JPS63144888A - レ−ザ出射光学装置 - Google Patents
レ−ザ出射光学装置Info
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- JPS63144888A JPS63144888A JP61292768A JP29276886A JPS63144888A JP S63144888 A JPS63144888 A JP S63144888A JP 61292768 A JP61292768 A JP 61292768A JP 29276886 A JP29276886 A JP 29276886A JP S63144888 A JPS63144888 A JP S63144888A
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- laser light
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- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 11
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 5
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的コ
(産業上の利用分野)
この発明は、レーザ出射光学装置の改良に関する。
(従来の技術)
一般に、被処理体例えば′m管の内面焼入れや溶着をレ
ーザ光によって行なう場合、レーザ出射光学装置が用い
られている。
ーザ光によって行なう場合、レーザ出射光学装置が用い
られている。
この種のレーザ出射光学装置は、従来、第3図に示すよ
うに構成され、光ファイバ1から出射されたレーザ光2
は、摺鉢状の略円錐プリズム3の全反射部で半径方向へ
出射され、結果として被処理体である細管5の内面全周
において、パワー密度が均等なリング状照射部4が得ら
れる。
うに構成され、光ファイバ1から出射されたレーザ光2
は、摺鉢状の略円錐プリズム3の全反射部で半径方向へ
出射され、結果として被処理体である細管5の内面全周
において、パワー密度が均等なリング状照射部4が得ら
れる。
(発明が解決しようとする問題点)
上記のような従来のレーザ出射光学装置では、被処理体
である細管5の半径とほぼ同じ幅の照射領域しか得られ
ず、結果として、細管5の軸方向に狭い加熱領域しか得
られない。
である細管5の半径とほぼ同じ幅の照射領域しか得られ
ず、結果として、細管5の軸方向に狭い加熱領域しか得
られない。
この発明は、被処理体である細管内面にレーザ光を分散
して照射し、より広範囲に加熱を行なうことが出来るレ
ーザ出射光学装置を提供することを目的とする。
して照射し、より広範囲に加熱を行なうことが出来るレ
ーザ出射光学装置を提供することを目的とする。
[発明の構成]
(問題点を解決するための手段)
この発明は、摺鉢状の略円錐プリズムを複数個使用し、
且つ各プリズムの中央部にレーザ光を適宜通過させる開
口を設けたレーザ出射光学装置である。
且つ各プリズムの中央部にレーザ光を適宜通過させる開
口を設けたレーザ出射光学装置である。
(作用)
この発明によれば、被処理体である細管の内面において
、リング状照射部が細管の軸方向に分散して得られ、結
果としてIII管の内面全周において、軸方向に広範囲
の加熱が行な・われる。
、リング状照射部が細管の軸方向に分散して得られ、結
果としてIII管の内面全周において、軸方向に広範囲
の加熱が行な・われる。
(実施例)
以下、図面を参照して、この発明の一実施例を詳細に説
明する。
明する。
この発明によるレーザ出射光学装置は、第1図に示すよ
うに構成され、被処理体である細管5の内側に、挿入さ
れている状態を示しており、従来例(第3図)と同一箇
所は同一符号を付すことにする。
うに構成され、被処理体である細管5の内側に、挿入さ
れている状態を示しており、従来例(第3図)と同一箇
所は同一符号を付すことにする。
即ち、レーザ出射窓となる石英製チューブ6の両端が、
夫々上部ホルダー10と下部ホルダー11に支持されて
いる。このチューブ6内には、下部ホルダー1111か
ら順にリング状ビームストッパ9、筒状ファイバーガイ
ド8、中央部に開口を有する補助プリズム7が互いに密
着して配設されている。そして、下部ホルダー11、ビ
ームストッパ9、ファイバーガイド8内を挿通している
光ファイバ1の出射端は、上記補助プリズム7の開口に
位置している。尚、光ファイバ1はファイバーガイド8
によってガイドされ、チューブ6の軸心に沿って配設さ
れている。又、上記ビームストッパ9は、レーザ光2の
一部が外部に漏れるのを防ぐためのものである。
夫々上部ホルダー10と下部ホルダー11に支持されて
いる。このチューブ6内には、下部ホルダー1111か
ら順にリング状ビームストッパ9、筒状ファイバーガイ
ド8、中央部に開口を有する補助プリズム7が互いに密
着して配設されている。そして、下部ホルダー11、ビ
ームストッパ9、ファイバーガイド8内を挿通している
光ファイバ1の出射端は、上記補助プリズム7の開口に
位置している。尚、光ファイバ1はファイバーガイド8
によってガイドされ、チューブ6の軸心に沿って配設さ
れている。又、上記ビームストッパ9は、レーザ光2の
一部が外部に漏れるのを防ぐためのものである。
更に、上記チューブ6内には上部ホルダー10側へ向っ
て、3個の第1プリズム3、第2プリズム13、第3プ
リズム15が、順次、スペーサ12により所定間隔をお
いて配設されている。これらプリズム3.13.15は
、摺鉢状の略円錐プリズムであり、夫々、外周面をレー
ザ出射窓であるチューブ6内面に対向させた状態で取付
けられている。そして、各プリズム3.13.15は、
いずれも補助プリズム7と同様に、中央部に開口が設け
られている。
て、3個の第1プリズム3、第2プリズム13、第3プ
リズム15が、順次、スペーサ12により所定間隔をお
いて配設されている。これらプリズム3.13.15は
、摺鉢状の略円錐プリズムであり、夫々、外周面をレー
ザ出射窓であるチューブ6内面に対向させた状態で取付
けられている。そして、各プリズム3.13.15は、
いずれも補助プリズム7と同様に、中央部に開口が設け
られている。
尚、チューブ6は、上部ホルダー10と下部ホルダー1
1によって、細管5の軸心に沿って固定されている。
1によって、細管5の軸心に沿って固定されている。
さて動作時には、光ファイバ1によってレーザ光発振器
(図示せず)から伝送されたレーザ光2は、補助プリズ
ム7の開口から上方の第1プリズム3に向けて出射する
。この第1プリズム3の全反射面で反射したレーザ光は
、チューブ6から半径方向に出射され、被処理体である
細管5の内面全周において、第1照射部4が得られる。
(図示せず)から伝送されたレーザ光2は、補助プリズ
ム7の開口から上方の第1プリズム3に向けて出射する
。この第1プリズム3の全反射面で反射したレーザ光は
、チューブ6から半径方向に出射され、被処理体である
細管5の内面全周において、第1照射部4が得られる。
第1プリズム3の開口を通過したレーザ光のうち、第2
ブリ′ズム13の全反射面で反射したレーザ光は、チュ
ーブ6から半径方向に出射され、細管5の内面は全周に
おいて、第2照射部14が得られる。更に、第2プリズ
ム13の開口を通過したレーザ光は、第3プリズム15
の全反射面で反射し、チューブ6から半径方向に出射さ
れ、細管5の内面は全周において、第3照射部16が得
られる。。
ブリ′ズム13の全反射面で反射したレーザ光は、チュ
ーブ6から半径方向に出射され、細管5の内面は全周に
おいて、第2照射部14が得られる。更に、第2プリズ
ム13の開口を通過したレーザ光は、第3プリズム15
の全反射面で反射し、チューブ6から半径方向に出射さ
れ、細管5の内面は全周において、第3照射部16が得
られる。。
従って、レーザ光照射部が分散され、被処理体である細
管5の内面全周において、軸方向に広い範囲の加熱領域
が得られる。
管5の内面全周において、軸方向に広い範囲の加熱領域
が得られる。
尚、開口を持った略円錐プリズムの数は、何個でも構わ
ない。
ない。
(変形例)
第3図はこの発明の変形例を示したもので、上記実施例
と同様の効果が得られる。
と同様の効果が得られる。
即ち、この変形例では、第1プリズム3と補助プリズム
7との間にレンズ21が配設され、更に第3プリズム1
5と上部ホルダー10との間に第4プリズム17、第5
プリズム19が配設されている。上記レンズ21は、光
ファイバ1からその開口数によって決まる広がり角を持
って出射したレーザ光2を、平行光にするためのレンズ
である。
7との間にレンズ21が配設され、更に第3プリズム1
5と上部ホルダー10との間に第4プリズム17、第5
プリズム19が配設されている。上記レンズ21は、光
ファイバ1からその開口数によって決まる広がり角を持
って出射したレーザ光2を、平行光にするためのレンズ
である。
この変形例によれば、光ファイバ1の出射端と第1プリ
ズム3の距離、あるいは第1乃至第5プリズム3.13
.15.17.19の配置間隔が任意に設定出来る。即
ち、レーザ光2をチューブ6の半径方向へ出射するため
のプリズムの位置が、光ファイバ1から出射したレーザ
光2の広がり角による制限を受けない。
ズム3の距離、あるいは第1乃至第5プリズム3.13
.15.17.19の配置間隔が任意に設定出来る。即
ち、レーザ光2をチューブ6の半径方向へ出射するため
のプリズムの位置が、光ファイバ1から出射したレーザ
光2の広がり角による制限を受けない。
[発明の効果コ
この発明によれば、プリズムを複数個配置し、且つ各プ
リズムの中央部にレーザ光を適宜通過させるための開口
が設けられているので、プリズムと同数の離散的熱源が
得られる。この結果、被処理体である細管の軸方向の熱
伝導により、@管の内面全周において、軸方向に広範囲
の加熱を行なうことが出来る。
リズムの中央部にレーザ光を適宜通過させるための開口
が設けられているので、プリズムと同数の離散的熱源が
得られる。この結果、被処理体である細管の軸方向の熱
伝導により、@管の内面全周において、軸方向に広範囲
の加熱を行なうことが出来る。
第1図はこの発明の一実施例に係るレーザ出射光学装置
を示す断面図、第2図はこの発明の変形例を示す断面図
、第3回は従来のレーザ出射光学装置を示す断面図であ
る。 1・・・光ファイバ、2・・・レーザ光、3・・・(第
1)プリズム、4・・・(第1)照射部、5・・・細管
(被処理体)、6・・・チューブ、7・・・補助プリズ
ム、8・・・ファイバガイド、9・・・ビームストッパ
、10・・・上部ホルダー、11・・・下部ホルダー、
12・・・スペーサ、13・・・第2プリズム、14・
・・第2照射部、15・・・第3プリズム、16・・・
第3照射部、17・・・第4プリズム、18・・・第4
照射部、19・・・第5プリズム、20・・・第5照射
部、21・・・レンズ。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 第3図
を示す断面図、第2図はこの発明の変形例を示す断面図
、第3回は従来のレーザ出射光学装置を示す断面図であ
る。 1・・・光ファイバ、2・・・レーザ光、3・・・(第
1)プリズム、4・・・(第1)照射部、5・・・細管
(被処理体)、6・・・チューブ、7・・・補助プリズ
ム、8・・・ファイバガイド、9・・・ビームストッパ
、10・・・上部ホルダー、11・・・下部ホルダー、
12・・・スペーサ、13・・・第2プリズム、14・
・・第2照射部、15・・・第3プリズム、16・・・
第3照射部、17・・・第4プリズム、18・・・第4
照射部、19・・・第5プリズム、20・・・第5照射
部、21・・・レンズ。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 第3図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 レーザ発振器から出射されたレーザ光を光ファイバを用
いて伝送し、この光ファイバから出射したレーザ光を摺
鉢状の略円錐プリズムを用いて被処理体に均等に照射す
るレーザ出射光学装置において、 上記プリズムは複数個にして、且つ各プリズムの中央部
には上記レーザ光を適宜通過させるための開口が設けら
れてなることを特徴とするレーザ出射光学装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61292768A JPS63144888A (ja) | 1986-12-09 | 1986-12-09 | レ−ザ出射光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61292768A JPS63144888A (ja) | 1986-12-09 | 1986-12-09 | レ−ザ出射光学装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63144888A true JPS63144888A (ja) | 1988-06-17 |
Family
ID=17786088
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61292768A Pending JPS63144888A (ja) | 1986-12-09 | 1986-12-09 | レ−ザ出射光学装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63144888A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006053337A (ja) * | 2004-08-11 | 2006-02-23 | Fujitsu Ltd | フォトマスク装置、フォトマスク製造方法およびマスクパターン形成方法 |
JP2015512786A (ja) * | 2012-02-10 | 2015-04-30 | リモ パテントフェルヴァルトゥング ゲーエムベーハー ウント コー.カーゲーLIMO Patentverwaltung GmbH & Co.KG | 加工対象物の表面を加工するための、または加工対象物の外側面または内側面上のコーティングを後処理するための装置 |
-
1986
- 1986-12-09 JP JP61292768A patent/JPS63144888A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006053337A (ja) * | 2004-08-11 | 2006-02-23 | Fujitsu Ltd | フォトマスク装置、フォトマスク製造方法およびマスクパターン形成方法 |
US7632627B2 (en) | 2004-08-11 | 2009-12-15 | Fujitsu Limited | Photomask apparatus, photomask manufacturing method, and mask pattern forming method |
JP4714440B2 (ja) * | 2004-08-11 | 2011-06-29 | 富士通株式会社 | フォトマスク製造方法 |
JP2015512786A (ja) * | 2012-02-10 | 2015-04-30 | リモ パテントフェルヴァルトゥング ゲーエムベーハー ウント コー.カーゲーLIMO Patentverwaltung GmbH & Co.KG | 加工対象物の表面を加工するための、または加工対象物の外側面または内側面上のコーティングを後処理するための装置 |
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