JPS6313435B2 - - Google Patents
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- JPS6313435B2 JPS6313435B2 JP11953781A JP11953781A JPS6313435B2 JP S6313435 B2 JPS6313435 B2 JP S6313435B2 JP 11953781 A JP11953781 A JP 11953781A JP 11953781 A JP11953781 A JP 11953781A JP S6313435 B2 JPS6313435 B2 JP S6313435B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- monoester
- water
- meth
- mol
- mixture
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
本発明は、新規化合物(メタ)アクリロイルオ
キシアルキル ジハイドロジエン ホスフエート
に関する。 上記の化合物は一般式 (式中、nは5から12までの整数、RはHまたは
CH3を表わす。) で示されるホスホリツク残基〔−PO(OH)2〕と
ラジカル重合性二重結合を有する(メタ)アクリ
ル酸エステルモノマーである。かかる化合物は金
属と歯牙に対して耐水性の優れた接着力を示す。 一般式(A)においてnが2、RがCH3である2−
メタクリロイルオキシエチル ジハイドロジエン
ホスフエートは2−ヒドロキシエチルメタクリ
レーと5酸化リンまたはオキシ塩化リンンを反応
させて容易に合成され、該化合物を含有するモノ
マー組成物が金属、例えばアルミノウム、鉄、ア
ンチモンなどに良く接着することは公知の事実で
ある(例えば、特開昭50−100120号)。前記特開
にはn=6までの化合物を包含する一般式が示さ
れているが、具体的に示されているのはn=2の
化合物であり、nが3以上については実際に合成
され、用いられたことを示す記載はない。 本発明者らは、歯科用接着剤の開発を目的とし
てホスホリツク残基
キシアルキル ジハイドロジエン ホスフエート
に関する。 上記の化合物は一般式 (式中、nは5から12までの整数、RはHまたは
CH3を表わす。) で示されるホスホリツク残基〔−PO(OH)2〕と
ラジカル重合性二重結合を有する(メタ)アクリ
ル酸エステルモノマーである。かかる化合物は金
属と歯牙に対して耐水性の優れた接着力を示す。 一般式(A)においてnが2、RがCH3である2−
メタクリロイルオキシエチル ジハイドロジエン
ホスフエートは2−ヒドロキシエチルメタクリ
レーと5酸化リンまたはオキシ塩化リンンを反応
させて容易に合成され、該化合物を含有するモノ
マー組成物が金属、例えばアルミノウム、鉄、ア
ンチモンなどに良く接着することは公知の事実で
ある(例えば、特開昭50−100120号)。前記特開
にはn=6までの化合物を包含する一般式が示さ
れているが、具体的に示されているのはn=2の
化合物であり、nが3以上については実際に合成
され、用いられたことを示す記載はない。 本発明者らは、歯科用接着剤の開発を目的とし
てホスホリツク残基
【式】を有する(メ
タ)アクリル酸エステルモノマーの金属及び歯質
に対する接着力を詳細に検討していく過程で驚く
べき事実を発見した。即ち前述の2−メタクリロ
イルオキシエチル ジハイドロジエン ホスフエ
ートを0.5〜5重量%配合した接着性組成物のNi
−Cr合金及びステンレス鋼に対する接着力及び
その耐水性は特開昭54−12338号に開示されてい
る金属及び歯質に接着作用を示す4−メタクリロ
キシエチルトリメリツト酸のそれに比べ著しく劣
つている上、歯牙に対しては全く接着効果を示さ
なかつた。一方、一般式(A)のnが5乃至12の化合
物は逆に極めて強力に金属類及び歯牙に接着して
4−メタクリロキシエチルトリメリツト酸の耐水
性を数段上まわるものであつた。このように一般
式(A)のnが2の化合物と5〜12の化合物とでは金
属及び歯牙に対する接着性に本質的な差が存在す
る。 n=2の化合物が上記特開をはじめ多数の文献
に金属の接着性モノマーとして記載されているに
もかかわらず、それより格段に勝るn=5〜12の
化合物が全く見い出されなかつた理由はこれらの
化合物を工業原料または試薬として入手できない
ことにあつたと推測される。2−(メタ)アクリ
ロイルオキシエチル ジハイドロジエン ホスフ
エートが工業的にも容易に合成されるのに対し、
本発明の化合物では合成の中間原料であるアルキ
レンジオールの(メタ)アクリル酸モノエステル
を単一成分として入手できない不利がある。現在
の技術で該化合物を合成しようとするとどうして
も、モノエステル、ジエステルおよびその原料成
分からなる混合系になつてしまう。このような化
合物は重合性でしかも高沸点化合物のため蒸溜が
極めて困難で、クロマトグラフイーによる分離に
よらざるを得ないが、この方法で分離したモノエ
ステルは極めて高価になるため、
に対する接着力を詳細に検討していく過程で驚く
べき事実を発見した。即ち前述の2−メタクリロ
イルオキシエチル ジハイドロジエン ホスフエ
ートを0.5〜5重量%配合した接着性組成物のNi
−Cr合金及びステンレス鋼に対する接着力及び
その耐水性は特開昭54−12338号に開示されてい
る金属及び歯質に接着作用を示す4−メタクリロ
キシエチルトリメリツト酸のそれに比べ著しく劣
つている上、歯牙に対しては全く接着効果を示さ
なかつた。一方、一般式(A)のnが5乃至12の化合
物は逆に極めて強力に金属類及び歯牙に接着して
4−メタクリロキシエチルトリメリツト酸の耐水
性を数段上まわるものであつた。このように一般
式(A)のnが2の化合物と5〜12の化合物とでは金
属及び歯牙に対する接着性に本質的な差が存在す
る。 n=2の化合物が上記特開をはじめ多数の文献
に金属の接着性モノマーとして記載されているに
もかかわらず、それより格段に勝るn=5〜12の
化合物が全く見い出されなかつた理由はこれらの
化合物を工業原料または試薬として入手できない
ことにあつたと推測される。2−(メタ)アクリ
ロイルオキシエチル ジハイドロジエン ホスフ
エートが工業的にも容易に合成されるのに対し、
本発明の化合物では合成の中間原料であるアルキ
レンジオールの(メタ)アクリル酸モノエステル
を単一成分として入手できない不利がある。現在
の技術で該化合物を合成しようとするとどうして
も、モノエステル、ジエステルおよびその原料成
分からなる混合系になつてしまう。このような化
合物は重合性でしかも高沸点化合物のため蒸溜が
極めて困難で、クロマトグラフイーによる分離に
よらざるを得ないが、この方法で分離したモノエ
ステルは極めて高価になるため、
【式】(n=5〜12、R
=H、CH3)
を原料とした合成が試みられた例はない。そこで
本発明者等は該モノエステルを混合系から単離す
ることなくモノエステルとジエステルの混合物の
状態で使用して、n=5〜12である一般式(A)の化
合物を容易に合成する方法を案出し、得られた化
合物は既知の接着剤では決して到達し得なかつた
程、強力に金属及び歯質に接着することを見い出
した。 すなわち、本発明は上述の一般式(A)で示される
(メタ)アクリロイルオキシアルキル ジハイド
ロジエン ホスフエートである。具体的には次の
化合物があげられる。5−(メタ)アクリロイル
オキシペンチル ジハイドロジエン ホスフエー
ト、6−(メタ)アクリロイルオキシヘキシル
ジハイドロジエン ホスフエート、7−(メタ)
アクリロイルオキシヘプチル ジハイドロジエン
ホスフエート、8−(メタ)アクリロイルオキ
シオクチル ジハイドロジエン ホスフエート、
9−(メタ)アクリロイルオキシノニル ジハイ
ドロジエン ホスフエート、10−(メタ)アクリ
ロイルオキシデシル ジハイドロジエン ホスフ
エート、11−(メタ)アクリロイルオキシウンデ
シル ジハイドロジエン ホスフエート、12−
(メタ)アクリロイルオキシドデシル ジハイド
ロジエン ホスフエート。 これらの化合物は次のような2段階のプロセス
によつて製造される。第1段階では、(メタ)ア
クリル酸とアルキレンジオールのエステル化反応
により中間原料のジオールモノ(メタ)アクリレ
ートを合成する。具体的には次のような条件で行
なわれるのが望ましい。ジオール1モルに対し
て、(メタ)アクリル酸0.5モル乃至1.5モルを仕
込み、無溶媒で酸触媒存在下120℃以下でバツチ
方式でエステル化反応を行なう。ジオール1モル
に対して(メタ)アクリル酸の仕込量が0.5モル
未満または1.5モルを越える場合にはモノエステ
ルの収量の低下が大きく、好ましくない。エステ
ル化触媒として硫酸、スルホン酸などの強酸を全
仕込量に対して0.1〜10重量%加える。また、エ
ステル化反応中の重合防止のためにハイドロキノ
ンモノメチルエーテル、ハイドロキノン、2,
2′−メチレンビス(4−エチル−6−tert−ブチ
ルフエノール)、2,2′−メチレンビス−6−tert
−ブチル−p−クレゾールなどの重合禁止を(メ
タ)アクリル酸に対して100〜10000ppm加える。
さらに、空気または酸素を反応液に吹き込み重合
防止を計るが、反応温度が120℃を越えるとなお
重合する危険がある。したがつて、120℃以下好
ましくは100℃以下減圧下で生成水を留出させな
がら反応を行うのが好ましい。水が留出しなくな
つたら反応を停止し、反応液をアルカリ水溶液で
洗浄して未反応の(メタ)アクリル酸及び触媒を
除去する。次いで、未反応のジオールを除去する
が、炭素数が7以下の水溶性ジオールは上記反応
液を繰り返し洗浄することにより次の反応に支障
のないレベルまでジオール量を低減できる。一方
炭素数が8以上の水に難溶性のジオールは水洗に
より除去することは極めて困難であるが、前記ア
ルカリ洗浄後の反応液をn−ヘキサン、シクロヘ
キサン、ベンゼン、トルエンなどの非極性有機溶
剤で2〜10倍に希釈し、析出してくるジオールを
別することにより、除去可能である。こうして
得られたモノエステルとジエステルの混合物は高
速液体クロマトグラフイー(以下、HLCと略す)
等の分析手段により、混合比率を決定し、次のリ
ン酸エステル化反応の原料とある。 第2段階はリン酸エステル化反応であつて、オ
キシ塩化リンをエチルエーテル、テトラビドロフ
ラン、1,4−ジオキサン、酢酸エチル、ジクロ
ルメタン、クロロホルム、1,2−ジクロルメタ
ン、ベンゼン等で濃度が5%以下にならない範囲
で希釈して、反応容器に入れ、−10℃〜−60℃ま
で冷却する。オキシ塩化リンの使用量はモノエス
テルの水酸規1モルに対して1.0〜2.0モルであ
る。前に合成したジオールのモノエステル、ジエ
ステル混合物と該モノエステルと等モルか少し過
剰の第3級アミン(例えばトリエチルアミン、ト
リブチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリ
ン等)を混合して、そのままか又はエチルエーテ
ル等の溶剤で適度に希釈して冷却した反応器内へ
滴下する。滴下時反応溶液を激しく撹拌し、反応
温度は−10℃〜−60℃に保つ。温度が−10℃以上
になると、副生成物であるリン酸ジエステルが生
成しやすくなり、又−60℃以下では反応速度が著
しく遅くなる。滴下終了後少なくとも30分間は−
10℃〜−60℃のままで反応溶液の撹拌を継続し、
その後0℃まで反応温度を上げ、水と第3級アミ
ンを滴下し、未反応のP−Cl結合を加水分解す
る。この際、水は残存していると推定されるP−
Cl結合よりも過剰モル量を、第3級アミンは総滴
下量がオキシ塩化リンの3倍モルとなるように滴
下する。滴下終了後0℃〜室温でP−Cl結合の加
水分解が完了するまで、反応を継続し、その後析
出して来たアンモニウム塩を別する。液は有
機溶媒を溜去し濃縮する。目的とする合成化合物
が一般式(A)で炭素数n=5〜8に当る場合、濃縮
液は重炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸
カリウム又は炭酸カリウムの水溶液で抽出しその
液をエーテルでさらに抽出することによりジオー
ルのジ(メタ)アクリレートを除き、主出成物で
あるリン酸モノエステルと副生成物であるリン酸
ジエステルのナトリウム又はカリウム塩水溶液を
得る。次に該水溶液からリンン酸ジエステル塩を
クロロホルムで抽出除去する。水溶液はリン酸、
塩酸又は硫酸等により酸性とし相分離して来たリ
ン酸モノエステルをエチルエーテル、酢酸エチ
ル、ベンゼン等有機溶剤で抽出する。該抽出液は
乾燥剤を入れて脱水後、重合禁止剤又は酸化防止
剤、たとえば2,6−t−ブチル−P−クレゾー
ル等を100〜3000ppm加え、溶媒を減圧溜去し、
かくして残渣としてリン酸モノエステルが得られ
る。一方炭素数n=9−12の場合、濃縮液を炭化
水素系溶剤、たとえばn−ヘキサン、シクロヘキ
サン等で抽出してジオールのジ(メタ)アクリレ
ートとリン酸ジエステルを除去する。こうして精
製したリン酸モノエステル濃縮液に重合禁止剤ま
たは酸化防止剤を100ppm〜3000ppm加えて、残
留溶媒を減圧溜去し、液状のリン酸モノエステル
を得ることができる。 本発明のリン酸エステル化合物の構造確認は、
NMR及び元素分析に基づいて行うことができ
る。10%のCDCl3溶液としてNMRで測定すると
メタクリロイルオキシアルキル ジハイドロジエ
ン ホスフエートの場合、δ=5.5と6.1に2種の
エチレン性プロトンのシグナル、δ=1.9にメチ
ルプロトンのシグナル、δ=3.7〜4.3に酸素原子
に隣接したメチレンプロトンのシグナル、δ=
1.5〜1.9にその他のメチレンプロトンのシグナ
ル、δ=8〜12付近にリン酸基のプロトンのシグ
ナルが観測される。一方アクリロイルオキシアル
キルジハイドロジエン ホスフエートではδ=
5.7、6.1、6.3に3種のエチレン性プロトンのシグ
ナル、δ=3.7〜4.3に酸素に隣接したメチレンプ
ロトンのシグナル、δ=1.5〜1.9にその他のメチ
レンプロトンのシグナル、δ=8〜12付近にリン
酸基プロトンのシグナルが観測される。該化合物
の純度はカラムにUnisil Q C18(ガスクロ工業)
を使用してHLCで決定できる。 本発明の化合物を各種の金属(Fe、Ni、Cr、
Cu、Zn等)及び歯牙表面に単独または他のエチ
レン性不飽和化合物との混合物として塗布し、ラ
ジカル重合開始剤、熱、光等の手段により重合硬
化させると、耐水性に優れた高い接着力を示すた
め、歯科用接着剤(歯牙修復時歯牙に塗布される
接着剤、インレー・クラウン等を歯に接着するた
めの接着剤、歯列矯正用接着剤、ブリツジ・ポス
ト等を保持するための接着剤、歯科複合充填材料
等)、構造用接着剤、金属用塗料、金属表面処理
剤等の接着性モノマーとして巾広い用途に用いら
れる。 とくに、本発明の化合物を歯科用接着剤に用い
る場合、(A)接着性モノマーとしての該化合物(n
8以上の化合物が歯牙に対する接着性の点でと
くに好ましい。)、(B)共重合性ビニル化合物および
(C)硬化剤からなる組成物として用いられるのが好
ましい。組成物中における該接着性化合物の含量
は接着性の点から全単量体に対し0.5重量%以上
であり、通常は1.5〜50重量%の範囲で用いられ
る。共重合性ビニル化合物としては、従来から歯
科用接着剤に用いられているものが使用可能であ
り、スチレン、酢酸ビニル、(メタ)アクリレー
ト系単量体〔メチル(メタ)アクリレート、2−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、テトラ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネ
オペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、
Bis−GMA、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、ビスフエノール−Aジ(メ
タ)アクリレート等、特開昭52−113089号の記載
参照〕等があげられる。これらは適宜選択され
て、接着剤の粘度、濡れ特性、硬化特性、機械的
性質などが調節される。硬化剤としては、歯科分
野で用いられている、ベンゾイルパーオキサイ
ド、アゾビスイソブチロニトリル、トリブチルボ
ラン、芳香族スルフイン酸(または塩)、芳香族
スルフイン酸塩/ジアシルパーオキサイド/芳香
族第3級アミン系等が用いられる。また、光増感
剤(ベンゾインメチルエーテル等)も用いられ
る。硬化剤については、特開昭53−110637号、54
−11149号の記載が参照される。さらに、上記の
組成物に揮発性の有機溶剤(エタノール等)、結
晶石英等の無機フイラー、ポリメチルメタクリレ
ート粉末等の有機フイラーが加えられることもで
きる。 以下、実施例および比較例によつて本発明をさ
らに詳細に説明する。 実施例 1 メタクリル酸140g(1.6モル)、1,6−ヘキ
サンジオール190g(1.6モル)、p−トルエンス
ルホン酸15g、2,2′−メチレンビス(4−エチ
ル−6−tert−ブチルフエノール)0.6gを500c.c.
三つ口フラスコに入れ、減圧下(100〜150mmHg)
90℃に加熱し、酸素を吹き込みながら、水が溜出
しなくなるまで反応を数時間継続した。溜出が止
まつたら反応液を室温に冷やし、分液ロートに移
して5%炭酸ナトリウム水で洗浄水がアルカリ性
を示すまで洗浄した。さらに、該反応液を300c.c.
の水で5回洗浄した。無水硫酸ナトリウムで脱水
後、該反応液にハイドロキノンモノメチルエーテ
ル(以下、MEHQと略す)を30mg加え、80℃ま
で加熱し、残留水分を減圧留去した。198gのモ
ノエステルとジエステルの混合物が得られた。
HLCで該混合物を分析した結果、モノエステル
含量は75モル%で、ジオールの残存量は0.5重量
%以下であつた。 オキシ塩化リン55g(0.36モル)を100c.c.のエ
チルエーテルに溶かして1の反応容器に入れ、
−40℃まで冷却した。先に合成したメタクリル酸
エステル混合物81g(モノエステルを0.3モル含
有)とトリエチルアミン37g(0.36モル)をエチ
ルエーテル100c.c.に溶解し、300c.c.滴下ロートに入
れ、反応容器に接続した。オキシ塩化リン溶液を
激しく撹拌し、乾燥N2ガスを吹き込みながら、
前記溶液をゆつくり滴下した。滴下終了後3時間
は−30℃に反応液を保ち、その後0℃まで昇温し
た。次に水30gを滴下ロートに入れて撹拌を続け
ながら滴下した。続いてトリエチルアミン72.9g
(0.72モル)を100c.c.のエチルエーテルに溶解して
滴下した。滴下終了後10時間反応を0℃に保つて
撹拌を続けた。その後析出して来たトリエチルア
ミンの塩酸塩をガラスフイルターで別し、液
にMEHQ10mgを加え、40℃でエチルエーテルを
減圧留去し、不揮発性液体残渣を得た。該液体を
200c.c.の水に分散させ、氷冷下激しく撹拌しなが
ら炭酸ナトリウム65g(0.6mol)を少量づつ加
えて中和し、発泡が収まつたら、該分散溶液を分
液ロートに移し、エチルエーテル100c.c.で2回お
よび100c.c.のクロロホルムで4回抽出洗浄した。
次に該水溶液に氷冷下6NHClを加え、酸性とし、
相分離して来た油状物をエチルエーテルで3回抽
出した。各抽出液を合せて水洗を行つてから無水
硫酸ナトリウムで乾燥した後、MEHQを10mg加
え、40℃以下で溶媒を溜去し、67gの無色透明液
体を得た。 該液体を10%CDCl3溶液として、室温でで90M
HzNMRの測定を行つたところ、δ=6.05と5.5に
エチレン性プロトンのシグナルを、δ=1.9にメ
チルプロトンのシグナルを、δ=3.8〜4.2及び1.2
〜1.8にヘキサメチレン残基プロトンの多重シグ
ナルを、δ=9.7付近にリン酸エステルの酸性プ
ロトンのシグナルを観測した。また、元素分析の
結果はC:44.5%、H:7.8%、O:36.5%、P:
11.2%(計算値C:45.1%、H:7.2%、O:36.1
%、P:11.6%)で該化合物がメタクリロイルオ
キシヘキシル ジハイドロジエン ホスフエート
であることを認した。HLC(カラム:Unisil Q
C18)で分析した結果、純度は97〜98%である
ことが判明した。 実施例 2 実施例1において、1,6−ヘキサンジオール
を1,5−ペンタンジオール170g(1.6モル)に
替えた以外は、実施例1と全く同一の条件で実験
を行い、ジオールのモノエステル、ジエステル混
合物を得た。HCLでモノエステル含量を決定し
た後、モノエステル0.3モルに相当する量の該混
合物を使用して、リン酸エステル化反応を行つた
後、分離・精製を実施例1と全く同一の方法で行
い、61gの酸性不揮発性体を得た。該化合物の
NMR測定、元素分析〔C:42.6%(42.9)、H:
7.1%(6.8)、O:38.5%(38.1)、P:11.8%
(12.3)、ただし( )内は計算値。〕を行つた結
果、メタクリロイルオキシペンチル ジハイドロ
ジエン ホスフエートであることを確認した。
HLC分析の結果純度は96〜98%であつた。 実施例 3 アクリル酸140g(1.9モル)、1,6−ヘキサ
ンジオール190g(1.6モル)、p−トルエンスル
ホン酸15g、2,2′−メチレンビス(4−エチル
−6−tert−ブチルフエノール)0.6gを500c.c.フ
ラスコに入れ酸素をキヤピラリーから吹き込みな
がら80℃、減圧度100〜200mmHgの条件下生成水
を溜出させた。以下実施例1と同様に反応停止
後、アルカリ水洗、水洗、脱水を行つて最終的に
アクリル酸モノエステル、ジエステル混合物175
gを得た。HLCで該混合物のモノエステル含量
を測定したところ68モル%であつた。次に該混合
物83.6gを実施例1と全く同じ方法でオキシ塩化
リン55g(0.36モル)と反応させ、リン酸モノエ
ステルを単離する操作を行つた後、62gの無色透
明不揮発性液体を得た。該化合物はNMR元素分
析〔C:42.7%(42.9)、H:7.1%(6.8)、O:
38.3%(38.1)、P:11.9%(12.3)、ただし( )
内は計算値。〕の結果からアクリロイルオキシヘ
キシル ジハイドロジエン ホスフエートである
と確認された。HLCから純度は95〜97%である
と判明した。 実施例 4 実施例3において、1,6−ヘキサンジオール
を1,5−ペンタンジオール170g(1.6モル)に
替えた以外は、実施例3と全く同一の条件で実験
を行い、ジオールのモノエステル、ジエステル混
合物を得た。HCLでモノエステル含量を決定し
た後、モノエステル0.3モルに相当する量の該混
合物を使用してリン酸エステル化反応を行つた。
分離・精製を本発明1と全く同一の方法で行い、
48gの酸性不揮発性液体を得た。該化合物の
NMRの測定、元素分析〔C:40.5%(40.3)、
H:6.5%(6.4)、O:40.0%(40.3)、P:13.0%
(13.0)、ただし( )内は計算値。〕を行つた結
果、アクリロイルオキシペンチル ジハイドロジ
エン ホスフエートであると確認された。HLC
分析の結果純度は95〜97%であつた。 実施例 5 メタクリル酸140g(1.6モル)、1,10−デカ
ンジオール230g(1.3モル)、p−トルエンスル
ホン酸15g、2,2′−メチレンビス(4−エチル
−6−tert−ブチルフエノール)0.6gを500c.c.3
つ口フラスコに入れ、80℃まで加熱して均一溶液
とした。フラスコ内を100〜150mmHgまで減圧に
し、酸素を吹き込んで撹拌しながら90℃でエステ
ル化反応を行ない、生成水を留出させた。水が留
出しなくなつたら反応を止め、室温まで冷やして
n−ヘキサン300c.c.を加えて希釈した。この際、
析出してきた固体を別し、液を炭酸ナトリウ
ム水溶液で、洗浄液がアルカリ性を示すまで洗浄
した。更に水洗を繰り返した後反応液に1のn
−ヘキサンを追加して希釈し、無水硫酸ナトリウ
ムを加えて5℃で冷蔵放置した。1日後、析出し
てきた未反応ジオールを再度別し、液に
MEHQ40mgを加えて、80℃以下でn−ヘキサン
を減圧留去し、268gのジオールのモノエステル、
ジエステル混合物を得た。HLCで該混合物を分
析した結果、モノエステル含量は65mol%で、且
つ未反応ジオールは痕跡程度しか含まれていない
ことが明らかとなつた。 オキシ塩化リン55g(0.36モル)を100c.c.のエ
チルエーテルに溶解して容量1の反応容器に入
れ、−40℃まで冷却した。前に合成しておいたエ
ステル混合物123g(モノエステル0.3モル含有)
とトリエチルアミン37g(0.36モル)をエチルエ
ーテル120c.c.に溶解し、300c.c.滴下ロートに入れ、
反応容器に接続した。オキシ塩化リン溶液を激し
く撹拌し、乾燥N2ガスを吹き込みながら、前記
の溶液をゆつくり滴下した。滴下終了後3時間−
30℃に反応液を保ち、その後0℃まで昇温した。
次に水30gを滴下ロートに入れて撹拌を続けなが
ら滴下した。更にトリエチルアミン72.9g(0.72
モル)を100c.c.のエチルエーテルに溶解して続け
て続けて滴下した。滴下終了後10時間反応液を0
℃に保つてゆつくり撹拌を続けた。その後析出し
てきたトリエチルアミンの塩酸塩をガラスフイル
ターで別し、液を繰り返し水洗した後、脱水
乾燥しMEHQ20mgを加えてから40℃でエチルエ
ーテルを減圧留去し、液体残渣を得た。該液体を
n−ヘキサンで繰返し洗浄し、ジオールのジエス
テル、リン酸ジエステルを抽出除去し、更にリン
酸モノエステル層に溶解したn−ヘキサンを減圧
留去し、73gの液状の化合物を得た。 該化合物の10%CDCl3溶液について、90MHz
NMR測定を室温で行つた。その結果、δ=6.05
と5.5にエチレン性プロトンのシグナルを、δ=
1.9にメチル基プロトンのシグナルを、δ=3.8〜
4.2及び1.2〜1.8にデカメチレン残基プロトンの多
重シグナルを、δ=9.7付近にリン酸の酸性プロ
トンのシグナルを観測した。また、元素分析の結
果はC:52.9%、H:8.7%、O:29.2%、P:
9.2%(計算値:C:52.2、H:8.4、O:29.8、
P:9.6)で該化合物がメタクリロイルオキシデ
シル ジハイドロジエン ホスフエートであるこ
とを確認した。HCL(カラム:Unisil Q C18)
で分析した結果、純度は92−95%であつた。 実施例 6 実施例5において1,10−デカンジオールを
1,12−ドデカンジオール260g(1.3mol)に替
えた以外は、実施例5と全く同一の条件で実験を
行い、ジオールのモノエステル、ジエステル混合
物を得た。HLCでモノエステル含量を決定した
後、モノエステル0.3モルに相当する量の該混合
物を使用して、リン酸エステル化反応を行つた。
分離・精製は実施例1と全く同一の方法で行い、
75gの液状化合物を得た。該化合物のNMR測
定、元素分析〔C:55.3%(54.9)、H:9.2%
(8.9)、O:27.0%(27.4)、P:8.5%(8.8)、た
だし( )内は計算値。〕を行つた結果、メタク
リロイルオキシドデシル ジハイドロジエン ホ
スフエートであることを確認した。HLC分析の
結果、純度は92〜95%であつた。 実施例 7 アクリル酸115g(1.6ル)、1,10−デカンジ
オール230g(1.3モル)、p−トルエンスルホン
酸15g、2,2′−メチレンビス(4−エチル−6
−tert−ブチルフエノール)0.6gを500c.c.フラス
コに入れ、キヤピラリーから酸素を吹き込みなが
ら、温度80℃、減圧度100〜200mmHgの条件下、
生成水を溜出させた。以下実施例5と同様の要領
で反応停止後、n−ヘキサンで希釈してから
過、アルカリ水洗、水洗、脱水を行い、再びn−
ヘキサンで希釈、過してから溶媒を溜去し、
223gのジオールのモノエステル、ジエステル混
合物を得た。HLCで該混合物のモノエステル含
量を測定したところ、66モル%であつた。次に該
混合物114gを実施例5と全く同じ方法でオキシ
塩化リン55g(0.36モル)と反応させ、リン酸モ
ノエステルを単離する操作を行つた後、62gの無
色透明不揮発性液体を得た。該化合物はNMR、
元素分析〔C:51.0%(50.6)、H:8.4%(8.2)、
O:30.8%(31.1)、P:9.8%(9.6)、ただし
( )内は計算値。〕の結果からアクリロイルオキ
シデシル ジハイドロジエン ホスフエートであ
ると確認された。HLCから純度は91〜95%であ
ると判明した。 実施例 8 実施例7において1,10−デカンジオールを
1,12−ドデカンジオール260g(1.3モル)に替
えた以外は、実施例7と全く同一の条件で実験を
行い、ジオールのモノエステル、ジエステル混合
物を得た。HLCでモノエステル含量を決定した
後、モノエステル0.3ルに相当する量の該混合物
を使用して、リン酸エステル化反応を行つた。分
離・精製を実施例5と全く同一の方法で行い、79
gの液状化合物を得た。該化合物のNMR測定、
元素分析〔C:53.9%(53.6)、H:9.0%(8.7)、
O:28.1%(28.5)、P:9.0%(9.2)、ただし
( )内は計算値。〕を行つた結果、アクリロイル
オキシドデシル ジハイドロジエン ホスフエー
トであることを確認した。HLC分析の結果、純
度は92〜96%であつた。 実施例9〜18および比較例1〜2 本発明の接着性ノマーを含有する接着剤を下記
の処方で調合し、金属に対する接着力の耐水性試
験を行つた。 接着剤組成 A包装 接着性モノマー 5重量部 メチルメタクリレート 95 〃 ベンゾイルパーオキシド 1 〃 B包装 ポリメチルメタクリレート(PMMAと略す)粉
末 100重量部 ベンゼンスルフイン酸ソーダ 3 〃 N,N−ジエタノール−p−トルイジン1 〃 (但し、A包装は均一溶液、B包装はPMMA粉
末にベンゼンスルフイン酸ソーダ及びアミンの粉
末を均一に混合分散させたもの) 10×10×3mmのニツケル−クロム合金(Ni:
92.7%)板を#1000研磨紙で磨きあげ、水、メチ
ルエチルケトンで超音波洗浄した。この合金板に
5mmφの孔を穿つたセロテープを孔が該研磨面の
中心に一致する様貼りつけた。別に7mmφ×35mm
のステンレス棒をニツケル−クロム合金板と同数
用意し、その一方の端面を同様に研磨、洗浄し
た。上記の接着剤A包装とB包装を同重量づつ混
合し、筆で合金板チツプ(セロテープの孔の部
分)とステンレス棒に塗布して、突き合せ接着を
行つた。1つの接着剤につき20個の接着剤試料を
つくり、接着1時間後37℃水中に浸漬した。24時
間後及び10日後に試料を各10個づつ取り出し、イ
ンストロン引張試験機で引張接着強さを測定し、
その平均値を第1表に示した。なお、引張強さが
400Kg/cm2以上の場合は接着剤の凝集破壊が起き、
それ以下の場合は主としてニツケル−クロム合金
面での界面破壊であつた。
本発明者等は該モノエステルを混合系から単離す
ることなくモノエステルとジエステルの混合物の
状態で使用して、n=5〜12である一般式(A)の化
合物を容易に合成する方法を案出し、得られた化
合物は既知の接着剤では決して到達し得なかつた
程、強力に金属及び歯質に接着することを見い出
した。 すなわち、本発明は上述の一般式(A)で示される
(メタ)アクリロイルオキシアルキル ジハイド
ロジエン ホスフエートである。具体的には次の
化合物があげられる。5−(メタ)アクリロイル
オキシペンチル ジハイドロジエン ホスフエー
ト、6−(メタ)アクリロイルオキシヘキシル
ジハイドロジエン ホスフエート、7−(メタ)
アクリロイルオキシヘプチル ジハイドロジエン
ホスフエート、8−(メタ)アクリロイルオキ
シオクチル ジハイドロジエン ホスフエート、
9−(メタ)アクリロイルオキシノニル ジハイ
ドロジエン ホスフエート、10−(メタ)アクリ
ロイルオキシデシル ジハイドロジエン ホスフ
エート、11−(メタ)アクリロイルオキシウンデ
シル ジハイドロジエン ホスフエート、12−
(メタ)アクリロイルオキシドデシル ジハイド
ロジエン ホスフエート。 これらの化合物は次のような2段階のプロセス
によつて製造される。第1段階では、(メタ)ア
クリル酸とアルキレンジオールのエステル化反応
により中間原料のジオールモノ(メタ)アクリレ
ートを合成する。具体的には次のような条件で行
なわれるのが望ましい。ジオール1モルに対し
て、(メタ)アクリル酸0.5モル乃至1.5モルを仕
込み、無溶媒で酸触媒存在下120℃以下でバツチ
方式でエステル化反応を行なう。ジオール1モル
に対して(メタ)アクリル酸の仕込量が0.5モル
未満または1.5モルを越える場合にはモノエステ
ルの収量の低下が大きく、好ましくない。エステ
ル化触媒として硫酸、スルホン酸などの強酸を全
仕込量に対して0.1〜10重量%加える。また、エ
ステル化反応中の重合防止のためにハイドロキノ
ンモノメチルエーテル、ハイドロキノン、2,
2′−メチレンビス(4−エチル−6−tert−ブチ
ルフエノール)、2,2′−メチレンビス−6−tert
−ブチル−p−クレゾールなどの重合禁止を(メ
タ)アクリル酸に対して100〜10000ppm加える。
さらに、空気または酸素を反応液に吹き込み重合
防止を計るが、反応温度が120℃を越えるとなお
重合する危険がある。したがつて、120℃以下好
ましくは100℃以下減圧下で生成水を留出させな
がら反応を行うのが好ましい。水が留出しなくな
つたら反応を停止し、反応液をアルカリ水溶液で
洗浄して未反応の(メタ)アクリル酸及び触媒を
除去する。次いで、未反応のジオールを除去する
が、炭素数が7以下の水溶性ジオールは上記反応
液を繰り返し洗浄することにより次の反応に支障
のないレベルまでジオール量を低減できる。一方
炭素数が8以上の水に難溶性のジオールは水洗に
より除去することは極めて困難であるが、前記ア
ルカリ洗浄後の反応液をn−ヘキサン、シクロヘ
キサン、ベンゼン、トルエンなどの非極性有機溶
剤で2〜10倍に希釈し、析出してくるジオールを
別することにより、除去可能である。こうして
得られたモノエステルとジエステルの混合物は高
速液体クロマトグラフイー(以下、HLCと略す)
等の分析手段により、混合比率を決定し、次のリ
ン酸エステル化反応の原料とある。 第2段階はリン酸エステル化反応であつて、オ
キシ塩化リンをエチルエーテル、テトラビドロフ
ラン、1,4−ジオキサン、酢酸エチル、ジクロ
ルメタン、クロロホルム、1,2−ジクロルメタ
ン、ベンゼン等で濃度が5%以下にならない範囲
で希釈して、反応容器に入れ、−10℃〜−60℃ま
で冷却する。オキシ塩化リンの使用量はモノエス
テルの水酸規1モルに対して1.0〜2.0モルであ
る。前に合成したジオールのモノエステル、ジエ
ステル混合物と該モノエステルと等モルか少し過
剰の第3級アミン(例えばトリエチルアミン、ト
リブチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリ
ン等)を混合して、そのままか又はエチルエーテ
ル等の溶剤で適度に希釈して冷却した反応器内へ
滴下する。滴下時反応溶液を激しく撹拌し、反応
温度は−10℃〜−60℃に保つ。温度が−10℃以上
になると、副生成物であるリン酸ジエステルが生
成しやすくなり、又−60℃以下では反応速度が著
しく遅くなる。滴下終了後少なくとも30分間は−
10℃〜−60℃のままで反応溶液の撹拌を継続し、
その後0℃まで反応温度を上げ、水と第3級アミ
ンを滴下し、未反応のP−Cl結合を加水分解す
る。この際、水は残存していると推定されるP−
Cl結合よりも過剰モル量を、第3級アミンは総滴
下量がオキシ塩化リンの3倍モルとなるように滴
下する。滴下終了後0℃〜室温でP−Cl結合の加
水分解が完了するまで、反応を継続し、その後析
出して来たアンモニウム塩を別する。液は有
機溶媒を溜去し濃縮する。目的とする合成化合物
が一般式(A)で炭素数n=5〜8に当る場合、濃縮
液は重炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸
カリウム又は炭酸カリウムの水溶液で抽出しその
液をエーテルでさらに抽出することによりジオー
ルのジ(メタ)アクリレートを除き、主出成物で
あるリン酸モノエステルと副生成物であるリン酸
ジエステルのナトリウム又はカリウム塩水溶液を
得る。次に該水溶液からリンン酸ジエステル塩を
クロロホルムで抽出除去する。水溶液はリン酸、
塩酸又は硫酸等により酸性とし相分離して来たリ
ン酸モノエステルをエチルエーテル、酢酸エチ
ル、ベンゼン等有機溶剤で抽出する。該抽出液は
乾燥剤を入れて脱水後、重合禁止剤又は酸化防止
剤、たとえば2,6−t−ブチル−P−クレゾー
ル等を100〜3000ppm加え、溶媒を減圧溜去し、
かくして残渣としてリン酸モノエステルが得られ
る。一方炭素数n=9−12の場合、濃縮液を炭化
水素系溶剤、たとえばn−ヘキサン、シクロヘキ
サン等で抽出してジオールのジ(メタ)アクリレ
ートとリン酸ジエステルを除去する。こうして精
製したリン酸モノエステル濃縮液に重合禁止剤ま
たは酸化防止剤を100ppm〜3000ppm加えて、残
留溶媒を減圧溜去し、液状のリン酸モノエステル
を得ることができる。 本発明のリン酸エステル化合物の構造確認は、
NMR及び元素分析に基づいて行うことができ
る。10%のCDCl3溶液としてNMRで測定すると
メタクリロイルオキシアルキル ジハイドロジエ
ン ホスフエートの場合、δ=5.5と6.1に2種の
エチレン性プロトンのシグナル、δ=1.9にメチ
ルプロトンのシグナル、δ=3.7〜4.3に酸素原子
に隣接したメチレンプロトンのシグナル、δ=
1.5〜1.9にその他のメチレンプロトンのシグナ
ル、δ=8〜12付近にリン酸基のプロトンのシグ
ナルが観測される。一方アクリロイルオキシアル
キルジハイドロジエン ホスフエートではδ=
5.7、6.1、6.3に3種のエチレン性プロトンのシグ
ナル、δ=3.7〜4.3に酸素に隣接したメチレンプ
ロトンのシグナル、δ=1.5〜1.9にその他のメチ
レンプロトンのシグナル、δ=8〜12付近にリン
酸基プロトンのシグナルが観測される。該化合物
の純度はカラムにUnisil Q C18(ガスクロ工業)
を使用してHLCで決定できる。 本発明の化合物を各種の金属(Fe、Ni、Cr、
Cu、Zn等)及び歯牙表面に単独または他のエチ
レン性不飽和化合物との混合物として塗布し、ラ
ジカル重合開始剤、熱、光等の手段により重合硬
化させると、耐水性に優れた高い接着力を示すた
め、歯科用接着剤(歯牙修復時歯牙に塗布される
接着剤、インレー・クラウン等を歯に接着するた
めの接着剤、歯列矯正用接着剤、ブリツジ・ポス
ト等を保持するための接着剤、歯科複合充填材料
等)、構造用接着剤、金属用塗料、金属表面処理
剤等の接着性モノマーとして巾広い用途に用いら
れる。 とくに、本発明の化合物を歯科用接着剤に用い
る場合、(A)接着性モノマーとしての該化合物(n
8以上の化合物が歯牙に対する接着性の点でと
くに好ましい。)、(B)共重合性ビニル化合物および
(C)硬化剤からなる組成物として用いられるのが好
ましい。組成物中における該接着性化合物の含量
は接着性の点から全単量体に対し0.5重量%以上
であり、通常は1.5〜50重量%の範囲で用いられ
る。共重合性ビニル化合物としては、従来から歯
科用接着剤に用いられているものが使用可能であ
り、スチレン、酢酸ビニル、(メタ)アクリレー
ト系単量体〔メチル(メタ)アクリレート、2−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、テトラ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネ
オペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、
Bis−GMA、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート、ビスフエノール−Aジ(メ
タ)アクリレート等、特開昭52−113089号の記載
参照〕等があげられる。これらは適宜選択され
て、接着剤の粘度、濡れ特性、硬化特性、機械的
性質などが調節される。硬化剤としては、歯科分
野で用いられている、ベンゾイルパーオキサイ
ド、アゾビスイソブチロニトリル、トリブチルボ
ラン、芳香族スルフイン酸(または塩)、芳香族
スルフイン酸塩/ジアシルパーオキサイド/芳香
族第3級アミン系等が用いられる。また、光増感
剤(ベンゾインメチルエーテル等)も用いられ
る。硬化剤については、特開昭53−110637号、54
−11149号の記載が参照される。さらに、上記の
組成物に揮発性の有機溶剤(エタノール等)、結
晶石英等の無機フイラー、ポリメチルメタクリレ
ート粉末等の有機フイラーが加えられることもで
きる。 以下、実施例および比較例によつて本発明をさ
らに詳細に説明する。 実施例 1 メタクリル酸140g(1.6モル)、1,6−ヘキ
サンジオール190g(1.6モル)、p−トルエンス
ルホン酸15g、2,2′−メチレンビス(4−エチ
ル−6−tert−ブチルフエノール)0.6gを500c.c.
三つ口フラスコに入れ、減圧下(100〜150mmHg)
90℃に加熱し、酸素を吹き込みながら、水が溜出
しなくなるまで反応を数時間継続した。溜出が止
まつたら反応液を室温に冷やし、分液ロートに移
して5%炭酸ナトリウム水で洗浄水がアルカリ性
を示すまで洗浄した。さらに、該反応液を300c.c.
の水で5回洗浄した。無水硫酸ナトリウムで脱水
後、該反応液にハイドロキノンモノメチルエーテ
ル(以下、MEHQと略す)を30mg加え、80℃ま
で加熱し、残留水分を減圧留去した。198gのモ
ノエステルとジエステルの混合物が得られた。
HLCで該混合物を分析した結果、モノエステル
含量は75モル%で、ジオールの残存量は0.5重量
%以下であつた。 オキシ塩化リン55g(0.36モル)を100c.c.のエ
チルエーテルに溶かして1の反応容器に入れ、
−40℃まで冷却した。先に合成したメタクリル酸
エステル混合物81g(モノエステルを0.3モル含
有)とトリエチルアミン37g(0.36モル)をエチ
ルエーテル100c.c.に溶解し、300c.c.滴下ロートに入
れ、反応容器に接続した。オキシ塩化リン溶液を
激しく撹拌し、乾燥N2ガスを吹き込みながら、
前記溶液をゆつくり滴下した。滴下終了後3時間
は−30℃に反応液を保ち、その後0℃まで昇温し
た。次に水30gを滴下ロートに入れて撹拌を続け
ながら滴下した。続いてトリエチルアミン72.9g
(0.72モル)を100c.c.のエチルエーテルに溶解して
滴下した。滴下終了後10時間反応を0℃に保つて
撹拌を続けた。その後析出して来たトリエチルア
ミンの塩酸塩をガラスフイルターで別し、液
にMEHQ10mgを加え、40℃でエチルエーテルを
減圧留去し、不揮発性液体残渣を得た。該液体を
200c.c.の水に分散させ、氷冷下激しく撹拌しなが
ら炭酸ナトリウム65g(0.6mol)を少量づつ加
えて中和し、発泡が収まつたら、該分散溶液を分
液ロートに移し、エチルエーテル100c.c.で2回お
よび100c.c.のクロロホルムで4回抽出洗浄した。
次に該水溶液に氷冷下6NHClを加え、酸性とし、
相分離して来た油状物をエチルエーテルで3回抽
出した。各抽出液を合せて水洗を行つてから無水
硫酸ナトリウムで乾燥した後、MEHQを10mg加
え、40℃以下で溶媒を溜去し、67gの無色透明液
体を得た。 該液体を10%CDCl3溶液として、室温でで90M
HzNMRの測定を行つたところ、δ=6.05と5.5に
エチレン性プロトンのシグナルを、δ=1.9にメ
チルプロトンのシグナルを、δ=3.8〜4.2及び1.2
〜1.8にヘキサメチレン残基プロトンの多重シグ
ナルを、δ=9.7付近にリン酸エステルの酸性プ
ロトンのシグナルを観測した。また、元素分析の
結果はC:44.5%、H:7.8%、O:36.5%、P:
11.2%(計算値C:45.1%、H:7.2%、O:36.1
%、P:11.6%)で該化合物がメタクリロイルオ
キシヘキシル ジハイドロジエン ホスフエート
であることを認した。HLC(カラム:Unisil Q
C18)で分析した結果、純度は97〜98%である
ことが判明した。 実施例 2 実施例1において、1,6−ヘキサンジオール
を1,5−ペンタンジオール170g(1.6モル)に
替えた以外は、実施例1と全く同一の条件で実験
を行い、ジオールのモノエステル、ジエステル混
合物を得た。HCLでモノエステル含量を決定し
た後、モノエステル0.3モルに相当する量の該混
合物を使用して、リン酸エステル化反応を行つた
後、分離・精製を実施例1と全く同一の方法で行
い、61gの酸性不揮発性体を得た。該化合物の
NMR測定、元素分析〔C:42.6%(42.9)、H:
7.1%(6.8)、O:38.5%(38.1)、P:11.8%
(12.3)、ただし( )内は計算値。〕を行つた結
果、メタクリロイルオキシペンチル ジハイドロ
ジエン ホスフエートであることを確認した。
HLC分析の結果純度は96〜98%であつた。 実施例 3 アクリル酸140g(1.9モル)、1,6−ヘキサ
ンジオール190g(1.6モル)、p−トルエンスル
ホン酸15g、2,2′−メチレンビス(4−エチル
−6−tert−ブチルフエノール)0.6gを500c.c.フ
ラスコに入れ酸素をキヤピラリーから吹き込みな
がら80℃、減圧度100〜200mmHgの条件下生成水
を溜出させた。以下実施例1と同様に反応停止
後、アルカリ水洗、水洗、脱水を行つて最終的に
アクリル酸モノエステル、ジエステル混合物175
gを得た。HLCで該混合物のモノエステル含量
を測定したところ68モル%であつた。次に該混合
物83.6gを実施例1と全く同じ方法でオキシ塩化
リン55g(0.36モル)と反応させ、リン酸モノエ
ステルを単離する操作を行つた後、62gの無色透
明不揮発性液体を得た。該化合物はNMR元素分
析〔C:42.7%(42.9)、H:7.1%(6.8)、O:
38.3%(38.1)、P:11.9%(12.3)、ただし( )
内は計算値。〕の結果からアクリロイルオキシヘ
キシル ジハイドロジエン ホスフエートである
と確認された。HLCから純度は95〜97%である
と判明した。 実施例 4 実施例3において、1,6−ヘキサンジオール
を1,5−ペンタンジオール170g(1.6モル)に
替えた以外は、実施例3と全く同一の条件で実験
を行い、ジオールのモノエステル、ジエステル混
合物を得た。HCLでモノエステル含量を決定し
た後、モノエステル0.3モルに相当する量の該混
合物を使用してリン酸エステル化反応を行つた。
分離・精製を本発明1と全く同一の方法で行い、
48gの酸性不揮発性液体を得た。該化合物の
NMRの測定、元素分析〔C:40.5%(40.3)、
H:6.5%(6.4)、O:40.0%(40.3)、P:13.0%
(13.0)、ただし( )内は計算値。〕を行つた結
果、アクリロイルオキシペンチル ジハイドロジ
エン ホスフエートであると確認された。HLC
分析の結果純度は95〜97%であつた。 実施例 5 メタクリル酸140g(1.6モル)、1,10−デカ
ンジオール230g(1.3モル)、p−トルエンスル
ホン酸15g、2,2′−メチレンビス(4−エチル
−6−tert−ブチルフエノール)0.6gを500c.c.3
つ口フラスコに入れ、80℃まで加熱して均一溶液
とした。フラスコ内を100〜150mmHgまで減圧に
し、酸素を吹き込んで撹拌しながら90℃でエステ
ル化反応を行ない、生成水を留出させた。水が留
出しなくなつたら反応を止め、室温まで冷やして
n−ヘキサン300c.c.を加えて希釈した。この際、
析出してきた固体を別し、液を炭酸ナトリウ
ム水溶液で、洗浄液がアルカリ性を示すまで洗浄
した。更に水洗を繰り返した後反応液に1のn
−ヘキサンを追加して希釈し、無水硫酸ナトリウ
ムを加えて5℃で冷蔵放置した。1日後、析出し
てきた未反応ジオールを再度別し、液に
MEHQ40mgを加えて、80℃以下でn−ヘキサン
を減圧留去し、268gのジオールのモノエステル、
ジエステル混合物を得た。HLCで該混合物を分
析した結果、モノエステル含量は65mol%で、且
つ未反応ジオールは痕跡程度しか含まれていない
ことが明らかとなつた。 オキシ塩化リン55g(0.36モル)を100c.c.のエ
チルエーテルに溶解して容量1の反応容器に入
れ、−40℃まで冷却した。前に合成しておいたエ
ステル混合物123g(モノエステル0.3モル含有)
とトリエチルアミン37g(0.36モル)をエチルエ
ーテル120c.c.に溶解し、300c.c.滴下ロートに入れ、
反応容器に接続した。オキシ塩化リン溶液を激し
く撹拌し、乾燥N2ガスを吹き込みながら、前記
の溶液をゆつくり滴下した。滴下終了後3時間−
30℃に反応液を保ち、その後0℃まで昇温した。
次に水30gを滴下ロートに入れて撹拌を続けなが
ら滴下した。更にトリエチルアミン72.9g(0.72
モル)を100c.c.のエチルエーテルに溶解して続け
て続けて滴下した。滴下終了後10時間反応液を0
℃に保つてゆつくり撹拌を続けた。その後析出し
てきたトリエチルアミンの塩酸塩をガラスフイル
ターで別し、液を繰り返し水洗した後、脱水
乾燥しMEHQ20mgを加えてから40℃でエチルエ
ーテルを減圧留去し、液体残渣を得た。該液体を
n−ヘキサンで繰返し洗浄し、ジオールのジエス
テル、リン酸ジエステルを抽出除去し、更にリン
酸モノエステル層に溶解したn−ヘキサンを減圧
留去し、73gの液状の化合物を得た。 該化合物の10%CDCl3溶液について、90MHz
NMR測定を室温で行つた。その結果、δ=6.05
と5.5にエチレン性プロトンのシグナルを、δ=
1.9にメチル基プロトンのシグナルを、δ=3.8〜
4.2及び1.2〜1.8にデカメチレン残基プロトンの多
重シグナルを、δ=9.7付近にリン酸の酸性プロ
トンのシグナルを観測した。また、元素分析の結
果はC:52.9%、H:8.7%、O:29.2%、P:
9.2%(計算値:C:52.2、H:8.4、O:29.8、
P:9.6)で該化合物がメタクリロイルオキシデ
シル ジハイドロジエン ホスフエートであるこ
とを確認した。HCL(カラム:Unisil Q C18)
で分析した結果、純度は92−95%であつた。 実施例 6 実施例5において1,10−デカンジオールを
1,12−ドデカンジオール260g(1.3mol)に替
えた以外は、実施例5と全く同一の条件で実験を
行い、ジオールのモノエステル、ジエステル混合
物を得た。HLCでモノエステル含量を決定した
後、モノエステル0.3モルに相当する量の該混合
物を使用して、リン酸エステル化反応を行つた。
分離・精製は実施例1と全く同一の方法で行い、
75gの液状化合物を得た。該化合物のNMR測
定、元素分析〔C:55.3%(54.9)、H:9.2%
(8.9)、O:27.0%(27.4)、P:8.5%(8.8)、た
だし( )内は計算値。〕を行つた結果、メタク
リロイルオキシドデシル ジハイドロジエン ホ
スフエートであることを確認した。HLC分析の
結果、純度は92〜95%であつた。 実施例 7 アクリル酸115g(1.6ル)、1,10−デカンジ
オール230g(1.3モル)、p−トルエンスルホン
酸15g、2,2′−メチレンビス(4−エチル−6
−tert−ブチルフエノール)0.6gを500c.c.フラス
コに入れ、キヤピラリーから酸素を吹き込みなが
ら、温度80℃、減圧度100〜200mmHgの条件下、
生成水を溜出させた。以下実施例5と同様の要領
で反応停止後、n−ヘキサンで希釈してから
過、アルカリ水洗、水洗、脱水を行い、再びn−
ヘキサンで希釈、過してから溶媒を溜去し、
223gのジオールのモノエステル、ジエステル混
合物を得た。HLCで該混合物のモノエステル含
量を測定したところ、66モル%であつた。次に該
混合物114gを実施例5と全く同じ方法でオキシ
塩化リン55g(0.36モル)と反応させ、リン酸モ
ノエステルを単離する操作を行つた後、62gの無
色透明不揮発性液体を得た。該化合物はNMR、
元素分析〔C:51.0%(50.6)、H:8.4%(8.2)、
O:30.8%(31.1)、P:9.8%(9.6)、ただし
( )内は計算値。〕の結果からアクリロイルオキ
シデシル ジハイドロジエン ホスフエートであ
ると確認された。HLCから純度は91〜95%であ
ると判明した。 実施例 8 実施例7において1,10−デカンジオールを
1,12−ドデカンジオール260g(1.3モル)に替
えた以外は、実施例7と全く同一の条件で実験を
行い、ジオールのモノエステル、ジエステル混合
物を得た。HLCでモノエステル含量を決定した
後、モノエステル0.3ルに相当する量の該混合物
を使用して、リン酸エステル化反応を行つた。分
離・精製を実施例5と全く同一の方法で行い、79
gの液状化合物を得た。該化合物のNMR測定、
元素分析〔C:53.9%(53.6)、H:9.0%(8.7)、
O:28.1%(28.5)、P:9.0%(9.2)、ただし
( )内は計算値。〕を行つた結果、アクリロイル
オキシドデシル ジハイドロジエン ホスフエー
トであることを確認した。HLC分析の結果、純
度は92〜96%であつた。 実施例9〜18および比較例1〜2 本発明の接着性ノマーを含有する接着剤を下記
の処方で調合し、金属に対する接着力の耐水性試
験を行つた。 接着剤組成 A包装 接着性モノマー 5重量部 メチルメタクリレート 95 〃 ベンゾイルパーオキシド 1 〃 B包装 ポリメチルメタクリレート(PMMAと略す)粉
末 100重量部 ベンゼンスルフイン酸ソーダ 3 〃 N,N−ジエタノール−p−トルイジン1 〃 (但し、A包装は均一溶液、B包装はPMMA粉
末にベンゼンスルフイン酸ソーダ及びアミンの粉
末を均一に混合分散させたもの) 10×10×3mmのニツケル−クロム合金(Ni:
92.7%)板を#1000研磨紙で磨きあげ、水、メチ
ルエチルケトンで超音波洗浄した。この合金板に
5mmφの孔を穿つたセロテープを孔が該研磨面の
中心に一致する様貼りつけた。別に7mmφ×35mm
のステンレス棒をニツケル−クロム合金板と同数
用意し、その一方の端面を同様に研磨、洗浄し
た。上記の接着剤A包装とB包装を同重量づつ混
合し、筆で合金板チツプ(セロテープの孔の部
分)とステンレス棒に塗布して、突き合せ接着を
行つた。1つの接着剤につき20個の接着剤試料を
つくり、接着1時間後37℃水中に浸漬した。24時
間後及び10日後に試料を各10個づつ取り出し、イ
ンストロン引張試験機で引張接着強さを測定し、
その平均値を第1表に示した。なお、引張強さが
400Kg/cm2以上の場合は接着剤の凝集破壊が起き、
それ以下の場合は主としてニツケル−クロム合金
面での界面破壊であつた。
【表】
|
H2C=C−COO(CH2) −oOPO3H2で表わされる。〓
本発明の接着性モノマーを使用した場合、初期
の接着力が400Kg/cm2以上と非常に高く、水中浸
漬10日後でも接着力の低下は認められなかつた。
一方、公知のリン酸モノエステルモノマー、例え
ば、メタクリロイルオキシエチル ジハイドロジ
エン ホスフエートを用いて上記と同様に行なつ
た場合(比較例1)や接着性モノマーを含まない
場合(比較例2)は、第2表に示した様に、接着
試料を水中に浸漬したおくと急激に接着力が低下
した。
H2C=C−COO(CH2) −oOPO3H2で表わされる。〓
本発明の接着性モノマーを使用した場合、初期
の接着力が400Kg/cm2以上と非常に高く、水中浸
漬10日後でも接着力の低下は認められなかつた。
一方、公知のリン酸モノエステルモノマー、例え
ば、メタクリロイルオキシエチル ジハイドロジ
エン ホスフエートを用いて上記と同様に行なつ
た場合(比較例1)や接着性モノマーを含まない
場合(比較例2)は、第2表に示した様に、接着
試料を水中に浸漬したおくと急激に接着力が低下
した。
【表】
実施例19〜20および比較例3
第3表に示した接着性モノマーを用いて、下記
の処方にしたがつてそれぞれ2液型接着剤を調製
し、該接着剤で市販コンポジツトレジンを人歯象
牙質に接着し、その接着強度を測定した。 C 液 2,2′−ビス(3−メタクリロイルオキシ−2−
ヒドロキシプロポキシ)フエニル〕プロパン
40重量部 ネオペンチルグリコールジメタクリレート
35 〃 接着性モノマー 25 〃 ベンゾイルパーオキサイド 1.5 〃 2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール
0.03 〃 D 液 エタノール 100重量部 ベンゼンスルフイン酸ソーダ 4 〃 N,N−ジエタノール−p−トルイジン
1.7 〃 人歯大臼歯を象牙質が接着面に出るように角柱
状に削り出したものと、象牙角棒(10×10×30
mm)を準備する。これらは使用直前まで水中冷蔵
保存する。使用直前に人歯の接着すべき象牙質面
から水を拭き、40%正リン酸水溶液で1分間該象
牙質面をエツチングする。次いで流水で良く水洗
し、水分は清浄空気または窒素を吹きつけて蒸発
させ、側面にアルミストリツプを巻きつかる。一
方、象牙棒は接着面の水分を拭き取つていく。人
歯、象牙棒ともC液とD液の等体積混合物を塗布
し、清浄空気または窒素を吹きつけてエタノール
を蒸発させる。市販コンポジツトレジン
「Clearfi 1 F」(クラレ製)を混練りし、こ
のペーストを人歯と象牙接着面間に挾んで接着し
た。接着30分後に試料片を37℃水中に浸漬し、1
日後インストロン引張試験機で引張接着強度を測
定(クロスヘツドスピード2mm/min)し、その
結果を第3表に示した。なお1種の接着剤の評価
を人歯7本を使用し、7本の接着力の平均値を示
した。
の処方にしたがつてそれぞれ2液型接着剤を調製
し、該接着剤で市販コンポジツトレジンを人歯象
牙質に接着し、その接着強度を測定した。 C 液 2,2′−ビス(3−メタクリロイルオキシ−2−
ヒドロキシプロポキシ)フエニル〕プロパン
40重量部 ネオペンチルグリコールジメタクリレート
35 〃 接着性モノマー 25 〃 ベンゾイルパーオキサイド 1.5 〃 2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール
0.03 〃 D 液 エタノール 100重量部 ベンゼンスルフイン酸ソーダ 4 〃 N,N−ジエタノール−p−トルイジン
1.7 〃 人歯大臼歯を象牙質が接着面に出るように角柱
状に削り出したものと、象牙角棒(10×10×30
mm)を準備する。これらは使用直前まで水中冷蔵
保存する。使用直前に人歯の接着すべき象牙質面
から水を拭き、40%正リン酸水溶液で1分間該象
牙質面をエツチングする。次いで流水で良く水洗
し、水分は清浄空気または窒素を吹きつけて蒸発
させ、側面にアルミストリツプを巻きつかる。一
方、象牙棒は接着面の水分を拭き取つていく。人
歯、象牙棒ともC液とD液の等体積混合物を塗布
し、清浄空気または窒素を吹きつけてエタノール
を蒸発させる。市販コンポジツトレジン
「Clearfi 1 F」(クラレ製)を混練りし、こ
のペーストを人歯と象牙接着面間に挾んで接着し
た。接着30分後に試料片を37℃水中に浸漬し、1
日後インストロン引張試験機で引張接着強度を測
定(クロスヘツドスピード2mm/min)し、その
結果を第3表に示した。なお1種の接着剤の評価
を人歯7本を使用し、7本の接着力の平均値を示
した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、nは5〜12までの整数、Rは水素または
メチル基を表わす) で示される(メタ)アクリロイルオキシアルキル
ジハイドロジエン ホスフエート。 2 nが5、Rがメチル基である特許請求の範囲
第1項記載のホスフエート。 3 nが5、Rが水素である特許請求の範囲第1
項記載のホスフエート。 4 nが6、Rがメチル基である特許請求の範囲
第1項記載のホスフエート。 5 nが6、Rが水素である特許請求の範囲第1
項記載のホスフエート。 6 nが8、Rがメチル基である特許請求の範囲
第1項記載のホスフエート。 7 nが8、Rが水素である特許請求の範囲第1
記載のホスフエート。 8 nが10、Rがメチル基である特許請求の範囲
第1項記載のホスフエート。 9 nが10、Rが水素である特許請求の範囲第1
項記載のホスフエート。 10 nが12、Rがメチル基である特許請求の範
囲第1項記載のホスフエート。 11 nが12、Rが水素である特許請求の範囲第
1項記載のホスフエート。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11953781A JPS5821687A (ja) | 1981-07-29 | 1981-07-29 | (メタ)アクリロイルオキシアルキルジハイドロジエンホスフエ−ト |
| DE8282303942T DE3269173D1 (en) | 1981-07-29 | 1982-07-26 | Adhesive composition |
| EP82303942A EP0074708B1 (en) | 1981-07-29 | 1982-07-26 | Adhesive composition |
| US06/525,410 US4539382A (en) | 1981-07-29 | 1983-08-22 | Adhesive composition |
| US06/631,316 US4612384A (en) | 1981-07-29 | 1984-07-16 | Phosphate monoester adhesive composition |
| US06/720,012 US4650847A (en) | 1981-07-29 | 1985-04-04 | Adhesive composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11953781A JPS5821687A (ja) | 1981-07-29 | 1981-07-29 | (メタ)アクリロイルオキシアルキルジハイドロジエンホスフエ−ト |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5821687A JPS5821687A (ja) | 1983-02-08 |
| JPS6313435B2 true JPS6313435B2 (ja) | 1988-03-25 |
Family
ID=14763734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11953781A Granted JPS5821687A (ja) | 1981-07-29 | 1981-07-29 | (メタ)アクリロイルオキシアルキルジハイドロジエンホスフエ−ト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5821687A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03201243A (ja) * | 1989-12-27 | 1991-09-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録再生装置 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1153775C (zh) * | 1999-03-31 | 2004-06-16 | 可乐丽股份有限公司 | 用在补齿可聚合组合物中的有机磷化合物 |
| TWI284540B (en) * | 1999-05-13 | 2007-08-01 | Kuraray Co | Bonding composition suitable to tooth tissue |
| KR101305354B1 (ko) | 2003-08-20 | 2013-09-06 | 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. | 비침출형 접착제 시스템 |
| AU2005272477B2 (en) | 2004-08-09 | 2009-12-17 | Kuraray Medical Inc. | Redox curing-type nonaqueous curable composition |
| DE602006011294D1 (de) | 2005-04-19 | 2010-02-04 | Kuraray Medical Inc | Klebstoffzusammensetzung |
| US8513327B2 (en) | 2007-02-19 | 2013-08-20 | Tokuyama Dental Corporation | Adhesive composition for dental use |
| US8765837B2 (en) | 2007-11-15 | 2014-07-01 | Tokuyama Dental Corporation | Dental curable composition |
| US8796354B2 (en) | 2008-07-25 | 2014-08-05 | Tokuyama Dental Corporation | Dental adhesive composition |
| JP5640199B2 (ja) * | 2009-03-31 | 2014-12-17 | 国立大学法人 長崎大学 | 歯科材料用表面改質材 |
| CN102639096A (zh) | 2009-12-04 | 2012-08-15 | 株式会社德山齿科 | 牙科用粘接性组合物 |
| JP2020066578A (ja) * | 2018-10-22 | 2020-04-30 | 三井化学株式会社 | リン酸化合物を含有する組成物及びその製造方法 |
-
1981
- 1981-07-29 JP JP11953781A patent/JPS5821687A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03201243A (ja) * | 1989-12-27 | 1991-09-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録再生装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5821687A (ja) | 1983-02-08 |
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