JPS63150240A - 4、4、8、8、10−ペンタメチルビシクロ〔4、4、0〕−デセン−(1、6)−オン(2)の製造方法 - Google Patents
4、4、8、8、10−ペンタメチルビシクロ〔4、4、0〕−デセン−(1、6)−オン(2)の製造方法Info
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- JPS63150240A JPS63150240A JP62292240A JP29224087A JPS63150240A JP S63150240 A JPS63150240 A JP S63150240A JP 62292240 A JP62292240 A JP 62292240A JP 29224087 A JP29224087 A JP 29224087A JP S63150240 A JPS63150240 A JP S63150240A
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- pentamethylbicyclo
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/587—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring
- C07C49/613—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring polycyclic
- C07C49/617—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring polycyclic a keto group being part of a condensed ring system
- C07C49/623—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring polycyclic a keto group being part of a condensed ring system having two rings
- C07C49/637—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring polycyclic a keto group being part of a condensed ring system having two rings the condensed ring system containing ten carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
- C07C45/62—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by hydrogenation of carbon-to-carbon double or triple bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/78—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C45/81—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change in the physical state, e.g. crystallisation
- C07C45/82—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change in the physical state, e.g. crystallisation by distillation
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
くは液相反応において、得られる底部生成物を1ないし
100ミリバールで分留することにより約30%の収量
で得られるもののようなC15−ケトン混合物から、選
択的水素化によって4.4.8゜8.10−ペンタメチ
ルビシクロ[4,4,O)−デセン−(1,6’)−オ
ン(2)〔A)を製造する方法に関する。
100ミリバールで分留することにより約30%の収量
で得られるもののようなC15−ケトン混合物から、選
択的水素化によって4.4.8゜8.10−ペンタメチ
ルビシクロ[4,4,O)−デセン−(1,6’)−オ
ン(2)〔A)を製造する方法に関する。
化合物Aは、アミン類、ジアミン類、複素環化合物およ
びその他の多数の物質の合成のだめの好適な前段階であ
る。更にそれらは香料として使用されうる。アセトンの
縮合によるイソホロンの製造の際には、10%までより
高分子量の縮合生成物が生成するが、それらはすぐに燃
焼する。従って、この混合物を価値ある生成物に分離す
るかまたはそれらに変換するという課題があった。
びその他の多数の物質の合成のだめの好適な前段階であ
る。更にそれらは香料として使用されうる。アセトンの
縮合によるイソホロンの製造の際には、10%までより
高分子量の縮合生成物が生成するが、それらはすぐに燃
焼する。従って、この混合物を価値ある生成物に分離す
るかまたはそれらに変換するという課題があった。
この課題は、本発明によれば特許請求の範囲に規定され
ている方法によって解決される。
ている方法によって解決される。
驚くべきことには、本発明者らは、イソホロン底部生成
物の特定の留分を選択的に水素化することによって、工
業的に容易に実施しうる工程によって上記の化合物Aを
良好な収量をもって得ることができることを見出した。
物の特定の留分を選択的に水素化することによって、工
業的に容易に実施しうる工程によって上記の化合物Aを
良好な収量をもって得ることができることを見出した。
イソホロン底部生成物を1ないし100ミリバール、好
ましくは10ないし30ミリバールにおいて分留するこ
とによって、実質的にC15−化合物よシなるケトン留
分が得られる。約30%の収量で得られるこの留分け、
13ミリバールの圧力においては、125ないし145
℃において沸騰する。この留分は、主成分として異性体
BおよびCを含有する: BおよびCにおける二重結合の位置は、完全に確認され
ているというわけではない。
ましくは10ないし30ミリバールにおいて分留するこ
とによって、実質的にC15−化合物よシなるケトン留
分が得られる。約30%の収量で得られるこの留分け、
13ミリバールの圧力においては、125ないし145
℃において沸騰する。この留分は、主成分として異性体
BおよびCを含有する: BおよびCにおける二重結合の位置は、完全に確認され
ているというわけではない。
2つの異性体BおよびC相互の割合は、一定ではない。
同様に、C15−留分中の上記の2つの物質の含量は種
々異なりうる。両人性体の合計は、C15−留分に対し
て75ないし90%である。
々異なりうる。両人性体の合計は、C15−留分に対し
て75ないし90%である。
C15−ケトン留分の水素化は、一般に極めて複雑な反
応混合物をもたらす。ニッケル触媒を使用する場合には
、化合物BおよびCか□ら、対応する飽和アルコール(
16異性体まで)が得られる。パラジウム触媒を用い比
較的高い温度および圧力において化合物BおよびCを水
素化する場合には、飽和ケトン(8異性体まで)が生・
成する。
応混合物をもたらす。ニッケル触媒を使用する場合には
、化合物BおよびCか□ら、対応する飽和アルコール(
16異性体まで)が得られる。パラジウム触媒を用い比
較的高い温度および圧力において化合物BおよびCを水
素化する場合には、飽和ケトン(8異性体まで)が生・
成する。
本発明者らは、化合物BおよびCは、25ないし150
℃の低い温度および20ないし250バールの水素圧に
おいて貴金属触媒を用いて水素化するならば、選択的に
、tt4とんど定量的収量で同じケトンAtで水素化さ
れうろことを見出した。
℃の低い温度および20ないし250バールの水素圧に
おいて貴金属触媒を用いて水素化するならば、選択的に
、tt4とんど定量的収量で同じケトンAtで水素化さ
れうろことを見出した。
80ないし100℃の温度において水素化することが好
ましい。水素化は、好ましくは80ないし150バール
の水素圧において行なわれる。
ましい。水素化は、好ましくは80ないし150バール
の水素圧において行なわれる。
水素化触媒としては、例えば白金族、例えばパラジウム
、白金の触媒のような貴金属触媒が好適である。例えば
、Pd/CまたはPd/A 1203のような市販の触
媒を使用しうる。これらの触媒は、一般に0.1ないし
2%、好ましくは0.5ないし2重量%の貴金属を含有
する。好ましくはパラジウム触媒が使用される。
、白金の触媒のような貴金属触媒が好適である。例えば
、Pd/CまたはPd/A 1203のような市販の触
媒を使用しうる。これらの触媒は、一般に0.1ないし
2%、好ましくは0.5ないし2重量%の貴金属を含有
する。好ましくはパラジウム触媒が使用される。
アルコール、特にメタノールを添加することによって、
化合物Aの僅かな過剰水素化を避けることができる。こ
のアルコールは、好ましくは、水素化バッチに関して1
0ないし60%の量で使用される。
化合物Aの僅かな過剰水素化を避けることができる。こ
のアルコールは、好ましくは、水素化バッチに関して1
0ないし60%の量で使用される。
水素化は、連続的または不連続的に実施される。副生成
物の一部は、ケトンAと異なる沸騰範囲を有する物質ま
で水素化され、従って精留によって随伴物質の大部分を
分離することができる。
物の一部は、ケトンAと異なる沸騰範囲を有する物質ま
で水素化され、従って精留によって随伴物質の大部分を
分離することができる。
選択的水素化によって、水素化条件下で安定な生成物が
得られる。従って、水素化の時間は、臨界的々ものでは
ない。例8および9が示すように、4.4.8.8.1
0−ペンタメチルビシクロ〔4,4,0〕−デセン−(
1,6)−オン(2)は、水素化を継続することによっ
てそれ以上水素化されることはない。
得られる。従って、水素化の時間は、臨界的々ものでは
ない。例8および9が示すように、4.4.8.8.1
0−ペンタメチルビシクロ〔4,4,0〕−デセン−(
1,6)−オン(2)は、水素化を継続することによっ
てそれ以上水素化されることはない。
例1
イソホロン合成(アセトンの縮合による)の底部生成物
を13ミリバールの圧力において分留する。この場合、
主成分BおよびCを含有するC15−化合物から実質的
になるケトン留分(Kp13125ないし145℃)を
30%の収量で得られる。
を13ミリバールの圧力において分留する。この場合、
主成分BおよびCを含有するC15−化合物から実質的
になるケトン留分(Kp13125ないし145℃)を
30%の収量で得られる。
このC15−ケトン留分(864%:C12,6%)3
00gおよびメタノール700m1よりなる溶液を21
のオートクレーブ中でPd/C2%を含有する触媒50
gを用い80℃の温度および100バールの圧力におい
て8時間水素化した。触媒を炉別しそしてメタノールを
除去した後に、A76.6%BO%および00%を含有
する溶液が得られた。
00gおよびメタノール700m1よりなる溶液を21
のオートクレーブ中でPd/C2%を含有する触媒50
gを用い80℃の温度および100バールの圧力におい
て8時間水素化した。触媒を炉別しそしてメタノールを
除去した後に、A76.6%BO%および00%を含有
する溶液が得られた。
精留によって純粋な化合物Aが得られる。
例2
例1の記載に従って得られたC15−ケトン留分(86
5%:C18,3%) 1000gを21のオートクレ
ーブ中でPd/C2%を含有する触媒50gを用い80
℃において100バールの圧力において3時間水素化し
た。触媒を炉別した後、A 77.8%、80%および
00%を含有する溶液が得られた。
5%:C18,3%) 1000gを21のオートクレ
ーブ中でPd/C2%を含有する触媒50gを用い80
℃において100バールの圧力において3時間水素化し
た。触媒を炉別した後、A 77.8%、80%および
00%を含有する溶液が得られた。
例3
例1の記載に従って得られたq5−ケトン留分(B58
.9%、C1,6,5%) 100rr+A?を200
mllのオートクレーブ中でPd/C2%を含有する
触媒を用い80℃において145バールの圧力において
5時間水素化した。触媒の分離後、A70%、80%お
よび00%を含有する涙液が得られた。
.9%、C1,6,5%) 100rr+A?を200
mllのオートクレーブ中でPd/C2%を含有する
触媒を用い80℃において145バールの圧力において
5時間水素化した。触媒の分離後、A70%、80%お
よび00%を含有する涙液が得られた。
例4
C15−ケトン留分CB58.9%:C16%)TOr
rJおよびメタノールaomzからなる溶液を200m
A?のオートクレーブ中でPd/C2%を含有する触媒
5gを用いて80℃において145バールの圧力におい
て5時間水素化した。触媒を分離しそしてメタノールを
除去した後、A2B、5%、80%および00%を含有
する溶液が得られる。
rJおよびメタノールaomzからなる溶液を200m
A?のオートクレーブ中でPd/C2%を含有する触媒
5gを用いて80℃において145バールの圧力におい
て5時間水素化した。触媒を分離しそしてメタノールを
除去した後、A2B、5%、80%および00%を含有
する溶液が得られる。
例5
C15−’f ) 7留分(B 58.9%:C16,
5%)IQOm/を200m1lのオートクレーブ中で
0.5%Pd/Al2O3ノ触媒5gを用い80℃およ
び145バールの圧力において5時間水素化した。触媒
の炉別後、A 69.8%、80%および00%を含有
する涙液が得られた。
5%)IQOm/を200m1lのオートクレーブ中で
0.5%Pd/Al2O3ノ触媒5gを用い80℃およ
び145バールの圧力において5時間水素化した。触媒
の炉別後、A 69.8%、80%および00%を含有
する涙液が得られた。
例6
C15−ケトン留分(B58.9%:C16,5%)7
0mlおよびメタノール30mff1よりなる溶液を2
00m7のオートクレーブ中で0.5%Pd/Al2O
3の触媒5gを用い80℃および145バールの圧力に
おいて5時間水素化した。触媒を炉別しそしてメタノー
ルを除去した後、A 74.8%、B。
0mlおよびメタノール30mff1よりなる溶液を2
00m7のオートクレーブ中で0.5%Pd/Al2O
3の触媒5gを用い80℃および145バールの圧力に
おいて5時間水素化した。触媒を炉別しそしてメタノー
ルを除去した後、A 74.8%、B。
%および00%よりなる溶液が得られた。
例7(後水素化)
89.2%のA ]、000mを200m7のオルトク
レーブ中で0.5%Pd/A 1203の触媒5gを用
い80℃および145バールの圧力において5時間水素
化した。触媒の分離後、A 82.7%の溶液が得られ
た。
レーブ中で0.5%Pd/A 1203の触媒5gを用
い80℃および145バールの圧力において5時間水素
化した。触媒の分離後、A 82.7%の溶液が得られ
た。
例8(後水素化)
Ag3.2%およびメタノール80m1lよりなる溶液
を200 mlのオートクレーブ中で0.5%Pd/A
l2O3の触媒5gを用い80℃および145バールの
圧力において5時間水素化した。触媒を分離しそしてメ
タノールを除去した後、A 89.1%の溶液が得られ
た。
を200 mlのオートクレーブ中で0.5%Pd/A
l2O3の触媒5gを用い80℃および145バールの
圧力において5時間水素化した。触媒を分離しそしてメ
タノールを除去した後、A 89.1%の溶液が得られ
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、4,4,8,8,10−ペンタメチルビシクロ〔4
,4,0〕−デセン−(1,6)−オン(2)の製造方
法において、イソホロンの製造の際に得られる底部生成
物を1ないし100ミリバールの圧力で分留し、得られ
る実質的にC_1_5−化合物よりなり主成分として異
性体BおよびC ▲数式、化学式、表等があります▼B ▲数式、化学式
、表等があります▼C を含有するケトン留分を単離し、そして貴金属触媒の存
在下に20ないし250バールの水素圧および25ない
し150℃の温度で選択的に水素化しそしてこの水素化
バツチを精留することを特徴とする上記4,4,8,8
,10−ペンタメチルビシクロ〔4,4,0〕−デセン
−(1,6)−オン(2)の製造方法。 2、貴金属触媒としてパラジウム触媒を使用する特許請
求の範囲第1項記載の方法。 3、80ないし150バールの水素圧において水素化す
る特許請求の範囲第1項または第2項に記載の方法。 4、80ないし100℃の温度において水素化する特許
請求の範囲第1項〜第3項のいずれかに記載の方法。 5、アルコール、好ましくはメタノールを添加した後に
水素化する特許請求の範囲第1項〜第4項のいずれかに
記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19863639921 DE3639921A1 (de) | 1986-11-22 | 1986-11-22 | Verfahren zur herstellung von 4.4.8.8.10-pentamethylbicyclo(4.4.0)-decen-(1.6)-on(2) |
DE3639921.3 | 1986-11-22 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63150240A true JPS63150240A (ja) | 1988-06-22 |
Family
ID=6314536
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62292240A Pending JPS63150240A (ja) | 1986-11-22 | 1987-11-20 | 4、4、8、8、10−ペンタメチルビシクロ〔4、4、0〕−デセン−(1、6)−オン(2)の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4788342A (ja) |
EP (1) | EP0273109B1 (ja) |
JP (1) | JPS63150240A (ja) |
DE (2) | DE3639921A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014529333A (ja) * | 2011-07-07 | 2014-11-06 | フイルメニツヒ ソシエテ アノニムFirmenich Sa | アロマティックノートを有するペンタ/ヘキサメチル−3,4,5,8−テトラヒドロ−1(2h)−ナフタレノン誘導体 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1205525B (de) * | 1960-12-23 | 1965-11-25 | Bergwerksgesellschaft Hibernia | Verfahren zur Aufarbeitung von Nebenprodukten der Isophoronherstellung |
NL272258A (ja) * | 1960-12-23 | |||
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