JPS63154750A - 微小孔薄膜の製造方法と微小孔薄膜 - Google Patents

微小孔薄膜の製造方法と微小孔薄膜

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JPS63154750A
JPS63154750A JP62293044A JP29304487A JPS63154750A JP S63154750 A JPS63154750 A JP S63154750A JP 62293044 A JP62293044 A JP 62293044A JP 29304487 A JP29304487 A JP 29304487A JP S63154750 A JPS63154750 A JP S63154750A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、粒子、特に重イオンの２重放射（照射）によ
る非対称微小孔薄膜の製造方法と共に、細孔の２重網状
構造を有する非対称微小孔（ミクロポーラス、　　ｍ１
ｃｒｏｐｏｒｏｕｓ　）薄膜に関する。
従来の技術 濾過分野で特に有用な微小孔薄膜は、粒子の通路に相当
するガラス、結晶または重合体の薄膜に鎖状欠陥を生じ
させる粒子によって製作可能である。これ等の欠陥は、
そのまわシの憤域を特定の化学物量（ｊｊｈｅｍｉｃａ
ｌ　ａｇｅｎｔ　）に対して非常に敏感にする。これ等
の化学物質に対して比較的短い時間さらすだけで、粒子
が通ったところに細孔を作り得る。一層長い間の露出（
さらすこと）は、これ等の細孔を広げるのを可能にする
が、かなυ遅い速度においてである。従って、薬品（化
学物質）の侵蝕ないしエツチングの持続時間は、作られ
る細孔の直径、即ち、フィルタの濾過特性の制御を可能
にする。
しかしながら、多くの用途では、これ等の薄膜によって
濾過される流体の流量は、十分であり得るため、幾つか
の可能性が存在する。第１に、薄膜の厚さを低減するこ
とは可能であるが、これは、機械的強度に対して有害で
ある。薄膜の多孔度、即ち表面単位当り細孔の数を増大
することも可能である。一層長い時間にわたシ一層高い
粒子速度で放射することは、充分である。しかしながら
、衝突の分布が不規則であって統計的法則に従うため、
相互に非常に接近する多重衝突の確率は、非常に高い。
該衝突群は、化学的エツチング後に単一の大きい細孔を
与え、これは、大きな懸濁微粒子が時々通過するため、
フィルタの選択性を低下させる。
発明の要約 従って、本発明は、微小孔薄膜の厚さおよび機械的な強
度を過度に低減することなく、また多孔度を過度に増大
することなく、少なくとも低減された長さを有する微粒
子を濾過するのを可能にする該薄膜の製造方法に関する
。この方法は、薄膜を貫通するのに不充分なエネル−に
？を有する粒子による処理されるべき薄膜の第１放射と
、薄膜を貫通するのに充分なエネルギを有する粒子によ
る薄膜の第２放射と、放射粒子によって横切らｎた位置
に細孔の２′ＪＬ網状構造を得るのを可能にする少なく
とも１回の化学的エツチング工程との手順を備え、第１
網状構造の細孔が、大きい直径を有し薄膜の一表面へ現
われ、一方、第２網状構造の細孔が、小さい直径を有し
薄膜の両面に現われることを特徴とする。
また、本発明は、この記述を満足させる薄膜に関する。
多くの場合に、放射工程は、粒子加速器からの重イオン
によって実施されてもよい。
本発明による方法は、その実施例に関し添付図面を参照
して下記に詳細に説明される。
実施例 第１図を参照すると、ビームを形成するイオンの電子雲
の一部を捕捉し従ってその電荷を増大する炭素シート２
と、時間で可変の磁場を生じ従って一層大きいかまたは
一層小さい程度にイオンビームを偏向する磁石４と、イ
オンのエネルギの受入れ可能な低減の場合に周囲空気中
または化学的エツチングを一層容易にする酸素雰囲気中
で放射される様に薄膜５を置くのを可能にする気密壁３
とを継続的に備え、例えばクリプトンまたはアルゴンの
様な一層高いエネルギの重イオンを通常使用する粒子加
速器１の端部金兄ることが可能である。磁石４を使用す
る周期的な磁場調整は、横方向走査によって薄膜５のス
トリップＡ　Ｂ　Ａ’　Ｂ’を放射するのを可能にし、
ストリップの巾Ａ　Ａ’は、イオンビームの放散に依存
する。経済的な見地から興味のある操作条件は、走査の
長さＡＢがかなりなものであることでちゃ、これは、イ
オンの電荷を増大することにより従ってイオンの偏向を
容易にすることによって一層容易に達成可能である。
これは、良好に選定された厚さの場合にはＡｒ”イオン
ビームをイオンＡｒ上６＋、Ａｒｆ７＋、Ａｒ””のみ
から成るビームに変換可能である炭素シート２を正当化
する。
イオン源は、連続的または断続的のいずれでもよい。第
１の場合には、薄膜５の表面の均等な放射を得るために
外方および戻υの通路に同一の速度を常に維持すること
は、走査に対して不可欠である。第２の場合には、走査
は、ビーム放射期間に同期されねばならない。
ビームは、使用者によって制御可能な長手方向入射角α
で薄膜５を放射してもよい。薄膜５は、９動であり、走
置方向ＡＢに垂直の方向でビームの前方を長手方向へ通
過し、これは、薄膜５０ノツチに噛合う２重ギヤ７を移
動するモータ６によって簡単にもたらされてもよい。薄
膜５の進みは、ビームの規則的な放射を可能にする様に
充分に遅くなければならない。Ｘは、横方向入射角であ
り、イオンビームの平均方向ＸＹと、ス）　ＩＪツブＡ
ＢＡ’　Ｂとによって限定される角度であり、また使用
者によって選定される。
イオンビームによる薄膜の放射の可能な第２モードは、
第２図に示される。この原理では、２枚の平行なスクリ
ーン１１．１３は、粒子加速器１と１１７膜５との間に
置かれる。これ等のスクリーンの１枚のスクリーン１１
は、ビームの走査中にビームによって横行されるスロッ
ト１２’ｅ有Ｌ、一方、他のスクリーン１３は、スロッ
ト１２に垂直な幾つかのスロット１４を有している。こ
の結果、ビームは、分離された領域１６上でのみ薄膜５
を放射可能であり、領域１６の寸法および位置は、スロ
ット１２，１４の交差によって定められる。
放射の強さは、走査の速度と、ビームの粒子速度とに本
質的に依存する。放射の強さは、イオンが薄膜５を完全
に横切る様に充分に加速される場合には薄膜５の背後に
置かれた検出器１７によって各領域１６に対して制御可
能である。
良好に限定された領域１６の放射は、薄膜５の前進がビ
ームの２つの走査の間でのみ実施されることを必要とす
る。このとき、該ビームの放射を中断することは、有利
である。対応する同期は、例えばマイクロプロセッサに
よって容易に実現され、ここでは説明しない。
放射を受ける薄膜５の化学的エツチングの実施を説明す
る第６図を次に参照する。この場合には、単一のみの衝
突が示され、粒子は、該薄膜５を完全に横切るのに充分
なエネルギに上昇されないことが仮定される。しかしな
がら、該粒子は、その通路２０に隣接する薄膜５の分子
組織に特定の数の欠陥を生じさせた。これ等の欠陥は、
特定の化学製品に対して非常に敏感であり、該製品は、
最初に薄膜５の表面に細孔２１を生じさせ、細孔の進行
は、分子欠陥が直角方向よりも大きい通路２０に隣接し
て一層早い。従って、細孔が得られ、その深さは、細孔
の成長の段階を示す線（２２゜２３）によって例示され
る様に、急速に増大して、細孔の直径は、一層ゆつくり
増大する。
化学的エツチングが全体の通路ないし軌道２０に行われ
るとき、その進行は、益々遅くなり、線２４に到達後、
薄膜５の健全な部分においてのみ行われる。このとき、
エツチングの進行速度は、一層小さい大きさのオーダで
あり、化学製品に接触する全体の表面は、はぼ均等な速
度で食刻され、これは、線２５で示す様に薄膜５の厚さ
の対応する低減を伴って通路２０のまわりに形成される
細孔の補足的拡大を意味する。
これ等の説明は、本発明による微小孔薄膜の製造工程を
理解するのを容易にし、本発明の実施例は、第４図から
第６図までに与えられる。最も重要な特徴は、２つの異
なる放射が行われることであり、即ち、薄膜５を横切ら
ずに化学的エツチング後に大きい直径の非流出細孔２６
を生じる充分に低いエネルギでの粒子の一放射と共に、
薄膜５を横切シ小さい直径の流出細孔２７，２８．２９
を生じる適当なエネルギを有する粒子の放射が行われ、
該流出細孔は、それ自体流体を濾過するのを可能にする
。小さい直径の細孔２７，２８゜２９が最大可能な数に
おいて大きい直径の細孔２６へ出て、大きい直径の細孔
２６の出る表面３１へ出ないことは、望ましい。小さい
直径の細孔２γ、２８，２９の平均長さの低減は、他の
総てが等しければ、薄膜５によって濾過可能な流体の流
量を増大するのを可能にし、一方、薄い厚さの薄膜の使
用は、同一の結果に導くが、フィルタの機械的強度の損
失へ導く。
第４図に示す薄膜５は、２つの放射に対するビームの垂
直入射（α＝　０．　　ｘ　＝　９０’）により第１図
の装置の扶助で得られる。
最初に低エネルギ放射を行った後に適当な化学的エツチ
ングを行うことは、表面３１上に規則的に配置される非
流出細孔２６を得るのを可能にする。エツチング剤は、
例えばソーダでもよく、薄膜５は、ポリカーボネートで
もよい。
ｌ／１００　ｍ　（１（：１μｍ　）　ヨ’）　モ大キ
イ大径ａ孔２６を得ることが延長された化学的エツチン
グ操作を必要とし、その必然的な結果が表面３１および
随意の反対側面３２を食刻することによって薄［５の厚
さの低減であることは、明らかである。従って、仕上げ
られた製品の段階においてよシも製造の開始において一
層厚い薄膜５を与えることは、不可欠である。
化学的エツチングの後、薄膜５は、第１図にょつて再度
設置され、薄膜を貫通するのに適当なエネルギ粒子の第
２放射を受ける。次に、第２化学的エツチングは、薄膜
５を完全に横切る細孔２７゜２８を供給し、該エツチン
グの持続時間を条件づける該細孔の直径は、フィルタの
用途によって定められる。非流出細孔２６の寸法および
薄膜５の厚さは、第１エツチングよシもかなシ短い持続
時間の第２エツチングの際、はぼ一定のままである。
この工程は、２つの欠点を有している。第１は、小径細
孔２７，２８が無作為の態様で配置され、大径細孔２６
内に出るその割合が表面３１上の細孔２７，２８の多孔
度を越えないことである。しかしながら、機械的な理由
のため、該多孔度は、２０ｑ６から６０チを越え得ない
。２回の放射に対して異なる入射角を使用することは、
細孔が属する型式（２回の放射に対して異なる長手方向
入射角αまたは横方向入射角Ｘ）に依存して非平行軸線
または斜めの軸線を有する細孔を得るのを可能にし、こ
れは、大径細孔２６内に出る小径細孔２７．２Ｅｌ有す
る確率を増大する。
第５図は、該薄膜５を示す。小径細孔２７゜２８は、薄
膜５に垂直の直線に対して斜めの軸線を有している。
しかしながら、他の欠点は、残される。第２放射中に生
じる非常に近い一体の衝突は、細孔のグループ間の結合
の原因になシ、これは、濾過の際に流出細孔２７よりも
大きい直径を有する微粒子の通過を許容することによっ
てフィルタの選択性全低減する大径流出細孔２８を最後
に与える。
提案される改良は、イオンビームの平均方向ＸＹと通過
方向に垂直な薄膜の方向との間の異なる角度Ｘによシ流
出細孔を作る際にイオンビームの前方において２または
それ以上の機会に薄膜５を通過させることから成る。例
えば、ＸＩ　”　６０’は、第１放射に推奨されてもよ
＜、Ｘ２＝１２０’は、第２放射に推奨されてもよい。
多重細孔の確率は、表面３１または３２で一致する細孔
が次にそれて分離し得るため、低減される。同等な態様
で、薄膜５の各通過に対して長手方向入射角αを変更す
ることは、可能である。多数の継続する放射が存在すれ
ば、薄膜５への粒子の入射は、小径細孔２９の軸線の様
に無作為の性質として見做されてもよい。この様にして
得られる薄膜５は、第６図に示される。
最初のものに組合わせ可能な他の改良は、大径細孔２６
の作成に関する。単一粒子の衝突の扶助によプこれ等の
細孔を得ることは、長い化学的エツチング処理を必要と
し、これは、薄膜５の厚さを変更する。従って、第２図
の装置を使用してこの放射を実施することは好ましい。
放射される領域１６は、細孔２６の寸法および分布に対
応し、高粒子密度で放射される。従って、次の単一の化
学的エツチングは、非常に急速に融合して大径細孔２６
を生じる非流出細孔の形成をもたらす。該工程の急速さ
は別にして、利点は、該細孔２６の分布の規則正しさの
完全な制御である。流出細孔２７．２８，２９は、同一
の化学的エツチングの際に随意に得られる。
本発明が、特定の装置を使用する前述の実施例に制限さ
れず、一般的に言えば、化学的エツチング後に細孔の２
つの網状構造へ導き、薄膜を大径細孔によって横切られ
ない２重放射による微小孔薄膜の製作に関することは、
明らかである。
特に、前述のものは、粒子加速器によって放出される重
イオンビームによる放射に関する。この選択は、微細さ
により多くの場合に当然であり、これにより、ビームの
エネルギ、従って非流出細孔の深さおよびこの等の細孔
の貫通力を調節するのが可能である。しかしながら、他
の放射型式は、もくろみられてもよい（例えば分裂性物
質の崩壊）。
【図面の簡単な説明】
第１図、第２図は本発明によって使用可能である２つの
可能な照射モーｒの図、第３図は照射の・　位置におい
て薄膜の化学的エツチングを実施する模式的な図、第４
図、第５図、第６図は異なる様に行なわれ九照射によシ
本発明によって得られた３枚の薄膜の断面図を示す。 １・・・粒子加速器、　　　５・・・薄膜２６・・・非
流出細孔、　　　２７，２８，２９・・・流出細孔、 ３１・・・表面、　　　　　　３２・・・反対側面、α
・・・長手方向入射角、　Ｉ・・・横方向入射角。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）薄膜（５）を貫通するには不充分なエネルギの粒
    子による薄膜（５）の第１照射を行なうことと、 該薄膜（５）を横切るのに充分なエネルギの粒子による
    該薄膜（５）の少なくとも１回の第２照射を行なうこと
    と、 第１網状構造の細孔（２６）が、大きい直径を有し、該
    薄膜（５）の表面（３１）へ現われ、第２網状構造の細
    孔（２７、２８、２９）が、小さい直径を有し、該薄膜
    （５）の両面（３１、３２）へ現われるか、または該第
    １網状構造の細孔（２６）内および反対側面（３２）へ
    現われるように、照射粒子が横切つた位置に細孔の２重
    網状構造を得るのを可能にする少なくとも１回の化学的
    エッチングを行なうこととからなる微小孔薄膜の製造方
    法。
  2. （２）特許請求の範囲第１項に記載の方法において、薄
    膜（５）を横切るのに不充分なエネルギを有する粒子に
    よる前記第１照射と、細孔（２６）の前記第１網状構造
    を得るのを可能にする第１化学的エッチングと、薄膜（
    ５）を横切るのに充分なエネルギを有する粒子による前
    記第２照射または複数の第２照射と、細孔（２７、２８
    、２９）の前記第２網状構造を得るのを可能にする第２
    化学的エッチングとの手順を継続的に備える方法。
  3. （３）特許請求の範囲第１項に記載の方法において、前
    記照射が、粒子加速器（１）の重イオンによつて行われ
    る方法。
  4. （４）特許請求の範囲第１項に記載の方法において、前
    記粒子が、前記２つの放射に対して異なる入射角（α、
    ｘ）によつて薄膜（５）に放射される方法。
  5. （５）特許請求の範囲第２項に記載の方法において、前
    記照射が、粒子加速器（１）からの重イオンによつて行
    われる方法。
  6. （６）特許請求の範囲第２項に記載の方法において、前
    記粒子が、前記２つの照射に対して異なる入射角（α、
    ｘ）によつて薄膜（５）に照射される方法。
  7. （７）特許請求の範囲第２項に記載の方法において、薄
    膜（５）への前記複数の第２照射の際に放出される前記
    粒子の入射角（α、ｘ）が、相互に異なることを特徴と
    する方法。
  8. （８）細孔の２つの網状構造を備え、第１網状構造の細
    孔（２６）が、大きい直径を有し、薄膜（５）の表面（
    ３１）へ現われ、第２網状構造の細孔（２７、２８、２
    ９）が、小さい直径を有し、薄膜（５）の両面（３１、
    ３２）へ現われるか、または第１網状構造の細孔（２６
    ）内および反対側面（３２）へ現われている微小孔薄膜
    。
  9. （９）特許請求の範囲第８項に記載の微小孔薄膜におい
    て、前記第２網状構造の細孔（２７、２８、２９）が、
    薄膜（５）に垂直な直線に対して斜めの軸線を有するこ
    とを特徴とする微小孔薄膜。
  10. （１０）特許請求の範囲第９項に記載の微小孔薄膜にお
    いて、前記第２網状構造の細孔（２７、２８、２９）が
    、相互に対して斜めの軸線を有することを特徴とする微
    小孔薄膜。
JP62293044A 1986-11-20 1987-11-19 微小孔薄膜の製造方法と微小孔薄膜 Pending JPS63154750A (ja)

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US (1) US4832997A (ja)
EP (1) EP0270441B1 (ja)
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DE (1) DE3772941D1 (ja)
FR (1) FR2607022B1 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008523402A (ja) * 2004-12-13 2008-07-03 オーストラロ・リミテッド 粒子および電磁放射線の検出、測定および制御
JP2011518674A (ja) * 2008-03-20 2011-06-30 ゲーエスイー ヘルムホルッツェントゥルム フュア シュヴェリオネンフォルシュンク ゲーエムベーハー ナノワイヤ構造体
JP2013227548A (ja) * 2012-03-30 2013-11-07 Nitto Denko Corp 多孔性高分子フィルムの製造方法および多孔性高分子フィルム
WO2014156155A1 (ja) * 2013-03-27 2014-10-02 日東電工株式会社 多孔性高分子フィルムの製造方法および多孔性高分子フィルム
WO2015029451A1 (ja) * 2013-08-30 2015-03-05 日東電工株式会社 防水通気膜とそれを備える防水通気部材および防水通気構造ならびに防水通音膜
WO2016047140A1 (ja) * 2014-09-24 2016-03-31 日東電工株式会社 高分子フィルム、防水通音膜、防水通音部材、電子機器、電子機器用ケース、防水通音構造、防水通気膜、防水通気部材、防水通気構造、吸着用シート、吸着ユニットへの作業対象物の吸着方法、セラミックコンデンサの製造方法、光学フィルム、光学部材および組成物
JP2021030100A (ja) * 2019-08-15 2021-03-01 新科實業有限公司ＳＡＥ Ｍａｇｎｅｔｉｃｓ（Ｈ．Ｋ．）Ｌｔｄ． 薄膜フィルタ、薄膜フィルタ基板、薄膜フィルタの製造方法および薄膜フィルタ基板の製造方法並びにｍｅｍｓマイクロフォンおよびｍｅｍｓマイクロフォンの製造方法

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3704546A1 (de) * 1987-02-13 1988-08-25 Kernforschungsz Karlsruhe Verfahren zur herstellung eines filters und danach hergestelltes filter
JPH01246116A (ja) * 1988-03-29 1989-10-02 Natl Inst For Res In Inorg Mater 針状，繊維状，多孔質状ダイヤモンドまたはそれらの集合体の製造法
DE4103853C2 (de) * 1991-02-08 1994-09-15 Oxyphen Gmbh Verfahren zur Herstellung von Polymerfolienfiltern
FR2677271A1 (fr) * 1991-06-04 1992-12-11 Commissariat Energie Atomique Procede de realisation de membranes microporeuses.
US5919607A (en) * 1995-10-26 1999-07-06 Brown University Research Foundation Photo-encoded selective etching for glass based microtechnology applications
US5904846A (en) * 1996-01-16 1999-05-18 Corning Costar Corporation Filter cartridge having track etched membranes and methods of making same
US6875386B1 (en) * 1999-11-17 2005-04-05 Isense Corp. Neovascularization promoting membrane for bioimplants
CA2361930A1 (en) 1999-12-08 2001-06-14 Baxter International Inc. Microporous filter membrane, method of making microporous filter membrane and separator employing microporous filter membranes
FR2803238A1 (fr) * 1999-12-29 2001-07-06 Iniversite Catholique De Louva Procede de creation de pores et film microporeux
FR2803237A1 (fr) * 1999-12-29 2001-07-06 Iniversite Catholique De Louva Procede de creation de pores dans un materiau polymere en feuilles ou une couche polymere telle qu'un film mince d'epaisseur egale a une centaine de nanometres, prealablement deposee sur un support metallique
WO2002037564A2 (de) * 2000-10-30 2002-05-10 Gesellschaft für Schwerionenforschung mbH Folienmaterial mit metallspitzen und verfahren zu seiner herstellung
US6908552B2 (en) * 2002-02-26 2005-06-21 Gesellschaft Fuer Schwerionenforschung Mbh Method of producing nanostructures in membrances, and asymmetrical membrane
DE10234614B3 (de) * 2002-07-24 2004-03-04 Fractal Ag Verfahren zur Bearbeitung von Trägermaterial durch Schwerionenbestrahlung und nachfolgenden Ätzprozess
FR2847194B1 (fr) * 2002-11-19 2005-02-04 Iniversite Catholique De Louva Procede de creation de pores dans une feuille mince de polyimide
US7081208B2 (en) * 2002-12-16 2006-07-25 International Business Machines Corporation Method to build a microfilter
US6998063B2 (en) * 2003-07-29 2006-02-14 Steris Inc. Method of forming microporous membranes
US7960708B2 (en) 2007-03-13 2011-06-14 University Of Houston Device and method for manufacturing a particulate filter with regularly spaced micropores
AU2010325158B2 (en) 2009-11-25 2014-09-04 Healionics Corporation Granules of porous biocompatible materials
EP2555810B1 (en) 2010-04-08 2018-08-22 Healionics Corporation Implantable medical devices having microporous surface layers and method for reducing foreign body response to the same
KR101585388B1 (ko) * 2013-08-30 2016-01-13 닛토덴코 가부시키가이샤 방수 통음막과, 그것을 구비하는 방수 통음 부재, 전자 기기, 전자 기기용 케이스 및 방수 통음 구조체
CN103521087B (zh) * 2013-10-25 2016-01-13 北京南洋慧通新技术有限公司 一种重离子微孔滤膜的辐照方法
CN107613800B (zh) * 2015-06-04 2020-04-28 日东电工株式会社 口罩
US10576430B2 (en) * 2017-12-11 2020-03-03 General Electric Company System and method for manufacturing a membrane filter

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3303085A (en) * 1962-02-28 1967-02-07 Gen Electric Molecular sieves and methods for producing same
US3415993A (en) * 1966-11-07 1968-12-10 Gen Electric Radiation detection sheet material having metal coating to facilitate read-out
GB1271423A (en) * 1968-06-27 1972-04-19 Gen Electric Improvements relating to the manufacture of sheets having holes therein by an etching process
US3612871A (en) * 1969-04-01 1971-10-12 Gen Electric Method for making visible radiation damage tracks in track registration materials
US3616049A (en) * 1969-10-22 1971-10-26 Phillips Petroleum Co Etching apparatus
US3770532A (en) * 1971-02-16 1973-11-06 Gen Electric Porous bodies and method of making
GB1375204A (ja) * 1971-04-05 1974-11-27

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008523402A (ja) * 2004-12-13 2008-07-03 オーストラロ・リミテッド 粒子および電磁放射線の検出、測定および制御
JP2011518674A (ja) * 2008-03-20 2011-06-30 ゲーエスイー ヘルムホルッツェントゥルム フュア シュヴェリオネンフォルシュンク ゲーエムベーハー ナノワイヤ構造体
JP2013227548A (ja) * 2012-03-30 2013-11-07 Nitto Denko Corp 多孔性高分子フィルムの製造方法および多孔性高分子フィルム
WO2014156155A1 (ja) * 2013-03-27 2014-10-02 日東電工株式会社 多孔性高分子フィルムの製造方法および多孔性高分子フィルム
JP2014189655A (ja) * 2013-03-27 2014-10-06 Nitto Denko Corp 多孔性高分子フィルムの製造方法および多孔性高分子フィルム
US9708453B2 (en) 2013-03-27 2017-07-18 Nitto Denko Corporation Method for producing porous polymer film and porous polymer film
WO2015029451A1 (ja) * 2013-08-30 2015-03-05 日東電工株式会社 防水通気膜とそれを備える防水通気部材および防水通気構造ならびに防水通音膜
US11478760B2 (en) 2013-08-30 2022-10-25 Nitto Denko Corporation Waterproof gas-permeable membrane, waterproof gas-permeable member and waterproof gas-permeable structure including same, and waterproof sound-permeable membrane
WO2016047140A1 (ja) * 2014-09-24 2016-03-31 日東電工株式会社 高分子フィルム、防水通音膜、防水通音部材、電子機器、電子機器用ケース、防水通音構造、防水通気膜、防水通気部材、防水通気構造、吸着用シート、吸着ユニットへの作業対象物の吸着方法、セラミックコンデンサの製造方法、光学フィルム、光学部材および組成物
CN107075161A (zh) * 2014-09-24 2017-08-18 日东电工株式会社 聚合物膜、防水透声膜、防水透声构件、电子设备、电子设备用壳体、防水透声结构、防水透气膜、防水透气构件、防水透气结构、吸附用片、吸附单元上的作业对象物的吸附方法、陶瓷电容器的制造方法、光学膜、光学构件和组合物
US10723850B2 (en) 2014-09-24 2020-07-28 Nitto Denko Corporation Polymer film, waterproof sound-permeable membrane, waterproof sound-permeable member, electronic device, electronic device case, waterproof sound transmission structure, waterproof gas-permeable membrane, waterproof gas-permeable member, waterproof ventilation structure, suction sheet, method for holding workpiece by suction on suction unit, method for producing ceramic capacitor, optical film, optical member, and composition
JP2021030100A (ja) * 2019-08-15 2021-03-01 新科實業有限公司ＳＡＥ Ｍａｇｎｅｔｉｃｓ（Ｈ．Ｋ．）Ｌｔｄ． 薄膜フィルタ、薄膜フィルタ基板、薄膜フィルタの製造方法および薄膜フィルタ基板の製造方法並びにｍｅｍｓマイクロフォンおよびｍｅｍｓマイクロフォンの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
FR2607022B1 (fr) 1991-02-22
EP0270441A1 (fr) 1988-06-08
EP0270441B1 (fr) 1991-09-11
DE3772941D1 (de) 1991-10-17
FR2607022A1 (fr) 1988-05-27
US4832997A (en) 1989-05-23

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