coupled via a brake 102 and a clutch 104. There is.

上述した貼付はローラユニ・ノド90および剥離ローラ
ユニット92の動作を第7図および第8図によって説明
する。
The above-mentioned pasting operations of the roller unit gutter 90 and the peeling roller unit 92 will be explained with reference to FIGS. 7 and 8.

通常状態において、各ローラユニット90.92は貼付
はテーブル42よりも左側の原点位置にあり、レール9
6は上昇している。また、このときブレーキ102およ
びクラッチ104は解除されている。
In the normal state, each roller unit 90, 92 is attached at the origin position to the left of the table 42, and the rail 9
6 is rising. Further, at this time, the brake 102 and the clutch 104 are released.

貼付は動作を行う場合、エアーシリンダ98゜、98□
が作動してレール96が下降する。そして、剥離ローラ
ユニット92に関連して設けられた図示しないコックが
作動して剥離ローラユニット92を停止状態に維持する
。この状態で、エアーシリンダ94が作動すると貼付は
ローラユニット90だけが水平方向に駆動されて、貼付
はローラが貼付はテーブル42上の粘着テープ82を下
方に押圧しながら転動することによって、粘着テープ8
2と半導体ウェハ2との貼付けが行われる。
When pasting is performed, use an air cylinder 98°, 98□
is activated and the rail 96 is lowered. Then, a cock (not shown) provided in connection with the peeling roller unit 92 is operated to maintain the peeling roller unit 92 in a stopped state. In this state, when the air cylinder 94 is activated, only the roller unit 90 is driven in the horizontal direction, and the roller rolls while pressing the adhesive tape 82 on the table 42 downward, thereby creating an adhesive. tape 8
2 and the semiconductor wafer 2 are attached.

このときクラッチ104は開放されている。At this time, clutch 104 is released.

粘着テープ82の切断後に、残渣テープをフレーム4な
どから剥離する場合、前記剥離ローラユニット92のコ
ックが解除されるとともに、ブレ−キ102が作動する
。この状態で、エアーシリンダ94が作動すると、貼付
はローラユニット90は停止状態を維持するから、剥離
ローラユニット92とエアーシリンダ94とが一体とな
って右方向に水平移動する。剥離ローラユニット92は
水平移動しながら、剥離ローラを回転駆動することによ
って、残渣テープを剥離する。第8図は、このような剥
離動作を終了した時点の各ローラユニット90.92の
位置を示している。
When the residual tape is to be peeled off from the frame 4 or the like after cutting the adhesive tape 82, the cock of the peeling roller unit 92 is released and the brake 102 is activated. In this state, when the air cylinder 94 is operated, the pasting roller unit 90 remains in a stopped state, so the peeling roller unit 92 and the air cylinder 94 move horizontally to the right as one. The peeling roller unit 92 peels off the residual tape by rotating the peeling roller while moving horizontally. FIG. 8 shows the position of each roller unit 90, 92 at the time when such a peeling operation is completed.

剥離動作終了後の各ローラユニソ)90.92の原点復
帰は、次のようにして行われる。
After the peeling operation is completed, each roller 90, 92 returns to its origin in the following manner.

まず、エアーシリンダ9B、、9B□が作動して、レー
ル96を上昇させる。このようにレール96を上昇させ
るのは、原点復帰動作のときに各ローラユニット90.
92が貼付はテーブル42上を転動すると、前述した剥
離動作によって剥離された残渣テープがフレーム4等に
再び接着するからである。レール96が上昇するととも
に、ブレーキ102が解除され、クラッチ104が結合
される。そして、モータ】06が作動してラノク・ビニ
オン機構100が駆動されることにより、貼付はローラ
ユニット90および剥離ローラユニット92が一体とな
って、左方向に水平移動して原点復帰する。
First, the air cylinders 9B, 9B□ are operated to raise the rail 96. Raising the rail 96 in this way is done by each roller unit 90 during the return-to-origin operation.
This is because when the adhesive tape 92 rolls on the table 42, the residual tape peeled off by the above-described peeling operation will adhere to the frame 4 etc. again. As the rail 96 rises, the brake 102 is released and the clutch 104 is engaged. Then, when the motor 06 is operated and the Ranok-Binion mechanism 100 is driven, the pasting roller unit 90 and the peeling roller unit 92 are integrally moved horizontally to the left and returned to the origin.

貼付はテーブル42の上方向には、前述した貼イ」け動
作によって貼付けられた帯状の粘着テープ82をフレー
ム4に沿って円形に切断するだめの粘着テープ切断機構
108が設けられている。この粘着テープ切断機構10
8は、第6図に示すように、貼イ」けテーブル42上の
粘着テープ82を押さえ付けて保持する押さえプレート
110と、押さえプレート110の外周に沿って回転駆
動されるテープカッター112などから構成されている
。押さえプレート110およびテープカッター112は
、一体となって上下方向に移動可能に構成されている。
For pasting, an adhesive tape cutting mechanism 108 is provided above the table 42 for cutting the band-shaped adhesive tape 82 pasted by the above-described pasting operation into a circular shape along the frame 4. This adhesive tape cutting mechanism 10
8, as shown in FIG. 6, a presser plate 110 that presses and holds the adhesive tape 82 on the pasting table 42, a tape cutter 112 that is rotationally driven along the outer periphery of the presser plate 110, etc. It is configured. The pressing plate 110 and the tape cutter 112 are configured to be movable in the vertical direction as a unit.

第6図に示した符号114は、貼付はテーブル42から
マウント・フレーム6を、排出するためのマウント・フ
レームチャックアームである。このマウント・フレーム
チャックアーム114は、前述した剥離ローラユニット
92に取り付けられている。マウント・フレームチャッ
クアーム114は、剥離ローラユニット92の剥離動作
とともに貼付はテーブル42側に移動して、マウント・
フレーム6を吸着保持し、剥離ローラユニット92等の
原点復帰動作によって、マウント・フレーム6を排出搬
送する。なお、第6図に示したVL5は、このマウント
・フレームチャックアーム114の入/切を行う電磁弁
、PUSW5は、マウント・フレームチャックアーム1
14内の圧力低下を検出してON状態になる圧力スイツ
チである。
Reference numeral 114 shown in FIG. 6 is a mount/frame chuck arm for ejecting the mount frame 6 from the attachment table 42. This mount/frame chuck arm 114 is attached to the peeling roller unit 92 described above. The mount/frame chuck arm 114 moves toward the table 42 side with the peeling operation of the peeling roller unit 92, and removes the mount/frame.
The frame 6 is held by suction, and the mount frame 6 is discharged and conveyed by the return-to-origin operation of the peeling roller unit 92 or the like. In addition, VL5 shown in FIG. 6 is a solenoid valve that turns on/off this mount/frame chuck arm 114, and PUSW5 is a solenoid valve that turns on/off the mount/frame chuck arm 114.
This is a pressure switch that turns on when it detects a drop in pressure within the pressure switch 14.

マウント・フレームチャックアーム114によって吸着
保持されたマウント・フレーム6は、前記各ローラユニ
ソ)90.92の原点復帰動作によって、スイング反転
ユニット116にまで搬送される。スイング反転ユニッ
ト116は、第6図および第9図に示すように、搬送さ
れたマウント・フレーム6を保持するクランプ機構11
8の他に、保持したマウント・フレームを水平方向に約
180度スイングするスイング機構120、スイングさ
れたマウント・フレーム6を半導体ウェハ2の表面が上
になるように反転させる反転機構122、反転されたマ
ウント・フレームをヒートステージ126にまで下降さ
せる上下駆動機構124などを備えている。なお、クラ
ンプ機構118に備えられたP HS W 7は、この
クランプ機構118にクランプされたマウント・フレー
ム6を検出する光電素子である。
The mount frame 6 suctioned and held by the mount frame chuck arm 114 is conveyed to the swing reversing unit 116 by the origin return operation of each of the rollers 90 and 92. As shown in FIGS. 6 and 9, the swing reversing unit 116 includes a clamp mechanism 11 that holds the transported mount frame 6.
In addition to 8, there is also a swing mechanism 120 that swings the held mount frame 6 approximately 180 degrees in the horizontal direction, an inversion mechanism 122 that inverts the swung mount frame 6 so that the surface of the semiconductor wafer 2 faces up, and The apparatus includes a vertical drive mechanism 124 for lowering the mount frame to the heat stage 126. Note that the PHS W 7 provided in the clamp mechanism 118 is a photoelectric element that detects the mount frame 6 clamped by the clamp mechanism 118.

ヒートステージ126は、熱収縮性フィルムを支持体と
して用いた粘着テープを使用する場合、加熱することに
よってテープ張力を増大させる目的で設Ljられている
。第9図に示すように、このヒートステージ126に隣
接して、ピー1−ステージ126上のマウント・フレー
ム6を押し出すためのマウント・フレーム押し出し機構
]28と、押し出されたマウント・フレーム6を第1図
に示すフレーム・カセソl−132(132,〜132
4)に搬送する搬送テーブル130が設けられている。
When using an adhesive tape using a heat-shrinkable film as a support, the heat stage 126 is provided for the purpose of increasing the tape tension by heating. As shown in FIG. 9, adjacent to this heat stage 126, there is a mount frame push-out mechanism 28 for pushing out the mount frame 6 on the P1-stage 126, and a Frame cassette l-132 (132, ~132
4) is provided with a transport table 130 for transporting.

搬送テーブル130は、第9図に示すエアーシリンダ1
31によって、水平方向に移動可能に構成されており、
左側のアンローダ部に搬送するための搬送ベルI−13
4と、右側のアンローダ部に搬送するための搬送ベルl
−136に、マウント・フレーム6を振り分けできるよ
うになっている。
The conveyance table 130 includes the air cylinder 1 shown in FIG.
31, it is configured to be movable in the horizontal direction,
Transport bell I-13 for transporting to the left unloader section
4, and a conveyor bell l for conveying to the unloader section on the right side.
-136, the mount frame 6 can be assigned.

なお、第9図に示した、PH3W8はヒートステージ1
26上のマウント・フレーム6を検出する光電素子、P
H3W9はヒートステージ126」二のマウント・フレ
ーム6の押し出しを検出する光電素子、PH3WIOは
搬送テーブル130によるマウント・フレーム6の受は
取りを検出する光電素子である。
In addition, PH3W8 shown in FIG. 9 is heat stage 1.
A photoelectric element for detecting the mounting frame 6 on 26, P
H3W9 is a photoelectric element that detects the extrusion of the mount frame 6 from the heat stage 126, and PH3WIO is a photoelectric element that detects the reception of the mount frame 6 by the transport table 130.

フレーム・カセット132は、複数のマウント・フレー
ム6を水平状態で等間隔に収納するもので、本実施例で
は4個のフレーム・カセット132I〜1324をセン
トできる。フレーム・カセット132..1322は左
側のアンローダ部に、フレーム・カセット132..1
32.は右側のアンローダ部に、それぞれセットされる
。各アンローダ部は、それぞれ上下方向に移動可能に構
成されている。
The frame cassette 132 stores a plurality of mount frames 6 horizontally at equal intervals, and in this embodiment, four frame cassettes 132I to 1324 can be stored. Frame cassette 132. .. 1322 is a frame cassette 132. in the left unloader section. .. 1
32. are set in the right unloader section. Each unloader section is configured to be movable in the vertical direction.

第1図に示す、符号138は操作盤である。この操作盤
138には、装置のエラーの種類に対応したコードを表
示する3桁の7セグメントLEDや操作キーなどが設け
られている。また、符号140は、自動運転動作やエラ
ー発生などを表示するパトライトである。
Reference numeral 138 shown in FIG. 1 is an operation panel. The operation panel 138 is provided with a three-digit, seven-segment LED that displays a code corresponding to the type of error in the device, operation keys, and the like. Further, reference numeral 140 is a patrol light that displays automatic driving operations, error occurrences, and the like.

次に、本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は装置の
制御系の構成を第11図に基づいて説明する。
Next, the configuration of the control system of the apparatus for automatically attaching semiconductor wafers according to this embodiment will be explained based on FIG. 11.

制御部142は、CPU144.ROM14.6゜RA
MI 48.操作盤コントローラ150.センサーコン
1−ローラ152.アクチュエータコントローラ154
.パルスモータコントローラ156などから構成されて
いる。CPU144ば、ROM146に格納された処理
プログラムに従って、装置全体の制御を行う。RAM1
48には、貼付けされる半導体ウェハの大きさなどのデ
ータや処理条件が書き込まれる。操作盤コン1−ローラ
150は操作盤138を、センザーコントローラ152
は本装置に備えられた圧力スイツチや光電素子などの各
種のセンザ一群158を、アクチュエータコントローラ
154は本装置に備えられたモータやエアーシリンダな
どの各種のアクチュエータ群160を、パルスモータコ
ントローラ156はアライメント・テーブル20を回転
駆動するパルスモータ24をそれぞれ制御するものであ
る。
The control unit 142 includes a CPU 144. ROM14.6゜RA
MI 48. Operation panel controller 150. Sensor controller 1-roller 152. Actuator controller 154
.. It is composed of a pulse motor controller 156 and the like. The CPU 144 controls the entire apparatus according to a processing program stored in the ROM 146. RAM1
48, data such as the size of the semiconductor wafer to be attached and processing conditions are written. The operation panel controller 1-roller 150 connects the operation panel 138 to the sensor controller 152.
represents a group 158 of various sensors such as pressure switches and photoelectric elements provided in this device, an actuator controller 154 represents a group 160 of various actuators such as motors and air cylinders provided in this device, and a pulse motor controller 156 controls alignment. - Control the pulse motors 24 that rotate the table 20.

次に、上述した構成を備えた半導体ウェハの自動貼付は
装置の動作を、第12図に示した動作フローチャートに
従って説明する。
Next, the operation of the automatic semiconductor wafer bonding apparatus having the above-described configuration will be explained according to the operation flowchart shown in FIG.

本装置の各部が原点に復帰しており、また、ウェハ・ロ
ーダ部およびアンローダ部にそれぞれウェハ・カセット
8およびフレーム・カセット132が装着された状態で
、本装置が始動されると、まず、ウェハ・カセット8が
装着された一方側のウェハ・ローダ部が下降する(ステ
ップ32)。
When the apparatus is started with each part of the apparatus having returned to its original position and with the wafer cassette 8 and frame cassette 132 installed in the wafer loader section and unloader section, respectively, the wafer - The wafer loader section on one side with the cassette 8 mounted is lowered (step 32).

このウェハ・ローダ部に備えられたウェハ検出器によっ
て、ウェハ・カセット8内の半導体ウェハ2が検出され
たか否かが確認される(ステップS4)。
It is confirmed whether the semiconductor wafer 2 in the wafer cassette 8 has been detected by the wafer detector provided in the wafer loader section (step S4).

半導体ウェハ2が検出されると1般送ヘルド16が駆動
され、ウェハ・ローダ部に備えられたウェハ押し出し機
構10または12によって、前記検出された半導体ウェ
ハ2がウェハ・カセソt・8内から押し出される(ステ
ップS8)。押し出された半導体ウェハ2は、搬送ベル
ト16に乗って半導体ウェハ位置合わせ部14へ搬送さ
れる。
When the semiconductor wafer 2 is detected, the primary general transport heald 16 is driven, and the detected semiconductor wafer 2 is pushed out from inside the wafer cassette t8 by the wafer pushing mechanism 10 or 12 provided in the wafer loader section. (Step S8). The extruded semiconductor wafer 2 is conveyed to the semiconductor wafer alignment section 14 on the conveyor belt 16 .

そして、アライメント・テーブル20が半導体ウェハ2
を受は取ったか否かが確認される(ステップ510)。
Then, the alignment table 20 is aligned with the semiconductor wafer 2.
It is checked whether the receipt has been received (step 510).

半導体ウェハ2の受は取りの確認は、第13図に示すよ
うに、アライメン1−・テーブル20の近傍に設けられ
た光電素子PH3WIIによって検出される。一定時間
経過後アライメント・テーブル20が半導体ウェハ2を
受は取らなかった場合は、エラー表示■が行われ(ステ
ップ512)、パトライl−140のエラー表示ライI
・が点灯するとともに、操作盤138の7セグメン1−
 L E Dが、このエラーに対応したコードを表示す
る。
Confirmation that the semiconductor wafer 2 has been received is detected by a photoelectric element PH3WII provided near the alignment table 20, as shown in FIG. If the alignment table 20 does not pick up the semiconductor wafer 2 after a certain period of time has elapsed, an error display ■ is performed (step 512), and the error display line I of the patrol l-140 is displayed.
・ lights up, and the 7 segment 1- on the operation panel 138
The LED will display the code corresponding to this error.

アライメント・テーブル20が半導体ウェハ2を受は取
ったことが確認されると、このアライノ=24− ント・テーブル20が上昇する(ステップ514)。そ
して、中心位置合わせ板22.,22□が駆動して、こ
の半導体ウェハ2の中心の割り出しを行う(ステップ5
16)。半導体ウェハ2の中心が割り出されると、アラ
イメント・テーブル20の真空ヂャソクが作動して、こ
の半導体ウェハ2が吸着される(ステップ818)。そ
して、前記真空チャックに関連して設けられた圧力スイ
ツチPUSWIによって、半導体ウェハ2が確実に吸着
されているか否か力蝙信忍される(ステップ520)。
When it is confirmed that the alignment table 20 has received the semiconductor wafer 2, the alignment table 20 is raised (step 514). And center alignment plate 22. , 22□ are driven to index the center of this semiconductor wafer 2 (step 5).
16). Once the center of the semiconductor wafer 2 is determined, the vacuum holder of the alignment table 20 is operated to attract the semiconductor wafer 2 (step 818). Then, a pressure switch PUSWI provided in connection with the vacuum chuck checks whether or not the semiconductor wafer 2 is reliably chucked (step 520).

半導体ウェハ2の吸着が確認されると、その半導体ウェ
ハ2のオリエンテーションフラットOFの位置合わゼが
行われる(ステップ524)。
When the suction of the semiconductor wafer 2 is confirmed, the orientation flat OF of the semiconductor wafer 2 is aligned (step 524).

以下、このステップにおいて行われる、半導体ウェハの
オリエンテーションフラソ1の位置合わせの手順を第1
3図および第14図に基づいて説明する。
Hereinafter, the procedure for positioning the semiconductor wafer orientation flask 1 performed in this step will be explained as follows.
This will be explained based on FIG. 3 and FIG. 14.

第13図は、中心位置合わせ板22.,22□によって
中心割り出しされた半導体ウェハ2が、アライメント・
テーブル20によって吸着された状態を示している。オ
リエンテーションフラットOFの端部は、半導体ウェハ
2の大きさに応じて適宜に選択された光電素子PH3W
I、2.3の中の一つによって検出される。この図では
、便宜的に光電素子PH3W1のみを示している。光電
素子PH3WIは、アライメント・テーブル20の中心
から半導体ウェハ2の半径よりも若干内側に位置して設
けられている。光電素子PH3WIの出力は、パルスモ
ーク24をコントロールするパルスモータコントローラ
156に直接に与えられる。パルスモータコントローラ
156は、光電素子P HS W 1の検出信号によっ
てパルスモータ24を停止させるように構成されている
。また、パルスモータコントローラ156はCPU14
4からの指令に基づいて、パルスモータ24に回転量を
出力するとともに、パルスモータ24が停止状態になる
までの回転量をCPU144に与える。
FIG. 13 shows the center alignment plate 22. , 22□, the semiconductor wafer 2 is aligned and centered.
A state in which the table 20 has been adsorbed is shown. The end of the orientation flat OF is provided with a photoelectric element PH3W that is appropriately selected according to the size of the semiconductor wafer 2.
I, 2.3. In this figure, only the photoelectric element PH3W1 is shown for convenience. The photoelectric element PH3WI is located slightly inside the radius of the semiconductor wafer 2 from the center of the alignment table 20. The output of the photoelectric element PH3WI is directly given to a pulse motor controller 156 that controls the pulse smoke 24. The pulse motor controller 156 is configured to stop the pulse motor 24 in response to a detection signal from the photoelectric element P HS W 1. Further, the pulse motor controller 156 is controlled by the CPU 14.
Based on the command from 4, the rotation amount is output to the pulse motor 24, and the rotation amount until the pulse motor 24 comes to a stop state is given to the CPU 144.

第14図は、オリエンテーションフラットOFの位置合
わせ動作のフローチャートである。以下、これに基づい
て説明する。
FIG. 14 is a flowchart of the alignment operation of the orientation flat OF. The following explanation will be based on this.

半導体ウェハ2がアライメント・テーブル20に吸着保
持されると、CPU144はパルスモータ24を例えば
、反時計方向に360°だけ回転させる回転量を設定し
くステップ5130)、これをパルスモータコントロー
ラ156を介してパルスモータ24に出力する(ステッ
プS 132)。
When the semiconductor wafer 2 is suctioned and held on the alignment table 20, the CPU 144 sets a rotation amount for rotating the pulse motor 24 by 360 degrees counterclockwise (step 5130), and controls this via the pulse motor controller 156. It outputs to the pulse motor 24 (step S132).

これにより、半導体ウェハ2がパルスモータ24によっ
て回転される。そして、オリエンテーションフラン)O
Fの一方端が光電素子P HS W 1によって検出さ
れると、その検出信号がパルスモータコントローラ15
6に与えられて、パルスモータ24が停止する。
Thereby, the semiconductor wafer 2 is rotated by the pulse motor 24. And orientation franc)O
When one end of F is detected by the photoelectric element P HS W 1, the detection signal is sent to the pulse motor controller 15.
6, the pulse motor 24 is stopped.

ステップ5132の糸冬了後、CPU14.4は、パル
スモータ24が停止したか否かを監視している(ステッ
プ3134)。
After the winter is finished in step 5132, the CPU 14.4 monitors whether the pulse motor 24 has stopped (step 3134).

パルスモータ24が停止したことを確認すると、CPU
144は、パルスモータ24を時計方向に360°回転
させる回転量を設定しくステップ5136)、これをパ
ルスモークコントローラ156を介してパルスモータ2
4に出力する(ステップ5138)。これにより、半導
体ウェハ2が時計方向に回転される。そして、オリエン
テーションフラットOFの他端が光電素子PH3WIに
よって検出されると、その検出信号がパルスモータコン
トローラ156に与えられて、パルスモータ24が停止
する。
After confirming that the pulse motor 24 has stopped, the CPU
144 sets the amount of rotation for rotating the pulse motor 24 clockwise 360 degrees (step 5136), and controls this via the pulse smoke controller 156 to
4 (step 5138). As a result, the semiconductor wafer 2 is rotated clockwise. Then, when the other end of the orientation flat OF is detected by the photoelectric element PH3WI, the detection signal is given to the pulse motor controller 156, and the pulse motor 24 is stopped.

CP U 1−44は、パルスモータ24の停止を確認
すると(ステップ5140)、そのときの時計方向の回
転量θを読み込む(ステップ5142)。
When the CPU 1-44 confirms that the pulse motor 24 has stopped (step 5140), it reads the clockwise rotation amount θ at that time (step 5142).

そして、パルスモータ24を反時計方向にθ/2だけ回
転させる回転量を設定しくステップ5144)、これを
パルスモータコントローラ156を介してパルスモータ
24に出力する。これにより、半導体ウェハ2は反時計
方向にθ/2回転される。
Then, a rotation amount for rotating the pulse motor 24 counterclockwise by θ/2 is set (step 5144), and this is output to the pulse motor 24 via the pulse motor controller 156. As a result, the semiconductor wafer 2 is rotated counterclockwise by θ/2.

このような処理により、アライメント・テーブル20の
中心と光電素子PH3WIとを結ぶ方向に対して、オリ
エンテーションフラットOFが直角に交わる位置で、半
導体ウェハ2が停止する。
Through such processing, the semiconductor wafer 2 is stopped at a position where the orientation flat OF intersects at right angles to the direction connecting the center of the alignment table 20 and the photoelectric element PH3WI.

以上がオリエンテーションフラットOFの位置合わせの
基本的手順であるが、半導体ウェハ2の機種に応じて、
半導体ウェハ2を更に906回転あるいは180°回転
して、最終的な位置決めを完了することもある。
The above is the basic procedure for aligning the orientation flat OF, but depending on the model of the semiconductor wafer 2,
Final positioning may be completed by further rotating the semiconductor wafer 2 by 906 rotations or 180 degrees.

以下、第12図に戻って本装置の動作説明を続ける。Hereinafter, referring back to FIG. 12, the explanation of the operation of this device will be continued.

オリエンテーションフラットOFの位置合わせが終了す
ると、再度、半導体ウェハ2の吸着の有無を確認する(
ステップ826)。これは、オリエンテーションフラッ
トOFの位置合わせ動作の際に、半導体ウェハ2がアラ
イメント・テーブル20から離脱することも考えられる
からである。
When the alignment of the orientation flat OF is completed, check again whether or not the semiconductor wafer 2 is attracted (
step 826). This is because the semiconductor wafer 2 may come off from the alignment table 20 during the alignment operation of the orientation flat OF.

そして、このステップS26で、吸着されていないこと
が検出されると、前述したステップS22に進んでエラ
ー表示■を行う。
If it is detected in this step S26 that the object is not attracted, the process proceeds to step S22 described above and an error display (2) is displayed.

ところで、前述したステップS14が終了した後、ステ
ップ316に移行するとともに、ステップ328に移行
する。これにより、反転フォーク40が前進し、アライ
メント・テーブル20に吸着された半導体ウェハ2の下
方に挿入した状態で停止する。
By the way, after the above-mentioned step S14 is completed, the process moves to step 316 and also moves to step 328. As a result, the reversing fork 40 moves forward and stops while being inserted below the semiconductor wafer 2 that is attracted to the alignment table 20.

反転フォーク40が半導体ウェハ2の下方に挿入された
後、アライメント・テーブル20が下降する(ステップ
530)。アライメント・テーブル20が下降すると同
時に、アライメント・テーブル20の吸着が解除され、
反転フォーク40の真空チャックが作動する。これによ
り、アライメント・テーブル20上の半導体ウェハ2が
、反転フォーク40に移って吸着保持される。
After the reversing fork 40 is inserted below the semiconductor wafer 2, the alignment table 20 is lowered (step 530). At the same time as the alignment table 20 is lowered, the suction of the alignment table 20 is released,
The vacuum chuck of the reversing fork 40 is activated. As a result, the semiconductor wafer 2 on the alignment table 20 is moved to the reversing fork 40 and held there by suction.

そして、反転フォーク40が半導体ウェハ2を確実に吸
着したか否かが確認される(ステップ532)。吸着の
有無は、反転フォーク40の真空チャックに関連して設
けられた圧力スイツチPUSW2からの検出信号に基づ
いて判断される。吸着が行われていない場合は、エラー
表示■を行い(ステップ534)、パトライト140の
エラー表示ライトが点灯するとともに、操作盤138の
7セグメントLEDが、このエラーに対応したコードを
表示する。
Then, it is checked whether the reversing fork 40 has reliably attracted the semiconductor wafer 2 (step 532). The presence or absence of suction is determined based on a detection signal from a pressure switch PUSW2 provided in connection with the vacuum chuck of the reversing fork 40. If suction has not been performed, an error display (2) is performed (step 534), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED of the operation panel 138 displays a code corresponding to this error.

半導体ウェハ2が反転フォーク40に確実に吸着されて
いる場合、反転フォーク40が反転する(ステップ53
6)。そして、反転フォーク40が、所定の反転位置に
あるか否かが確認される(ステップ838)。反転フォ
ーク40の反転の有無は、この反転フォーク40に関連
して設けられた光電素子PH3W4の検出信号に基づい
て判断される。反転フォーク40が所定位置にまで反転
していない場合、エラー表示■を行い(ステップ540
)、パトライト140のエラー表示ライトが点灯すると
ともに、操作盤138の7セグメントLEDが、このエ
ラーに対応したコードを表示する。
When the semiconductor wafer 2 is reliably attracted to the reversing fork 40, the reversing fork 40 is reversed (step 53).
6). Then, it is confirmed whether the reversing fork 40 is at a predetermined reversing position (step 838). Whether or not the reversing fork 40 is reversed is determined based on the detection signal of the photoelectric element PH3W4 provided in relation to the reversing fork 40. If the reversing fork 40 has not been reversed to the predetermined position, an error message ■ is displayed (step 540).
), the error indicator light on the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED on the operation panel 138 displays a code corresponding to this error.

反転フォーク40が正しく反転されている場合には、再
び、半導体ウェハ2の吸着の確認を行い(ステップ54
1)、吸着されていない場合には前述したエラー表示■
を行う(ステップ534)。
If the reversing fork 40 is correctly reversed, the suction of the semiconductor wafer 2 is confirmed again (step 54).
1) If it is not absorbed, the above error message will be displayed.
(step 534).

半導体ウェハ2の吸着が確認されると、反転フォーク4
0が貼付はテーブル42側に後退する(ステップ542
)。そして、反転フォーク40は、半導体ウェハ2の吸
着を解除して、移送した半導体ウェハを、保護フィルム
52に覆われたウェハ・チャックテーブル48上に移す
(ステップ544)。ウェハ・チャックテーブル48に
移された半導体ウェハ2は、その裏面が上になっている
When the semiconductor wafer 2 is confirmed to be attracted, the reversing fork 4
0 is pasted and retreats to the table 42 side (step 542
). Then, the reversing fork 40 releases the suction of the semiconductor wafer 2 and transfers the transferred semiconductor wafer onto the wafer chuck table 48 covered with the protective film 52 (step 544). The semiconductor wafer 2 transferred to the wafer chuck table 48 has its back side facing up.

一方、前述したステップS4において半導体ウェハ2が
検出されると、ステップS8に移行するとともに、ステ
ップS46に移行する。これにより、フレーム・ストッ
カー56に収納されたフレーム4が、フレーム押し出し
機構によって押し出される。そして、フレーム・ストッ
カー56とフレーム位置決め部62との搬送経路途中に
設けられたフレーム・プッシャー64が上昇しくステッ
プ348)、押し出されたフレーム4の内側に係合した
状態で前進する(ステップ550)。これにより、フレ
ーム4はフレーム位置決め部62に送り出され、フレー
ム4の■ノツチ41,4□が、フレーム位置決め部62
に設けられた位置決めピン70に係合することによって
、フレーム4の位置決めが行われる。
On the other hand, if the semiconductor wafer 2 is detected in step S4 described above, the process moves to step S8 and then moves to step S46. As a result, the frame 4 stored in the frame stocker 56 is pushed out by the frame push-out mechanism. Then, the frame pusher 64 provided in the middle of the conveyance path between the frame stocker 56 and the frame positioning section 62 rises (step 348), and moves forward while engaging the inside of the pushed-out frame 4 (step 550). . As a result, the frame 4 is sent out to the frame positioning section 62, and the notches 41 and 4□ of the frame 4 are moved to the frame positioning section 62.
The frame 4 is positioned by engaging with a positioning pin 70 provided in the frame 4 .

そして、フレーム4が確実に位置決めされたが否かが確
認される(ステップ552)。これは、フレーム位置決
め部62に設けられた光電素子PH5W5の検出信号に
基づいて判断される。フレーム4が位置合わせされてい
ない場合は、エラー表示■を行い(ステップ354)、
パトライト140のエラー表示ライトが点灯するととも
に、操作盤138の7セグメントLEDが、このエラー
に対応したコードを表示する。
Then, it is confirmed whether or not the frame 4 has been reliably positioned (step 552). This is determined based on the detection signal of the photoelectric element PH5W5 provided in the frame positioning section 62. If frame 4 is not aligned, an error message ■ is displayed (step 354),
The error indicator light on the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED on the operation panel 138 displays a code corresponding to this error.

フレーム4の位置決めが行われている場合、そのフレー
ム4を貼付はテーブル42にまで搬送するフレーム・チ
ャンクアーム72が下降しくステップ556)、位置決
めされたフレーム4を吸着する(ステップ858)。次
に、フレーム・チャックアーム72がフレーム4を吸着
したか否がが確認される(ステップ560)。これは、
フレーム・チャックアーム72に関連して設けられた圧
力スイッチPUSW3の検出信号に基づいて判断される
。フレーム4が吸着されていない場合は、エラー表示■
を行い(ステップ562)、パトライト140のエラー
表示ライトが点灯するとともに、操作盤138の7セグ
メントL E Dが、このエラーに対応したコードを表
示する。
If the frame 4 has been positioned, the frame chunk arm 72 that conveys the frame 4 to the table 42 descends (step 556) and adsorbs the positioned frame 4 (step 858). Next, it is confirmed whether the frame chuck arm 72 has attracted the frame 4 (step 560). this is,
The determination is made based on the detection signal of the pressure switch PUSW3 provided in relation to the frame chuck arm 72. If frame 4 is not adsorbed, an error message appears■
is carried out (step 562), and the error display light of the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED of the operation panel 138 displays a code corresponding to this error.

フレーム4が吸着されていることが確認されると、フレ
ーム・チャックアーム72が上昇する(ステップ564
)。そして、再び、フレーム4が吸着されていることを
確認しくステップ565)、吸着されていない場合は前
述したエラー表示■を行う(ステップ562)。フレー
ム4の吸着が確認されると、フレーム・チャックアーム
72は貼付はテーブル42にまで移動する(ステップ8
66)。そして、フレーム・チャックアーム72が下降
して、フレーム4をフレーム・チャックテーブル50に
移す(ステップ567)。
When it is confirmed that the frame 4 is attracted, the frame chuck arm 72 is raised (step 564).
). Then, it is checked again that frame 4 has been attracted (step 565), and if it has not been attracted, the above-mentioned error display (2) is performed (step 562). When adsorption of the frame 4 is confirmed, the frame chuck arm 72 moves to the attachment table 42 (step 8).
66). Then, the frame chuck arm 72 descends and transfers the frame 4 to the frame chuck table 50 (step 567).

フレーム4の移載が確認されると、フレーム・チャック
テーブル50が作動して、載置されたフレーム4を吸着
保持する(ステップ570)。そして、フレーム・チャ
ックテーブル50がフレーム4を確実に吸着しているか
否かが確認される(ステップ571)。これは、フレー
ム・チャックテーブル50に関連して設けられた圧力ス
イツチPUSW4の検出信号に基づいて判断される。
When the transfer of the frame 4 is confirmed, the frame chuck table 50 is operated to suction and hold the placed frame 4 (step 570). Then, it is confirmed whether the frame chuck table 50 is reliably sucking the frame 4 (step 571). This is determined based on the detection signal of the pressure switch PUSW4 provided in relation to the frame chuck table 50.

フレーム4が吸着されていない場合は、エラー表示■を
行い(ステップ572)、パトライト140のエラー表
示ライトが点灯するとともに、操作盤138の7セグメ
ントL E Dが、このエラーに対応したコードを表示
する。
If the frame 4 is not attracted, an error display ■ is displayed (step 572), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED of the operation panel 138 displays a code corresponding to this error. do.

フレーム4がフレーム・チャックテーブル50に吸着さ
れていることを確認するとフレーム・チャックアーム7
2の吸着を解除しくステップ573)、フレーム・チャ
ックアーム72が上昇する(ステップ574)。
After confirming that the frame 4 is attracted to the frame/chuck table 50, the frame/chuck arm 7
In order to release the suction of the frame chuck arm 72 (step 573), the frame chuck arm 72 rises (step 574).

以上のステップによって、貼付はテーブル42に半導体
ウェハ2およびフレーム4がセットされる。
Through the above steps, the semiconductor wafer 2 and frame 4 are set on the attachment table 42.

フレーム・チャックアーム72が上昇すると、貼付はロ
ーラユニット90が下降する(ステップ575)。これ
により、貼付はローラユニット90に架は渡された粘着
テープ82も下降して、この粘着テープ82はウェハ・
チャックテーブル4=35− 8上の半導体ウェハ2の裏面に当接する。貼付はローラ
ユニット90が下降すると、この貼付はローラユニット
90は貼付はテーブル42に向かって水平移動する。こ
れにより、貼付はローラユニット90の貼付はローラが
、半導体ウェハ2の裏面に当接した粘着テープ82の上
を転がりながら、軽く押圧し、半導体ウェハ2と粘着テ
ープ82とフレーム4との貼付けを行う (ステップ8
76)。
When the frame chuck arm 72 is raised, the pasting roller unit 90 is lowered (step 575). As a result, the adhesive tape 82 placed on the roller unit 90 also descends, and this adhesive tape 82 is attached to the wafer.
The chuck table 4 comes into contact with the back surface of the semiconductor wafer 2 on the 35-8. When the pasting roller unit 90 is lowered, the pasting roller unit 90 moves horizontally toward the pasting table 42. As a result, the roller of the roller unit 90 presses lightly while rolling on the adhesive tape 82 that is in contact with the back surface of the semiconductor wafer 2, and the semiconductor wafer 2, the adhesive tape 82, and the frame 4 are attached. Do (Step 8
76).

半導体ウェハ2と粘着テープ82とフレーム4との貼付
けが終了すると、押さえプレート110とテープカッタ
ー112とが下降し、押さえプレート110はフレーム
4上の粘着テープ82を押圧保持する。そして、テープ
カッター112が、押さえプレー1−110の周囲を1
回転することによって、フレーム4の外形よりも若干小
さくなるように、粘着テープ82を切断する(ステップ
378)。
When the attachment of the semiconductor wafer 2, adhesive tape 82, and frame 4 is completed, the presser plate 110 and tape cutter 112 are lowered, and the presser plate 110 presses and holds the adhesive tape 82 on the frame 4. Then, the tape cutter 112 cuts around the holding play 1-110.
By rotating the adhesive tape 82, the adhesive tape 82 is cut to be slightly smaller than the outer shape of the frame 4 (step 378).

粘着テープ82の切断が終了すると、ウェハ・チャック
テーブル48が下降しくステップ580)、保護フィル
ム巻き取りリール78が駆動し−36= て保護フィルム52を巻き取るとともに、新しい保護フ
ィルム52をウェハ・チャックテーブル48上に引き出
す(ステップ582)。
When the cutting of the adhesive tape 82 is completed, the wafer chuck table 48 is lowered (step 580), the protective film take-up reel 78 is driven to wind up the protective film 52, and the new protective film 52 is placed on the wafer chuck. It is pulled out onto the table 48 (step 582).

一方、粘着テープ82の切断が終了すると、剥離ローラ
ユニット92が貼付はテーブル42側に向かって水平方
向に移動する。これにより、フレーム4の周辺部に貼付
いている粘着テープ82の残渣を、フレーム4から剥離
する(ステップ584)。
On the other hand, when the cutting of the adhesive tape 82 is completed, the peeling roller unit 92 moves horizontally toward the adhesion table 42 side. As a result, the residue of the adhesive tape 82 stuck to the periphery of the frame 4 is peeled off from the frame 4 (step 584).

粘着テープの剥離が終わると、貼付はテーブル42上の
マウント・フレーム6を排出するためのマウント・フレ
ームチャックアーム114が下降しくステップ586)
。マウント・フレーム6を吸着する(ステップ588)
。そして、マウント・フレーム6が確実に吸着されたか
否かが確認される(ステップ590)。これは、マウン
ト・フレームチャックアーム114に関連して設けられ
た圧力スイツチPUSW5の検出信号に基づいて判断す
る。マウント・フレーム6が吸着されていない場合はエ
ラー表示Xを行い(ステップS92)、パトライト14
0のエラー表示ライトが点灯するとともに、操作盤13
8の7セグメントl7EDが、このエラーに対応したコ
ードを表示する。
Once the adhesive tape has been peeled off, the mount/frame chuck arm 114 is lowered to eject the mount frame 6 on the table 42 (step 586).
. Attach the mount frame 6 (step 588)
. Then, it is confirmed whether the mount frame 6 has been reliably attracted (step 590). This is determined based on the detection signal of the pressure switch PUSW5 provided in connection with the mount/frame chuck arm 114. If the mount frame 6 is not attracted, an error message X is displayed (step S92), and the patrol light 14
0 error display light lights up and the operation panel 13
The 7 segment l7ED of 8 displays the code corresponding to this error.

マウント・フレーム6が吸着されていることが確認され
ると、マウント・フレームチャックアーム114が上昇
する(ステップ594)。マウント・フレームチャック
アーム114が上昇した後、再び、マウント・フレーム
6の吸着を確認しくステップ595)、吸着されていな
い場合にはエラー表示Xを行う(ステップ592)。マ
ウント・フレーム6の吸着を確認すると、貼付はテーブ
ル42にまで移動している貼付はローラユニット90お
よび剥離ローラユニット92が元の位置(原点)にまで
戻る(ステップ896)。貼付はローラユニット90お
よび剥離ローラユニット92が原点復帰するとともに、
マウント・フレーム6を吸着したマウント・フレームチ
ャックアーム114もスイング反転ユニット116方向
に移動する(ステップ898)。そして、マウント・フ
レームチャ、ファーム114がスイング反転ユニット1
16のクランプ機構118にマウント・フレーム6の一
端を挿入する位置にまで移動したところで、再び、マウ
ント・フレーム6の吸着を確認しくステップ599)、
吸着されていない場合にはエラー表示Xを行う (ステ
ップ592)。
When it is confirmed that the mount frame 6 is attracted, the mount frame chuck arm 114 is raised (step 594). After the mount/frame chuck arm 114 is raised, check again whether the mount/frame 6 is attracted (step 595), and if it is not attracted, an error message X is displayed (step 592). When the suction of the mount frame 6 is confirmed, the pasting roller unit 90 and the peeling roller unit 92, which have moved to the pasting table 42, return to their original positions (origins) (step 896). For pasting, the roller unit 90 and peeling roller unit 92 return to their origin, and
The mount/frame chuck arm 114 that has attracted the mount frame 6 also moves toward the swing reversing unit 116 (step 898). Then, the mount flamecha, farm 114 is the swing reversal unit 1
After moving to the position where one end of the mount frame 6 is inserted into the clamp mechanism 118 of 16, check again that the mount frame 6 is attracted (step 599).
If it is not absorbed, an error message X is displayed (step 592).

マウント・フレーム6の吸着が確認されると、スイング
反転ユニット116のクランプ機構118が閉じてマウ
ント・フレーム6をクランプする(ステップ5100)
。そして、マウント・フレーム6が確実にクランプされ
ているか否かを確認する(ステップ5102)。これは
、前記クランプ機構118に備えられた光電素子PH3
W7の検出信号に基づいて判断する。マウント・フレー
ム6がクランプされていない場合は、エラー表示XTを
行い(ステップ5104)、パトライト140のエラー
表示ライトが点灯するとともに、操作盤138の7セグ
メントLEDが、このエラーに対応したコードを表示す
る。
When adsorption of the mount frame 6 is confirmed, the clamp mechanism 118 of the swing reversing unit 116 closes and clamps the mount frame 6 (step 5100).
. Then, it is confirmed whether the mount frame 6 is securely clamped (step 5102). This is due to the photoelectric element PH3 provided in the clamp mechanism 118.
The determination is made based on the detection signal of W7. If the mount frame 6 is not clamped, an error display XT is performed (step 5104), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED of the operation panel 138 displays a code corresponding to this error. do.

マウント・フレーム6がクランプされていることを確認
すると、スイング反転ユニット116は、水平方向に約
180度スイングしくステップ5106)、再び、マウ
ント・フレーム6のクランプを確認する(ステップS 
107)。クランプされていない場合はエラー表示XI
を行う(ステップS 104)。マウント・フレーム6
のクランプが確認されると、半導体ウェハ2の表面が上
になるようにマウント・フレーム6を反転させる(ステ
ップ5108)。そして、もう一度、マウント・フレー
ム6のクランプを確認しくステップ5IO9)、クラン
プされていない場合にはエラー表示xrを行う (ステ
ップ5104)。
After confirming that the mount frame 6 is clamped, the swing reversing unit 116 swings approximately 180 degrees in the horizontal direction (Step 5106), and confirms that the mount frame 6 is clamped again (Step S).
107). If not clamped, error display XI
(Step S104). Mount frame 6
When the clamping is confirmed, the mount frame 6 is turned over so that the surface of the semiconductor wafer 2 faces upward (step 5108). Then, check once again whether the mount frame 6 is clamped (Step 5IO9), and if it is not clamped, an error message xr is displayed (Step 5104).

マウント・フレーム6のクランプが確認されると、ヒー
トステージ126上に他のマウント・フレーム6が無い
ことを確認する(ステップ5llO)。これは、ヒート
ステージ126に設けられた光電素子PH3W8の検出
信号に基づいて行われる。ヒートステージ126に他の
マウント・フレーム6があれば、エラー表示X■を行い
(ステップ5ill)、パトライト140のエラー表示
ライトが点灯するとともに、操作盤138の7セグメン
トL E Dが、このエラーに対応したコードを表示す
る。
When the clamping of the mount frame 6 is confirmed, it is confirmed that there is no other mount frame 6 on the heat stage 126 (step 5llO). This is performed based on the detection signal of the photoelectric element PH3W8 provided on the heat stage 126. If there is another mount frame 6 on the heat stage 126, an error display X is displayed (step 5ill), the error display light of the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED of the operation panel 138 indicates this error. Display the corresponding code.

ヒートステージ126に他のマウント・フレーム6が無
いことが確認されると、スイング反転ユニット116は
下降しくステップ5112)、マウント・フレーム6が
ヒートステージ126」二にまで来たところで、クラン
プ機構118が解放する(ステップ5113)。これに
よって、マウント・フレーム6はヒートステージ126
に移される。
When it is confirmed that there is no other mount frame 6 on the heat stage 126, the swing reversing unit 116 is lowered (step 5112), and when the mount frame 6 reaches the second part of the heat stage 126, the clamp mechanism 118 is lowered. Release (step 5113). With this, the mount frame 6 is attached to the heat stage 126.
will be moved to

ヒートステージ126に移されたマウント・フレーム6
は、ここで加熱される(ステップ5l14)。これによ
り、マウント・フレーム6の粘着テープが収縮して、そ
のテープ張力を強くする。
Mount frame 6 transferred to heat stage 126
is heated here (step 5l14). This causes the adhesive tape on the mount frame 6 to contract, increasing the tape tension.

ただし、このような弛み除去を必要としない場合、この
ステップ5114は省略される。
However, if such slack removal is not required, this step 5114 is omitted.

(以下、余白) マウント・フレーム6の加熱を終了すると、マウント・
フレーム押し出し機構128が作動して、ヒートステー
ジ126上のマウント・フレームを押し出す(ステップ
5116)。そして、マウント・フレーム6がヒートス
テージ126から押し出されたか否かが確認される(ス
テップ5l18)。これは、ヒートステージ126の端
部に設けられた光電素子PH3W9の検出信号に基づい
て判断する。マウント・フレーム6の押し出しが行われ
ていない場合はエラー表示X■を行い(ステップ512
0)、パトライト140のエラー表示ライトが点灯する
とともに、操作盤138の7セグメントLEDが、この
エラーに対応したコードを表示する。
(Hereinafter, blank space) After heating the mount frame 6, the mount
Frame pushing mechanism 128 is activated to push out the mounting frame on heat stage 126 (step 5116). Then, it is confirmed whether the mount frame 6 has been pushed out from the heat stage 126 (step 5l18). This is determined based on the detection signal of the photoelectric element PH3W9 provided at the end of the heat stage 126. If the mount frame 6 has not been pushed out, an error message X is displayed (step 512).
0), the error indicator light on the patrol light 140 lights up, and the 7-segment LED on the operation panel 138 displays a code corresponding to this error.

ヒートステージ126から押し出されたマウント・フレ
ーム6は、アンローダ部に搬送するための搬送テーブル
130に乗る。そして、この搬送テーブル130に設け
られた光電素子PH3W10によって、マウント・フレ
ーム6が搬送テーブル130に受は取られたか否かを確
認する(ステップ5122)。搬送テーブル130にマ
ウント・フレーム6が受は取られていない場合は、エラ
ー表示X■を行い(ステップ3124)、パトライト1
40のエラー表示ライトが点灯するとともに、操作盤1
38の7セグメントLEDが、このエラーに対応したコ
ードを表示する。
The mount frame 6 pushed out from the heat stage 126 rides on a transport table 130 for transporting to the unloader section. Then, the photoelectric element PH3W10 provided on the transport table 130 confirms whether or not the mount frame 6 has been placed on the transport table 130 (step 5122). If the mount frame 6 is not placed on the transport table 130, an error message is displayed (step 3124) and the patrol light 1
Error indicator light 40 lights up and operation panel 1
38 7-segment LEDs display the code corresponding to this error.

搬送テーブル130にマウント・フレーム6が受は取ら
れている場合は、このマウント・フレーム6をアンロー
ダ部にまで搬送し、前記アンローダ部にセットされたフ
レーム・カセット132に収納する(ステップ5126
)。アンローダ部に設けられた光電素子によって、マウ
ント・フレーム6がフレーム・カセット132に収納さ
れたことが検出されると、アンローダ部は1ピツチ上昇
して、次のマウント・フレーム6が収納されるのを待つ
(ステップ3128)。
If the mount frame 6 is not supported on the transport table 130, the mount frame 6 is transported to the unloader section and stored in the frame cassette 132 set in the unloader section (step 5126).
). When the photoelectric element provided in the unloader section detects that the mount frame 6 has been stored in the frame cassette 132, the unloader section moves up one pitch to accommodate the next mount frame 6. (step 3128).

以上のように、ウェハ・ローダ部から供給された半導体
ウェハ2を所定方向に位置合わせした後、粘着テープ8
2に貼付けし、半導体ウェハ2が貼付けされたマウント
・フレーム6をフレーム・カー43= セット132に収納するという半導体ウェハ2の一連の
貼付は作業が自動的に行われる。
As described above, after aligning the semiconductor wafer 2 supplied from the wafer loader section in a predetermined direction, the adhesive tape 8
A series of operations for attaching the semiconductor wafer 2, such as attaching the semiconductor wafer 2 to the frame car 43 and storing the mount frame 6 with the semiconductor wafer 2 attached to the frame car 43=set 132, are automatically performed.

次に、本実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は装置に
備えられる、フレーム搬送部の吸着検出部をさらに具体
的に説明しよう。
Next, the suction detection section of the frame transport section, which is included in the automatic semiconductor wafer attachment apparatus according to this embodiment, will be explained in more detail.

フレーム搬送部によるフレームの吸着が十分でないと、
貼付はテーブルへフレームが搬送されなくなり、本装置
の一連の貼付は動作が妨げられる。
If the frame transport unit does not adsorb the frame enough,
During pasting, the frame is no longer conveyed to the table, and the series of pasting operations of this device are hindered.

したがって、フレーム搬送部の吸着検出機能は、」二連
した半導体ウェハの自動貼付は装置において重要である
Therefore, the adhesion detection function of the frame transport section is important in an apparatus for automatically attaching two consecutive semiconductor wafers.

ところで、上述した実施例の説明から明らかなように、
位置合法めされたフレーム4を真空チャックによって吸
着保持して、フレーム位置決め部62から貼付はテーブ
ル42へ搬送するフレーム搬送部は、実施例におけるフ
レーム・チャックアーム72に対応している。また、前
記フレーム搬送部がフレーム4を吸着しているか否かを
検出する吸着検出部の圧力検出手段は、実施例における
圧力スイツチPUSW3に対応し、前記圧力検出44一 手段の検出信号に基づいてフレーム搬送部のフレーム吸
着ミスを判別するエラー判別手段は、実施例における制
御部142に対応している。そして、前記吸着検出部の
動作は、第12図で説明した動作フローチャートにおけ
るステップ560およびステップ365に相当している
By the way, as is clear from the explanation of the embodiments mentioned above,
A frame conveyance section that suction-holds the aligned frame 4 with a vacuum chuck and conveys it from the frame positioning section 62 to the pasting table 42 corresponds to the frame chuck arm 72 in the embodiment. Further, the pressure detection means of the adsorption detection section that detects whether or not the frame transport section is adsorbing the frame 4 corresponds to the pressure switch PUSW3 in the embodiment, and is based on the detection signal of the pressure detection means 44. The error determining means for determining a frame suction error in the frame transport section corresponds to the control section 142 in the embodiment. The operation of the adsorption detection section corresponds to step 560 and step 365 in the operation flowchart explained in FIG. 12.

次に、これらステップ60およびステップS65におい
て行われる吸着検出部のさらに具体的な動作を、第15
図に基づいて説明する。
Next, the more specific operations of the adsorption detection unit performed in step 60 and step S65 will be described in the fifteenth section.
This will be explained based on the diagram.

フレーム・チャックアーム72の真空チャックに関連し
て設けられた電磁弁VL3が作動して、フレーム・チャ
ックアーム72がフレーム4の吸着を開始したとする(
第12図に示すステップ858)。電磁弁VL3が作動
すると同時に、第11図に示した制御部142のCPU
144に含まれるタイマがクリアされる(ステップS6
0.)。
Assume that the solenoid valve VL3 provided in connection with the vacuum chuck of the frame chuck arm 72 is activated, and the frame chuck arm 72 starts suctioning the frame 4 (
Step 858 shown in FIG. 12). At the same time as the solenoid valve VL3 operates, the CPU of the control section 142 shown in FIG.
144 is cleared (step S6
0. ).

そして、位置決めされたフレーム4をフレーム・チャッ
クアーム72が吸着したか否かを、圧力スイツチPUS
W3の検出信号に基づいて判断する(ステップS60□
)。フレーム・チャソクアーム72がフレーム4を吸着
している場合、真空チャック内の圧力が低下するから、
圧力スイッチPUSW3はON状態になる。
Then, the pressure switch PUS is used to check whether or not the frame chuck arm 72 has attracted the positioned frame 4.
Judgment is made based on the detection signal of W3 (step S60□
). When the frame chuck arm 72 is suctioning the frame 4, the pressure inside the vacuum chuck decreases.
Pressure switch PUSW3 is turned on.

この圧力スイッチPUSW3がON状態になっていない
場合は、前記タイマがクイムオーハーしたか否かを確認
する(ステップ5603)。これは、電磁弁VL3が作
動してから、フレーム・チャックアーム72の真空チャ
ック内が低圧になるまでに相当の時間を要するから、こ
の待ち時間を考慮したものである。したがって、タイム
オーバしていなければ、ステップS60゜に戻る。一方
、タイムオーバした場合は、位置決めされたフレーム4
が、何等かの原因でフレーム・チャックアーム72に吸
着されなかったものと判断して、エラー表示■(ステッ
プ562)を行う。
If the pressure switch PUSW3 is not in the ON state, it is checked whether the timer has completed the quim over (step 5603). This is done in consideration of the waiting time since it takes a considerable amount of time for the pressure inside the vacuum chuck of the frame chuck arm 72 to become low after the electromagnetic valve VL3 is activated. Therefore, if the time has not exceeded, the process returns to step S60°. On the other hand, if the time has elapsed, the positioned frame 4
However, it is determined that the frame/chuck arm 72 has not been attracted to the frame/chuck arm 72 for some reason, and an error display (2) is performed (step 562).

ステップS60□において、フレーム・チャックアーム
72がフレーム4を吸着したことが確認されると、第1
2図において説明したステップS64に進んで、フレー
ム・チャックアーム72が上昇する。そして、もう一度
、フレーム・チャックアーム72がフレーム4を吸着し
ているか否かを検出する(ステップ565)。ただし、
このステップS65では、上述した待ち時間は考慮され
ず、圧力スイッチPUSW3の検出信号から直ちにフレ
ーム4の吸着の有無が確認される。これは、前記ステッ
プS58およびステップS60において、フレーム・チ
ャックアーム72はフレーム4を吸着して、フレーム・
チャックアーム72の真空チャックは低圧になっている
はずだからである。
In step S60□, when it is confirmed that the frame chuck arm 72 has attracted the frame 4, the first
Proceeding to step S64 described in FIG. 2, the frame chuck arm 72 is raised. Then, it is detected once again whether or not the frame chuck arm 72 is sucking the frame 4 (step 565). however,
In this step S65, the above-described waiting time is not taken into account, and the presence or absence of adsorption of the frame 4 is immediately checked from the detection signal of the pressure switch PUSW3. This is because the frame chuck arm 72 adsorbs the frame 4 in step S58 and step S60.
This is because the vacuum chuck of the chuck arm 72 is supposed to be under low pressure.

このステップS65でフレーム4の吸着ミスが検出され
ると、エラー表示■を行う (ステップ562)。一方
、フレーム4が吸着されていることが確認されると、フ
レーム・チャックアーム72は、貼付はテーブル42側
に移動する(ステップ866)。
If an error in adsorption of frame 4 is detected in this step S65, an error display ■ is performed (step 562). On the other hand, when it is confirmed that the frame 4 is suctioned, the frame chuck arm 72 moves toward the attachment table 42 (step 866).

なお、上述したステップ365におけるフレーム4の吸
着確認は、念のために行われるものであるから、本実施
例に係る半導体ウェハの自動貼付は装置において必ずし
も必要とされるものではない。
Note that since the adsorption confirmation of the frame 4 in step 365 described above is performed just to be sure, automatic attachment of the semiconductor wafer according to this embodiment is not necessarily required in the apparatus.

次に、上述した実施例に係る半導体ウェハの自動貼付は
装置にエラーが発生した場合に行われる、回復処理を簡
単に説明しよう。
Next, we will briefly explain the recovery process that is performed when an error occurs in the automatic attachment of semiconductor wafers according to the above-described embodiment.

前述したような各種のエラーが発生すると、そのエラー
発生箇所の後工程にあたる各機構部は、各動作を継続し
てそれぞれの動作サイクルを終了したところで停止する
。一方、エラーが発生した箇所と、その前工程にあたる
各機構部は、エラーが発生した時点で停止する。オペレ
ータは、上述したエラー表示に基づいて、エラー発生箇
所のワーク(例えば、半導体ウェハ2やフレーム4など
)を取り外し、あるいは、カセットを正しくセントする
などの適宜の措置を採る。そして、エラー発生箇所の前
工程にあたる各機構部を原点に戻し、本装置を再スター
トさせる。
When any of the above-mentioned errors occurs, each mechanical section that is a process subsequent to the location where the error occurs continues its operations and stops after completing its respective operation cycle. On the other hand, the location where the error occurred and each mechanical section corresponding to the preceding process stop when the error occurs. Based on the above-mentioned error display, the operator takes appropriate measures such as removing the workpiece (for example, the semiconductor wafer 2 or the frame 4) where the error has occurred or correctly inserting the cassette. Then, each mechanical section corresponding to the process preceding the error occurrence point is returned to its origin, and the apparatus is restarted.

なお、フレーム搬送部のフレーム吸着ミスを示す表示態
様は、実施例で説明したものに限られず、ブサー表示な
ど種々変形実施できる。
Note that the display mode indicating a frame suction error in the frame transport section is not limited to that described in the embodiment, and may be modified in various ways such as a buzzer display.

また、本発明に係る半導体ウェハ自動貼付は装置は、実
施例において説明した装置に限定されるものでないこと
は勿論である。
Furthermore, it goes without saying that the apparatus for automatically attaching semiconductor wafers according to the present invention is not limited to the apparatus described in the embodiments.

〈発明の効果〉 以上の説明から明らかなように、本発明に係る半導体ウ
ェハの自動貼付は装置は、フレーム位置決め部で位置決
めされたフレームを、真空チャックで吸着保持して貼付
はテーブルに搬送するフレーム搬送部に関連して、前記
真空チャックの圧力変化を検出する圧力検出手段と、前
記圧力検出手段の検出信号に基づいて、前記フレーム搬
送部のフレーム吸着ミスを判別するエラー判別手段とを
備えている。
<Effects of the Invention> As is clear from the above description, the apparatus for automatically attaching semiconductor wafers according to the present invention suction-holds the frame positioned by the frame positioning section with a vacuum chuck and conveys it to the table for attaching. In relation to the frame conveyance section, it includes a pressure detection means for detecting a pressure change in the vacuum chuck, and an error determination means for determining a frame suction error in the frame conveyance section based on a detection signal of the pressure detection means. ing.

したがって、本発明によれば、何等かの異常発生によっ
て、フレームがフレーム搬送部に吸着されなかった場合
に、オペレータが、この半導体ウェハ自動貼付は装置の
異常発生とその箇所を知ることができ、これにより適宜
な措置を迅速に採ることができるので、半導体ウェハ自
動貼付は装置の稼動効率を向上させる上でたいへん好都
合である。
Therefore, according to the present invention, if the frame is not attracted to the frame conveyance unit due to some abnormality, the operator can know the occurrence of the abnormality in the semiconductor wafer automatic attaching apparatus and the location thereof. Since this allows appropriate measures to be taken quickly, automatic semiconductor wafer attachment is very convenient for improving the operating efficiency of the apparatus.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例に係る半導体ウェハの自動貼
付は装置の全体構成の概略を示した説明図、第2図は前
記実施例における半導体ウェハ位置合わせ部および反転
フォーク周辺部の構成図、第3図は前記実施例における
オリエンテーションフラット端部検出部の構成図、第4
図は前記実施例におけるフレーム・ローダ部とフレーム
位置決め部周辺の構成図、第5図は前記実施例における
フレーム搬送部周辺の構成図、第6図は前記実施例にお
ける粘着テープ供給系統と粘着テープ切断機構周辺の構
成図、第7図および第8図は前記実施例における貼付は
ローラユニノ1−と剥離ローラユニットとの構成および
動作説明図、第9図は前記実施例におけるヒートステー
ジ周辺の構成図、第10図は前記実施例において使用さ
れる半導体ウェハ、フレームおよびマウント・フレーム
の説明図、第11図は前記実施例における制御系統の構
成の概略を示したブロック図、第12図は前記実施例の
動作フローチャート、第13図は前記実施例におけるオ
リエンテーションフラット位置合わせの説明図、第14
図は前記実施例におけるオリエンテーションフラット位
置合わせの動作フローチャート、第15図は前記実施例
におけるフレーム・チャックアームのフレーム吸着ミス
検出の具体的な動作フローチャートである。 2・・・半導体ウェハ、OF・・・オリエンテーション
フラット、4・・・フレーム、6・・・マウント・フレ
ーム、8・・・ウェハ・カセット、14・・・半1ウェ
ハ位置合わせ部、20・・・アライメン1へ・テーブル
、24・・・パルスモータ、32・・・オリエンテーシ
ョンフラット端部検出部、40・・・反転フォーク、4
2・・・貼付はテーブル、48・・・ウェハ・チャック
テーブル、50・・・フレーム・チャックテーブル、5
4・・・フレーム・ローダ部、62・・・フレーム位置
決め部、72・・・フレーム・チャックアーム、82・
・・粘着テープ、90・・・貼付はローラユニット、9
2・・・剥離ローラユニット、108・・・粘着テープ
切断機!、114・・・マウント・フレームチャックア
ーム、116・・・スイング反転ユニット、118・・
・クランプ機構、126・・・ヒートステージ、128
・・・マウ=51− ント・フレーム押し出し機構、130・・・搬送テーブ
ル、132・・・フレーム・カセソI・、138・・・
操作盤、140・・・パトライト、142・・・制御部
、144−CPU、PH3WI 〜PH3WI 1−・
・光電素子、P U S W 1〜PUSW5・・・圧
力スイツチ。
FIG. 1 is an explanatory diagram schematically showing the overall configuration of a semiconductor wafer automatic pasting apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a configuration of the semiconductor wafer alignment section and the surrounding area of the reversing fork in the embodiment. FIG. 3 is a configuration diagram of the orientation flat end detection section in the above embodiment, and FIG.
The figure is a block diagram of the frame loader section and the surroundings of the frame positioning section in the embodiment, FIG. 5 is a block diagram of the frame transport section and its periphery in the embodiment, and FIG. 6 is the adhesive tape supply system and the adhesive tape in the embodiment. FIGS. 7 and 8 are diagrams illustrating the configuration and operation of the pasting roller unit 1- and the peeling roller unit in the above embodiment. FIG. 9 is a diagram showing the configuration around the heat stage in the embodiment. , FIG. 10 is an explanatory diagram of the semiconductor wafer, frame, and mount frame used in the embodiment, FIG. 11 is a block diagram schematically showing the configuration of the control system in the embodiment, and FIG. 12 is a diagram illustrating the configuration of the control system in the embodiment. FIG. 13 is an explanatory diagram of the orientation flat alignment in the above embodiment; FIG. 14 is an operational flowchart of the example;
15 is a flowchart of the operation for orientation flat positioning in the embodiment, and FIG. 15 is a flowchart of a specific operation for detecting a frame adsorption error of the frame chuck arm in the embodiment. 2... Semiconductor wafer, OF... Orientation flat, 4... Frame, 6... Mount frame, 8... Wafer cassette, 14... Half 1 wafer positioning section, 20...・To alignment 1・Table, 24...Pulse motor, 32...Orientation flat end detection section, 40...Reversing fork, 4
2... Paste on table, 48... Wafer/chuck table, 50... Frame/chuck table, 5
4... Frame loader section, 62... Frame positioning section, 72... Frame chuck arm, 82...
...Adhesive tape, 90...Pasting is done using a roller unit, 9
2... Peeling roller unit, 108... Adhesive tape cutting machine! , 114... Mount frame chuck arm, 116... Swing reversing unit, 118...
・Clamp mechanism, 126... Heat stage, 128
...Mount = 51-Mount/frame extrusion mechanism, 130...Transportation table, 132...Frame cassette I, 138...
Operation panel, 140... Patrol light, 142... Control unit, 144-CPU, PH3WI ~ PH3WI 1-.
- Photoelectric element, PUSW1 to PUSW5...pressure switch.

Claims (1)

【特許請求の範囲】  オリエンテーションフラットが形成された半導体ウェ
ハを位置合わせして粘着テープに貼付ける半導体ウェハ
の自動貼付け装置であって、 前記半導体ウェハが貼付けられる粘着テープを保持する
ためのフレームを、予め位置決めするフレーム位置決め
部と、 前記半導体ウェハを粘着テープに貼付ける貼付けテーブ
ルと、 前記フレーム位置決め部によって位置決めされたフレー
ムを真空チャックによって吸着保持して、前記フレーム
位置決め部から前記貼付けテーブルに搬送するフレーム
搬送部と、 前記フレーム搬送部が前記フレームを吸着しているか否
かを検出する吸着検出部とを含み、前記吸着検出部は、 前記フレーム搬送部に備えられた真空チャックの圧力変
化を検出する圧力検出手段と、 前記圧力検出手段の検出信号に基づいて、前記フレーム
搬送部のフレーム吸着ミスを判別するエラー判別手段と
を備えたことを特徴とする半導体ウェハの自動貼付け装
置。
[Scope of Claims] An automatic semiconductor wafer affixing device for aligning and affixing a semiconductor wafer with an orientation flat to an adhesive tape, comprising: a frame for holding the adhesive tape to which the semiconductor wafer is affixed; a frame positioning section for pre-positioning; a pasting table for pasting the semiconductor wafer onto an adhesive tape; a vacuum chuck holding the frame positioned by the frame positioning section, and transporting the frame from the frame positioning section to the pasting table. The frame transport unit includes a suction detection unit that detects whether or not the frame transport unit is suctioning the frame, and the suction detection unit detects a pressure change in a vacuum chuck provided in the frame transport unit. 1. An automatic semiconductor wafer pasting apparatus, comprising: a pressure detection means for detecting the pressure; and an error discrimination means for discriminating a frame suction error of the frame transport section based on a detection signal of the pressure detection means.
JP61304784A 1986-12-18 1986-12-18 Automatic sticking system for semiconductor wafer Pending JPS63155639A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011142126A (en) * 2010-01-05 2011-07-21 Disco Abrasive Syst Ltd Dividing method

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