JPS6312999A - 除染廃液処理法 - Google Patents
除染廃液処理法Info
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- JPS6312999A JPS6312999A JP15618586A JP15618586A JPS6312999A JP S6312999 A JPS6312999 A JP S6312999A JP 15618586 A JP15618586 A JP 15618586A JP 15618586 A JP15618586 A JP 15618586A JP S6312999 A JPS6312999 A JP S6312999A
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Landscapes
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、放射性物質で汚染された機器、設備のボロン
・ウェット−プラスト除染(B、 O,粒子を水と共に
噴出させて行う除染)廃液及びこれと同程度の水質を有
する廃液の処理法に関する。
・ウェット−プラスト除染(B、 O,粒子を水と共に
噴出させて行う除染)廃液及びこれと同程度の水質を有
する廃液の処理法に関する。
従来の、ボロン・ウェット・ブラスト法を実施した場合
に発生するB、 Osなどを含む除染廃液の処理法を、
第2図及び第3図によって説明する0 第2図は蒸発濃縮法を示し、馬0.を含んだ除染廃液1
は廃液受タンク2へ集められ、廃液送水ポンプ3によシ
フイルター4へ送られる。フィルター4で浮遊物質(S
8)を除去した後、廃液貯蔵タンク5に貯えられ、廃液
供給ポンプ6によシ廃液蒸発装置7へ供給される。廃液
蒸発装置7で除染廃液1は蒸留水8と濃縮液91C分離
され、該濃縮液9は固化装置10へ送られて固化される
@ 第3図は逆浸透膜法を示し、B* o、を含んだ除染廃
液11は廃液受タンク12へ集められ、廃液送水ポンプ
13によシフイルター14へ送られる◇該フィルター1
4で浮遊物(a S)を除去した後、逆浸透装置原水タ
ンク15へ送られ、高圧ポンプ16で加圧され逆浸透膜
を備えた装置17で透過水18と濃縮水19に分離され
る。
に発生するB、 Osなどを含む除染廃液の処理法を、
第2図及び第3図によって説明する0 第2図は蒸発濃縮法を示し、馬0.を含んだ除染廃液1
は廃液受タンク2へ集められ、廃液送水ポンプ3によシ
フイルター4へ送られる。フィルター4で浮遊物質(S
8)を除去した後、廃液貯蔵タンク5に貯えられ、廃液
供給ポンプ6によシ廃液蒸発装置7へ供給される。廃液
蒸発装置7で除染廃液1は蒸留水8と濃縮液91C分離
され、該濃縮液9は固化装置10へ送られて固化される
@ 第3図は逆浸透膜法を示し、B* o、を含んだ除染廃
液11は廃液受タンク12へ集められ、廃液送水ポンプ
13によシフイルター14へ送られる◇該フィルター1
4で浮遊物(a S)を除去した後、逆浸透装置原水タ
ンク15へ送られ、高圧ポンプ16で加圧され逆浸透膜
を備えた装置17で透過水18と濃縮水19に分離され
る。
透過水18はプロセス用水としてそのまま再使用される
。濃縮水19は廃液貯蔵夕/り20に貯えられ、廃液供
給ポンプ21によシ廃液蒸発装置22へ供給される。廃
液蒸発装置22で蒸留水23と濃縮液24に分離され、
濃縮液24は固化装置25へ送られ固化される。
。濃縮水19は廃液貯蔵夕/り20に貯えられ、廃液供
給ポンプ21によシ廃液蒸発装置22へ供給される。廃
液蒸発装置22で蒸留水23と濃縮液24に分離され、
濃縮液24は固化装置25へ送られ固化される。
第2図に示した従来の蒸発濃縮法では、廃液蒸発装置で
除染廃液を濃縮減容し廃棄物発生量の低減を図っていた
。蒸発装置での濃縮限界はほう酸の析出防止を配慮して
除染廃液中のホウ素(B) fs度により決定されるた
め除染に使用する馬0.の号により廃棄物発生量は決定
される。
除染廃液を濃縮減容し廃棄物発生量の低減を図っていた
。蒸発装置での濃縮限界はほう酸の析出防止を配慮して
除染廃液中のホウ素(B) fs度により決定されるた
め除染に使用する馬0.の号により廃棄物発生量は決定
される。
この場合、多量の廃棄物が発生していた0また除染廃液
中には、主成分のホウ素(B)の他にシリカ、鉄等の成
分も含まれるため、フィルターを通しただけの処理液で
は再使用は不可能である。
中には、主成分のホウ素(B)の他にシリカ、鉄等の成
分も含まれるため、フィルターを通しただけの処理液で
は再使用は不可能である。
これに対し第3図に示した逆浸透膜法と蒸発法との組合
せでは、逆浸透膜がホウ素に対し選択透過性を有するこ
とを利用しホウ素の大部分をプラントで再利用できるよ
うにしているが液中の810.濃度が同時に濃縮し、ホ
ウ素回収率の向上を制約していた。
せでは、逆浸透膜がホウ素に対し選択透過性を有するこ
とを利用しホウ素の大部分をプラントで再利用できるよ
うにしているが液中の810.濃度が同時に濃縮し、ホ
ウ素回収率の向上を制約していた。
本発明は、上記従来の除染廃液の処理法におけるような
欠点のない同廃液の処理法を提供しようとするものであ
る。
欠点のない同廃液の処理法を提供しようとするものであ
る。
本発明は放射性物質で汚染された機器のボロン・ウェッ
ト・ブラスト法とよって生ずる除染廃液などを、■無機
酸化物よりなる無機イオン交換体、■無機ガラス物質又
は有機イオン交換体に任意の順序で通液することを特徴
とするボロン・ウェット・ブラスト除染廃液処理法であ
るO 本発明は、無機酸化物からなる無機イオン交換体が一定
の使用条件下(溶液のpH%温度等)で除染廃液中の8
10. (もつとも一部のas、 oo )を選択的に
吸着する性質を利用して、除染廃液から主としてsio
、を吸着・分離する工程、及び放射性物質を無機ガラス
状物質からなる無機イオン交換体または陽イオン交換樹
脂からなる有機イオン交換体によシ吸着・分離させる工
程を組合せ、処理水は燃料域換水などに再使用すると共
に、無機イオン交換体はそのま\固化装置へ送って固化
し、有機イオン交換体は、使用済樹脂貯蔵タンクに送っ
て他の樹脂と同様に処理するようKするものであシ、従
来の除染廃液の処理法より著しく廃棄物量を低減させう
る方法である。
ト・ブラスト法とよって生ずる除染廃液などを、■無機
酸化物よりなる無機イオン交換体、■無機ガラス物質又
は有機イオン交換体に任意の順序で通液することを特徴
とするボロン・ウェット・ブラスト除染廃液処理法であ
るO 本発明は、無機酸化物からなる無機イオン交換体が一定
の使用条件下(溶液のpH%温度等)で除染廃液中の8
10. (もつとも一部のas、 oo )を選択的に
吸着する性質を利用して、除染廃液から主としてsio
、を吸着・分離する工程、及び放射性物質を無機ガラス
状物質からなる無機イオン交換体または陽イオン交換樹
脂からなる有機イオン交換体によシ吸着・分離させる工
程を組合せ、処理水は燃料域換水などに再使用すると共
に、無機イオン交換体はそのま\固化装置へ送って固化
し、有機イオン交換体は、使用済樹脂貯蔵タンクに送っ
て他の樹脂と同様に処理するようKするものであシ、従
来の除染廃液の処理法より著しく廃棄物量を低減させう
る方法である。
本発明におりて使用される無機酸化物からなる無機イオ
ン交換体としてはアルミノケイ酸塩を主成分とする合成
または天然酸化物(モレキュラシープ)などであシ、無
機ガラスよりなる無機イオン交換体としては、ナトリウ
ムガラスを煮沸することによってナトリウムイオンを溶
解させ、イオン交換能をもたせた無機ガラス体(ジュラ
シル命・・Durasil!a @・商品名)などがあ
る。また有機イオン交換体としては一般の陽イオン交換
樹脂が使用される。
ン交換体としてはアルミノケイ酸塩を主成分とする合成
または天然酸化物(モレキュラシープ)などであシ、無
機ガラスよりなる無機イオン交換体としては、ナトリウ
ムガラスを煮沸することによってナトリウムイオンを溶
解させ、イオン交換能をもたせた無機ガラス体(ジュラ
シル命・・Durasil!a @・商品名)などがあ
る。また有機イオン交換体としては一般の陽イオン交換
樹脂が使用される。
本発明によシ廃棄物の発生量が低減でき、再使用可能な
処理水を簡単に得ることができる。
処理水を簡単に得ることができる。
810、及び放射性物質、(am、 o’o等)を含む
ボロン・ウェット・ブラスト廃液に本発明方法を適用し
た一実施態様を第1図によって説明する。
ボロン・ウェット・ブラスト廃液に本発明方法を適用し
た一実施態様を第1図によって説明する。
B、 OSを含んだ上記除染廃液26は廃液受タンク2
7に集められ、廃液送水ポンプ28により無機酸化物か
らなる無機イオン交換体槽29へ送られる。ここで廃液
中の810.は無機酸化物からなる無機イオン交換体く
吸着−除去される。
7に集められ、廃液送水ポンプ28により無機酸化物か
らなる無機イオン交換体槽29へ送られる。ここで廃液
中の810.は無機酸化物からなる無機イオン交換体く
吸着−除去される。
続いて該処理水はライン31よ如陽イオン交換樹脂また
は無機ガラス物質からなるイオン交換塔32へ送られ、
ここで放射性物質(as、 c。
は無機ガラス物質からなるイオン交換塔32へ送られ、
ここで放射性物質(as、 c。
等)及び更〈再使用の妨げとなる他の陽イオンが吸着・
除去される0 そして処理水は処理水出口ライン34から再使用へと送
られる。
除去される0 そして処理水は処理水出口ライン34から再使用へと送
られる。
一定量処理した無機酸化物及び無機ガラス物質からなる
無機イオン交換体及び陽イオン交換樹脂は、各々出口ラ
イン30及び33から次の処理へと搬出される。
無機イオン交換体及び陽イオン交換樹脂は、各々出口ラ
イン30及び33から次の処理へと搬出される。
使用済の無機酸化物又は無機ガラス物質からなる無機イ
オン交換体は従来の処理法即ち、セメント固化法、アス
ファルト固化法、ポリマー固化法(プラスティック固化
法)等によυ固化処理される〇 目的の放射性物質等によシ複数の無機ガラス物質よりな
る無機イオン交換槽又は有機イオン交換槽を第1図の無
機ガラス物質より表る無機イオン交換槽又は有機イオン
交換槽32の後に続けて設置してもよい。
オン交換体は従来の処理法即ち、セメント固化法、アス
ファルト固化法、ポリマー固化法(プラスティック固化
法)等によυ固化処理される〇 目的の放射性物質等によシ複数の無機ガラス物質よりな
る無機イオン交換槽又は有機イオン交換槽を第1図の無
機ガラス物質より表る無機イオン交換槽又は有機イオン
交換槽32の後に続けて設置してもよい。
(1) 無機酸化物よりなる無機イオン交換体は一定
使用条件下ではボロン・ウェット・ブラスト除染廃液中
の810.を選択的に吸着するのでホウ素を多量に含む
燃料取替用水として再使用可能な水を作シ出せる。
使用条件下ではボロン・ウェット・ブラスト除染廃液中
の810.を選択的に吸着するのでホウ素を多量に含む
燃料取替用水として再使用可能な水を作シ出せる。
(2) 放射性物質は無機ガラス物質よりなる無機イ
オン交換体、又は有機イオン交換体によ)分離除去され
、前記の無機酸化物よりなる無機イオン交換体及び無機
ガラス物質よりなる無機イオン交換体はそのま\固化さ
れ、有機イオン交換体は従来の使用済樹脂貯蔵タンクに
送って他の樹脂と共に処理されるので大幅の減容化が可
能となる。
オン交換体、又は有機イオン交換体によ)分離除去され
、前記の無機酸化物よりなる無機イオン交換体及び無機
ガラス物質よりなる無機イオン交換体はそのま\固化さ
れ、有機イオン交換体は従来の使用済樹脂貯蔵タンクに
送って他の樹脂と共に処理されるので大幅の減容化が可
能となる。
(3) 本発明はボロ7番ウェット・ブラスト法の除
染廃液だけでなく該廃液と同程度以上の水質の他の廃液
についても適用可能であシ、簡単な工程で再使用可能な
処理水が得られ、産業上廃棄物の発生量を低減させ、さ
らに一過性の処理法であるために運転コスト、装置コス
トが少なくて経済的である。
染廃液だけでなく該廃液と同程度以上の水質の他の廃液
についても適用可能であシ、簡単な工程で再使用可能な
処理水が得られ、産業上廃棄物の発生量を低減させ、さ
らに一過性の処理法であるために運転コスト、装置コス
トが少なくて経済的である。
第1図は本発明の一実施態様を説明するための図であシ
、第2図及び第3図は従来の除染廃液の処理法を説明す
るための図である。 復代理人 内 1) 明 復代理人 萩 原 亮 − 復代理人 安 西 篤 夫
、第2図及び第3図は従来の除染廃液の処理法を説明す
るための図である。 復代理人 内 1) 明 復代理人 萩 原 亮 − 復代理人 安 西 篤 夫
Claims (1)
- 放射性物質で汚染された機器のボロン・ウェット・ブラ
スト法によつて生ずる除染廃液などを、(1)無機酸化
物よりなる無機イオン交換体、(2)無機ガラス物質又
は有機イオン交換体に任意の順序で通液することを特徴
とするボロン・ウェット・ブラスト除染廃液処理法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15618586A JPS6312999A (ja) | 1986-07-04 | 1986-07-04 | 除染廃液処理法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15618586A JPS6312999A (ja) | 1986-07-04 | 1986-07-04 | 除染廃液処理法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6312999A true JPS6312999A (ja) | 1988-01-20 |
Family
ID=15622221
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15618586A Pending JPS6312999A (ja) | 1986-07-04 | 1986-07-04 | 除染廃液処理法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6312999A (ja) |
-
1986
- 1986-07-04 JP JP15618586A patent/JPS6312999A/ja active Pending
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