JPS6314876B2 - - Google Patents
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- JPS6314876B2 JPS6314876B2 JP56098858A JP9885881A JPS6314876B2 JP S6314876 B2 JPS6314876 B2 JP S6314876B2 JP 56098858 A JP56098858 A JP 56098858A JP 9885881 A JP9885881 A JP 9885881A JP S6314876 B2 JPS6314876 B2 JP S6314876B2
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/0315—Waveguide lasers
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はレーザ装置にかかわり、特に導波路
型ガスレーザ装置に関する。
型ガスレーザ装置に関する。
近年、伝搬可能な中空導波路内で励起放電さ
せ、これによつてレーザ光を発生させるようにし
た導波路型ガスレーザ装置が開発されているが、
現在これの励起方式には大きくわけて2つの方式
がある。
せ、これによつてレーザ光を発生させるようにし
た導波路型ガスレーザ装置が開発されているが、
現在これの励起方式には大きくわけて2つの方式
がある。
1つは従来より行なわれている10〔kV〕程度の
高圧直流電圧による直流励起(以下DC励起と称
する)であり、もう一つは米国特許4169251号あ
るいは特許出願公開昭54−103692号に示されてい
るように30〔MHz〕〜3〔GHz〕のVHF帯あるい
はUHF帯における高周波励起、即ちRF励起によ
る方法である。
高圧直流電圧による直流励起(以下DC励起と称
する)であり、もう一つは米国特許4169251号あ
るいは特許出願公開昭54−103692号に示されてい
るように30〔MHz〕〜3〔GHz〕のVHF帯あるい
はUHF帯における高周波励起、即ちRF励起によ
る方法である。
また、上記DC励起方式は電極1の放電路を光
軸に平行にとるか垂直にとるかによつて2つの方
式に分かれる。即ち、第1図に示すように放電路
2を光軸3に平行に形成すると共に電極1を光軸
3方向に離間させて配置する縦形励起方式及び第
2図に示す光軸3を介して対峙させる横形励起方
式に分けることができる。
軸に平行にとるか垂直にとるかによつて2つの方
式に分かれる。即ち、第1図に示すように放電路
2を光軸3に平行に形成すると共に電極1を光軸
3方向に離間させて配置する縦形励起方式及び第
2図に示す光軸3を介して対峙させる横形励起方
式に分けることができる。
そして、いずれの方式のものも電極1間で放電
を生じさせ、その放電により得た光を放電路2の
両端に設けられる図示しない共振ミラーで反射さ
せて放電路2内で共振させ、増幅してレーザ光と
して出力する。
を生じさせ、その放電により得た光を放電路2の
両端に設けられる図示しない共振ミラーで反射さ
せて放電路2内で共振させ、増幅してレーザ光と
して出力する。
ところで、上述の縦形励起方式では、電極間隔
が長いため、電極1に加える印加電圧を高くしな
ければ放電させることができない。又、上述の電
極1や放電路2、共振ミラー等はレーザ管に封入
されるがこのレーザ管を密封するため管を封じ切
りにする時はガス圧を上げることにより、長期寿
命化をはかるが、ガス圧の上昇は放電に必要な電
圧をさらに上げることになる。
が長いため、電極1に加える印加電圧を高くしな
ければ放電させることができない。又、上述の電
極1や放電路2、共振ミラー等はレーザ管に封入
されるがこのレーザ管を密封するため管を封じ切
りにする時はガス圧を上げることにより、長期寿
命化をはかるが、ガス圧の上昇は放電に必要な電
圧をさらに上げることになる。
これに対し、上記横形励起方式は第2図の如く
放電路に沿つた平行な一対の電極1を光軸3を介
して対峙させる方式であるため、電極間隔が狭く
なるから印加電圧は縦形励起方式よりも低くする
ことができ、その分、ガス圧を上げやすい利点が
あるが、反面、平行な電極であるから導波路2中
で一様な放電をさせることが難しいといつた欠点
もある。
放電路に沿つた平行な一対の電極1を光軸3を介
して対峙させる方式であるため、電極間隔が狭く
なるから印加電圧は縦形励起方式よりも低くする
ことができ、その分、ガス圧を上げやすい利点が
あるが、反面、平行な電極であるから導波路2中
で一様な放電をさせることが難しいといつた欠点
もある。
DC励起による縦形励起方式及び横形励起方式
の共通の欠点は、どちらも放電インピーダンスが
負特性であるため、放電電流の時間的な安定化及
び導波路内での空間的な安定のために、バラスト
抵抗を直列に接続する必要があり、効率の悪化、
装置の大型化を招くことである。又、DC励起に
よる放電においては、陰極降下が存在するため、
陰極によるスパツタリングが共振ミラーを汚し、
レーザ出力を減少させ、又、陰極降下領域中での
高電場はレーザガスを分離し、装置寿命を制限す
る。
の共通の欠点は、どちらも放電インピーダンスが
負特性であるため、放電電流の時間的な安定化及
び導波路内での空間的な安定のために、バラスト
抵抗を直列に接続する必要があり、効率の悪化、
装置の大型化を招くことである。又、DC励起に
よる放電においては、陰極降下が存在するため、
陰極によるスパツタリングが共振ミラーを汚し、
レーザ出力を減少させ、又、陰極降下領域中での
高電場はレーザガスを分離し、装置寿命を制限す
る。
初期の導波路型ガスレーザ装置、例えば米国特
許3772611号あるいは米国特許4103255号にみられ
る導波路型ガスレーザ装置では、電源が比較的簡
単な構成で済むDC励起方式で行なわれていたが、
大出力のレーザ光を得るためには、導波路長即
ち、放電路長を長くとることが必要となり、その
ために縦形励起方式では電極間隔がより長くな
り、放電電圧が必然的に高くなる問題を生じ、ま
た、横形励起方式では放電の空間的一様性が得に
くく、効率の面で問題を生じている。
許3772611号あるいは米国特許4103255号にみられ
る導波路型ガスレーザ装置では、電源が比較的簡
単な構成で済むDC励起方式で行なわれていたが、
大出力のレーザ光を得るためには、導波路長即
ち、放電路長を長くとることが必要となり、その
ために縦形励起方式では電極間隔がより長くな
り、放電電圧が必然的に高くなる問題を生じ、ま
た、横形励起方式では放電の空間的一様性が得に
くく、効率の面で問題を生じている。
このようなことからDC励起による導波路型ガ
スレーザ装置で得られる出力は数Wが上限であつ
た。
スレーザ装置で得られる出力は数Wが上限であつ
た。
これに対し、RF励起方式は第3図に示すよう
に絶縁体4を介在させて平行に一対の電極1を対
峙させ配設し、導波路を形成し、前記電極1に
30MHz〜36GHzのいわゆるVHF帯あるいはUHF
帯の高周波電界を印加することにより、放電を起
こさせる方式であり、次のような長所がある。即
ち 1 無電極放電であり、陰極降下が存在しないた
め、陰極のスパツタリングがなく、共振器ミラ
ー汚れが少なく、ガスの解離も少ない。したが
つて長寿命。
に絶縁体4を介在させて平行に一対の電極1を対
峙させ配設し、導波路を形成し、前記電極1に
30MHz〜36GHzのいわゆるVHF帯あるいはUHF
帯の高周波電界を印加することにより、放電を起
こさせる方式であり、次のような長所がある。即
ち 1 無電極放電であり、陰極降下が存在しないた
め、陰極のスパツタリングがなく、共振器ミラ
ー汚れが少なく、ガスの解離も少ない。したが
つて長寿命。
2 陰極降下がないため、励起エネルギの損失が
少ない。
少ない。
3 横形励起にすれば励起電圧を100V程度の低
電圧にすることができ電源装置の故障を少なく
できる。
電圧にすることができ電源装置の故障を少なく
できる。
4 放電インピーダンスが正のため、放電安定化
に必要なバラスト抵抗が不要。したがつて装置
の小型化、効率の向上に役立つ。
に必要なバラスト抵抗が不要。したがつて装置
の小型化、効率の向上に役立つ。
5 放電が空間的に一様に分布する。
6 高出力化,小型軽量化しやすい。
などである。
これに対し短所は以下に示す点である。
1 DC電源の他にRF励起源を必要とする。
2 導波路とRF励起源とのインピーダンスマツ
チングをとる必要があり、これを行なわない
と、エネルギが有効に伝送されず、効率が悪く
なる。
チングをとる必要があり、これを行なわない
と、エネルギが有効に伝送されず、効率が悪く
なる。
3 DCからRFへの変換効率が発生する周波数に
よつても変わるがおおよそ60%前後のため、
RF励起源での発熱量が多い。
よつても変わるがおおよそ60%前後のため、
RF励起源での発熱量が多い。
4 レーザ出力の制御性が悪い、即ち、導波路と
のマツチングをとる必要があるため大幅な周波
数シフトはとれず周波数変調では十分なレーザ
出力の可変幅を得られない。又、印加高周波電
圧値の可変を行なうAM変調(振幅変調)では
RF源の損失が大きく、発熱量が多く、放熱の
ための対策が必要となり装置の小型、軽量化を
難しくする。
のマツチングをとる必要があるため大幅な周波
数シフトはとれず周波数変調では十分なレーザ
出力の可変幅を得られない。又、印加高周波電
圧値の可変を行なうAM変調(振幅変調)では
RF源の損失が大きく、発熱量が多く、放熱の
ための対策が必要となり装置の小型、軽量化を
難しくする。
本発明は上記事情に鑑みて成されたもので、そ
の目的とするところは、前記RF励起方式の長所
をそのまま備えつつ、短所をすべて解決したハ
イ・リピテイシヤン・パルス・トランスバース・
デイスチヤージ・イクサイテーシヨン(HIGH
REPETITION PULSE TRANSVERSE
DISCHARGE EXCITATION)法(以下HRP
法と呼ぶ)による導波路型ガスレーザ装置を提供
せんとするものであり、以下、その詳細を図面及
び実施例に基づいて説明する。
の目的とするところは、前記RF励起方式の長所
をそのまま備えつつ、短所をすべて解決したハ
イ・リピテイシヤン・パルス・トランスバース・
デイスチヤージ・イクサイテーシヨン(HIGH
REPETITION PULSE TRANSVERSE
DISCHARGE EXCITATION)法(以下HRP
法と呼ぶ)による導波路型ガスレーザ装置を提供
せんとするものであり、以下、その詳細を図面及
び実施例に基づいて説明する。
第4図は、本発明装置のうち、導波路部分につ
いての一実施例を示す斜視断面図である。図中4
1は上下に離間して配設された縦長の一対の電極
であり、この電極41は金属製で且つレーザ光の
光軸42方向に沿つて配設されている。また、こ
の一対の電極41間にはその側端縁近傍に前記光
軸42に沿つて絶縁材43が配設されており、こ
の絶縁材43と電極41とによつて包囲されて形
成される前記光軸42に沿つた空間が導波路44
となる。また上記電極41はその導波路壁面部分
となる部分は5μm以下のラフネス即ち仕上げ精度
で光学研磨されている。また前記絶縁材43はそ
の導波路壁面となる部分について5μm以下のラフ
ネスで光学研磨されており、且つこの絶縁材43
は熱伝導特性と絶縁特性の優れた材料で作られて
いる。45は導波路を形成する電極41、絶縁材
43を包囲し、導波路部分を外部より密封し、保
護する封入カバーである。レーザガスは導波路内
及び封入カバー45で囲まれた空間内に封じ込ま
れている。レーザガスとしてはCO2(二酸化炭
素)、N2(ちつ素)、He(ヘリウム)の三種混合ガ
スを使用し得るが他のレーザガスもしくは、他の
混合ガスにおいても使用され得る。
いての一実施例を示す斜視断面図である。図中4
1は上下に離間して配設された縦長の一対の電極
であり、この電極41は金属製で且つレーザ光の
光軸42方向に沿つて配設されている。また、こ
の一対の電極41間にはその側端縁近傍に前記光
軸42に沿つて絶縁材43が配設されており、こ
の絶縁材43と電極41とによつて包囲されて形
成される前記光軸42に沿つた空間が導波路44
となる。また上記電極41はその導波路壁面部分
となる部分は5μm以下のラフネス即ち仕上げ精度
で光学研磨されている。また前記絶縁材43はそ
の導波路壁面となる部分について5μm以下のラフ
ネスで光学研磨されており、且つこの絶縁材43
は熱伝導特性と絶縁特性の優れた材料で作られて
いる。45は導波路を形成する電極41、絶縁材
43を包囲し、導波路部分を外部より密封し、保
護する封入カバーである。レーザガスは導波路内
及び封入カバー45で囲まれた空間内に封じ込ま
れている。レーザガスとしてはCO2(二酸化炭
素)、N2(ちつ素)、He(ヘリウム)の三種混合ガ
スを使用し得るが他のレーザガスもしくは、他の
混合ガスにおいても使用され得る。
このような構成の導波路44は基本的にはRF
励起法の導波路と同じであり、電極41に三値論
理形式の高圧パルス電圧を印加して放電させ、こ
れを導波路44の両端側に設けられる図示しない
共振ミラーで光共振させてレーザ光を励起させ、
光軸方向にレーザ光を放出する。
励起法の導波路と同じであり、電極41に三値論
理形式の高圧パルス電圧を印加して放電させ、こ
れを導波路44の両端側に設けられる図示しない
共振ミラーで光共振させてレーザ光を励起させ、
光軸方向にレーザ光を放出する。
ところで、放電時には放電による発熱のため、
導波路内で高熱が発生し導波路内面が加熱されレ
ーザガス温度も上昇する。一方利得の点から考え
るとレーザガス温度の上昇とともに利得が下がり
レーザ出力が下がる。このため、電極41及び導
波路44を十分冷却することによりレーザ出力の
低下を防ぐ必要がある。そこで本発明にあつては
電極41には熱伝導特性が優れ、なおかつ導電性
の優れた金属を使用している。即ち、銅、アルミ
ニウムなどがこれに適している。一方絶縁材43
には光学研磨することにより十分な反射特性が得
られることはもちろん、熱伝導特性が優れ、絶縁
性の優れた素材を選択することが必要である。即
ち、これにはBeOが最適であり、ついでBN,
SiO,Al2O3、などが優れている。又、本発明に
あつては電極41と絶縁材43との間の熱的な結
合を円滑に行なうようにしている。即ち、熱抵抗
を少なくするに電極41と絶縁材43との接する
面について十分な平面度をもたせ、両面を機械的
に密着させている。
導波路内で高熱が発生し導波路内面が加熱されレ
ーザガス温度も上昇する。一方利得の点から考え
るとレーザガス温度の上昇とともに利得が下がり
レーザ出力が下がる。このため、電極41及び導
波路44を十分冷却することによりレーザ出力の
低下を防ぐ必要がある。そこで本発明にあつては
電極41には熱伝導特性が優れ、なおかつ導電性
の優れた金属を使用している。即ち、銅、アルミ
ニウムなどがこれに適している。一方絶縁材43
には光学研磨することにより十分な反射特性が得
られることはもちろん、熱伝導特性が優れ、絶縁
性の優れた素材を選択することが必要である。即
ち、これにはBeOが最適であり、ついでBN,
SiO,Al2O3、などが優れている。又、本発明に
あつては電極41と絶縁材43との間の熱的な結
合を円滑に行なうようにしている。即ち、熱抵抗
を少なくするに電極41と絶縁材43との接する
面について十分な平面度をもたせ、両面を機械的
に密着させている。
また、本発明の導波路型ガスレーザ装置におい
ては、交番パルス電界は放電電子の相互作用を無
視できる程度の十分早い時間で反転する“H”,
“O”,“L”の三つのレベルを有する3値論理形
式のパルスとして電極41の間に印加させる。即
ち、これはRF励起方式の意味するところと、全
く同一であり、電極41は導波路中の交番パルス
電界による放電中の電子及び陽イオンの移動を制
御する機能のみを有し、放電電流を与えない。
ては、交番パルス電界は放電電子の相互作用を無
視できる程度の十分早い時間で反転する“H”,
“O”,“L”の三つのレベルを有する3値論理形
式のパルスとして電極41の間に印加させる。即
ち、これはRF励起方式の意味するところと、全
く同一であり、電極41は導波路中の交番パルス
電界による放電中の電子及び陽イオンの移動を制
御する機能のみを有し、放電電流を与えない。
したがつて陰極降下が存在しないためスパツタ
リングがなく、ガスの解難も少ない長寿命動作が
可能であり、陰極降下による励起エネルギの損失
もなくなる。
リングがなく、ガスの解難も少ない長寿命動作が
可能であり、陰極降下による励起エネルギの損失
もなくなる。
又、放電維持電圧は低下し、低電圧動作を可能
にし、放電インピーダンスは正の特性を示し、放
電の空間的一様性が得られる。
にし、放電インピーダンスは正の特性を示し、放
電の空間的一様性が得られる。
さらに放電インピーダンスが正特性であること
から放電安定化のためのバラスト抵抗が不要とな
り、バラスト抵抗で消費されるエネルギ損失もな
くなる。
から放電安定化のためのバラスト抵抗が不要とな
り、バラスト抵抗で消費されるエネルギ損失もな
くなる。
本発明において電極41に印加される交番パル
ス電圧は第5図に示すような3値論理形式の波形
をしている。即ち一周期TのうちT1の期間+Vcc
〔V〕(論理レベル“H”)になりつづいてT2の期
間0〔V〕になり再度T1の期間−Vcc〔V〕(論理
レベル“L”)になるパルス波形である。このよ
うな波形のパルスを電極41に印加することによ
りつぎのような特性を得ることができる。即ち、
この時の最適パルス振幅値はガス圧電極間隔によ
つてかなり変わるが一例としてあげるとガス圧
100〔Torr〕電極間隔1〔mm〕では(1)式で示され
る。
ス電圧は第5図に示すような3値論理形式の波形
をしている。即ち一周期TのうちT1の期間+Vcc
〔V〕(論理レベル“H”)になりつづいてT2の期
間0〔V〕になり再度T1の期間−Vcc〔V〕(論理
レベル“L”)になるパルス波形である。このよ
うな波形のパルスを電極41に印加することによ
りつぎのような特性を得ることができる。即ち、
この時の最適パルス振幅値はガス圧電極間隔によ
つてかなり変わるが一例としてあげるとガス圧
100〔Torr〕電極間隔1〔mm〕では(1)式で示され
る。
100〔V〕<|±Vcc|<200〔V〕 ……(1)
範囲の低電圧値で十分動作可能である。又、パ
ルス繰り返し周期Tは(2)式で示されるが T=2*T1+T2 ……(2) この時のパルス繰り返し周期Tは次の(3)式で示
される範囲であることが望ましい。即ち 30nsT10000ns ……(3) パルス繰り返し周期Tの下限が30ns程度で制限
されるのは現在得られるパルス発生素子即ちスイ
ツチング素子の最も短かい応答時間が数ns程度で
あるためである。しかしパルス繰り返し周期Tに
ついてはパルス発生素子の問題を除いて考えれば
下限は、導波路が分布定数回路として見做し得る
値、即ち10ns程度となる。
ルス繰り返し周期Tは(2)式で示されるが T=2*T1+T2 ……(2) この時のパルス繰り返し周期Tは次の(3)式で示
される範囲であることが望ましい。即ち 30nsT10000ns ……(3) パルス繰り返し周期Tの下限が30ns程度で制限
されるのは現在得られるパルス発生素子即ちスイ
ツチング素子の最も短かい応答時間が数ns程度で
あるためである。しかしパルス繰り返し周期Tに
ついてはパルス発生素子の問題を除いて考えれば
下限は、導波路が分布定数回路として見做し得る
値、即ち10ns程度となる。
一方パルス繰り返し周期Tの上限値は特に明確
な境界があるわけでなく、10000ns程度以下であ
ればほとんど問題なく放電を開始する。
な境界があるわけでなく、10000ns程度以下であ
ればほとんど問題なく放電を開始する。
次に第6図は本発明によるハイ・リピテイシヤ
ン・パルス・トランスバース・デイスチヤージ・
エキサイテーシヨン(HRP)法による励起源の
基本構成を示したものである。
ン・パルス・トランスバース・デイスチヤージ・
エキサイテーシヨン(HRP)法による励起源の
基本構成を示したものである。
図において61はパルス発生回路で二系統の出
力端子61a,61bを有し、出力端子61a及
び出力端子61bには第7図a,bに示すスイツ
チング信号があらわれる。62及び63はスイツ
チング素子でありスイツチング素子62は前記パ
ルス発生回路61の出力端子61aにあらわれる
スイツチング信号によつて制御され、また、スイ
ツチング素子61bは出力端子61bにあらわれ
るスイツチング信号によつてオン,オフ制御され
ている。64は正の直流電圧+Vccの加わるプラ
スの電源端子であり、65は負直流電圧―Vccの
加わるマイナスの電源端子である。66は励起源
の出力端子であり前記スイツチング素子62,6
3の出力側が接続されてその合成出力として第7
図のcに示すタイムチヤートに従つた、3値論理
形式のパルス波形を出力する。
力端子61a,61bを有し、出力端子61a及
び出力端子61bには第7図a,bに示すスイツ
チング信号があらわれる。62及び63はスイツ
チング素子でありスイツチング素子62は前記パ
ルス発生回路61の出力端子61aにあらわれる
スイツチング信号によつて制御され、また、スイ
ツチング素子61bは出力端子61bにあらわれ
るスイツチング信号によつてオン,オフ制御され
ている。64は正の直流電圧+Vccの加わるプラ
スの電源端子であり、65は負直流電圧―Vccの
加わるマイナスの電源端子である。66は励起源
の出力端子であり前記スイツチング素子62,6
3の出力側が接続されてその合成出力として第7
図のcに示すタイムチヤートに従つた、3値論理
形式のパルス波形を出力する。
本発明において、このような波形の交番パルス
電界を電極41に印加することにより、装置自体
は次のような性能を実現することができる。即
ち、第1にRF励起源よりも回路的に非常に簡単
かつ小型かつ軽量安価なパルス発生源により、
RF励起と同じ励起効果を遂行できる。即ち第8
図は一般的な500WのRF励起源の基本構成図であ
るが、まずオシレータ(O.S.C)81によりVHF
帯あるいはUHF帯の高周波を発生し、これをバ
ツフアアンプ82を通し増幅後小電力増幅段83
を通して増幅する。さらに大電力増幅段84で増
幅する。第8図中ではこの大電力増幅段84は一
例としてパラレル方式で増幅し合成器85で合成
しているが他の方式でも実現可能であることはい
うまでもない。
電界を電極41に印加することにより、装置自体
は次のような性能を実現することができる。即
ち、第1にRF励起源よりも回路的に非常に簡単
かつ小型かつ軽量安価なパルス発生源により、
RF励起と同じ励起効果を遂行できる。即ち第8
図は一般的な500WのRF励起源の基本構成図であ
るが、まずオシレータ(O.S.C)81によりVHF
帯あるいはUHF帯の高周波を発生し、これをバ
ツフアアンプ82を通し増幅後小電力増幅段83
を通して増幅する。さらに大電力増幅段84で増
幅する。第8図中ではこの大電力増幅段84は一
例としてパラレル方式で増幅し合成器85で合成
しているが他の方式でも実現可能であることはい
うまでもない。
一方、500W出力の本発明による励起源では第
6図に示したようにパルス発生回路61とスイツ
チング素子62,63からなるパルス発生源だけ
で構成することができる。第2にRF励起方式で
はDC電源からのエネルギを高周波即ちRFのエネ
ルギに変換する効率は増幅器の増幅形態によつて
も異なるがB級あるいはAB級増幅器で増幅した
場合、理論上78%であり、実際にはその他の付属
回路あるいは周辺回路でのエネルギ消費であるた
め、効率60%〜70%である。したがつて40%〜30
%がRF励起源内で熱として消費されることにな
る。
6図に示したようにパルス発生回路61とスイツ
チング素子62,63からなるパルス発生源だけ
で構成することができる。第2にRF励起方式で
はDC電源からのエネルギを高周波即ちRFのエネ
ルギに変換する効率は増幅器の増幅形態によつて
も異なるがB級あるいはAB級増幅器で増幅した
場合、理論上78%であり、実際にはその他の付属
回路あるいは周辺回路でのエネルギ消費であるた
め、効率60%〜70%である。したがつて40%〜30
%がRF励起源内で熱として消費されることにな
る。
ところが、RF励起源の出力が大きな場合、例
えば数百Wの出力を扱うような励起源ではこの損
失は無視できない数値になる。即ち500Wの出力
を発生している状態では210〔W〕〜330〔W〕のエ
ネルギが励起源内部で熱の形で発生するため、十
分な放熱対策を行なう必要が生じ、その結果、装
置自体の大型化を招くことにもなる。
えば数百Wの出力を扱うような励起源ではこの損
失は無視できない数値になる。即ち500Wの出力
を発生している状態では210〔W〕〜330〔W〕のエ
ネルギが励起源内部で熱の形で発生するため、十
分な放熱対策を行なう必要が生じ、その結果、装
置自体の大型化を招くことにもなる。
又、変換効率が悪いということは省エネルギに
反することでもあり、500〔W〕の高周波出力を得
るのに約800〔W〕のエネルギをDC電源から供給
しなければならないことを意味する。
反することでもあり、500〔W〕の高周波出力を得
るのに約800〔W〕のエネルギをDC電源から供給
しなければならないことを意味する。
一方、本発明によるHRP法による励起源では
導波路へ供給する電圧波形が交番パルスであり、
励起源内のアクテイブ・デバイス、即ち、能動素
子はオンかオフの動作を行なうところのD級動作
を行なつている。D級動作は理論上損失がゼロで
あり、最も損失の発生しやすい、最終段でこのD
級動作を行なわせている本装置励起源は究極的か
つ理想的な動作形態であるといえる。
導波路へ供給する電圧波形が交番パルスであり、
励起源内のアクテイブ・デバイス、即ち、能動素
子はオンかオフの動作を行なうところのD級動作
を行なつている。D級動作は理論上損失がゼロで
あり、最も損失の発生しやすい、最終段でこのD
級動作を行なわせている本装置励起源は究極的か
つ理想的な動作形態であるといえる。
ただし実際にはこのD級動作もスイツチング周
期が短かくなるにつれて損失が増加する傾向にあ
る。(これをTRANSIENT LOSS;トランジエ
ント・ロスと呼ぶ)これはオフからオンに至る期
間あるいはオンからオフに至る期間で実質上A級
に近い動作をするためである。又、スイツチング
素子自体にも飽和領域が存在するため、実際には
オンの状態でも若干の損失がある。(これを
SATURATION LOSS;サチユレーシヨン・ロ
スと呼ぶ)。
期が短かくなるにつれて損失が増加する傾向にあ
る。(これをTRANSIENT LOSS;トランジエ
ント・ロスと呼ぶ)これはオフからオンに至る期
間あるいはオンからオフに至る期間で実質上A級
に近い動作をするためである。又、スイツチング
素子自体にも飽和領域が存在するため、実際には
オンの状態でも若干の損失がある。(これを
SATURATION LOSS;サチユレーシヨン・ロ
スと呼ぶ)。
このような損失をすべて加え合わせ、なおかつ
その他周辺回路でのエネルギ消費も加えた状態で
の損失は入力直流エネルギの10%程度である。
その他周辺回路でのエネルギ消費も加えた状態で
の損失は入力直流エネルギの10%程度である。
一方繰り返し回数が107以上の高速度な二値論
理形式のパルスを作る場合、第6図の基本構成に
て第9図a及びbで示されるスイツチング信号で
スイツチング素子を制御すれば第6図回路の出力
端子66には第9図cで示される二値論理形式の
方形パルス波形を得ることができるが、このよう
なパルス波形生成において過渡状態即ち片方のス
イツチング素子がオンからオフもう一方のスイツ
チング素子がオフからオンに同時に変化する場
合、変化過程の中間で両スイツチング素子が共に
導通し、瞬間的に大きな電流を+Vccから−Vccに
向つて流す現象が存在する。
理形式のパルスを作る場合、第6図の基本構成に
て第9図a及びbで示されるスイツチング信号で
スイツチング素子を制御すれば第6図回路の出力
端子66には第9図cで示される二値論理形式の
方形パルス波形を得ることができるが、このよう
なパルス波形生成において過渡状態即ち片方のス
イツチング素子がオンからオフもう一方のスイツ
チング素子がオフからオンに同時に変化する場
合、変化過程の中間で両スイツチング素子が共に
導通し、瞬間的に大きな電流を+Vccから−Vccに
向つて流す現象が存在する。
このような時、両スイツチング素子には入力エ
ネルギーの10%〜20%の損失が発生する。
ネルギーの10%〜20%の損失が発生する。
さて本発明による励起源ではこうした二値論理
形式の方形パルス制御のもつ低効率特性を除去し
なおかつD級動作の特性を十二分に生かした三値
論理形式により交番パルス波形を生成している。
形式の方形パルス制御のもつ低効率特性を除去し
なおかつD級動作の特性を十二分に生かした三値
論理形式により交番パルス波形を生成している。
本方式によればトランジエント・ロス
(TRANSIENT LOSS)とサチユレーシヨン・
ロス(SATURATION LOSS)と周辺回路での
エネルギロスが全損失であるため、効率90%とい
う今までにない高い値を得ることができる。レー
ザ出力の制御は次のような2つの方式で行なうこ
とができる。即ち、第5図において2T1+T2を一
定としてT1を可変することにより放電電流を変
化させ、レーザ出力を制御するパルス幅可変方式
とT1を一定としてT2つまり2T1+T2を可変とす
ることにより放電電流を変化させ、レーザ出力を
制御する繰り返し周期可変方式の2つの方式であ
る。
(TRANSIENT LOSS)とサチユレーシヨン・
ロス(SATURATION LOSS)と周辺回路での
エネルギロスが全損失であるため、効率90%とい
う今までにない高い値を得ることができる。レー
ザ出力の制御は次のような2つの方式で行なうこ
とができる。即ち、第5図において2T1+T2を一
定としてT1を可変することにより放電電流を変
化させ、レーザ出力を制御するパルス幅可変方式
とT1を一定としてT2つまり2T1+T2を可変とす
ることにより放電電流を変化させ、レーザ出力を
制御する繰り返し周期可変方式の2つの方式であ
る。
第10図は本制御方式のうちパルス幅可変方式
について、具体化した一形態としてのブロツク回
路図である。図中101は方形波発振器であり、
0,−Vccの振幅を有し周期T1+T2/2で方形波
を発生する。また102は電流値Ipの定電流源で
あり、103はこの定電流源Ipの出力側に入力側
を接続された電流値2Ipの定電流源である。10
4はこれら両定電流源102,103の接続点と
接続点との間に接続されたコンデンサ、105は
コレクタ側を前記定電流源103の出力側に、ま
た、エミツタ側を負の直流電源−Vccに接続され
スイツチの役目をはたすNPN型のトランジスタ
であり、方形波発振器101の出力をベース入力
としてスイツチング動作するもので、方形波発振
器101の出力が−Vccの時オフになりコンデン
サ104には定電流源102より一定電流Ipが流
れこみ1/C∫t pIpdtに従い、充電電圧は直線的に上昇 する。一方トランジスタ105がオンのときは 1/C∫t p(Ip−2Ip)dt=−1/C∫t pIpdt に従い充電電圧は直線的に下降する。但しCはコ
ンデンサ104の容量である。即ち、コンデンサ
104の端子電圧は正負両方向に変化する三角波
の電圧が生じる。106はこのコンデンサ104
の端子出力を非反転側入力端子の入力とするコン
パレータであり、このコンパレータ106の非反
転側入力端子にはプラス,マイナス両方向に振れ
る三角波が加わる。一方コンパレータ106の反
転側入力端子は二回路選択型のスイツチ107に
接続されており、このスイツチ107の一方の経
路には直流電位+Vcc〜−Vccに可変できるボリウ
ム108が、また他方の経路には入力端子108
が接続されている。従つてこのスイツチ107に
より経路を選択することにより例えばスイツチ1
08をボリウム107の側に倒した時、コンパレ
ータ106の反転側入力端子には一定な直流電圧
が印加されることになりこれを基準に非反転側入
力端子に入力される三角波がこの一定直流電圧値
よりも大きくなつた時、コンパレータ106の出
力はマイナスからプラスに反転し再び三角波が一
定直流電圧値よりも小さくなつた時、プラスから
マイナスに戻る。この時直流電圧値を大きくする
とコンパレータ出力のプラスの方形パルス幅は小
さくなり、直流電圧値を小さくするとコンパレー
タ出力のプラスの方形パルス幅は大きくなる。即
ちこのボリウム108により、コンパレータ10
6の出力パルスの幅を可変することができる。一
方、110はコンパレータ106の出力を1/2分
周して出力する1/2分周器、111はパルス信号
分配器であり、この分配器111は1/2分周器1
10の出力により出力端子112及び36に交互
に前記コンパレータ106のパルス出力を送る役
目を果している。これにより、ボリウム108に
より設定した電圧値を基準にコンパレータ106
の入力三角波がこの基準以上のレベルのとき正の
所定の直流出力を、また基準以下のとき負の所定
の直流出力を発生することになるから方形発振器
101の発振周波数でボリウム108の電圧を基
準に前記三角波で決定されるパルス幅の出力を出
力端子112,113に交互に出力することがで
きる。従つて、これにより第8図のパルス発生回
路61を実現できる。
について、具体化した一形態としてのブロツク回
路図である。図中101は方形波発振器であり、
0,−Vccの振幅を有し周期T1+T2/2で方形波
を発生する。また102は電流値Ipの定電流源で
あり、103はこの定電流源Ipの出力側に入力側
を接続された電流値2Ipの定電流源である。10
4はこれら両定電流源102,103の接続点と
接続点との間に接続されたコンデンサ、105は
コレクタ側を前記定電流源103の出力側に、ま
た、エミツタ側を負の直流電源−Vccに接続され
スイツチの役目をはたすNPN型のトランジスタ
であり、方形波発振器101の出力をベース入力
としてスイツチング動作するもので、方形波発振
器101の出力が−Vccの時オフになりコンデン
サ104には定電流源102より一定電流Ipが流
れこみ1/C∫t pIpdtに従い、充電電圧は直線的に上昇 する。一方トランジスタ105がオンのときは 1/C∫t p(Ip−2Ip)dt=−1/C∫t pIpdt に従い充電電圧は直線的に下降する。但しCはコ
ンデンサ104の容量である。即ち、コンデンサ
104の端子電圧は正負両方向に変化する三角波
の電圧が生じる。106はこのコンデンサ104
の端子出力を非反転側入力端子の入力とするコン
パレータであり、このコンパレータ106の非反
転側入力端子にはプラス,マイナス両方向に振れ
る三角波が加わる。一方コンパレータ106の反
転側入力端子は二回路選択型のスイツチ107に
接続されており、このスイツチ107の一方の経
路には直流電位+Vcc〜−Vccに可変できるボリウ
ム108が、また他方の経路には入力端子108
が接続されている。従つてこのスイツチ107に
より経路を選択することにより例えばスイツチ1
08をボリウム107の側に倒した時、コンパレ
ータ106の反転側入力端子には一定な直流電圧
が印加されることになりこれを基準に非反転側入
力端子に入力される三角波がこの一定直流電圧値
よりも大きくなつた時、コンパレータ106の出
力はマイナスからプラスに反転し再び三角波が一
定直流電圧値よりも小さくなつた時、プラスから
マイナスに戻る。この時直流電圧値を大きくする
とコンパレータ出力のプラスの方形パルス幅は小
さくなり、直流電圧値を小さくするとコンパレー
タ出力のプラスの方形パルス幅は大きくなる。即
ちこのボリウム108により、コンパレータ10
6の出力パルスの幅を可変することができる。一
方、110はコンパレータ106の出力を1/2分
周して出力する1/2分周器、111はパルス信号
分配器であり、この分配器111は1/2分周器1
10の出力により出力端子112及び36に交互
に前記コンパレータ106のパルス出力を送る役
目を果している。これにより、ボリウム108に
より設定した電圧値を基準にコンパレータ106
の入力三角波がこの基準以上のレベルのとき正の
所定の直流出力を、また基準以下のとき負の所定
の直流出力を発生することになるから方形発振器
101の発振周波数でボリウム108の電圧を基
準に前記三角波で決定されるパルス幅の出力を出
力端子112,113に交互に出力することがで
きる。従つて、これにより第8図のパルス発生回
路61を実現できる。
第11図は本制御方式のうち、繰り返し周期可
変方式について具体化した一形態としてのブロツ
ク回路図である。第11図の繰り返し周期可変方
式は第10図のパルス幅可変方式に若干の変更を
加えることにより構成することができる。即ち第
11図は第10図回路の定電流源102,103
及びコンデンサ104の回路部分をトランジスタ
105のコレクタと+Vcc間に前記コンデンサ1
04を接続し、そのコンデンサ104の両端子間
にFET(電界効果トランジスタ)114のソー
ス・ドレインを接続してこのFET114により
コンデンサ104の充放電を行なう三角波発生回
路に置換えたものでボリウム108は一定直流電
圧値を作り、端子109には変調信号あるいはネ
ガテイブフイードバツクによる負帰還信号が加わ
る。スイツチ107はこれら両者の選択を行な
う。トランジスタ105はベースに加わる入力電
圧を抵抗115で割つた電流値をコレクタ―エミ
ツタ間に流す電圧―電流変換器として働く。コン
デンサ104はトランジスタ105のコレクタ電
流により正の直流電源+Vccから負の直流電源−
Vccに向つてほぼ直線的に充電が行なわれる。と
ころがトランジスタ105のコレクタにはコンパ
レータ106の反転側入力端子が接続されてお
り、さらに非反転側入力端子にはV2なるレベル
の基準電圧116が印加されているため、コレク
タ電圧がVz以下になるとコンパレータ106の
出力はローレベルからハイレベルに反転する。コ
ンパレータ出力は単安定マルチバイブレータ11
7に与えられており、この出力により単安定マル
チバイブレータ出力は一定時間ハイレベルになる
と同時にリセツト用FET114を導通の状態に
させ、コンデンサ104を放電させもとの状態に
戻す。一方単安定マルチバイプレータ117の出
力は1/2分周器110及びパルス信号分配器11
1に接続され1/2分周器110の出力は制御信号
入力毎に二つの出力端子に入力信号を交互に出力
するパルス信号分配器111に制御信号として与
えられる。一方、パルス信号分配器111には単
安定マルチバイプレータ117の出力が入力とし
て与えられるため、パルス信号分配器111の出
力端子112及び113にはこの単安定マルチバ
イブレータ117の出力パルスが交互に分配され
出力される。又、出力端子112及び113は第
6図の端子61a,61bに相当するものであ
り、出力端子112及び113の次段にはスイツ
チング素子がプツシユプル(PUSH―PULL)の
形でつながる。
変方式について具体化した一形態としてのブロツ
ク回路図である。第11図の繰り返し周期可変方
式は第10図のパルス幅可変方式に若干の変更を
加えることにより構成することができる。即ち第
11図は第10図回路の定電流源102,103
及びコンデンサ104の回路部分をトランジスタ
105のコレクタと+Vcc間に前記コンデンサ1
04を接続し、そのコンデンサ104の両端子間
にFET(電界効果トランジスタ)114のソー
ス・ドレインを接続してこのFET114により
コンデンサ104の充放電を行なう三角波発生回
路に置換えたものでボリウム108は一定直流電
圧値を作り、端子109には変調信号あるいはネ
ガテイブフイードバツクによる負帰還信号が加わ
る。スイツチ107はこれら両者の選択を行な
う。トランジスタ105はベースに加わる入力電
圧を抵抗115で割つた電流値をコレクタ―エミ
ツタ間に流す電圧―電流変換器として働く。コン
デンサ104はトランジスタ105のコレクタ電
流により正の直流電源+Vccから負の直流電源−
Vccに向つてほぼ直線的に充電が行なわれる。と
ころがトランジスタ105のコレクタにはコンパ
レータ106の反転側入力端子が接続されてお
り、さらに非反転側入力端子にはV2なるレベル
の基準電圧116が印加されているため、コレク
タ電圧がVz以下になるとコンパレータ106の
出力はローレベルからハイレベルに反転する。コ
ンパレータ出力は単安定マルチバイブレータ11
7に与えられており、この出力により単安定マル
チバイブレータ出力は一定時間ハイレベルになる
と同時にリセツト用FET114を導通の状態に
させ、コンデンサ104を放電させもとの状態に
戻す。一方単安定マルチバイプレータ117の出
力は1/2分周器110及びパルス信号分配器11
1に接続され1/2分周器110の出力は制御信号
入力毎に二つの出力端子に入力信号を交互に出力
するパルス信号分配器111に制御信号として与
えられる。一方、パルス信号分配器111には単
安定マルチバイプレータ117の出力が入力とし
て与えられるため、パルス信号分配器111の出
力端子112及び113にはこの単安定マルチバ
イブレータ117の出力パルスが交互に分配され
出力される。又、出力端子112及び113は第
6図の端子61a,61bに相当するものであ
り、出力端子112及び113の次段にはスイツ
チング素子がプツシユプル(PUSH―PULL)の
形でつながる。
このような構成の装置はスイツチ107をボリ
ウム108側に設定する。これによりボリウム1
08より所定電位の出力がトランジスタ105の
ベースに入力されトランジスタ105は導通して
+Vccと−Vcc間の電位差がコンデンサ104に印
加され、コンデンサ104はトランジスタ105
のベース電位を抵抗115で割つた値の電流値で
充電される。この充電電位はコンパレータ106
の反転側入力端子に入力されコンパレータ106
は非反転側入力端子に加えられている基準電圧
Vzを基準に前記入力を比較し、該入力が基準電
圧Vz以上のときは正の出力を、また以下のとき
は負の出力を発生する。この出力は単安定マルチ
バイブレータ117に与えられ、単安定マルチバ
イブレータ117はその入力の立上り時に所定時
間幅のパルスを発生する。このパルスはFET1
14、1/2分周器110、パルス信号分配器11
1に入力される。するとFET114はこのパル
スの発生期間、導通状態となり、これによつてコ
ンデンサ104の充電電荷は放電される。FET
114はパルスの発生期間経過後は非導通となる
ため、コンデンサ104は再充電されるが、充電
開始時はその端子電圧は小さいのでコンパレータ
106の出力はコンデンサ104の充電が進みそ
の端子電圧が基準電位Vzを超えるまでは負の出
力となる。コンデンサ104の端子電圧がVzを
超えるとコンパレータ117の出力は再び正とな
るので、この時点で単安定マルチバイブレータ1
17は所定時間幅のパルスを発生し、上述の動作
が繰り返されることになる。
ウム108側に設定する。これによりボリウム1
08より所定電位の出力がトランジスタ105の
ベースに入力されトランジスタ105は導通して
+Vccと−Vcc間の電位差がコンデンサ104に印
加され、コンデンサ104はトランジスタ105
のベース電位を抵抗115で割つた値の電流値で
充電される。この充電電位はコンパレータ106
の反転側入力端子に入力されコンパレータ106
は非反転側入力端子に加えられている基準電圧
Vzを基準に前記入力を比較し、該入力が基準電
圧Vz以上のときは正の出力を、また以下のとき
は負の出力を発生する。この出力は単安定マルチ
バイブレータ117に与えられ、単安定マルチバ
イブレータ117はその入力の立上り時に所定時
間幅のパルスを発生する。このパルスはFET1
14、1/2分周器110、パルス信号分配器11
1に入力される。するとFET114はこのパル
スの発生期間、導通状態となり、これによつてコ
ンデンサ104の充電電荷は放電される。FET
114はパルスの発生期間経過後は非導通となる
ため、コンデンサ104は再充電されるが、充電
開始時はその端子電圧は小さいのでコンパレータ
106の出力はコンデンサ104の充電が進みそ
の端子電圧が基準電位Vzを超えるまでは負の出
力となる。コンデンサ104の端子電圧がVzを
超えるとコンパレータ117の出力は再び正とな
るので、この時点で単安定マルチバイブレータ1
17は所定時間幅のパルスを発生し、上述の動作
が繰り返されることになる。
一方、単安定マルチバイブレータ117の出力
パルスを受けた1/2分周器110はこのパルスを
1/2分周してパルス信号分配器111に与え、こ
れによつてパルス信号分配器111は出力端子1
12,113を交互に切換え、単安定マルチバイ
ブレータ117の出力パルスを出力端子112,
113に交互に出力する。その結果、出力端子1
12には第7図aの如き、また出力端子113に
は第7図bの如き、出力が表われる。
パルスを受けた1/2分周器110はこのパルスを
1/2分周してパルス信号分配器111に与え、こ
れによつてパルス信号分配器111は出力端子1
12,113を交互に切換え、単安定マルチバイ
ブレータ117の出力パルスを出力端子112,
113に交互に出力する。その結果、出力端子1
12には第7図aの如き、また出力端子113に
は第7図bの如き、出力が表われる。
即ち、上記構成において104,105,11
4,106,115,116,117による回路
によりパルス発振を行ない、これを後段の1/2分
周回路110、パルス信号分配器111により二
つの出力端子に交互に分配してパルスを出力す
る。このような回路により第6図に示すパルス発
生回路61を形成し、その出力によつてスイツチ
ング素子62,63を交互に動作させることによ
り第7図cの如き出力が得られる。この回路では
コンデンサ104の充電速度はトランジスタ10
5のベース電圧と抵抗115により定まるため、
この両者のいずれかを可変することにより充電速
度が変化するから単安定マルチバイブレータ11
7の動作限界を限度として繰り返えし周期を可変
できる。
4,106,115,116,117による回路
によりパルス発振を行ない、これを後段の1/2分
周回路110、パルス信号分配器111により二
つの出力端子に交互に分配してパルスを出力す
る。このような回路により第6図に示すパルス発
生回路61を形成し、その出力によつてスイツチ
ング素子62,63を交互に動作させることによ
り第7図cの如き出力が得られる。この回路では
コンデンサ104の充電速度はトランジスタ10
5のベース電圧と抵抗115により定まるため、
この両者のいずれかを可変することにより充電速
度が変化するから単安定マルチバイブレータ11
7の動作限界を限度として繰り返えし周期を可変
できる。
ところで、第10図,第11図に示した二つの
制御方式の特徴は制御範囲が十分広いことからレ
ーザ出力の一部を光電変換し基準設定値との差を
とりこれを増幅した後端子109に加えることに
よりネガテイブフイードバツクを行なうことがで
きる点にある。即ち、レーザ出力が設定基準値よ
り小さい時は端子109に加わる電圧も小さくな
り、その結果パルス幅が大きくなりレーザ出力が
増えるように動作し、レーザ出力が大きい時には
パルス幅が小さくなりレーザ出力を減少させるよ
うに動作するのである。したがつてこのようなこ
とから光出力の安定化及び設定が簡単にしかも高
速度で行なえるといつた機能をもつことが可能に
なる。又、端子109に微小交流信号を加えるこ
とによりパルス幅変調を行なうことも可能にな
る。さらに、これら2方式ではレーザ出力可変幅
がほぼ0%近辺から100%まで可能であるにもか
かわらず、こうした制御にともなう特別な損失が
発生することなく、高効率で制御可能であるため
省エネルギ的であり装置放熱器の省略化あるいは
簡素化にともなう装置自体の小型,軽量化が可能
となる。
制御方式の特徴は制御範囲が十分広いことからレ
ーザ出力の一部を光電変換し基準設定値との差を
とりこれを増幅した後端子109に加えることに
よりネガテイブフイードバツクを行なうことがで
きる点にある。即ち、レーザ出力が設定基準値よ
り小さい時は端子109に加わる電圧も小さくな
り、その結果パルス幅が大きくなりレーザ出力が
増えるように動作し、レーザ出力が大きい時には
パルス幅が小さくなりレーザ出力を減少させるよ
うに動作するのである。したがつてこのようなこ
とから光出力の安定化及び設定が簡単にしかも高
速度で行なえるといつた機能をもつことが可能に
なる。又、端子109に微小交流信号を加えるこ
とによりパルス幅変調を行なうことも可能にな
る。さらに、これら2方式ではレーザ出力可変幅
がほぼ0%近辺から100%まで可能であるにもか
かわらず、こうした制御にともなう特別な損失が
発生することなく、高効率で制御可能であるため
省エネルギ的であり装置放熱器の省略化あるいは
簡素化にともなう装置自体の小型,軽量化が可能
となる。
以上詳述したように本発明はレーザ光の光軸に
沿つて配設された一対の電極及びこれら電極間に
前述光軸に沿つて配設された絶縁体とにより前記
光軸を囲むように形成された導波路を備え、前記
電極間に電圧を印加して放電させることにより前
記導波路を通して光共振させレーザ光を励起させ
るようにした導波路型ガスレーザ装置において、
前記電極は熱電導率が高く導電性の良い金属材を
また前記絶縁体は熱伝導率の良い材料を用いると
共に前記電極及び前記絶縁体の前記導波路形成内
壁面は光学研磨させて仕上げるとともにレベルが
正,負及び零の三つの状態をとる三値論理のパル
ス電圧を前記電極に与える励起回路を設けて構成
し、前記三値論理のパルス電圧により正,零,負
の電界変化を繰り返す電界を発生させて放電電流
を増大させることにより励起を行なわせるように
したので、励起源の発熱を低く抑えることがで
き、また導波路は熱伝導率も高いので温度上昇を
抑えることができ、従つて高出力化が可能であ
り、制御部を含めた装置全体における発熱量が少
ないため装置放熱器の省略化あるいは簡素化に伴
なう小型・軽量化を図ることができる他、前述の
ように陰極降下がないからこれによる励起エネル
ギ損失もなくまた電極のスパツタリングも無いこ
とにより共振器ミラー汚れが少なく、またガスの
解離も少なくなり、装置の長寿命化を図ることが
できるなど高エネルギ効率で長寿命の導波路型レ
ーザ装置を提供することができる。
沿つて配設された一対の電極及びこれら電極間に
前述光軸に沿つて配設された絶縁体とにより前記
光軸を囲むように形成された導波路を備え、前記
電極間に電圧を印加して放電させることにより前
記導波路を通して光共振させレーザ光を励起させ
るようにした導波路型ガスレーザ装置において、
前記電極は熱電導率が高く導電性の良い金属材を
また前記絶縁体は熱伝導率の良い材料を用いると
共に前記電極及び前記絶縁体の前記導波路形成内
壁面は光学研磨させて仕上げるとともにレベルが
正,負及び零の三つの状態をとる三値論理のパル
ス電圧を前記電極に与える励起回路を設けて構成
し、前記三値論理のパルス電圧により正,零,負
の電界変化を繰り返す電界を発生させて放電電流
を増大させることにより励起を行なわせるように
したので、励起源の発熱を低く抑えることがで
き、また導波路は熱伝導率も高いので温度上昇を
抑えることができ、従つて高出力化が可能であ
り、制御部を含めた装置全体における発熱量が少
ないため装置放熱器の省略化あるいは簡素化に伴
なう小型・軽量化を図ることができる他、前述の
ように陰極降下がないからこれによる励起エネル
ギ損失もなくまた電極のスパツタリングも無いこ
とにより共振器ミラー汚れが少なく、またガスの
解離も少なくなり、装置の長寿命化を図ることが
できるなど高エネルギ効率で長寿命の導波路型レ
ーザ装置を提供することができる。
尚、本発明は上記し且つ図面に示す実施例に限
定することなくその要旨を変更しない範囲内で適
宜変形して実施し得るものであり、例えば本発明
装置における導波路断面形状は第3図に示す長方
形のほか、正四角形,正六角形,正八角形などの
正2N角形(ただしN=1,2,3…)等あるい
は必ずしも対称形状をなす必要性はなく、単なる
多角形であつてもよい他、また前記3値論理形式
の交番パルス波形は+Vcc,0,−Vccとして規定
しこれを+V1,0,−V2で表わした時V1≒V2で
あることが望ましいが、こうした正負印加電圧値
の適用範囲は実際上明確に規定できるものではな
く、正負印加電圧が等しい場合以外でも、放電は
可能でありレーザ光の発生も可能である。また、
本発明において第10図及び第11図にパルス幅
可変方式及び繰り返し周期可変方式の具体例をあ
げたがこれら構成以外でもパルス幅変調あるいは
パルス数変調(Pulse Number Modulation)の
行なえる構成であればよく特に近年IC(集積回
路)の発達によりV/F変換(電圧・周波数変
換),V/PW変換(電圧―パルス幅変換)が簡
単に行なえることから、これらを用いた構成によ
つても同等な機能を達成し得ることはいうまでも
ない。
定することなくその要旨を変更しない範囲内で適
宜変形して実施し得るものであり、例えば本発明
装置における導波路断面形状は第3図に示す長方
形のほか、正四角形,正六角形,正八角形などの
正2N角形(ただしN=1,2,3…)等あるい
は必ずしも対称形状をなす必要性はなく、単なる
多角形であつてもよい他、また前記3値論理形式
の交番パルス波形は+Vcc,0,−Vccとして規定
しこれを+V1,0,−V2で表わした時V1≒V2で
あることが望ましいが、こうした正負印加電圧値
の適用範囲は実際上明確に規定できるものではな
く、正負印加電圧が等しい場合以外でも、放電は
可能でありレーザ光の発生も可能である。また、
本発明において第10図及び第11図にパルス幅
可変方式及び繰り返し周期可変方式の具体例をあ
げたがこれら構成以外でもパルス幅変調あるいは
パルス数変調(Pulse Number Modulation)の
行なえる構成であればよく特に近年IC(集積回
路)の発達によりV/F変換(電圧・周波数変
換),V/PW変換(電圧―パルス幅変換)が簡
単に行なえることから、これらを用いた構成によ
つても同等な機能を達成し得ることはいうまでも
ない。
また、本発明における導波路型ガスレーザ装置
は発振器として使用され得るだけでなく増幅器と
しても使用し得る他、また本発明にあつては励起
源と導波路電極間でのインピーダンスマツチング
は行なつていないがこれを行なうこともできる。
は発振器として使用され得るだけでなく増幅器と
しても使用し得る他、また本発明にあつては励起
源と導波路電極間でのインピーダンスマツチング
は行なつていないがこれを行なうこともできる。
第1図は放電路が光軸に平行な縦形励起方式に
ついて示した導波路断面図、第2図は放電路が光
軸に垂直な横形励起方式について示した導波路断
面図、第3図はRF励起方式の導波路横断面図、
第4図は本発明装置のうち導波路について示した
導波路構成斜視断面図、第5図は本発明において
導波路の電極に印加される交番パルス電圧波形を
示した図、第6図は本発明における励起源の基本
構成図、第7図は第6図で示される基本構成回路
における各部の電圧波形を示したタイムチヤー
ト、第8図は従来のRF励起で500Wの励起源を作
る場合の基本構成図、第9図は2値論理形式の場
合のタイムチヤート、第10図は、本発明のう
ち、パルス幅可変方式について具体化したブロツ
ク回路図、第11図は本発明のうち、繰り返し周
期可変方式について具体化したブロツク回路図で
ある。 1,41……金属電極、2,44……導波路、
3,42……光軸、4,43……絶縁材、5,4
5……封入カバー、61……パルス発生回路、6
1a,61b,66……出力端子、62,63…
…スイツチング素子、81……オシレータ、82
……バツフアアンプ、83……小電力増幅段、8
4……大電力増幅段、85……合成器、101…
…方形波発振器、102,103……定電流源、
104……コンデンサ、105……トランジス
タ、106……コンパレータ、107……スイツ
チ、108……ボリウム、109……入力端子、
110……1/2分周器、111……パルス信号分
配器、112,113……出力端子、114……
リセツト用FET、115……抵抗、116……
基準電圧Vz、117……単安定マルチバイブレ
ータ。
ついて示した導波路断面図、第2図は放電路が光
軸に垂直な横形励起方式について示した導波路断
面図、第3図はRF励起方式の導波路横断面図、
第4図は本発明装置のうち導波路について示した
導波路構成斜視断面図、第5図は本発明において
導波路の電極に印加される交番パルス電圧波形を
示した図、第6図は本発明における励起源の基本
構成図、第7図は第6図で示される基本構成回路
における各部の電圧波形を示したタイムチヤー
ト、第8図は従来のRF励起で500Wの励起源を作
る場合の基本構成図、第9図は2値論理形式の場
合のタイムチヤート、第10図は、本発明のう
ち、パルス幅可変方式について具体化したブロツ
ク回路図、第11図は本発明のうち、繰り返し周
期可変方式について具体化したブロツク回路図で
ある。 1,41……金属電極、2,44……導波路、
3,42……光軸、4,43……絶縁材、5,4
5……封入カバー、61……パルス発生回路、6
1a,61b,66……出力端子、62,63…
…スイツチング素子、81……オシレータ、82
……バツフアアンプ、83……小電力増幅段、8
4……大電力増幅段、85……合成器、101…
…方形波発振器、102,103……定電流源、
104……コンデンサ、105……トランジス
タ、106……コンパレータ、107……スイツ
チ、108……ボリウム、109……入力端子、
110……1/2分周器、111……パルス信号分
配器、112,113……出力端子、114……
リセツト用FET、115……抵抗、116……
基準電圧Vz、117……単安定マルチバイブレ
ータ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 レーザ光の光軸に沿つて配設された一対の電
極及びこれら電極間に前記光軸に沿つて配設され
た絶縁体とにより前記光軸を囲むように形成され
た導波路を備え、前記電極間に電圧を印加して放
電させることにより前記導波路を通して光共振さ
せ、レーザ光を励起させるようにした導波路型ガ
スレーザ装置において、前記電極は熱電導率が高
く導電性の良い金属材を、また、前記絶縁体は熱
伝導率の良い材料を用いると共に前記電極及び前
記絶縁体の前記導波路形成内壁面は光学研磨させ
て仕上げ、また、レベルが正,負及び零の三つの
状態をとる三値論理のパルス電圧を前記電極に与
える励起回路とを設けて構成したことを特徴とす
る導波路型ガスレーザ装置。 2 前記励起回路は前記パルス電圧のパルス幅を
可変可能な構成とすることを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の導波路型ガスレーザ装置。 3 前記励起回路は前記パルス電圧出力の繰り返
えし周期を可変可能な構成とすることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の導波路型ガスレー
ザ装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56098858A JPS58190A (ja) | 1981-06-25 | 1981-06-25 | 導波路型ガスレ−ザ装置 |
US06/392,017 US4472808A (en) | 1981-06-25 | 1982-06-25 | Waveguide type gas laser apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56098858A JPS58190A (ja) | 1981-06-25 | 1981-06-25 | 導波路型ガスレ−ザ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58190A JPS58190A (ja) | 1983-01-05 |
JPS6314876B2 true JPS6314876B2 (ja) | 1988-04-01 |
Family
ID=14230920
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56098858A Granted JPS58190A (ja) | 1981-06-25 | 1981-06-25 | 導波路型ガスレ−ザ装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4472808A (ja) |
JP (1) | JPS58190A (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2546537B1 (fr) * | 1983-05-25 | 1985-08-16 | Rhone Poulenc Fibre | Membrane d'etancheite et son procede de fabrication |
GB2154788B (en) * | 1984-02-18 | 1987-05-13 | Ferranti Plc | Waveguide laser |
JPS62189780A (ja) * | 1986-02-17 | 1987-08-19 | Mitsubishi Electric Corp | レ−ザ加工装置 |
US4719639B1 (en) * | 1987-01-08 | 1994-06-28 | Boreal Laser Inc | Carbon dioxide slab laser |
WO1988006357A1 (en) * | 1987-02-20 | 1988-08-25 | Hughes Aircraft Company | New waveguide design to improve waveguide laser performance |
US5546919A (en) * | 1993-08-31 | 1996-08-20 | Yamaha Hatsudoki Kabushiki Kaisha | Operating arrangement for gaseous fueled engine |
WO2000017969A1 (en) * | 1998-09-21 | 2000-03-30 | Peter Vitruk | Truncated ridge waveguide for all-metal slab gas laser excitation |
US6711201B2 (en) * | 2001-03-17 | 2004-03-23 | Peter Vitruk | Truncated ridge waveguide for all-metal gas laser excitation |
US7486401B2 (en) * | 2006-02-27 | 2009-02-03 | Honeywell International Inc. | Laser medium pumping system for a gyroscope |
JP2007294807A (ja) * | 2006-04-27 | 2007-11-08 | Mitsubishi Electric Corp | ガスレーザ発振器 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3772611A (en) * | 1971-12-27 | 1973-11-13 | Bell Telephone Labor Inc | Waveguide gas laser devices |
US4009385A (en) * | 1976-03-22 | 1977-02-22 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Laser control circuit |
US4103255A (en) * | 1977-03-10 | 1978-07-25 | Schlossberg Howard R | High power, compact waveguide gas laser |
US4169251A (en) * | 1978-01-16 | 1979-09-25 | Hughes Aircraft Company | Waveguide gas laser with high frequency transverse discharge excitation |
-
1981
- 1981-06-25 JP JP56098858A patent/JPS58190A/ja active Granted
-
1982
- 1982-06-25 US US06/392,017 patent/US4472808A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4472808A (en) | 1984-09-18 |
JPS58190A (ja) | 1983-01-05 |
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