JPS63135A - 粒子線に対する測定処理装置 - Google Patents
粒子線に対する測定処理装置Info
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- JPS63135A JPS63135A JP62122354A JP12235487A JPS63135A JP S63135 A JPS63135 A JP S63135A JP 62122354 A JP62122354 A JP 62122354A JP 12235487 A JP12235487 A JP 12235487A JP S63135 A JPS63135 A JP S63135A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R13/00—Arrangements for displaying electric variables or waveforms
- G01R13/20—Cathode-ray oscilloscopes
- G01R13/22—Circuits therefor
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/302—Contactless testing
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高周波の周期的な測定信号の信号経過を測定
処理するための粒子線に対する測定処理装置に関する。
処理するための粒子線に対する測定処理装置に関する。
電子線により高周波の周期的な測定信号の信号経過を測
定するためには、しばしばサンプリング法または複合さ
れたサンプリング−平均化法が使用される。サンプリン
グ法は、−連の周期から時間的にずらされた断片を取り
出し、またこれらの断片をを同一の形態のゆっくりした
新しいサンプルに合成するので、高い時間分解能を保証
する。
定するためには、しばしばサンプリング法または複合さ
れたサンプリング−平均化法が使用される。サンプリン
グ法は、−連の周期から時間的にずらされた断片を取り
出し、またこれらの断片をを同一の形態のゆっくりした
新しいサンプルに合成するので、高い時間分解能を保証
する。
平均化法は、測定値が一連の周期にわたり多数回走査さ
れかつ平均化されるので、良好なＳＮ比を保証する。こ
れらの方法はオシログラフ技術にも電子線測定技術にも
使用される。電子線測定技術では集積回路の表面におけ
る電位が走査かつ測定され得る。その際にたいていの集
積回路は動的に試験されなければならず、このことは集
積回路が試験中に定格周波数で作動しなければならない
ことを意味する。
れかつ平均化されるので、良好なＳＮ比を保証する。こ
れらの方法はオシログラフ技術にも電子線測定技術にも
使用される。電子線測定技術では集積回路の表面におけ
る電位が走査かつ測定され得る。その際にたいていの集
積回路は動的に試験されなければならず、このことは集
積回路が試験中に定格周波数で作動しなければならない
ことを意味する。
電子線測定技術の開発の出発点は“電位コントラスト”
（Ｐｈｙｓ、８．３８ （１９８２） 、第８号、
ハンス・レータ （Ｂａｎｓ Ｒｅｈｍｅ）著［集積回
路試験のための電子線測定技術」）である。走査電子顕
微鏡内で集束された一次電子線が偏向コイルにより偏向
させられて撮像すべき試料表面を掃過する。検出器がそ
の際に放出された二次電子を検出し、また後に接続され
ている測定処理装置がこれらの測定信号をスクリーンの
輝度変調のために利用する。電子線測定技術において複
合されたサンプリング−平均化法の実現のためにいわゆ
るボックスカー積分器が使用されることは公知である（
米国特許第４４８６６６０号明細書参照）。
（Ｐｈｙｓ、８．３８ （１９８２） 、第８号、
ハンス・レータ （Ｂａｎｓ Ｒｅｈｍｅ）著［集積回
路試験のための電子線測定技術」）である。走査電子顕
微鏡内で集束された一次電子線が偏向コイルにより偏向
させられて撮像すべき試料表面を掃過する。検出器がそ
の際に放出された二次電子を検出し、また後に接続され
ている測定処理装置がこれらの測定信号をスクリーンの
輝度変調のために利用する。電子線測定技術において複
合されたサンプリング−平均化法の実現のためにいわゆ
るボックスカー積分器が使用されることは公知である（
米国特許第４４８６６６０号明細書参照）。
その際にボックスカー積分器は主として位相制御ユニッ
ト、遅延ユニット、ゲート回路および測定処理ユニット
から成っている。ボックスカー積分器のブロック構成お
よび電子線測定装置内の配線は雑誌「スキャンニング（
Ｓｃａｎｎｉｎｇ） ｊ−第５号（１９８３年）、第１
４〜２４頁のエイチ、ビー。
ト、遅延ユニット、ゲート回路および測定処理ユニット
から成っている。ボックスカー積分器のブロック構成お
よび電子線測定装置内の配線は雑誌「スキャンニング（
Ｓｃａｎｎｉｎｇ） ｊ−第５号（１９８３年）、第１
４〜２４頁のエイチ、ビー。
フォイアーバウム（Ｈ，Ｐ、 Ｆｅｕｅｒｂａｕ＋ａ）
の論文「電子ビーム試験：方法および応用」の第２０頁
の第１θ図に示されている。複合されたサンプリング−
平均化法により作動するボックスカー積分器はたとえば
プリンストン・アプライド・リサーチ（Ｐｒｉｎｃｅｔ
ｏｎ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｒｅ５ｅａｒｃｈ）社のモデル
１６２である（モデル１６２ボツクスカー・アベレイジ
ャーＥＧ＆Ｇ、プリンストン・アプライド・リサーチ使
用および保守説明書参照）、またドイツ連邦共和国特許
出願公開第３１３８８９９２号明細書には、電子線測定
技術における迅速な電位決定のためのサンプリング法が
示されている。この特許出願公開明細書によれば、迅速
な電位決定が、周期的な信号経過の１周期中にこの信号
経過がパルス化された電子線により多数回サンプリング
されることによって達成される。
の論文「電子ビーム試験：方法および応用」の第２０頁
の第１θ図に示されている。複合されたサンプリング−
平均化法により作動するボックスカー積分器はたとえば
プリンストン・アプライド・リサーチ（Ｐｒｉｎｃｅｔ
ｏｎ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｒｅ５ｅａｒｃｈ）社のモデル
１６２である（モデル１６２ボツクスカー・アベレイジ
ャーＥＧ＆Ｇ、プリンストン・アプライド・リサーチ使
用および保守説明書参照）、またドイツ連邦共和国特許
出願公開第３１３８８９９２号明細書には、電子線測定
技術における迅速な電位決定のためのサンプリング法が
示されている。この特許出願公開明細書によれば、迅速
な電位決定が、周期的な信号経過の１周期中にこの信号
経過がパルス化された電子線により多数回サンプリング
されることによって達成される。
しかし、上記の特許出願公開明細書には、いかにしてサ
ンプリング法が実際に行われ得るかは示されておらず、
加うるに専ら電子線測定技術に限られている。従来使用
されたボックスカー積分器の不利な点は、サンプリング
法およびボックスカーの最大測定速度の結果として長い
測定時間を必要とすることである。サンプリング法では
ｎ個のサンプリング点が測定信号のｎ周期中に測定され
、その際に測定信号の零通過とサンプリング点との間の
間隔がサンプリング点の数の増大と共に変化する。サン
プリングおよび平均化法では、信号が測定されるべき時
間間隔はｎ個のたいていは等間隔のサンプリング点に分
解され、また各サンプリング点に対して測定信号がｍ回
すンプリングされる。この過程が次のサンプリング点に
対して繰り返され、従って測定時間は ｎ−ｍ／最大測定速度（１／最最大測定度≧Ｔの場合）
；Ｔ＝測定信号の周期 である、このことは、非常に短い電子パルスで作動する
ことにより非常に多くの測定を行わなければならない非
常に速い信号の測定の際に、数分の測定時間を必要とす
ることに通じ得る。しかし、このように長い測定時間は
、測定装置の不安定性およびドリフト現象のために著し
く大きな測定誤差の原因となる。
ンプリング法が実際に行われ得るかは示されておらず、
加うるに専ら電子線測定技術に限られている。従来使用
されたボックスカー積分器の不利な点は、サンプリング
法およびボックスカーの最大測定速度の結果として長い
測定時間を必要とすることである。サンプリング法では
ｎ個のサンプリング点が測定信号のｎ周期中に測定され
、その際に測定信号の零通過とサンプリング点との間の
間隔がサンプリング点の数の増大と共に変化する。サン
プリングおよび平均化法では、信号が測定されるべき時
間間隔はｎ個のたいていは等間隔のサンプリング点に分
解され、また各サンプリング点に対して測定信号がｍ回
すンプリングされる。この過程が次のサンプリング点に
対して繰り返され、従って測定時間は ｎ−ｍ／最大測定速度（１／最最大測定度≧Ｔの場合）
；Ｔ＝測定信号の周期 である、このことは、非常に短い電子パルスで作動する
ことにより非常に多くの測定を行わなければならない非
常に速い信号の測定の際に、数分の測定時間を必要とす
ることに通じ得る。しかし、このように長い測定時間は
、測定装置の不安定性およびドリフト現象のために著し
く大きな測定誤差の原因となる。
本発明の目的は、サンプリング法およびサンプリングお
よび平均化法における測定時間を顕著に短縮することで
ある。さらに、測定処理装置はたとえば電子線測定技術
またはオシログラフ測定技術に汎用的に使用可能でなけ
ればならない。
よび平均化法における測定時間を顕著に短縮することで
ある。さらに、測定処理装置はたとえば電子線測定技術
またはオシログラフ測定技術に汎用的に使用可能でなけ
ればならない。
この目的は、本発明によれば、特許請求の範囲第１項に
記載の測定処理装置により達成される。
記載の測定処理装置により達成される。
電子線測定技術において、より定量的な電位コントラス
ト信号とならんで実際の電圧の高さに関する指示を必要
とするならば、関節、特にサンプリング調節を行う必要
があり、その際に測定処理ユニットの各１つの出力端は
、入力端、出力端および制御入力端を有するゲート回路
を後に接続されている各１つの関節ユニットと接続され
ており、ゲート回路のすべての出力端は共通に１つのス
ペクトロメータ、特に逆電界スペクトロメータと接続さ
れており、ゲート回路の制御入力端はゲート回路の制御
入力端と接続されており、またゲート回路の制御入力端
は相応にゲート回路の制御入力端と接続されている。
ト信号とならんで実際の電圧の高さに関する指示を必要
とするならば、関節、特にサンプリング調節を行う必要
があり、その際に測定処理ユニットの各１つの出力端は
、入力端、出力端および制御入力端を有するゲート回路
を後に接続されている各１つの関節ユニットと接続され
ており、ゲート回路のすべての出力端は共通に１つのス
ペクトロメータ、特に逆電界スペクトロメータと接続さ
れており、ゲート回路の制御入力端はゲート回路の制御
入力端と接続されており、またゲート回路の制御入力端
は相応にゲート回路の制御入力端と接続されている。
測定処理装置を測定時間に整合させるため、本発明の別
の実施態様では、測定処理ユニットは、平均化を行う各
１つの積分器段を有し、または特に非常に短い測定時間
の場合には測定処理ユニットは、測定すべき短い測定信
号のカウントを行う各１つのカウンタ段を有する。
の実施態様では、測定処理ユニットは、平均化を行う各
１つの積分器段を有し、または特に非常に短い測定時間
の場合には測定処理ユニットは、測定すべき短い測定信
号のカウントを行う各１つのカウンタ段を有する。
本発明の他の実施態様例は特許請求の範囲第２項以下の
対象である。
対象である。
以下、２つの実施例により本発明を一層詳細に説明する
。
。
第３図には、測定すべき周期的電圧Ｕ （ｔ）が示され
ている。周期はＴ＝５Ｔ’である。従来の測定（第４図
）の際には、トリガ事象は最後の測定後の時間ｔ’＝１
／測定速度（たいていは１μｓ）の後に初めて新しい測
定に通ずる。そのために−吹型子線１ｐｉ（ｔ）はたか
だか１回だけ周期Ｔにおいてスイッチオンされ、また二
次電子流が続いて測定される。
ている。周期はＴ＝５Ｔ’である。従来の測定（第４図
）の際には、トリガ事象は最後の測定後の時間ｔ’＝１
／測定速度（たいていは１μｓ）の後に初めて新しい測
定に通ずる。そのために−吹型子線１ｐｉ（ｔ）はたか
だか１回だけ周期Ｔにおいてスイッチオンされ、また二
次電子流が続いて測定される。
本発明により行われる測定（第５図）では、トリガ事象
は１つではなく複数、この場合には５つの測定をトリガ
する。そのために−吹型子線１ｐｓ（１）は複数回、こ
の場合には５回スイッチオンされ、また二次電子流が相
応に複数回測定される。
は１つではなく複数、この場合には５つの測定をトリガ
する。そのために−吹型子線１ｐｓ（１）は複数回、こ
の場合には５回スイッチオンされ、また二次電子流が相
応に複数回測定される。
、この目的で本発明の測定処理装置内には、−方では１
周期内に一次電子線の多数回のスイッチングオンを制御
し、他方ではゲート回路を介して測定信号を時間的にず
らして並列接続された測定処理ユニットに与える課題を
有する直列並列接続された遅延要素が使用される。測定
処理ユニット内でｎ個の測定信号が周期的に処理され、
また各ｍ回のサンプリングにわたりｎ個の平均が形成さ
れる。その際に良好なＳＮ比ではｍ＝＝１であってよく
、その際にｎ個の測定値はｎ個の平均にわたり形成され
ない。
周期内に一次電子線の多数回のスイッチングオンを制御
し、他方ではゲート回路を介して測定信号を時間的にず
らして並列接続された測定処理ユニットに与える課題を
有する直列並列接続された遅延要素が使用される。測定
処理ユニット内でｎ個の測定信号が周期的に処理され、
また各ｍ回のサンプリングにわたりｎ個の平均が形成さ
れる。その際に良好なＳＮ比ではｍ＝＝１であってよく
、その際にｎ個の測定値はｎ個の平均にわたり形成され
ない。
第１図に示されている粒子線用の測定処理装置は測定入
力端ＭＥと、位相制御のための入力端Ｐｈｅと、ビーム
ブランキングシステムＳを後に接続すれているビームブ
ランキング発生器ＢＢＧへの接続用の出力端Ａと、測定
出力端ＭＡｉＭＡ２・・・ＭＡｎとを有するボックスカ
ーユニットＢＥから成っている０位相制御のための入力
端Ｐｈｅは位相制御部Ｐｈｓと接続されている０位相制
御部Ｐｈｓの出力端におけるトリガ信号からたとえば直
列接続された遅延要素によりそれぞれＴだけ時間的にず
らされた別のトリガ信号が導き出され、これらのトリガ
信号がビームブランキング発生器ＢＢＧを介してビーム
ブラン午ングシステムＳを駆動し、また−吹型子を発生
する０位相制御部Ｐｈｓの出力端は追加的に、ｎ個の入
力端を有するオアゲートＯＤの入力端と、また場合によ
っては電子走行時間の補償のための別の遅延ユニットを
介してゲート回路ＴＯＲＥＩの制御入力端と接続されて
いる。遅延要素ＶＺ２・・−ＶＺｎの出力端は相応にオ
アゲートＯＤの入力端およびゲート回路ＴＯＲＥ２…Ｔ
ＯＲＥｎの制御入力端と接続されている。オアゲートＯ
Ｄの出力端を介してビームブランキング発生器ＢＢＧが
直接に駆動される。
力端ＭＥと、位相制御のための入力端Ｐｈｅと、ビーム
ブランキングシステムＳを後に接続すれているビームブ
ランキング発生器ＢＢＧへの接続用の出力端Ａと、測定
出力端ＭＡｉＭＡ２・・・ＭＡｎとを有するボックスカ
ーユニットＢＥから成っている０位相制御のための入力
端Ｐｈｅは位相制御部Ｐｈｓと接続されている０位相制
御部Ｐｈｓの出力端におけるトリガ信号からたとえば直
列接続された遅延要素によりそれぞれＴだけ時間的にず
らされた別のトリガ信号が導き出され、これらのトリガ
信号がビームブランキング発生器ＢＢＧを介してビーム
ブラン午ングシステムＳを駆動し、また−吹型子を発生
する０位相制御部Ｐｈｓの出力端は追加的に、ｎ個の入
力端を有するオアゲートＯＤの入力端と、また場合によ
っては電子走行時間の補償のための別の遅延ユニットを
介してゲート回路ＴＯＲＥＩの制御入力端と接続されて
いる。遅延要素ＶＺ２・・−ＶＺｎの出力端は相応にオ
アゲートＯＤの入力端およびゲート回路ＴＯＲＥ２…Ｔ
ＯＲＥｎの制御入力端と接続されている。オアゲートＯ
Ｄの出力端を介してビームブランキング発生器ＢＢＧが
直接に駆動される。
測定信号は入力端ＭＥおよびｎ個の並列接続されたゲー
ト回路ＴＯＲＥ１、ＴＯＲＥ２…ＴＯＲＥｎを介してゲ
ート回路の制御入力端の信号に関係して測定処理ユニッ
トＭＶ１、ＭＶ２…ＭＶｎ（７）１つに与えられる。こ
れらの測定処理ユニットは積分器段またはカウンタ段か
ら成うていてよい。
ト回路ＴＯＲＥ１、ＴＯＲＥ２…ＴＯＲＥｎを介してゲ
ート回路の制御入力端の信号に関係して測定処理ユニッ
トＭＶ１、ＭＶ２…ＭＶｎ（７）１つに与えられる。こ
れらの測定処理ユニットは積分器段またはカウンタ段か
ら成うていてよい。
測定処理ユニットの出力端はボックスカーユニットの出
力端ＭＡを形成し、ここから測定信号が取り出され得る
。
力端ＭＡを形成し、ここから測定信号が取り出され得る
。
第２図には、粒子線に対する負帰還された測定処理装置
を有する電子線測定装置が示されている。
を有する電子線測定装置が示されている。
第２図中のボックスカーユニットは第１図中のボ、ソク
スカーユニットに相当する。その際に電子線測定装置の
基本ユニットを、ビームブランキングシステムＳを有す
る走査電子顕微鏡が形成している。−吹型子線ＰＥは試
料ＰＲ上で二次電子ＳＥを放出し、これらの二次電子が
検出器ユニソ）ＤＥ内で検出される。検出器ユニットは
たとえばシンチレータ−光電子増倍管の組合わせから、
またはより高速の検出システムの使用時にはチャネル板
または半導体検出器から成っている。試料ＰＲ１たいて
いは集積回路はＩＣ駆動部ＩＯＡに接続されており、そ
れから試験信号を供給される。負帰還された測定処理装
置を有する電子線測定装置はさらに逆電界スペクトロメ
ータＣＦと、後に接続されている各１つのゲート回路Ｔ
ＯＲＡ１、Ｔ。
スカーユニットに相当する。その際に電子線測定装置の
基本ユニットを、ビームブランキングシステムＳを有す
る走査電子顕微鏡が形成している。−吹型子線ＰＥは試
料ＰＲ上で二次電子ＳＥを放出し、これらの二次電子が
検出器ユニソ）ＤＥ内で検出される。検出器ユニットは
たとえばシンチレータ−光電子増倍管の組合わせから、
またはより高速の検出システムの使用時にはチャネル板
または半導体検出器から成っている。試料ＰＲ１たいて
いは集積回路はＩＣ駆動部ＩＯＡに接続されており、そ
れから試験信号を供給される。負帰還された測定処理装
置を有する電子線測定装置はさらに逆電界スペクトロメ
ータＣＦと、後に接続されている各１つのゲート回路Ｔ
ＯＲＡ１、Ｔ。
ＲＡ２…ＴＯＲＡｎを有するｎ個の並列接続された調節
器Ｒ１、Ｒ２…Ｒｎとを含んでいる。動作点ＡＰの目標
値は共通に各調節器にその２つの入力端の一方を介して
供給される。他方の入力端を介して測定値の実際値が関
節器に供給される。そのために測定処理ユニットＭＶＩ
の出力端は調節器Ｒ１の実際値入力端と接続されており
、このことは相応にそれ以外の測定処理ユニッｌ−ＭＶ
２…ＭＶｎおよび調節器Ｒ２…Ｒｎにも当てはまる。
器Ｒ１、Ｒ２…Ｒｎとを含んでいる。動作点ＡＰの目標
値は共通に各調節器にその２つの入力端の一方を介して
供給される。他方の入力端を介して測定値の実際値が関
節器に供給される。そのために測定処理ユニットＭＶＩ
の出力端は調節器Ｒ１の実際値入力端と接続されており
、このことは相応にそれ以外の測定処理ユニッｌ−ＭＶ
２…ＭＶｎおよび調節器Ｒ２…Ｒｎにも当てはまる。
ゲート回路ＴＯＲＡｌ、Ｔ ＯＲＡ ２− Ｔ ＯＲＡ
ｎの出力端は直接に逆電界スペクトロメータＧＦに接
続されている。ｎ個の測定値にｎ個のサンプリング値が
対応付けられているので、ゲート回路ＴＯＲＥＩおよび
ＴＯＲＡＩは同期して駆動され、そのために両ゲート回
路の制御入力端は共通に互いにｆＤ ｈｉされている。
ｎの出力端は直接に逆電界スペクトロメータＧＦに接
続されている。ｎ個の測定値にｎ個のサンプリング値が
対応付けられているので、ゲート回路ＴＯＲＥＩおよび
ＴＯＲＡＩは同期して駆動され、そのために両ゲート回
路の制御入力端は共通に互いにｆＤ ｈｉされている。
このことは相応にゲート回路ＴＯＲＥ２・−ＴＯＲＥｎ
およびＴ ＯＲＡ ２−ＴＯＲＡｎにも当てはまる。負
帰還された測定処理装置は、逆電界スペクトロメータに
おける電圧が測定点電位に関係して、二次電子ＳＲの電
流が一定に留まるように追従調節されるように作動する
。
およびＴ ＯＲＡ ２−ＴＯＲＡｎにも当てはまる。負
帰還された測定処理装置は、逆電界スペクトロメータに
おける電圧が測定点電位に関係して、二次電子ＳＲの電
流が一定に留まるように追従調節されるように作動する
。
ボックスカーユニットＢＥは、第１図中と同じく、２つ
の入力端、すなわち検出器ユニットと接続されている測
定人力＃ＭＥと、ＩＣＣ駆動回路ＩＣ色接続されている
位相制御入力端Ｐｈｅとを有する。ボックスカーユニッ
トの出力ｍＭＡ’ｌ、ＭＡ’２・・・ＭＡ’ｎから、処
理された測定信号を取り出すことができ、これらの測定
信号はたとえば計算機に与えられ得る。
の入力端、すなわち検出器ユニットと接続されている測
定人力＃ＭＥと、ＩＣＣ駆動回路ＩＣ色接続されている
位相制御入力端Ｐｈｅとを有する。ボックスカーユニッ
トの出力ｍＭＡ’ｌ、ＭＡ’２・・・ＭＡ’ｎから、処
理された測定信号を取り出すことができ、これらの測定
信号はたとえば計算機に与えられ得る。
以上に説明した実施例は電子顕微鏡に関するものである
が、本発明は、−欠粒子としても二次粒子としても電子
の代わりにイオン、光子または他の粒子を使用する場合
にも使用され得る。
が、本発明は、−欠粒子としても二次粒子としても電子
の代わりにイオン、光子または他の粒子を使用する場合
にも使用され得る。
本測定処理装置は、サンプリング法またはサンプリング
および平均化法において測定時間を短縮する必要がある
あらゆる場合に応用され得る。従って、その応用は電子
線測定技術またはオシログラフ測定技術のみに制限され
ない。
および平均化法において測定時間を短縮する必要がある
あらゆる場合に応用され得る。従って、その応用は電子
線測定技術またはオシログラフ測定技術のみに制限され
ない。
第１図は本発明によるビームブランキング発生器および
ビームブランキングシステムを接続された粒子線に対す
る測定処理装置の回路図、第２図は粒子線に対する負帰
還された測定処理装置を有する電子線測定装置の回路図
、第３図は測定すべき周期的信号Ｕ （ｔ）を示す図、
第４図は従来の測定方法における一次電子線のスイッチ
ングオンを示す図、第５図は本発明により行われる測定
における一次電子線のスイッチングオンを示す図である
。 ＢＢＧ・・・ビームブランキング発生器、ＢＥ・・・ボ
ックスカーユニット、ＤＥ・・・検出器ユニット、ＧＦ
・・・逆電界スペクトロメータ、ＩＯＡ・・・ＩＣ駆動
回路、ＭＶ・・・測定処理ユニット、ＯＤ・・・オアゲ
ート、Ｐｈｓ・・・位相制御部、Ｐ Ｒ山試料、Ｒ・・
・関節器、Ｓ・・・ビームブランキングシステム、ＴＯ
ＲＥ、Ｔ○ＲＡ・・・ゲート回路、■Ｚ・・・遅延ユニ
ット。 ？＾１】８）代岸人升理士冨村 鎗 ′）ニー 、
〜 ＩＧＩ ｈｅ
ビームブランキングシステムを接続された粒子線に対す
る測定処理装置の回路図、第２図は粒子線に対する負帰
還された測定処理装置を有する電子線測定装置の回路図
、第３図は測定すべき周期的信号Ｕ （ｔ）を示す図、
第４図は従来の測定方法における一次電子線のスイッチ
ングオンを示す図、第５図は本発明により行われる測定
における一次電子線のスイッチングオンを示す図である
。 ＢＢＧ・・・ビームブランキング発生器、ＢＥ・・・ボ
ックスカーユニット、ＤＥ・・・検出器ユニット、ＧＦ
・・・逆電界スペクトロメータ、ＩＯＡ・・・ＩＣ駆動
回路、ＭＶ・・・測定処理ユニット、ＯＤ・・・オアゲ
ート、Ｐｈｓ・・・位相制御部、Ｐ Ｒ山試料、Ｒ・・
・関節器、Ｓ・・・ビームブランキングシステム、ＴＯ
ＲＥ、Ｔ○ＲＡ・・・ゲート回路、■Ｚ・・・遅延ユニ
ット。 ？＾１】８）代岸人升理士冨村 鎗 ′）ニー 、
〜 ＩＧＩ ｈｅ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）高周波の周期的な測定信号の信号経過を測定処理す
るための、ボックスカーユニット（ＢＥ）および位相制
御部（ＰＨＳ）を有する測定処理装置において、ボック
スカーユニットがｎ個の時間的にずらされた測定信号を
処理するｎ個の前置されたゲート回路（ＴＯＲＥ１、Ｔ
ＯＲＥ２…ＴＯＲＥｎ）を有するｎ個の並列に接続され
ている測定処理ユニット（ＭＶ１、ＭＶ２…ＭＶｎ）を
含んでいることを特徴とする粒子線に対する測定処理装
置。 ２）ボックスカーユニット（ＢＥ）に、前置されたビー
ムブランキング発生器（ＢＢＧ）を有し粒子線を制御す
るビームブランキングシステム（Ｓ）が接続されている
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の測定処理
装置。 ３）ボックスカーユニット（ＢＥ）がｎ個の入力端およ
びｎ−１個の遅延要素（ＶＺ２…ＶＺｎ）を有するオア
ゲート（ＯＤ）を含んでおり、位相制御部の出力端がｎ
−１個の直列接続された遅延要素（ＶＺ２…ＶＺｎ）、
オアゲート（ＯＤ）の入力端およびゲート回路（ＴＯＲ
Ｅ１）の制御入力端と接続されており、ｎ個の測定信号
を時間的にずらして処理するため遅延要素（ＶＺ２…Ｖ
Ｚｎ）の出力端が相応にオアゲート（ＯＤ）の入力端お
よびゲート回路（ＴＯＲＥ２…ＴＯＲＥｎ）と接続され
ており、また電子線をブランキングするためオアゲート
（ＯＤ）の出力端がビームブランキング発生器（ＢＢＣ
）と接続されていることを特徴とする特許請求の範囲第
２項記載の測定処理装置。 ４）測定処理ユニット（ＭＶ１、ＭＶ２…ＭＶｎ）の各
１つの出力端が、各１つの入力端、出力端および制御入
力端を有する後置されたゲート回路（ＴＯＲＡ１、ＴＯ
ＲＡ２…ＴＯＲＡｎ）を有する各１つの調節ユニット（
Ｒ１、Ｒ２…Ｒｎ）と接続されており、ゲート回路（Ｔ
ＯＲＡ１、ＴＯＲＡ２…ＴＯＲＡｎ）のすべての出力端
が共通に１つのスペクトロメータ、特に逆電界スペクト
ロメータ（ＧＦ）と接続されており、ゲート回路（ＴＯ
ＲＡ１）の制御入力端がゲート回路（ＴＯＲＥ１）の制
御入力端と接続されており、ゲート回路（ＴＯＲＡ２…
ＴＯＲＡｎ）の制御入力端が相応にゲート回路（ＴＯＲ
Ｅ２…ＴＯＲＥｎ）の制御入力端と接続されていること
を特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第３項のいず
れか１項に記載の測定処理装置。 ５）調節ユニットがそれぞれ、動作点（ＡＰ）と処理さ
れた測定値との間の目標値−実際値比較を行う調節器か
ら成っていることを特徴とする特許請求の範囲第４項記
載の測定処理装置。 ６）測定処理ユニット（ＭＶ１、ＭＶ２…ＭＶｎ）がそ
れぞれ、平均化を行う積分器段を含んでいることを特徴
とする特許請求の範囲第１項ないし第５項のいずれか１
項に記載の測定処理装置。 ７）測定処理ユニット（ＭＶ１、ＭＶ２…ＭＶｎ）がそ
れぞれ、測定すべき短い測定信号のカウントを行うカウ
ンタ段を含んでいることを特徴とする特許請求の範囲第
１項ないし第５項のいずれか１項に記載の測定処理装置
。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3617044.5 | 1986-05-21 | ||
| DE19863617044 DE3617044A1 (de) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | Messverarbeitungsanordnung fuer korpuskularstrahlung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63135A true JPS63135A (ja) | 1988-01-05 |
Family
ID=6301277
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62122354A Pending JPS63135A (ja) | 1986-05-21 | 1987-05-19 | 粒子線に対する測定処理装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4831328A (ja) |
| EP (1) | EP0253098A1 (ja) |
| JP (1) | JPS63135A (ja) |
| DE (1) | DE3617044A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH065691B2 (ja) * | 1987-09-26 | 1994-01-19 | 株式会社東芝 | 半導体素子の試験方法および試験装置 |
| NL8702874A (nl) * | 1987-12-01 | 1989-07-03 | Philips Nv | Inspectie apparaat met gedigitaliseerde elektronen detectie. |
| US5424961A (en) * | 1988-03-04 | 1995-06-13 | Brust; Hans-Detlef | Process and system for measuring the temporal course of a periodic signal having high time resolution according to a "Boxcar-like" process |
| DE3917411A1 (de) * | 1989-05-29 | 1990-12-06 | Brust Hans Detlef | Verfahren und anordnung zur schnellen spektralanalyse eines signals an einem oder mehreren messpunkten |
| US20130155102A1 (en) * | 2011-12-20 | 2013-06-20 | Honeywell International Inc. | Systems and methods of accuracy mapping in a location tracking system |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3155912A (en) * | 1961-05-01 | 1964-11-03 | Gen Electric | Automatic gating circuit |
| US3731526A (en) * | 1971-08-05 | 1973-05-08 | United Aircraft Corp | Variable center frequency filter |
| GB1435143A (en) * | 1973-06-16 | 1976-05-12 | Ass Elect Ind | Scanning electron microscopes |
| DE3036708A1 (de) * | 1980-09-29 | 1982-05-13 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Elektronenstrahl-messgeraet zur stroboskopischen messung hochfrequenter periodischer vorgaenge |
| DE3138992A1 (de) * | 1981-09-30 | 1983-04-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Abtastverfahren zur schnellen potentialbestimmung inder elektronenstrahl-messtechnik |
| JPS5931549A (ja) * | 1982-08-13 | 1984-02-20 | Hitachi Ltd | ストロボ走査形電子顕微鏡の像表示装置 |
| DE3235700A1 (de) * | 1982-09-27 | 1984-03-29 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren und vorrichtung zur aufzeichnung von signalverlaeufen an einer zyklisch betriebenen probe in abhaengigkeit von einem sporadisch auftretenen ereignis |
-
1986
- 1986-05-21 DE DE19863617044 patent/DE3617044A1/de not_active Withdrawn
-
1987
- 1987-05-18 EP EP87107205A patent/EP0253098A1/de not_active Withdrawn
- 1987-05-19 JP JP62122354A patent/JPS63135A/ja active Pending
- 1987-05-21 US US07/052,375 patent/US4831328A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0253098A1 (de) | 1988-01-20 |
| DE3617044A1 (de) | 1987-11-26 |
| US4831328A (en) | 1989-05-16 |
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