JPS63151802A - 高精度偏光干渉計 - Google Patents

高精度偏光干渉計

Info

Publication number
JPS63151802A
JPS63151802A JP30049586A JP30049586A JPS63151802A JP S63151802 A JPS63151802 A JP S63151802A JP 30049586 A JP30049586 A JP 30049586A JP 30049586 A JP30049586 A JP 30049586A JP S63151802 A JPS63151802 A JP S63151802A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
beams
polarized
linear
polarization
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP30049586A
Other languages
English (en)
Inventor
Suezo Nakatate
中楯 末三
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
RIKEN Institute of Physical and Chemical Research
Original Assignee
RIKEN Institute of Physical and Chemical Research
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by RIKEN Institute of Physical and Chemical Research filed Critical RIKEN Institute of Physical and Chemical Research
Priority to JP30049586A priority Critical patent/JPS63151802A/ja
Publication of JPS63151802A publication Critical patent/JPS63151802A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は物理量の変化量を光学的に測定する高精度偏光
干渉計に関する。
「従来技術」 電子線および光リソグラフィーを用いた半導体製造装置
をはじめ、最近の多くの超精密機械においては、高精度
位置検出ならびに位置決め技術が必要不可欠な技術とな
っている。
現在それらの装置で主に使われている干渉計は、周波数
がわずかに異なり偏光面が直交した光を発生し、参照光
と物体光との干渉によってできるビート信号の位相を検
出する、光ヘテロゲイン干渉計である。この装置では、
レーザーの変調や信号処理系を含め装置が大がかりにな
る欠点があった。
一方、光ファイバーや微小光学素子を用いた高精度光干
渉センサーの研究が盛んに行われており、電磁界、変位
、圧力やジャイロなどが提案されて来ているが、高精度
センサーでは光変調素子や電気回路、信号処理回路など
装置が大がかりになる欠点があった。
「発明が解決しようとする問題点」 現在までに提案されている偏光干渉計においては、ヘテ
ロダイン方式以外の干渉縞の一点で光強度を検出する場
合では、種々の物理量が引き起こす光の位相差を、光の
波長の1 /100程度の高精度で検出することはでき
ない。そこで本発明では、従来の偏光干渉計の構造をあ
まり変えることなく、簡単な複屈折素子などの光学系と
光センサーおよび信号処理装置により、高感度、高精度
に物理量の変化量を検出することのできる光学的測定方
法を提供することを目的とする。
「問題点を解決するための手段」 上記目的は、以下本発明によって達成される。
即ち、本発明は、直線偏光の参照光と、被測定対象の物
理量の変化に応じて、前記参照光との間の位相差が変化
する前記参照光と直交した偏光面を持つ物体光とを干渉
させて、等間隔直線状の干渉縞を形成し、この干渉縞を
複数の受光素子から構成されるアレイセンサで受け、干
渉縞方向の位置゛Xに配置される受光素子の出力信号を
処理し、被測定物理量の変化に比例した、前記干渉縞の
X方向の移動量を高精度で検出することに基づいて前記
物理量の変化量を検出するものである。
このような偏光干渉計を用いることによって、光の波長
以下の光路長の変化も高精度に測定することができる。
「作 用」 本発明を図面を用いて更に説明する。第1図は本発明を
説明するための基本的干渉計としてのマイケルソン偏光
干渉計の平面図である。レーザー光源1から放出された
光2は偏光ビームスプリッタ−3により、直交した偏光
面を持つ二つの光2aと2bとに分けられる。それぞれ
の光2a’−2bは1/4波長板4.5を通過し円偏光
2Cおよび2dとなる。円偏光2Cは被測定物体の電歪
素子(PZT)6によって移動されるミ)−7に入射し
円偏光2eとして反射される。他方の光2dは参照ミラ
ー8に入射され参照光2fとして反射される。これらの
光は再び1/4波長板4.5を通過しそれぞれ直交した
直線偏光2g、2hとなる。それらの光2g、2hは偏
光ビームスプリッタ−3によりそれぞれ透過および反射
し、対物レンズ9およびレンズ10により平行光となり
、複屈折素−子11に入射する。この複屈折素子11と
しては、水晶などの複屈折を示す結晶のウェッジ板また
はバビネの補償板のようにウェッジ板を張り合わせたも
のなどが使用できる。ここで対物レンズ9と複屈折素子
11の距離が大きい時はレンズ10を省略することがで
きる。複屈折ウェッジ板11により直交偏光、2g、2
b間に距離に従って直線的に変化する位相差を与えるこ
とができる。複屈折素子11の透過光は偏光板12を通
過すること−により等間隔直線状の干渉縞13がアレイ
センサー14上に形成される。アレイセンサー14から
の出力信号15は信号処理回路16へ送られ、干渉縞1
3の横移動量が検出されさらに物理量の変化量に変換さ
れる。干渉縞13の横移動は、干渉縞13の空間周波数
におけるフーリエ積分値またはフーリエ級数(それらを
正弦値C1余弦値Sとする)を求め、それらCとSの値
を用いて逆正接を求めることにより、光の波長の数百分
の工程度の精度で求めることができる。その他干渉縞1
3の移動量は規則的なパターンおよびランダムなパター
ンの横移動量を検出できる手法ならば全て使うことがで
きるが、それぞれの手法の精度に応じて使い分けること
ができる。例えば縞の極大値ふよび極小値の移動量の検
出法、空間フィルター検出器などが使える。
「実施例1」 このような偏光干渉計はつぎに示すような高感度な位置
検出器に応用できる。第2図にはそのような位置検出器
の平面図を示した。コヒーレントを偏光ビームスプリッ
タ−19に導き、各々の偏光面が直交した参照用直線偏
光18a#よび位置センシング用直線偏光18bを得る
。これらの直線偏光18a、18bをそれぞれコーナー
キューブ20.21に導きそれぞれ直線偏光18a11
8bと平行な光18c、18dを得る。ここで光18d
はコーナーキユーブ21の位置により光の位相が変化す
る。直線偏光18C,18dは偏光ビームスプリッタ−
19をそれぞれ反射、透過して光18eとなる。光18
eはミラー22で反射され対物レンズ23で広げられた
後複屈折ウェッジ素子24、偏光板25を通過して等間
隔直線状の干渉縞26となる。この干渉縞26をアレイ
センサー27で検出し、その出力信号28を信号処理回
路29で処理し、コーナーキューブ21の位置を高精度
で求める。
「実施例2」 本発明の偏光干渉計は以下のような表面粗さ計に一応用
できる。第3図には偏光干渉計を用いた表面粗さ計の平
面図を示した。コヒーレント光源30から出射した直線
偏光または円偏光31は複屈折プリズム32(ウォラス
トンプリズムなど)により角度がういた偏光面が直交し
た二つの光31a、31bとなる。これらの光は顕微鏡
用対物レンズ33により被測定物体34の表面上の2゛
点A、Bに集光される。物体上の2点A、Bから反射さ
れて来た光31C,31dは再び対物レンズ33および
複屈折プリズム32を通り一つの光線31eとなる。こ
の光線の方向をミラー35で変え対物レンズ36で広げ
た後、複屈折ウェッジ板37および偏光板38を透過し
て等間隔直線状の干渉縞39となる。この干渉縞39を
アレイセンサー40で検出しその出力信号41を処理回
路42で処理して物体34上の2点A、Bの表面形状差
を高精度で求めることができる。被測定物体34をA点
またはB点を中心にして回転することにより物体の表面
粗さを直接求めることができる。
また物体を直線的に移動させると表面粗さの空間的傾き
を高精度で求めることができる。
「実施例3」 本発明は第4図に示すように光ファイバーを用いた磁界
センサーに応用できる。光源(レーザー等)43からの
直線偏光(または円偏光)44を半透鏡45を通し対物
レンズ46で絞り込んで偏波保持ファイバー47に入射
する。この時の直交偏光を44a、44bとする。光フ
ァイバー47から出射した光を対物レンズ48で平行光
とし、これを1/4波長板49を通して右回り44Cお
よび左回り44dの円偏光を得る。これらの円偏光44
Cおよび44dを、磁界50に比例して偏光面が回転す
るファラデー回転素子51をミラー52により2回透過
させ、磁界により光の位相が変化した円偏光44ekよ
び44fを得る。これらの円偏光44e、44fを再び
1/4波長板、49を通しそれぞれ直交した直線偏光4
4g144hを得る。これら直線偏光44g、44hを
光ファイバー47に再び通し、半透鏡45で折り返した
後、対物レンズ53、複屈折プリズム54および偏光板
55により等間隔直線状の干渉縞 =56を得る。この
干渉縞56は磁界50の強度に比例して横移動する。こ
の干渉縞56を光検出器57で受光しこれからの出力信
号58を信号処理回路59で処理して、干渉縞56の横
移動すなわち磁界を高精度で求める。この干渉計では光
ファイバー47が受ける外部の振動などの影響が光が往
復すると相殺される特徴がある。従ってこの干渉センサ
ーは高精度な磁界センサーを提供する。
以上の実施例のように物理量のセンサーとして偏光干渉
計を用いるならば、被測定物体の物理量例えば回転角、
圧力、温度、電界などを高感度、高精度で求めることが
できる。
「発明の効果」 以上説明したように、本発明の方法によると、直交2偏
光間の光の位相変化を光の波長の数回分の1程度の精度
で高感度、高安定に測定することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明を説明するための基本的干渉計−として
マイケルソン偏光干渉計の平面図、第2図は本発明を用
いた位置検出装置の概略図であり、 第3図は本発明を用いた表面粗さ計の概略図であり、 第4図は本発明を用いた光フアイバー磁界センサーの概
略図である。 1.17,30.43・・・・・・レーザー光源(コヒ
ーレント光源)、 2.18.31.44・・・・・・光、3.19・・・
・・・偏向ビームスプリッタ−14,5,49・・・・
・・1/4波長板、6・・・・・・電歪素子、 ?、   8.  22.  35.  52  ・・
・ ・・・ ミ ラ − 、’9.10,23.46.
53・・・・・・対物レンズ、11.24.32.37
.54・・・・・・複屈折素子、12.55・・・・・
・偏向板、 13.26.39.56・・・・・・干渉縞、14.2
7.40.57・・・・・・アレイセンサー、15.2
8.41・・・・・・出力信号、16.29.42.5
9・・・・・・信号処理回路、20.21・・・・・・
コーナーキューブ、25.38・・・・・・偏向板、 36.46.53・・・・・・対物レンズ、34・・・
・・・被測定物体、 45・・・・・・半透鏡、 47・・・・・・偏波保持ファイバー、50・・・・・
・磁界、 51・・・・・・ファラデー回転素子。 第1図 銅2図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 光源、 この光源からの光を受け、物理量の変化に応じて直交偏
    光面間の位相がずれた光を出力する第1の手段、 前記第1の手段からの光と交わる方向で距離に従って直
    線的に直交偏光面間の位相をずらす第2の手段、 前記第2の手段によって位相がずらされた方向に分解能
    を有するセンサー、および 前記第2の手段と前記センサーとの間に配置された偏光
    板を備えて成る高精度偏光干渉計。
JP30049586A 1986-12-17 1986-12-17 高精度偏光干渉計 Pending JPS63151802A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30049586A JPS63151802A (ja) 1986-12-17 1986-12-17 高精度偏光干渉計

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30049586A JPS63151802A (ja) 1986-12-17 1986-12-17 高精度偏光干渉計

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63151802A true JPS63151802A (ja) 1988-06-24

Family

ID=17885494

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP30049586A Pending JPS63151802A (ja) 1986-12-17 1986-12-17 高精度偏光干渉計

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63151802A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0481356A2 (de) * 1990-10-18 1992-04-22 Dr. Johannes Heidenhain GmbH Polarisationsoptische Anordnung
JPH0682313A (ja) * 1992-03-17 1994-03-22 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 異なって偏光された光ビーム間の位相差を干渉的に決定する方法および装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5786007A (en) * 1980-09-22 1982-05-28 Philips Nv Interference gauge
JPS6182113A (ja) * 1984-09-29 1986-04-25 Satoru Toyooka 光学的微小変位測定方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5786007A (en) * 1980-09-22 1982-05-28 Philips Nv Interference gauge
JPS6182113A (ja) * 1984-09-29 1986-04-25 Satoru Toyooka 光学的微小変位測定方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0481356A2 (de) * 1990-10-18 1992-04-22 Dr. Johannes Heidenhain GmbH Polarisationsoptische Anordnung
US5333048A (en) * 1990-10-18 1994-07-26 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Polarizing interferometric displacement measuring arrangement
JPH0682313A (ja) * 1992-03-17 1994-03-22 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 異なって偏光された光ビーム間の位相差を干渉的に決定する方法および装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4746216A (en) Angle measuring interferometer
US7333214B2 (en) Detector for interferometric distance measurement
US4881816A (en) Linear and angular displacement measuring interferometer
CN110360931B (zh) 一种对称式紧凑型外差干涉光栅位移测量系统
US4881815A (en) Linear and angular displacement measuring interferometer
US5218424A (en) Flying height and topography measuring interferometer
EP0244275B1 (en) Angle measuring interferometer
JPH0466295B2 (ja)
CN108775878B (zh) 光栅外差干涉系统及其滚转角测量方法
US5321502A (en) Measuring method and measuring apparatus
Liu et al. Roll angle interferometer by means of wave plates
JPH03255904A (ja) 微小変位検出装置
US5133599A (en) High accuracy linear displacement interferometer with probe
Ren et al. A novel enhanced roll-angle measurement system based on a transmission grating autocollimator
JPS63151802A (ja) 高精度偏光干渉計
US4875775A (en) Reciprocally switched four modulator system
JPH02115701A (ja) レーザー干渉測長計
EP0461773A2 (en) Linear pitch, and yaw displacement measuring interferometer
JPH01184402A (ja) 光学式変位測定方法および測定装置
Hu et al. A Dual-Axis Optoelectronic Inclinometer Based on Wavefront Interference Fringes
Chen et al. A new high-precision device for one-dimensional grating period measurement
JPS63128211A (ja) スペ−シング測定方法
JPH01142401A (ja) 光学式変位測定装置
Gao et al. Three-dimensional optical profiler using Nomarski interferometry
JPH0712545A (ja) 光ファイバ・アレイを用いた差動型へテロダイン干渉計による原子間力顕微鏡検出装置