JPS6314789A - 燐酸エステル誘導体 - Google Patents
燐酸エステル誘導体Info
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Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔目的〕
本発明は、低狗性で、潰れた抗腫瘍作用を有する新規な
gQ酸エステル肪導体又はその分子内雇にPA”fる。
gQ酸エステル肪導体又はその分子内雇にPA”fる。
従来、環状の功脂質品導体とl〜では、例えは、特開昭
59−89698号公報に開示されている一般式 (式中、R7,R8及びR9(」、それぞれヒドロキシ
、アルコキシ、アルカノイルアミノ又は保護されたヒド
ロキシ;Mは低級アルキレン;R10はプルキルアンモ
ニオ、環状アンモニオ又は環状アミノ;R11はオキシ
ドアニオン又はヒドロキシをそれぞれ意味する。) で表される化合物か、抗腫瘍作用を示すことが公知であ
る。
59−89698号公報に開示されている一般式 (式中、R7,R8及びR9(」、それぞれヒドロキシ
、アルコキシ、アルカノイルアミノ又は保護されたヒド
ロキシ;Mは低級アルキレン;R10はプルキルアンモ
ニオ、環状アンモニオ又は環状アミノ;R11はオキシ
ドアニオン又はヒドロキシをそれぞれ意味する。) で表される化合物か、抗腫瘍作用を示すことが公知であ
る。
本発明名らは、PAF様作用を有する肪導体の合成とそ
の薬理活性について、長年にわたり鋭意研究を行い、既
知の環状の燐脂質訪導体、例えは上記化合物とは、全く
構造を異にする新規な環状エーテルを有する燐酸エステ
ル訪導体を合成し、このものが非常に毒性が弱く高用量
の投与か可能であること、かつ各柚抗腫瘍笑験系におい
て低用址の投与においても、優れた抗腫Wtf占性を有
することケ見出し、本発明を完成した。
の薬理活性について、長年にわたり鋭意研究を行い、既
知の環状の燐脂質訪導体、例えは上記化合物とは、全く
構造を異にする新規な環状エーテルを有する燐酸エステ
ル訪導体を合成し、このものが非常に毒性が弱く高用量
の投与か可能であること、かつ各柚抗腫瘍笑験系におい
て低用址の投与においても、優れた抗腫Wtf占性を有
することケ見出し、本発明を完成した。
本発明の看f規な環状エーテルを有する燐酸エステル肪
導体又はその+jAは、 一般式 〔式中、mは0乃至2の整数を示し、R1は炭素数8乃
至22個の1a釦又は分枝鎖アルキル基を示す。R2及
びR’のうち一方は、低級アルキル基又は低級脂肪族ア
シル基を示し、他方は、(式中、nは2乃至6のui+
−示し、HA、 R5及びR6は同−又を1、異なって
、水素原子又は低級アルキル基を示1−か、又1t、
n’及びR5は隣接する窒素原子と一緒になって5乃至
T−複素塩な形成するか、又&’j: R’ 、 R
5及びR6は隣接する窒素原子と一緒になって5乃主T
員泡素芳査環を形成してもよい。
導体又はその+jAは、 一般式 〔式中、mは0乃至2の整数を示し、R1は炭素数8乃
至22個の1a釦又は分枝鎖アルキル基を示す。R2及
びR’のうち一方は、低級アルキル基又は低級脂肪族ア
シル基を示し、他方は、(式中、nは2乃至6のui+
−示し、HA、 R5及びR6は同−又を1、異なって
、水素原子又は低級アルキル基を示1−か、又1t、
n’及びR5は隣接する窒素原子と一緒になって5乃至
T−複素塩な形成するか、又&’j: R’ 、 R
5及びR6は隣接する窒素原子と一緒になって5乃主T
員泡素芳査環を形成してもよい。
Yθは、アニオンを示す。)を示す。〕を有−(る。
上記一般式(Ilにおいて、R1が示す炭素数8乃至2
2個の直aまたは分枝鎖アルキル基としては、例えば3
−メチルへブチル、オクチル、3−メチルオクチル、3
−エチルヘプチル、ノニル、デシル、3−メチルノニル
、8−メチルノニル、3−エチルオクチル、3.7−シ
メチルオクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、
テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、1−メチ
ルペンタデシル、14−メチルペンタデシル、13.1
3−ジメチルテトラデシル、ヘプタデシル、15−メチ
ルヘキサデシル、 オクタデシル、1−メチルヘプタデ
シル、ノナデシル、アイコシル、ヘナイコシル及びトコ
シルを挙げることができるか、好適には炭素数10 乃
至20個の1u鎖または分枝鎖アルキル基である。
2個の直aまたは分枝鎖アルキル基としては、例えば3
−メチルへブチル、オクチル、3−メチルオクチル、3
−エチルヘプチル、ノニル、デシル、3−メチルノニル
、8−メチルノニル、3−エチルオクチル、3.7−シ
メチルオクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、
テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、1−メチ
ルペンタデシル、14−メチルペンタデシル、13.1
3−ジメチルテトラデシル、ヘプタデシル、15−メチ
ルヘキサデシル、 オクタデシル、1−メチルヘプタデ
シル、ノナデシル、アイコシル、ヘナイコシル及びトコ
シルを挙げることができるか、好適には炭素数10 乃
至20個の1u鎖または分枝鎖アルキル基である。
R2及びR5のうち、その一方が示す低級アルキル基並
びに、R’、 15及びR6の定義における低級アルキ
ル基としては、例えばメチル、エチル、n−プロピル、
イソプロピル、n−ジチルイソグチル、5ee−ブチル
、t−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、 5e
c−ペンチル、t−ペンチル、ネオペンチル、n−ヘキ
シル、イソヘキシル及びt−ヘキシルを挙げることがで
きるが、好適には炭素数1乃至3個のアルキル基である
。
びに、R’、 15及びR6の定義における低級アルキ
ル基としては、例えばメチル、エチル、n−プロピル、
イソプロピル、n−ジチルイソグチル、5ee−ブチル
、t−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、 5e
c−ペンチル、t−ペンチル、ネオペンチル、n−ヘキ
シル、イソヘキシル及びt−ヘキシルを挙げることがで
きるが、好適には炭素数1乃至3個のアルキル基である
。
R2及びR3のうち、その−力が示す低級脂肪族アシル
基としでは、好適にはアセチル、プロピオニル、n−フ
チリ)し、インブチリル、ペンタノイル、インペンタノ
イル、ヘキサノイル及びインヘキサノイルのようtr、
炭素数2乃至6個の脂肪族アシル基を挙げることができ
、好適には炭素数2乃至4の低級脂肪族アシル基である
。
基としでは、好適にはアセチル、プロピオニル、n−フ
チリ)し、インブチリル、ペンタノイル、インペンタノ
イル、ヘキサノイル及びインヘキサノイルのようtr、
炭素数2乃至6個の脂肪族アシル基を挙げることができ
、好適には炭素数2乃至4の低級脂肪族アシル基である
。
R’、 R5及びR6のうち、少くとも1個以上が水素
原子である場合(例えば、R6が水素原子である場合)
、置換基(■′)は、 H (式中、R’、 R5およびnは前記と同意義である。
原子である場合(例えば、R6が水素原子である場合)
、置換基(■′)は、 H (式中、R’、 R5およびnは前記と同意義である。
)として表わされることもある。
R4とR5が隣接する4素原子と一緒になって形成する
5乃至T員複素環は、窒素原子を少なくとも1つ含み、
酸素原子または硫黄原子を含んでもよい複素環であり、
例えばピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、アゼピン
、モルホリンおよびチオモルホリンか挙けられる。好適
には、ピペリジンである。
5乃至T員複素環は、窒素原子を少なくとも1つ含み、
酸素原子または硫黄原子を含んでもよい複素環であり、
例えばピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、アゼピン
、モルホリンおよびチオモルホリンか挙けられる。好適
には、ピペリジンである。
R’、 R5及びR6が隣接する窒素原子と一緒になっ
て形成する5乃至T負複素芳査環は、窒素原子を少なく
とも1つ含み、酸素原子または硫黄原子を営んでもよい
複索芳香環であり1例えばビロール、ピリジン、チアゾ
ール、オキサゾール、インキサゾール、ピリダジン、キ
ノリン、インキノリン、イミダゾール、テトラゾールお
よびトリアゾールを挙げることができる。上記、複素環
及び複素芳杏塚は、さらに、前記の低級アルキル基;ヒ
ドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピ
ルのようなヒドロキシ低級アルキル基;メトキシ、エト
キシのような低級アルコキシ基:カルバモイル基又はフ
ッ素、塩素、臭素のよ5 is /・ロゲン原子などの
置換基を有していでもよく、好適には、ピリジンまたは
チアゾールである。
て形成する5乃至T負複素芳査環は、窒素原子を少なく
とも1つ含み、酸素原子または硫黄原子を営んでもよい
複索芳香環であり1例えばビロール、ピリジン、チアゾ
ール、オキサゾール、インキサゾール、ピリダジン、キ
ノリン、インキノリン、イミダゾール、テトラゾールお
よびトリアゾールを挙げることができる。上記、複素環
及び複素芳杏塚は、さらに、前記の低級アルキル基;ヒ
ドロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピ
ルのようなヒドロキシ低級アルキル基;メトキシ、エト
キシのような低級アルコキシ基:カルバモイル基又はフ
ッ素、塩素、臭素のよ5 is /・ロゲン原子などの
置換基を有していでもよく、好適には、ピリジンまたは
チアゾールである。
YOは、アニオンを示し特に限定はないが、HYとして
好適には、塩酸、臭化水素酸、沃化水素酸のようなハロ
ゲン化水素酸、硫酸、燐酸等の無機酸;メタンスルホン
酸、エタンスルホン酸のような低級アルキルスルホン酸
、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸のよう
なアリールスルホン酸、修酸、マレイン酸、乳酸、酒石
酸、フマール醸等の有機酸及びアルギニン、アスパラギ
ン酸、グルタミン酸等のアミノ酸を挙けることかできる
。
好適には、塩酸、臭化水素酸、沃化水素酸のようなハロ
ゲン化水素酸、硫酸、燐酸等の無機酸;メタンスルホン
酸、エタンスルホン酸のような低級アルキルスルホン酸
、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸のよう
なアリールスルホン酸、修酸、マレイン酸、乳酸、酒石
酸、フマール醸等の有機酸及びアルギニン、アスパラギ
ン酸、グルタミン酸等のアミノ酸を挙けることかできる
。
また、化合物(IIの壇としては、例えば化合物(I)
の置換基fl[)か (式中、Bはナトリウム、カリウムのようなアルカリ金
属原子を示し、RA、 R5,H6及びn は前記と同
意義である。)で表わされるような塩の形で存在するこ
ともある。
の置換基fl[)か (式中、Bはナトリウム、カリウムのようなアルカリ金
属原子を示し、RA、 R5,H6及びn は前記と同
意義である。)で表わされるような塩の形で存在するこ
ともある。
本発明の化合物(I)は、エーテル環上に3個の不斉炭
素を有するので、各々かR配位、S配位である合計8棟
の立体異性体が存在するか、その各々、あるいはそれら
の混合体のいずれも本発明に包含される。
素を有するので、各々かR配位、S配位である合計8棟
の立体異性体が存在するか、その各々、あるいはそれら
の混合体のいずれも本発明に包含される。
また化合物(I)において、好適には、(1)mが0乃
至1の化合物 +21 R’が炭素数10乃至20個の直鎖又は分枝
鎖アルキル基である化合物 131 12が炭素数2乃至4個の低級脂肪族アシル基
である化合物 +41 R’、 R5及びR6か同−又は異なって、
低級アルキル基を示す化合物 (6)nか2の化合物 (61H3か式+Illを示す化合物 (7)mか0乃至1を示し、R1が炭素数10乃至20
個の直鎖又は分枝釦アルキル基を示し、R2が炭素数2
乃至4個の低級脂肪族アシル基を示し、R5か式111
を示し、nが2を示し、RA、 R5及びR6か同−又
は異なって低級アルキル基を示す化合物 を挙げることかできる。
至1の化合物 +21 R’が炭素数10乃至20個の直鎖又は分枝
鎖アルキル基である化合物 131 12が炭素数2乃至4個の低級脂肪族アシル基
である化合物 +41 R’、 R5及びR6か同−又は異なって、
低級アルキル基を示す化合物 (6)nか2の化合物 (61H3か式+Illを示す化合物 (7)mか0乃至1を示し、R1が炭素数10乃至20
個の直鎖又は分枝釦アルキル基を示し、R2が炭素数2
乃至4個の低級脂肪族アシル基を示し、R5か式111
を示し、nが2を示し、RA、 R5及びR6か同−又
は異なって低級アルキル基を示す化合物 を挙げることかできる。
本発明の一般式(itを有する化合物の具体例としては
、例えは次の第1表及び第2表に記載する化合物を挙げ
ることがで、きるか、本発明はこれらの化合物に51d
冗されるものではない。
、例えは次の第1表及び第2表に記載する化合物を挙げ
ることがで、きるか、本発明はこれらの化合物に51d
冗されるものではない。
第1表
第2表
ヌは
尚、上記例示化合物は、前記の様に8種の立体異性体か
存在するが、その各々、あるいはそれらの混合体のいず
れをも示す。
存在するが、その各々、あるいはそれらの混合体のいず
れをも示す。
上記第1表及び第2表に例示した化合物のうちさらに好
適な化合物としては、(71,(31及び住zの化合物
である。
適な化合物としては、(71,(31及び住zの化合物
である。
本発明の燐酸エステル誘導体fIlは、以下に記載する
方法によって製造することかできる。
方法によって製造することかできる。
A法
(K)
上記式中、 2/及び83′は低級アルキル基又は低級
脂肪族アシル基を示し、Xは、塩素、臭素、沃素のよう
なノ・ロゲン原子を示し、R,R。
脂肪族アシル基を示し、Xは、塩素、臭素、沃素のよう
なノ・ロゲン原子を示し、R,R。
R5,R’、 m及びnは前記と同意義を示す。
A法は、本発明の一般式(1)において、R2が低級ア
ルキル基又は低級脂肪族アシル基である本発明化合物(
Ia)の合成法であり、B法は、本発明の一般式CI)
において、R3が低級アルキル基又は低級脂肪族アシル
基である本発明化合物(Ib)の合成法である。
ルキル基又は低級脂肪族アシル基である本発明化合物(
Ia)の合成法であり、B法は、本発明の一般式CI)
において、R3が低級アルキル基又は低級脂肪族アシル
基である本発明化合物(Ib)の合成法である。
上記各工程における反応試薬及び反応条件を以下に述べ
る。
る。
ステル化する工程(第1,5工程)
環状エーテル化合物(IVa)または(Nb)の置換基
であるヒドロキシ基に燐酸ジクロリド類(V)を溶媒中
で墳基の存在下に縮合させた後、水で処理し、燐酸エス
テル化合物(M)または(X)を製造する工程である。
であるヒドロキシ基に燐酸ジクロリド類(V)を溶媒中
で墳基の存在下に縮合させた後、水で処理し、燐酸エス
テル化合物(M)または(X)を製造する工程である。
使用されるI5L応溶傅としては、反応を(■害せず、
出発原料をある程度俗解するものであれば特に限定はな
いが、好適に−1、メチレンクロリド、クロロホルム、
1.2−ジクロロエタンのヨウナハロゲン化炭化水素;
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンの
ようなエーテル類マタはベンゼン、トルエンのような芳
香族炭化水素が用いられる。
出発原料をある程度俗解するものであれば特に限定はな
いが、好適に−1、メチレンクロリド、クロロホルム、
1.2−ジクロロエタンのヨウナハロゲン化炭化水素;
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンの
ようなエーテル類マタはベンゼン、トルエンのような芳
香族炭化水素が用いられる。
使用される塩基としては、アミン類であれは特に限定は
ないが、好適にはトリエチルアミン、ジイソプロピルエ
チルアミン、ジエチルアミンまたはピリジンか用いられ
る。
ないが、好適にはトリエチルアミン、ジイソプロピルエ
チルアミン、ジエチルアミンまたはピリジンか用いられ
る。
反応温度および反応時IJIは、用いる出発物質、溶媒
および塩基の条件により異なるか、0°から120℃の
範囲で行う場合には2〜24時間か好適である。
および塩基の条件により異なるか、0°から120℃の
範囲で行う場合には2〜24時間か好適である。
反応終了後、化合物CM) fたは(X)は常法に従っ
て反応混合物からip、離することかできる。
て反応混合物からip、離することかできる。
例えば反応混合物浴液を濃縮し、残留物を常法例えは、
シリカケルカラムクロマトグラフィー、再結晶等により
精製して、純品を得ることかできる。
シリカケルカラムクロマトグラフィー、再結晶等により
精製して、純品を得ることかできる。
環状エーテル化合9/J(Na)または(■b)の賑換
基であるヒドロキシ基に環状燐酸クロリド類(V[l)
’&浴媒中で塩基の存在下に縮合させ、環状燐酸エス
テル化合物(■)または01)を得る工程である。
基であるヒドロキシ基に環状燐酸クロリド類(V[l)
’&浴媒中で塩基の存在下に縮合させ、環状燐酸エス
テル化合物(■)または01)を得る工程である。
反応温度か20〜120℃で行われる以外は、反応溶媒
、塩基、反応時間および反応後の処理は前記1)項の第
1,5工程と同様に行いうる。
、塩基、反応時間および反応後の処理は前記1)項の第
1,5工程と同様に行いうる。
工程(第4,8工程)
側鎖末端にノ・ロゲノアルキル基を有する燐酸エステル
訪導体(M)または(X)を、アミン類(K)と溶媒中
で反尾、させt、:後、分子内塩として本発明化合物(
1a)または(113)を扮る工程である。
訪導体(M)または(X)を、アミン類(K)と溶媒中
で反尾、させt、:後、分子内塩として本発明化合物(
1a)または(113)を扮る工程である。
使用される反応溶媒としては、反応を阻害せず、出発原
料なあ7)程度′#1解1−るものであれは特に限定は
ないか、如適にし]、メチレンクロリド、クロロホルム
のよ’) 7.Cノ・ロケン化炭化水素;メタノール、
エタノール、イソプロピルアルコールのような低級アル
コール力1;ジメチルホルムアミド;ジエチルニーデル
、グトラヒFロフラン、ジオキサンのよう1エニーデル
類;アセトニトリルまたは水、あるいは、例えばクロロ
ホルム−ジメチルホルムアミド−イソプロピルアルコー
ル=3:5:5のような2〜3釉の上記溶媒の¥昆合物
か用いられる。
料なあ7)程度′#1解1−るものであれは特に限定は
ないか、如適にし]、メチレンクロリド、クロロホルム
のよ’) 7.Cノ・ロケン化炭化水素;メタノール、
エタノール、イソプロピルアルコールのような低級アル
コール力1;ジメチルホルムアミド;ジエチルニーデル
、グトラヒFロフラン、ジオキサンのよう1エニーデル
類;アセトニトリルまたは水、あるいは、例えばクロロ
ホルム−ジメチルホルムアミド−イソプロピルアルコー
ル=3:5:5のような2〜3釉の上記溶媒の¥昆合物
か用いられる。
反応温度およびj反応時間は、用いる出発物質および溶
媒の条f(−により異なるか、20〜80℃の範囲で、
窒素雰囲気下、密封反応容器(例えば、封管)中で、1
〜48時間反応させることか好適である。
媒の条f(−により異なるか、20〜80℃の範囲で、
窒素雰囲気下、密封反応容器(例えば、封管)中で、1
〜48時間反応させることか好適である。
反応終了後、目的化合物(Ia)または(1b)は常法
に従って反応混合物から単離することができる。例えば
反応混合物を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより精製し、イオン又換慟脂(例えはロー
ム・アンド・)・−ス社製 MB−3か好適)または、
銀塩(例えば、炭酸銀、酢酸銀か好適)で処理すること
により、分子内塩である本発明化合物(Ia)または(
ll))の純品をh)ることかできる。なお、ピリジン
を反応試薬および溶媒として用いる場合には、化合物の
分子内塩を直接得ることかできる。
に従って反応混合物から単離することができる。例えば
反応混合物を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーにより精製し、イオン又換慟脂(例えはロー
ム・アンド・)・−ス社製 MB−3か好適)または、
銀塩(例えば、炭酸銀、酢酸銀か好適)で処理すること
により、分子内塩である本発明化合物(Ia)または(
ll))の純品をh)ることかできる。なお、ピリジン
を反応試薬および溶媒として用いる場合には、化合物の
分子内塩を直接得ることかできる。
ブた、目的物を他イオンとの塩に変換するには、それ自
体公知の方法により容易に行うことかできる。
体公知の方法により容易に行うことかできる。
側鎖末端に環状燐酸アルキルを有する燐酸エステル誘導
体(■)または(II)を、アミン類(K)と溶媒中で
反応させ、直接に分子内塩として本発明化合物(Ia)
または(Ib)を得る工程である。
体(■)または(II)を、アミン類(K)と溶媒中で
反応させ、直接に分子内塩として本発明化合物(Ia)
または(Ib)を得る工程である。
反応溶媒、反応温度および反応時間は、前記ll1)項
の第4,8工程と同様に行い5る。
の第4,8工程と同様に行い5る。
反応終了後、目的化合物(I8)または(1b)は常法
に従って、反応混合物から単離することかできる。例え
は反応混合物を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製すると、前記1ll)項と異な
り、直接に分子内塩として目的化合物(Ia)または(
1b)の純品を得ることができる。また、他の塩への渡
換は前記と同様に行いうる。
に従って、反応混合物から単離することかできる。例え
は反応混合物を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製すると、前記1ll)項と異な
り、直接に分子内塩として目的化合物(Ia)または(
1b)の純品を得ることができる。また、他の塩への渡
換は前記と同様に行いうる。
本発明の原料化合物(Na)又は(Ii’b)は、新規
な化合物であり、例えばり下の反応式に示1″ように、
dl−酒石酸(店)から立体特異的に製造できる。さら
に、原料である酒石酸(Xll)として、d体又は1体
を使用することにより、本発明の原料化合物(ya )
又は(Rlb)&よ光学活性体として製造できる。
な化合物であり、例えばり下の反応式に示1″ように、
dl−酒石酸(店)から立体特異的に製造できる。さら
に、原料である酒石酸(Xll)として、d体又は1体
を使用することにより、本発明の原料化合物(ya )
又は(Rlb)&よ光学活性体として製造できる。
0Ill) (XII[)
(島)(XV) (Xv)
(XVn)(38,48)(X■)(ya) (欽) (XX) (38,
48)(Xi (■b)(XXI
I) (XX1[1)OR3′ (IVI) ) (XXVn) 式中、11. B2’及びIt5’は前記と同意義を示
し、R12,113及びR14は通常用いられるヒドロ
キシ基の保護基であり、例えげ」り下の保艙基群のうち
異なる群の保@犀な与げることができ、それらはそれぞ
れ選択的に他の1h′課基11]゛と区別して除去しう
るものをノI<−4゜ ジフェニルメチル、”)フェニルメチル、α−ナフチル
ジフェニルメチル、p−メトキシフェニルジフェニルメ
チル、p−(p−ブロモフェナシルオキシ)フェニルジ
フェニルメチルのようなジまたはトリアリールジメチル
基B手;テトラヒドロビラン−2−イル、3−ブロモテ
トラヒドロピラン−2−イル、4−メトキシテトラヒド
ロビラン−4−イル、テトラヒドロチオビラン−2−イ
ル、4−メトギシテトラヒドロチオビラン−4−イルの
ような1トラヒドロピラニル基抑;トリメチルシリル、
トリエチルシリル、イソブロビルジメナルシリル、
tert−フェルメチルシリル、メチルジイソプロピル
シリル、メチルジーt−:/チルシリル、ジフェニルt
−ブチルシリル、トリイソプロピルシリルのようなシリ
ル基群;またはベンジル、p−メトキシベンジル、0−
ニトロベンジル、p−ニトロベンジル、p−ハロペンシ
ル、p−シアノベンジルのような置換されていてもよい
ベンジル基群。
(島)(XV) (Xv)
(XVn)(38,48)(X■)(ya) (欽) (XX) (38,
48)(Xi (■b)(XXI
I) (XX1[1)OR3′ (IVI) ) (XXVn) 式中、11. B2’及びIt5’は前記と同意義を示
し、R12,113及びR14は通常用いられるヒドロ
キシ基の保護基であり、例えげ」り下の保艙基群のうち
異なる群の保@犀な与げることができ、それらはそれぞ
れ選択的に他の1h′課基11]゛と区別して除去しう
るものをノI<−4゜ ジフェニルメチル、”)フェニルメチル、α−ナフチル
ジフェニルメチル、p−メトキシフェニルジフェニルメ
チル、p−(p−ブロモフェナシルオキシ)フェニルジ
フェニルメチルのようなジまたはトリアリールジメチル
基B手;テトラヒドロビラン−2−イル、3−ブロモテ
トラヒドロピラン−2−イル、4−メトキシテトラヒド
ロビラン−4−イル、テトラヒドロチオビラン−2−イ
ル、4−メトギシテトラヒドロチオビラン−4−イルの
ような1トラヒドロピラニル基抑;トリメチルシリル、
トリエチルシリル、イソブロビルジメナルシリル、
tert−フェルメチルシリル、メチルジイソプロピル
シリル、メチルジーt−:/チルシリル、ジフェニルt
−ブチルシリル、トリイソプロピルシリルのようなシリ
ル基群;またはベンジル、p−メトキシベンジル、0−
ニトロベンジル、p−ニトロベンジル、p−ハロペンシ
ル、p−シアノベンジルのような置換されていてもよい
ベンジル基群。
好適には、R12はベンジル基群が、H15はテトラヒ
ドロピラニル基群が、R14は、シリル基群か用いられ
る。さらに好適には、R12はベンジル基、R15はテ
トラヒドロビラン−2−イル基及びR14はter t
−ブチルジメチルシリル基である。
ドロピラニル基群が、R14は、シリル基群か用いられ
る。さらに好適には、R12はベンジル基、R15はテ
トラヒドロビラン−2−イル基及びR14はter t
−ブチルジメチルシリル基である。
2は塩素、臭素、沃素のようなハロゲン原子;メタンス
ルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、トリフルオ
ロメタンスルホニルオキシのような低級アルキルスルホ
ニルオキシ基またはベンゼンスルホニルオキシ、p−)
ルエンスルホニルオキシのようなアリールスルホニルオ
キシ基を示す。
ルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、トリフルオ
ロメタンスルホニルオキシのような低級アルキルスルホ
ニルオキシ基またはベンゼンスルホニルオキシ、p−)
ルエンスルホニルオキシのようなアリールスルホニルオ
キシ基を示す。
R15は低級アルキル基を示す。
以下に、上記反応の反応条件を説明する。
第9工程は、L−酒石酸(X11)を、大野ら、テトラ
ヘドロンレターズ、23巻、3507負、1982年C
0hno、 et*a1.、 Tetrahedron
Lett、、 23.3507゜(1982) ]に
記載の方法と類似の方法により、3位の酸素原子か保護
基R12で置換された化合物(xn+)を合成する工程
である。上記方法に従えは、化合物(XJil)のヒド
ロキシ基の保護基はベンジル基群であるか、75r W
iにより、1級ヒドロキシ基を保護したのち、又は、保
瞳しないで、常法に従い、前n12他のヒドロキシ基の
保護基群の基と置換することもできる。
ヘドロンレターズ、23巻、3507負、1982年C
0hno、 et*a1.、 Tetrahedron
Lett、、 23.3507゜(1982) ]に
記載の方法と類似の方法により、3位の酸素原子か保護
基R12で置換された化合物(xn+)を合成する工程
である。上記方法に従えは、化合物(XJil)のヒド
ロキシ基の保護基はベンジル基群であるか、75r W
iにより、1級ヒドロキシ基を保護したのち、又は、保
瞳しないで、常法に従い、前n12他のヒドロキシ基の
保護基群の基と置換することもできる。
第10工程は、化合物(xn+)を、(atクロム酢−
ビリジンを用いるコリンズ11化、(b)ジシクロへキ
シルカルポジイミド−ジメチルスルホキシドを用いるモ
ファット酸化、(C)シュウ酸ジクロリドとトリエチル
アミンを用いるスワン酸化又は(di二酸化イオウとビ
リジンを用いる酸化により、ヒドロキシ基を酸化してア
ルデヒド化合91) (XI’/)を製造する工程であ
る。
ビリジンを用いるコリンズ11化、(b)ジシクロへキ
シルカルポジイミド−ジメチルスルホキシドを用いるモ
ファット酸化、(C)シュウ酸ジクロリドとトリエチル
アミンを用いるスワン酸化又は(di二酸化イオウとビ
リジンを用いる酸化により、ヒドロキシ基を酸化してア
ルデヒド化合91) (XI’/)を製造する工程であ
る。
第11工程は、化合物(X[V)を、グリニヤール試薬
R’MgBrと、テトラヒドロフラン、ジエチルコー
ル化合物(XV)を製造する工程である。
R’MgBrと、テトラヒドロフラン、ジエチルコー
ル化合物(XV)を製造する工程である。
第12工程は、化合物(XV)のヒドロキシ基を、求核
性脱離基に変換し、化合物(XM) を製造する工程
であり、例えば、(alチオニルクロリドの様な通常ヒ
ドロキシ基をハロゲン原子に変換できる試薬を用いて)
・ロゲン化、(bl低斂アルキルスルホニルハライドを
用いて低級アルキルスルホニルオキシ化又は(clアリ
ールスルホニルハライトヲ用いてアリールスルホニルオ
キシ化により実施される。溶媒は好適には、ベンゼンの
ような芳香族炭化水素類を用い、塩基の存在下(好適に
はトリエチルアミン)に、θ〜20″Cで反応をbなう
のが好ましい。
性脱離基に変換し、化合物(XM) を製造する工程
であり、例えば、(alチオニルクロリドの様な通常ヒ
ドロキシ基をハロゲン原子に変換できる試薬を用いて)
・ロゲン化、(bl低斂アルキルスルホニルハライドを
用いて低級アルキルスルホニルオキシ化又は(clアリ
ールスルホニルハライトヲ用いてアリールスルホニルオ
キシ化により実施される。溶媒は好適には、ベンゼンの
ような芳香族炭化水素類を用い、塩基の存在下(好適に
はトリエチルアミン)に、θ〜20″Cで反応をbなう
のが好ましい。
第13工程は、化合物(XV)を閉環し、化合物(X■
)を製造する工程である。反応は、メタノール、エタノ
ールのようなアルコール類溶媒中、希塩酸、希イ訛酸の
ような鴇鉱酸を用いて行なわれ、0〜50℃、好適には
室温にて、2〜24時間実施される。
)を製造する工程である。反応は、メタノール、エタノ
ールのようなアルコール類溶媒中、希塩酸、希イ訛酸の
ような鴇鉱酸を用いて行なわれ、0〜50℃、好適には
室温にて、2〜24時間実施される。
生成物(XVU)は、2位のα拝、β体の混合物である
ので、この異性体をクロマトグラフィー(展開温媒とし
ては、ヘキャン及びエーテル若しくは酢酸エチルのn7
4合浴tlνが好適である。)で分離し、以下の工程に
使用する。
ので、この異性体をクロマトグラフィー(展開温媒とし
ては、ヘキャン及びエーテル若しくは酢酸エチルのn7
4合浴tlνが好適である。)で分離し、以下の工程に
使用する。
第14工程は、化合物(XVII )のヒドロキシ基を
、常法によりアルキル化(例えば、溶媒中(好適にはジ
メチルホルムアミド又はへキサメチルホスホロトリアミ
ド)、塩基(好適にはナトリウムヒドリド)の存在下、
アルギルハライドを反応させる)又は常法により、アシ
ル化(例えは、饅媒中(好適にはベンゼン、トルエンの
ような芳香族炭化水素類、又はメチレンクロリド、クロ
ロホルムのようなハロゲン化炭化水素類)、塩基(好適
には、ビリジン、トリエチルアミンのような有機塩基類
)の存在下、酸ハライド又は酸無水物を反応させる)す
ることにより、化金物(■)を製造する工程である。
、常法によりアルキル化(例えば、溶媒中(好適にはジ
メチルホルムアミド又はへキサメチルホスホロトリアミ
ド)、塩基(好適にはナトリウムヒドリド)の存在下、
アルギルハライドを反応させる)又は常法により、アシ
ル化(例えは、饅媒中(好適にはベンゼン、トルエンの
ような芳香族炭化水素類、又はメチレンクロリド、クロ
ロホルムのようなハロゲン化炭化水素類)、塩基(好適
には、ビリジン、トリエチルアミンのような有機塩基類
)の存在下、酸ハライド又は酸無水物を反応させる)す
ることにより、化金物(■)を製造する工程である。
第15工程は、化合物(X■)のヒドロキシ基の保M基
を除去し、本発明の原料化合物(R8)を製造する工程
である。ヒドロキシ基の保護基かジまたはトリアリール
メチル基群の場合は、保護基の脱離は例えば、トリフル
オロ酢酸、塩酸、酢酸のような酸によって行われる。ヒ
ドロキシ基の保護基かベンジル基群の場合は、その脱離
は還元により行われ、好適には、溶媒中(例えは、メタ
ノール、エタノールのようなアルコール類又はテトラヒ
ドロフランのようなエーテル類)、パラジウム−炭素を
触媒とした接触還元か用いられる。また、ヒドロキシ基
の保岐基がシリル基訃の場合は、その脱離反応にはフッ
素アニオンを用いるが、テトラブチルアンモニウムフル
オリドの使用が好ましい。さらに、ヒドロキシ基の保護
基かテトラヒドロピラニル基群の場合には脱離は酸によ
って(例えば酢酸、トシル酸)、行われる。
を除去し、本発明の原料化合物(R8)を製造する工程
である。ヒドロキシ基の保護基かジまたはトリアリール
メチル基群の場合は、保護基の脱離は例えば、トリフル
オロ酢酸、塩酸、酢酸のような酸によって行われる。ヒ
ドロキシ基の保護基かベンジル基群の場合は、その脱離
は還元により行われ、好適には、溶媒中(例えは、メタ
ノール、エタノールのようなアルコール類又はテトラヒ
ドロフランのようなエーテル類)、パラジウム−炭素を
触媒とした接触還元か用いられる。また、ヒドロキシ基
の保岐基がシリル基訃の場合は、その脱離反応にはフッ
素アニオンを用いるが、テトラブチルアンモニウムフル
オリドの使用が好ましい。さらに、ヒドロキシ基の保護
基かテトラヒドロピラニル基群の場合には脱離は酸によ
って(例えば酢酸、トシル酸)、行われる。
第16エ程は、化合物(XVU)のヒドロキシ基を前記
第9■稈にHU」りしだ株′n基と異なる群の保り基で
保護し、化合物(XK)を?〜Yる反応であり、好適に
はテトラヒドロピラニル基群の保護基が用いられ、反応
は常法に従い、酸の存在下実施される。
第9■稈にHU」りしだ株′n基と異なる群の保り基で
保護し、化合物(XK)を?〜Yる反応であり、好適に
はテトラヒドロピラニル基群の保護基が用いられ、反応
は常法に従い、酸の存在下実施される。
第1T工程は、第15工程と同様の工程であり、化合物
(XK)のヒドロキシ基の保護基を除去して化合物(X
X)を製造する]−楊である。
(XK)のヒドロキシ基の保護基を除去して化合物(X
X)を製造する]−楊である。
第18工程し1、第14工程と同様の工程であり、化合
物(XX)をアルキル化ヌはアシル化して化合物(XX
I)を製造する工程である。
物(XX)をアルキル化ヌはアシル化して化合物(XX
I)を製造する工程である。
第19工程は、第15工程と同様の工程であり、化合物
(XXt)のヒドロキシ基の保護基を除去して、本発明
の原料化合物(yb)を製造する工程である。
(XXt)のヒドロキシ基の保護基を除去して、本発明
の原料化合物(yb)を製造する工程である。
第20工程は、化合物(Xlll )のヒドロキシ基を
、第12工程と同様にして1.>1ζ俵性脱離基に変換
した後、これをシアン化アルカリ金属と反応させ、シア
ノ化合物を映遺し、このシアン基な加水分解してカルボ
ン酸とし、さらに、低級アルキル基でカルホキシ基をエ
ステル化し、原料化合物(xtn)より主鎖の炭素数の
1つ多い化合物(諜)を製造する工程であり、各工程は
常法に従い、実施される。
、第12工程と同様にして1.>1ζ俵性脱離基に変換
した後、これをシアン化アルカリ金属と反応させ、シア
ノ化合物を映遺し、このシアン基な加水分解してカルボ
ン酸とし、さらに、低級アルキル基でカルホキシ基をエ
ステル化し、原料化合物(xtn)より主鎖の炭素数の
1つ多い化合物(諜)を製造する工程であり、各工程は
常法に従い、実施される。
第21工程は、化合物(XXII)のインプロピリデン
基を常法により脱離し、第1級ヒドロキシ基を選択的に
R14基(例えばトリ低級アルキルシリル基群、好適に
はtert−ブチルジメチル シリル基)で保護し、さ
らに第2級ヒドロキシ基を、保護基R13(例えばテト
ラヒドロピラニル基群、好適にはテトラヒドロビラン−
2−イル)で常法に従い、保護し、さらにエステル部分
を、溶媒中(好適には、トルエン;エチルエーテル、テ
トラヒドロフランのようなエーテル類)で、ジイソブチ
ルアルミニウムヒドリドのような金用還元剤を用いて、
−50’(II’−M温で、30分〜2時間還元するこ
とにより、アルテヒド化合物(xxn+)を、l!!遺
する工程である。
基を常法により脱離し、第1級ヒドロキシ基を選択的に
R14基(例えばトリ低級アルキルシリル基群、好適に
はtert−ブチルジメチル シリル基)で保護し、さ
らに第2級ヒドロキシ基を、保護基R13(例えばテト
ラヒドロピラニル基群、好適にはテトラヒドロビラン−
2−イル)で常法に従い、保護し、さらにエステル部分
を、溶媒中(好適には、トルエン;エチルエーテル、テ
トラヒドロフランのようなエーテル類)で、ジイソブチ
ルアルミニウムヒドリドのような金用還元剤を用いて、
−50’(II’−M温で、30分〜2時間還元するこ
とにより、アルテヒド化合物(xxn+)を、l!!遺
する工程である。
第22工程は、化合物(xxn+)を前記第11〜12
工権と同様にして順次処理し、化合物(x■)より主鎖
の炭素数の1つ多い化合物(XXN )を製造する工程
である。
工権と同様にして順次処理し、化合物(x■)より主鎖
の炭素数の1つ多い化合物(XXN )を製造する工程
である。
第23工程は、化合′吻(xxh’)の ヒドロキシ基
の保護基R14を、第15工程の記載に準じて 選択的
に除去した化合物を、卵、13工程と同様に処理1−る
ことにより閉環し、化合物(XXV)を製造する工程で
ある。この1村に4・(いても、41成物(XXV )
は2位かαH8及びI杯の?h’;−%r物として徨ら
れるので、り【17トグシノイー(11(開溶媒として
は、ヘキャン及びニーフル7、シ<け自1師エチルの混
合R−ツ媒か釣軸で漆、イ、。)Kより異4<i体を分
離し、以下の]−A′、’、に使用′4/)。
の保護基R14を、第15工程の記載に準じて 選択的
に除去した化合物を、卵、13工程と同様に処理1−る
ことにより閉環し、化合物(XXV)を製造する工程で
ある。この1村に4・(いても、41成物(XXV )
は2位かαH8及びI杯の?h’;−%r物として徨ら
れるので、り【17トグシノイー(11(開溶媒として
は、ヘキャン及びニーフル7、シ<け自1師エチルの混
合R−ツ媒か釣軸で漆、イ、。)Kより異4<i体を分
離し、以下の]−A′、’、に使用′4/)。
第24工程は、化I物(XXV)の、ヒドロキシ基の保
技基■ζ12又け1(13を、第15工札)の記載に準
じて、如月jし、−力の’IMf F+☆基へ・選択的
に除去し、このヒドロキシ〃4.な、第14工程と回(
求にしてアルキル化又はアシル化した抜、もう一方のヒ
ドロキシ基の作画を除去し、本ツ?、明の原料化合物(
ya)又は(j/b)を製造する」−程である。
技基■ζ12又け1(13を、第15工札)の記載に準
じて、如月jし、−力の’IMf F+☆基へ・選択的
に除去し、このヒドロキシ〃4.な、第14工程と回(
求にしてアルキル化又はアシル化した抜、もう一方のヒ
ドロキシ基の作画を除去し、本ツ?、明の原料化合物(
ya)又は(j/b)を製造する」−程である。
第25工程は、化合物(X1ll )σノヒドロキシ基
をアシル化、例えばメタンスルホニル、トルエンスルホ
ニル、トリフルオロメタンスルホニルまたはトリフルオ
ロアセチル化しエステルを合成した後、アシルオキシ基
をヨードで置換し、さらにマロン酸ジ低級アルキルと反
応させ、化合物(XX’V>を製造する工程である。
をアシル化、例えばメタンスルホニル、トルエンスルホ
ニル、トリフルオロメタンスルホニルまたはトリフルオ
ロアセチル化しエステルを合成した後、アシルオキシ基
をヨードで置換し、さらにマロン酸ジ低級アルキルと反
応させ、化合物(XX’V>を製造する工程である。
第26エ程は、化合物(xxM)を、例えは塩化ナトリ
ウムDM80水haと加熱し脱炭酸スることにより、カ
ルボキシ基の保護基R15を保持したまま、(X■)の
主録の炭素数か2炭素増炭した化合物(XX■)を製造
する工程である。
ウムDM80水haと加熱し脱炭酸スることにより、カ
ルボキシ基の保護基R15を保持したまま、(X■)の
主録の炭素数か2炭素増炭した化合物(XX■)を製造
する工程である。
第27エ程は、化合物(XX’+’ll)を前記第21
〜22工程と同様にして処理し、化合物(x■)より、
主知の炭素数か2個増加した化合物(XX用)を製造す
る工程である。
〜22工程と同様にして処理し、化合物(x■)より、
主知の炭素数か2個増加した化合物(XX用)を製造す
る工程である。
第28工桂は、第23工程と同様の工程であり、化合物
(XX用)を原料として閉環した化合物(xxpc)を
製造する工程である。この工程において得られた化合物
(XXX)も2位がα体及びβ体の混合物であり、クロ
マトグラフィー(展開溶媒としく35) ては、ヘキサン及びエーテル若しくは酢酸エチルの混合
溶媒か好適である。)により、異性体を分離し、以下の
工程に使用する。
(XX用)を原料として閉環した化合物(xxpc)を
製造する工程である。この工程において得られた化合物
(XXX)も2位がα体及びβ体の混合物であり、クロ
マトグラフィー(展開溶媒としく35) ては、ヘキサン及びエーテル若しくは酢酸エチルの混合
溶媒か好適である。)により、異性体を分離し、以下の
工程に使用する。
第29工程は、第24工程と同様の工程であり、化合物
(XXX)を原料として本発明の原料化合物(ya)又
は(■b)を製造する工程である。
(XXX)を原料として本発明の原料化合物(ya)又
は(■b)を製造する工程である。
上記各工程のfsc比、終了後、目的化合物は常法に従
って反応混合物から単11111 jることかできる。
って反応混合物から単11111 jることかできる。
例えは、再結晶、分11■用71J IIクロマトグラ
フィー、カラムクロマトグラフィー等により精製して、
純品を得ることかできる。
フィー、カラムクロマトグラフィー等により精製して、
純品を得ることかできる。
D−酒石酸 (Na)
(■b)(XXX ) (X
XM)尚、L−酒石酸の代りに、D−酒石酸を原料とし
て使用することにより、配位の異なったトランスジオー
ル型の誘導体を上記と同様の工程により立体特異的に合
成することができ、又、メソ酒石酸を原料として使用す
ることにより、シスジオール型の誘導体を前記と同様の
工程により立体特異的に合成することができる。
(■b)(XXX ) (X
XM)尚、L−酒石酸の代りに、D−酒石酸を原料とし
て使用することにより、配位の異なったトランスジオー
ル型の誘導体を上記と同様の工程により立体特異的に合
成することができ、又、メソ酒石酸を原料として使用す
ることにより、シスジオール型の誘導体を前記と同様の
工程により立体特異的に合成することができる。
さらに、第30工栓に示1ように、保腹されていないヒ
ドロキシ基は、光延反応及び、エステルの加水分解によ
り、逆配位のヒドロキシ基に変換することができるので
、この反応を実施することにより、配位の異なる全ての
異性体を合成することかできる。反応は、ジメチルアゾ
ジカルボキシレート、トリフェニルホスフィン及び安息
香酸、酢酸のような有機酸を試薬として用い、反応溶媒
としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はな
いか、好適には、ベンゼン、トルエンのような芳香族炭
化水素類又は、エチルエーテル、テトラヒドロフランの
ようなエーテル類を挙けることができ、ol:〜100
℃で実施される。
ドロキシ基は、光延反応及び、エステルの加水分解によ
り、逆配位のヒドロキシ基に変換することができるので
、この反応を実施することにより、配位の異なる全ての
異性体を合成することかできる。反応は、ジメチルアゾ
ジカルボキシレート、トリフェニルホスフィン及び安息
香酸、酢酸のような有機酸を試薬として用い、反応溶媒
としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はな
いか、好適には、ベンゼン、トルエンのような芳香族炭
化水素類又は、エチルエーテル、テトラヒドロフランの
ようなエーテル類を挙けることができ、ol:〜100
℃で実施される。
本発明の新規な燐酸エステル誘導体は、抗腫瘍剤として
種々の悪性腫瘍の治療に有効であり、かつ毒性か非常に
弱いので尚用量の投与も可能であり、顕著な延命効果を
奏する。又、本発明化合物CI)は抗炎症作用も有する
。
種々の悪性腫瘍の治療に有効であり、かつ毒性か非常に
弱いので尚用量の投与も可能であり、顕著な延命効果を
奏する。又、本発明化合物CI)は抗炎症作用も有する
。
本発明の化合物(I)の投与形態としては、例えば、錠
剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤など
による経口投与、または注射剤若しくは坐剤などによる
非経口投与を挙げることかできる。その便用前は症状、
年金などにより異なるが、1日0.1〜100 mvk
g体沖で、1回または数回に分けて投与することかでき
る。
剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤など
による経口投与、または注射剤若しくは坐剤などによる
非経口投与を挙げることかできる。その便用前は症状、
年金などにより異なるが、1日0.1〜100 mvk
g体沖で、1回または数回に分けて投与することかでき
る。
以下に、実施例、参考例および試験例を挙げ、本発明を
更に具体的に説明する。
更に具体的に説明する。
参考例3の化合物(0,8839)とジイソプロピルエ
チルアミン(0,86震/ )の1.2−ジクロロエタ
ン(15ml)俗准に2−クロロ−2−オキソ−1、3
,2−ジオキサホスポラン(0,708fl )を加え
、80℃の油浴上で15時間加熱攪拌した。放冷後溶媒
を溜去し、残渣をアセトニトリル(10ml )に溶か
した。水冷下でトリメチルアミンガスを通じて約2fを
吸収させ、封管に移して80℃の油浴上で36時間加熱
した。溶媒を間去し、残渣をシリカゲル(40ダ)を用
いたカラムクロマトグラフィーにかけた。メチレンクロ
リド−メタノール−水(65: 35 : 5 )で浴
出される分画な集め、さらにローパーBカラムを用いた
カラムクロマトグラフィーにより精製した。
チルアミン(0,86震/ )の1.2−ジクロロエタ
ン(15ml)俗准に2−クロロ−2−オキソ−1、3
,2−ジオキサホスポラン(0,708fl )を加え
、80℃の油浴上で15時間加熱攪拌した。放冷後溶媒
を溜去し、残渣をアセトニトリル(10ml )に溶か
した。水冷下でトリメチルアミンガスを通じて約2fを
吸収させ、封管に移して80℃の油浴上で36時間加熱
した。溶媒を間去し、残渣をシリカゲル(40ダ)を用
いたカラムクロマトグラフィーにかけた。メチレンクロ
リド−メタノール−水(65: 35 : 5 )で浴
出される分画な集め、さらにローパーBカラムを用いた
カラムクロマトグラフィーにより精製した。
上記溶媒糸で噴出される分画な集めて表記の化合物(o
、ass Fl )を白色粉末として舟だ。
、ass Fl )を白色粉末として舟だ。
mp 131 〜137111″。
NMR、;<ベクトル(CJOD、 ppm:) :0
.75〜1.90 (31H,m、 C15H31)
2、15 (3H,s 1OCOCH3)■ 3.25 (9H,S、 −N(CH5)5 )3.5
5〜4.50 (8H,m) 5.22 (IH,m、 −CH−0A、)元素分析:
C26H5207NP−0,5H2Oとして計算値:
C,5B、84 ; H,10,06; N、2.6
4 ; P、5.84実側値: C,58,38; H
,9,91; N、 2.58 ; P、5.91径考
例4の化合q9IJ(0,534g )を用い、実施例
1と同様に操作して表記の化合物(0,4311)を白
色粉末として得た。mp 96〜104’C’。
.75〜1.90 (31H,m、 C15H31)
2、15 (3H,s 1OCOCH3)■ 3.25 (9H,S、 −N(CH5)5 )3.5
5〜4.50 (8H,m) 5.22 (IH,m、 −CH−0A、)元素分析:
C26H5207NP−0,5H2Oとして計算値:
C,5B、84 ; H,10,06; N、2.6
4 ; P、5.84実側値: C,58,38; H
,9,91; N、 2.58 ; P、5.91径考
例4の化合q9IJ(0,534g )を用い、実施例
1と同様に操作して表記の化合物(0,4311)を白
色粉末として得た。mp 96〜104’C’。
NMR7,ペクト/l/ (CD301)、 ppm’
:) ;015〜1.90 (3111,m、 −C1
5H31)2.08 (3H,S、 −0COCH,)
中 3.24 (9H,8,−N(CH3)3 )3.5
5〜4.65 (8H,m )5.37 (H(
、m、 −CH−0Ac )元素分析: C26H5
2NO7P・1.51120として計算値: C,58
51; H,1007; N、2.62 ;P、5.8
0 実64リイ直 : C,5829: H,9,89
; N、2.60 ; P、5.57参考例6の
化合物(0,7049)を用い、実施例1のように操作
して表記の化合物(Q、774f )を粘稠な液体とし
て得た。
:) ;015〜1.90 (3111,m、 −C1
5H31)2.08 (3H,S、 −0COCH,)
中 3.24 (9H,8,−N(CH3)3 )3.5
5〜4.65 (8H,m )5.37 (H(
、m、 −CH−0Ac )元素分析: C26H5
2NO7P・1.51120として計算値: C,58
51; H,1007; N、2.62 ;P、5.8
0 実64リイ直 : C,5829: H,9,89
; N、2.60 ; P、5.57参考例6の
化合物(0,7049)を用い、実施例1のように操作
して表記の化合物(Q、774f )を粘稠な液体とし
て得た。
NMRスペクトル(CD300. ppm;) :0.
7〜1.85 (31H,m、 −C,5H31)■ 3−26 (9H1S、 N(CHs)y、 )3.
40 (3H,S、 OCH3)3.55 ヘ4.1
0 (6H,m )4.10〜4.50 (3H,m
) 参考例4の化合物(0,720f )、2−フロモエチ
ルホスホロジクロリテート(0,7339)及ヒドリエ
チルアミン(05禦t)のメチレンクロリド(10厘/
)#液を室温で6日間攪拌した。
7〜1.85 (31H,m、 −C,5H31)■ 3−26 (9H1S、 N(CHs)y、 )3.
40 (3H,S、 OCH3)3.55 ヘ4.1
0 (6H,m )4.10〜4.50 (3H,m
) 参考例4の化合物(0,720f )、2−フロモエチ
ルホスホロジクロリテート(0,7339)及ヒドリエ
チルアミン(05禦t)のメチレンクロリド(10厘/
)#液を室温で6日間攪拌した。
トリエチルアミン(0,5ml )と水(1,0ml
)を加えて室温で4時間撹拌した後、反応液をメチレン
クロリド(20d)で猫釈し、10%塩酸及び水で洗っ
た。有機1曽を乾燥、濃縮し、残沿をシリカゲル(30
fl )を用いた カラムクロマトグラフィーにかけた
。メチレンクロリド−メタノール(20: 1〜10
: 1 )で溶出される分画な集メチ、(zR”、 a
s”、 4s” )−4−7セ) キシ−2−ペンタデ
シルテトラヒドロフラン−3−イル 2−ブロモエチル
小スフニー) (0,582g)を得た。
)を加えて室温で4時間撹拌した後、反応液をメチレン
クロリド(20d)で猫釈し、10%塩酸及び水で洗っ
た。有機1曽を乾燥、濃縮し、残沿をシリカゲル(30
fl )を用いた カラムクロマトグラフィーにかけた
。メチレンクロリド−メタノール(20: 1〜10
: 1 )で溶出される分画な集メチ、(zR”、 a
s”、 4s” )−4−7セ) キシ−2−ペンタデ
シルテトラヒドロフラン−3−イル 2−ブロモエチル
小スフニー) (0,582g)を得た。
薄層クロマトグラフィー(シリカゲル板;メチレンクロ
リド−メタノール、5:1):Rf O,51 上記の化合物(0,5821)、チアゾール(0,76
耐)およびトルエン(2,0ml )の混合物を80′
cの油浴上で4日間加熱攪拌した。電媒を溜去し、残渣
をシリカゲル(20f )を用いたカラムクマドグラフ
ィーにかけた。メタノール−メチレンクロリド(1:
10 )によって未反応の上記プロモエチル ホスフェ
−) (0,3891) カ溶出された後、メチレンク
ロリド−メタノール−水(60: 35 : 5 )に
よって溶出される分画を集めて(2R黄、 38黄、4
8+)−4−アセトキシ−2−ペンタテシルテトラヒド
ロビラン−3−イル2−チアゾリオエチル ホスフェー
ト ズロミド(0,1oo 9 )を粘稠な油状物とし
て得た。これをテトラヒドロフラン−水(95: 5.
51I+/)に浴かし、イオン交換樹脂(MB−3)
(2厘l)のカラムに通じた。溶出液を繰返して6回同
じカラムに通じ、最後にカラムをテトラヒドロフラン−
水(95: 5 )で洗った。 浴出液と洗液を合わせ
て濃縮し、残渣をローパーAカラムを用いた中圧液体ク
ロマトグラフィーにかケタ。
リド−メタノール、5:1):Rf O,51 上記の化合物(0,5821)、チアゾール(0,76
耐)およびトルエン(2,0ml )の混合物を80′
cの油浴上で4日間加熱攪拌した。電媒を溜去し、残渣
をシリカゲル(20f )を用いたカラムクマドグラフ
ィーにかけた。メタノール−メチレンクロリド(1:
10 )によって未反応の上記プロモエチル ホスフェ
−) (0,3891) カ溶出された後、メチレンク
ロリド−メタノール−水(60: 35 : 5 )に
よって溶出される分画を集めて(2R黄、 38黄、4
8+)−4−アセトキシ−2−ペンタテシルテトラヒド
ロビラン−3−イル2−チアゾリオエチル ホスフェー
ト ズロミド(0,1oo 9 )を粘稠な油状物とし
て得た。これをテトラヒドロフラン−水(95: 5.
51I+/)に浴かし、イオン交換樹脂(MB−3)
(2厘l)のカラムに通じた。溶出液を繰返して6回同
じカラムに通じ、最後にカラムをテトラヒドロフラン−
水(95: 5 )で洗った。 浴出液と洗液を合わせ
て濃縮し、残渣をローパーAカラムを用いた中圧液体ク
ロマトグラフィーにかケタ。
メチレンクロリド−メタノール−水(60: 35:5
)で溶出される分画を集めて懺記の化合物(0,077
p )を粘稠な油状物として得た。
)で溶出される分画を集めて懺記の化合物(0,077
p )を粘稠な油状物として得た。
NMRスペクトル(CD30D、 ppm) :0.7
〜1.85 (31H,m、−C,5H31)2.02
(3H,S、 −0COCH,)3.45〜5.0
(8H,ロ1 )5.20 (IH,m、−CI
−OAc )8.24. s、52. to、2
0 (%18.■、チアソ゛−ル環のプロトン) ピリジン(25,El ml )のメチレンクロリド(
400ml ) 浴液を水冷下で15℃とし、無水クロ
ム酸(16,01)を一度に加えた。混合液を室温で1
5分間攪拌し、氷水浴中で0〜5℃に冷却した。dj−
3−0−ベンジル−1,2−0−イソプロピリデンスレ
イトール(大野らの方法(Tetrahedron L
etters 233507 (1982) ) に
従ってdl−1石酸より合成)(5,04N)のメチレ
ンクロリド(10gl)溶液を加え、 室温で30分間
攪拌した。反応液をエーテル(600m/)で希釈し、
5%水酸化す) IJウム水溶液、冷5%塩酸、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液、及び水でI11#4次洗った
。有機層を乾燥、濃縮すると(2R”、 38養)−2
−ベンジルオキシ−3,4−イソプロピリデンジオキシ
ブタナール(4,641)か得られた。
〜1.85 (31H,m、−C,5H31)2.02
(3H,S、 −0COCH,)3.45〜5.0
(8H,ロ1 )5.20 (IH,m、−CI
−OAc )8.24. s、52. to、2
0 (%18.■、チアソ゛−ル環のプロトン) ピリジン(25,El ml )のメチレンクロリド(
400ml ) 浴液を水冷下で15℃とし、無水クロ
ム酸(16,01)を一度に加えた。混合液を室温で1
5分間攪拌し、氷水浴中で0〜5℃に冷却した。dj−
3−0−ベンジル−1,2−0−イソプロピリデンスレ
イトール(大野らの方法(Tetrahedron L
etters 233507 (1982) ) に
従ってdl−1石酸より合成)(5,04N)のメチレ
ンクロリド(10gl)溶液を加え、 室温で30分間
攪拌した。反応液をエーテル(600m/)で希釈し、
5%水酸化す) IJウム水溶液、冷5%塩酸、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液、及び水でI11#4次洗った
。有機層を乾燥、濃縮すると(2R”、 38養)−2
−ベンジルオキシ−3,4−イソプロピリデンジオキシ
ブタナール(4,641)か得られた。
NMRスペクトル(CDCl 3 * pp” ) ”
3.6〜4.5 (4H,m ) 467 (2H,ABq、 J=12Hz、 0CR
2Ph )7.32 (5H,F、 06H5)9.
70 (IH,d、 J==1.5Hz、 −CH
o )べ/タデシルプロミド(8,73II )、 −
=rクネシウム(0,73fl )とテトラヒドロフラ
ン(100ml)の混合物に少雪のヨウ素ケ加えて2時
間加熱還流した。反応液を5〜6 ’Cに冷ハjし、上
記の粗アルデヒド(4,641)のテトラヒドロフラン
(10g/)溶液を一度に加えた。室温で30分間攪拌
した後、反応液をエーテル(200ml )で希釈し、
冷5%塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および水で
11次6二った。有機層を乾燥、濃縮し、残渣をシリカ
ゲル(200f ) ′に用いたカラムクロマトグラフ
ィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル(10: 1〜5
:1)で浴出される分画な集めて表記の化合物(2抽の
4位異性体の混合物、5.8(Ml)を結晶として得た
。
3.6〜4.5 (4H,m ) 467 (2H,ABq、 J=12Hz、 0CR
2Ph )7.32 (5H,F、 06H5)9.
70 (IH,d、 J==1.5Hz、 −CH
o )べ/タデシルプロミド(8,73II )、 −
=rクネシウム(0,73fl )とテトラヒドロフラ
ン(100ml)の混合物に少雪のヨウ素ケ加えて2時
間加熱還流した。反応液を5〜6 ’Cに冷ハjし、上
記の粗アルデヒド(4,641)のテトラヒドロフラン
(10g/)溶液を一度に加えた。室温で30分間攪拌
した後、反応液をエーテル(200ml )で希釈し、
冷5%塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および水で
11次6二った。有機層を乾燥、濃縮し、残渣をシリカ
ゲル(200f ) ′に用いたカラムクロマトグラフ
ィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル(10: 1〜5
:1)で浴出される分画な集めて表記の化合物(2抽の
4位異性体の混合物、5.8(Ml)を結晶として得た
。
mp 44 N47 ’C3
lRスペクトル(csEcl、、 t*−’ )二3s
oo (−OH)マススペクトル(mle ) : 4
47 (M”−CH3)元素分析: C,H5o04と
して 計算値: C,75,28; I(、10,89実測値
: C,74,99; H,11,014−オール (4B) 診考例1の化合物(5,00711>と トリエチルア
ミン(30肩l)のベンゼン(100ml)溶液に、メ
タンスルホン酸クロリド(1,09ml )のペンゼ/
(10m/)溶液を水冷下で滴下した。室温で30分間
攪拌した後、反応液を水(100ml)で洗い、乾燥し
、濃縮した。油状の残渣をメタノール(100耐)、1
0%塩酸(3胃l)及びテトラヒドロフラン(6ml
)の混合物に溶かし、室温テ13時間攪拌した。メタノ
ールとテトラヒドロフランを減圧下に溜去し、残渣に飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて酢酸エチルで2回
抽出した。抽出液を水洗後、乾燥濃縮し、残渣(4,4
0’! )をシリカゲル(1so y )を用いたカラ
ムクロマトグラフィーにかけた。エーテル−ヘキサン(
1:2〜1:1)で浴出される分画な染めて、より極性
の低い(2sも3R”、 4B” )−3−ベンジルオ
キシ−2−ペンタデシルテトラヒドロフラン−4−オー
ル(A柱体I 、 2.3481)を結晶として得た
。mp57〜585℃ (ヘキサン)。
oo (−OH)マススペクトル(mle ) : 4
47 (M”−CH3)元素分析: C,H5o04と
して 計算値: C,75,28; I(、10,89実測値
: C,74,99; H,11,014−オール (4B) 診考例1の化合物(5,00711>と トリエチルア
ミン(30肩l)のベンゼン(100ml)溶液に、メ
タンスルホン酸クロリド(1,09ml )のペンゼ/
(10m/)溶液を水冷下で滴下した。室温で30分間
攪拌した後、反応液を水(100ml)で洗い、乾燥し
、濃縮した。油状の残渣をメタノール(100耐)、1
0%塩酸(3胃l)及びテトラヒドロフラン(6ml
)の混合物に溶かし、室温テ13時間攪拌した。メタノ
ールとテトラヒドロフランを減圧下に溜去し、残渣に飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて酢酸エチルで2回
抽出した。抽出液を水洗後、乾燥濃縮し、残渣(4,4
0’! )をシリカゲル(1so y )を用いたカラ
ムクロマトグラフィーにかけた。エーテル−ヘキサン(
1:2〜1:1)で浴出される分画な染めて、より極性
の低い(2sも3R”、 4B” )−3−ベンジルオ
キシ−2−ペンタデシルテトラヒドロフラン−4−オー
ル(A柱体I 、 2.3481)を結晶として得た
。mp57〜585℃ (ヘキサン)。
薄層クロマトグラフィー(シリカケル板、溶媒系;ヘキ
ザンー酢酸エチル、1:1):Rf O,76゜ NMRスペクトル(CDC151vpm ) :01〜
1.8 (3111,tn、 015H31)1.8
8 (IH,d、 J=6Hz、 −01()3.5〜
4.1 (411,m ) 4.27 (IH,m、 C(4)−11)4.62
(2H,ABq、 J:==13Hz、 ocH2
pb )7.37 (5H,s、 −C6H5)マス・
スペクトル(mle) : 4Q4(M”)。
ザンー酢酸エチル、1:1):Rf O,76゜ NMRスペクトル(CDC151vpm ) :01〜
1.8 (3111,tn、 015H31)1.8
8 (IH,d、 J=6Hz、 −01()3.5〜
4.1 (411,m ) 4.27 (IH,m、 C(4)−11)4.62
(2H,ABq、 J:==13Hz、 ocH2
pb )7.37 (5H,s、 −C6H5)マス・
スペクトル(mle) : 4Q4(M”)。
386 (M”−H2O)
元素分析: C26HaaO5として
より極性の商い(2R−4,3Rセ、 48莢)−3−
ベンジルオキシ−2−ベンタテシルテトラヒドロフラン
−4−オール(異性体It、 1.812F )を結
晶として得た。 l叩、585〜60h(ヘキサン)。
ベンジルオキシ−2−ベンタテシルテトラヒドロフラン
−4−オール(異性体It、 1.812F )を結
晶として得た。 l叩、585〜60h(ヘキサン)。
薄層クロマトグラフィー(シリカケル&、浴tζr1)
媒系;ヘキサンー酢酸エチル、1:1)二RfO,64
゜ NMRスペクトル(cDc15. ppm ) :0.
7〜1.9 (31H,m、−C,5H3,)2、IQ
(IH,d、 J=4.5Hz、 −OH)3.60
(IH,dd、 J1=10. J2=2.5
)1z、 c(s) H)3.68 (IH,dd
、 Jl:=4. J2=IHz、 C(3) H)3
.99 (IH,dt、 J1==7.5. J2
=41(z、 C(2) −H)4.14 (IH,d
d、 J、==10. J、2=5. C(5) −H
)4.31 (IH,m、 C(4)−H)7.35
(5H,s、 −C6H5)マススペクトル<mle)
: 404(M”)、 386(M+−H2O)。
゜ NMRスペクトル(cDc15. ppm ) :0.
7〜1.9 (31H,m、−C,5H3,)2、IQ
(IH,d、 J=4.5Hz、 −OH)3.60
(IH,dd、 J1=10. J2=2.5
)1z、 c(s) H)3.68 (IH,dd
、 Jl:=4. J2=IHz、 C(3) H)3
.99 (IH,dt、 J1==7.5. J2
=41(z、 C(2) −H)4.14 (IH,d
d、 J、==10. J、2=5. C(5) −H
)4.31 (IH,m、 C(4)−H)7.35
(5H,s、 −C6H5)マススペクトル<mle)
: 404(M”)、 386(M+−H2O)。
元素分析: C26H4403として
計算値:C11γ17 ; H,10,96実測値:
C,77,15; H,10,99゜−3−オール 参考例2の異性体I (1,0679)、無水酢酸(4
ml )およびピリジン(2ml )の混合物を室温で
4時間攪拌した休、氷水中に注ぐ。酢酸エチルで2回抽
出し、抽出液を10%」π酸、飽和炭酸水素ナトリウム
水浴液、および水で11泊次洗った。乾燥後、溶媒を溜
去し、油状のJA渣(1159fl )をメタノール(
45tl)に浴かした。
C,77,15; H,10,99゜−3−オール 参考例2の異性体I (1,0679)、無水酢酸(4
ml )およびピリジン(2ml )の混合物を室温で
4時間攪拌した休、氷水中に注ぐ。酢酸エチルで2回抽
出し、抽出液を10%」π酸、飽和炭酸水素ナトリウム
水浴液、および水で11泊次洗った。乾燥後、溶媒を溜
去し、油状のJA渣(1159fl )をメタノール(
45tl)に浴かした。
10 %パラジウム炭素(o、s y )を加え、4気
圧の水素ガスと10時間振りませた。触媒を1去後、溶
媒を溜去l〜、固体のへ渣(0,9811)をシリカゲ
ル(30ν)を用いtニカラムクロマトグラフイーにか
けた。ヘギリーンー酢噛エチy(3:1)で浴出される
外曲1を果みて表記の化合物(o、ass y ) Y
舟た。
圧の水素ガスと10時間振りませた。触媒を1去後、溶
媒を溜去l〜、固体のへ渣(0,9811)をシリカゲ
ル(30ν)を用いtニカラムクロマトグラフイーにか
けた。ヘギリーンー酢噛エチy(3:1)で浴出される
外曲1を果みて表記の化合物(o、ass y ) Y
舟た。
ml) 60.5〜615℃(ヘキャン)。
NMRスペクトル(CDCjB+1)20. ppm
)0.7〜1.85 (31H,m、 C15H
31)2.10 (3H,s、−0COCH3)3.
63 (IH,dt、 J、=J2=6Hz、 C
(2) −H)3.82 (IJ dd、J、=6
Hz、J2−=2.5Hz、C(3)−+1)3.91
(IH,dd、 Jl:10.5Hz、 J2
=2.5Hz、 C(5)−H) 4.06 (IH,dd、 J1==IQ、5Hz
、 J2”5H2,C(5)−1()4、sl(IH
,ddcl+ J1==5)iz、 J2=:J3=
=2.5H2゜C(4)−H) マススペクトル(mle) : 357(M”+1)、
35B(M+)296(M”−AcOH) 元素分析:C2,H4o04として 計算値: C,70,74; H,11,31実測値:
C,?0.60 ; H,11,413−オール 参考例2の異++ 14− II (0,525El
)を用い、参考例3のように(IV・作を行い、表口1
2の化合物(0,5581)を結晶として11[4・た
、 mp 72.5〜73.5℃(ヘキサン)。
)0.7〜1.85 (31H,m、 C15H
31)2.10 (3H,s、−0COCH3)3.
63 (IH,dt、 J、=J2=6Hz、 C
(2) −H)3.82 (IJ dd、J、=6
Hz、J2−=2.5Hz、C(3)−+1)3.91
(IH,dd、 Jl:10.5Hz、 J2
=2.5Hz、 C(5)−H) 4.06 (IH,dd、 J1==IQ、5Hz
、 J2”5H2,C(5)−1()4、sl(IH
,ddcl+ J1==5)iz、 J2=:J3=
=2.5H2゜C(4)−H) マススペクトル(mle) : 357(M”+1)、
35B(M+)296(M”−AcOH) 元素分析:C2,H4o04として 計算値: C,70,74; H,11,31実測値:
C,?0.60 ; H,11,413−オール 参考例2の異++ 14− II (0,525El
)を用い、参考例3のように(IV・作を行い、表口1
2の化合物(0,5581)を結晶として11[4・た
、 mp 72.5〜73.5℃(ヘキサン)。
NMRスペクトル(cncj、十+〕2o、 ppm)
:0.7〜1.85 (31tl、 In、C15H
51)LoB(3H,s、 −0COC:J )3.6
5 (IH,dd、 J1=10.511z、 J
2=2.5nz。
:0.7〜1.85 (31tl、 In、C15H
51)LoB(3H,s、 −0COC:J )3.6
5 (IH,dd、 J1=10.511z、 J
2=2.5nz。
C(5)−n)
3.84 (IH+ dt+ Jl:=6Hz、
J2=3.5Hz。
J2=3.5Hz。
C(2)−H)
4−07 (IHldd、J1=15Hz、 J2==
1)1z。
1)1z。
C(3)−n)
4.29 (IH,dd、 J、=to、5ttz
、 J2=6Hz。
、 J2=6Hz。
C(5)−H)
5.05 (in、 ddcL J、=fi)lz、
J2=2.5Hz。
J2=2.5Hz。
J5:IH2,C(4) H)
マススペクトル(rn/e ) : 357 (M+千
1 )。
1 )。
356 (M+)、 296 (M”−AcOH)
元素分析: C21H4004として C鴫A) 計算値: C,70,74; )1.11.31央測位
: C,?0.60 ; H,11,41水素化す)
IJウム(55%鉱油懸濁物、 0.167g)をジ
メチルホルムアミド(10譚l)中に懸濁し、参考例2
の異性体I (1,29Of )を少しずつ加えた。室
温で30分間攪拌後、ヨウ化メチル(1,98wrl
)を加えてさらに16時間室温で攪拌した。反応液を水
(1Oho中に注さ゛、エーテルで2回抽出する。抽出
液を水洗、乾燥、濃縮して、油状の残渣(1,459)
をシリカゲル(48II )を用いたカラムクロマトグ
ラフィーにかけた。ヘキサン−エーテル(10:1)で
溶出される分画な集めて表記の化合物(1,102g)
を無色油状物として慢た。
元素分析: C21H4004として C鴫A) 計算値: C,70,74; )1.11.31央測位
: C,?0.60 ; H,11,41水素化す)
IJウム(55%鉱油懸濁物、 0.167g)をジ
メチルホルムアミド(10譚l)中に懸濁し、参考例2
の異性体I (1,29Of )を少しずつ加えた。室
温で30分間攪拌後、ヨウ化メチル(1,98wrl
)を加えてさらに16時間室温で攪拌した。反応液を水
(1Oho中に注さ゛、エーテルで2回抽出する。抽出
液を水洗、乾燥、濃縮して、油状の残渣(1,459)
をシリカゲル(48II )を用いたカラムクロマトグ
ラフィーにかけた。ヘキサン−エーテル(10:1)で
溶出される分画な集めて表記の化合物(1,102g)
を無色油状物として慢た。
NMRスペクトル(CDCJ3. ppm ) :0.
7〜1.9 (311(、In、−C15H,、)3.
33 (3H+ s、 0CH5)3.50〜4.1
5 (58,m ) 4.60 (2H,A)1−t、 J=13.5Hz、
−0CH2Ph )7.37 (5H,m、 C6
H6)マススペクト# (m/e) : 418(M+
)、 327(M+−C,H7) 元素分析:C27H4605として 計算値: C,??、45 ; If、 11.081
大4 ?l1lIj([、: c、 7L42
; H,11,00−オール 参考例5の化合物(1,052’i/ )、10qbパ
ラジウム炭素およびメタノール(50譚l)の混合物を
4気圧の水素ガスと10時間室温で振り混ぜた。触媒を
沢去した後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲル(169
)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。メチレ
ンクロリド−ヘキサン−エーテル(1G : 1G :
1 )で溶出される分画な集めて、表記の化合物(0
,7491) を白色ロウ状物として得た。mp 3
4〜35℃。
7〜1.9 (311(、In、−C15H,、)3.
33 (3H+ s、 0CH5)3.50〜4.1
5 (58,m ) 4.60 (2H,A)1−t、 J=13.5Hz、
−0CH2Ph )7.37 (5H,m、 C6
H6)マススペクト# (m/e) : 418(M+
)、 327(M+−C,H7) 元素分析:C27H4605として 計算値: C,??、45 ; If、 11.081
大4 ?l1lIj([、: c、 7L42
; H,11,00−オール 参考例5の化合物(1,052’i/ )、10qbパ
ラジウム炭素およびメタノール(50譚l)の混合物を
4気圧の水素ガスと10時間室温で振り混ぜた。触媒を
沢去した後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲル(169
)を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。メチレ
ンクロリド−ヘキサン−エーテル(1G : 1G :
1 )で溶出される分画な集めて、表記の化合物(0
,7491) を白色ロウ状物として得た。mp 3
4〜35℃。
NMRスペクト# (CDCJ3. ppm ) :0
.8〜1.85 (31H,m、 −015H31)2
.17 (1H,d、 J=4.5Hz、 −OH)3
.40 (3H,5IOCH5) 3.5〜4.1 (5H,m ) マススペクトル(rn/e) : 329(M++1
) 。
.8〜1.85 (31H,m、 −015H31)2
.17 (1H,d、 J=4.5Hz、 −OH)3
.40 (3H,5IOCH5) 3.5〜4.1 (5H,m ) マススペクトル(rn/e) : 329(M++1
) 。
297 (M+−OMe )
元素分析:C2oH4o06として
計p、値: C,73,12; H,12,21実測値
: C,?3.05 ; H,12,64試験例1゜ 抗腫瘍作用 1群5匹のICR/JCI ?ウス(雌性、8週令)の
腹腔内に、ザルコーマ180肺瘍細胞1×105個を移
植した。移植の翌日、減菌生理食塩水ば溶かした試験化
合物を腹腔内に1回投与し、その投与群および対照群の
生イf期間を観察した。
: C,?3.05 ; H,12,64試験例1゜ 抗腫瘍作用 1群5匹のICR/JCI ?ウス(雌性、8週令)の
腹腔内に、ザルコーマ180肺瘍細胞1×105個を移
植した。移植の翌日、減菌生理食塩水ば溶かした試験化
合物を腹腔内に1回投与し、その投与群および対照群の
生イf期間を観察した。
抗腫瘍効果は延命率(ILS )および60 日生存
率で表わし、延命率は次式によって算出した。
率で表わし、延命率は次式によって算出した。
T rea t 、は化合物投んイ1トのイ均生存日数
を示し、Cont、は無処置対11(ill=の咋均生
イI日数を示す。
を示し、Cont、は無処置対11(ill=の咋均生
イI日数を示す。
表3 ザルコーマ180にlレイる抗ルII揚効果表3
から明らかなように、本発明化合物(11の上記2検体
は、20〜50■/kgの投与量において、対照群に比
し約2.5倍生存させることかでき、実施例1の化合物
は、5匹中2匹を、実施例2の化合物は5匹中1匹を6
0日生存させることができ、非常に優れた抗腫瘍作用を
示した。
から明らかなように、本発明化合物(11の上記2検体
は、20〜50■/kgの投与量において、対照群に比
し約2.5倍生存させることかでき、実施例1の化合物
は、5匹中2匹を、実施例2の化合物は5匹中1匹を6
0日生存させることができ、非常に優れた抗腫瘍作用を
示した。
試験例2゜
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、mは0乃至2の整数を示し、R^1は炭素数8
乃至22個の直鎖又は分枝鎖アルキル基を示す。R^2
及びR^3のうち一方は、低級アルキル基又は低級脂肪
族アシル基を示し、他方は、式▲数式、化学式、表等が
あります▼(II) 又は式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II′) (式中、nは2乃至6の整数を示し、R^4、R^5及
びR^6は同一又は異なつて、水素原子又は低級アルキ
ル基を示すか、又はR^4及びR^5は隣接する窒素原
子と一緒になつて5乃至7員複素環を形成するか、又は
R^4、R^5及びR^6は隣接する窒素原子と一緒に
なつて5乃至7員複素芳香環を形成してもよい。 Y^■は、アニオンを示す。)を示す。〕を有する燐酸
エステル誘導体又はその塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15929686A JPS6314789A (ja) | 1986-07-07 | 1986-07-07 | 燐酸エステル誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15929686A JPS6314789A (ja) | 1986-07-07 | 1986-07-07 | 燐酸エステル誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6314789A true JPS6314789A (ja) | 1988-01-21 |
Family
ID=15690694
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15929686A Pending JPS6314789A (ja) | 1986-07-07 | 1986-07-07 | 燐酸エステル誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6314789A (ja) |
-
1986
- 1986-07-07 JP JP15929686A patent/JPS6314789A/ja active Pending
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